JP2789787B2

JP2789787B2 - 位置検出装置

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Publication number: JP2789787B2
Application number: JP2143867A
Authority: JP
Inventors: 榮法隆; 優和真継
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1990-06-01
Filing date: 1990-06-01
Publication date: 1998-08-20
Anticipated expiration: 2013-08-20
Also published as: JPH0436604A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は位置検出装置に関し、例えば半導体素子製造
用の露光装置において、マスクやレチクル（以下「マス
ク」という。）等の第１物体面上に形成されている微細
な電子回路パターンをウエハ等の第２物体面上に露光転
写する際にマスクとウエハとの相対的な位置決め（アラ
イメント）を行う場合に好適な位置検出装置に関するも
のである。

（従来の技術）従来より半導体製造用の露光装置においては、マスク
とウエハの相対的な位置合わせは性能向上を図る為の重
要な一要素となっている。特に最近の露光装置における
位置合わせにおいては、半導体素子の高集積化の為に、
例えばサブミクロン以下の位置合わせ精度を有するもの
が要求されている。

多くの位置合わせ装置においては、マスク及びウエハ
面上に位置合わせ用の所謂アライメントパターンを設
け、それらより得られる位置情報を利用して、双方のア
ライメントを行っている。このときのアライメント方法
としては、例えば双方のアライメントパターンのずれ量
を画像処理を行うことにより検出したり、又は米国特許
第4037969号や特開昭56−157033号公報で提案されてい
るようにアライメントパターンとしてゾーンプレートを
用い該ゾーンプレートに光束を照射し、このときゾーン
プレートから射出した光束の所定面上における集光点位
置を検出すること等により行っている。

一般にゾーンプレートを利用したアライメント方法
は、単なるアライメントパターンを用いた方法に比べて
アライメントパターンの欠損に影響されずに比較的高精
度のアライメントが出来る特長がある。

第６図はゾーンプレートを利用した従来の位置合わせ
装置の概略図である。

同図において光源72から射出した平行光束はハーフミ
ラー74を通過後、集光レンズ76で集光点78に集光された
後、マスク68面上のマスクアライメントパターン68a及
び支持台62に載置したウエハ60面上のウエハアライメン
トパターン60aを照射する。これらのアライメントパタ
ーン68a,60aは反射型のゾーンプレートより構成され、
各々集光点78を含む光軸と直交する平面上に集光点を形
成する。このときの平面上の集光点位置のずれ量を集光
レンズ76とレンズ80により検出面82上に導光して検出し
ている。

そして検出器82からの出力信号に基づいて制御回路84
により駆動回路64を駆動させてマスク68とウエハ60の相
対的な位置決めを行っている。

第７図は第６図に示したマスクアライメントパターン
68とウエハアライメントパターン60aからの光束の結像
関係を示した説明図である。

同図において集光点78から発散した光束はマスクアラ
イメントパターン68aよりその一部の光束が回折し、集
光点78近傍にマスク位置を示す集光点78aを形成する。
又、その他の一部の光束はマスク68を０次透過光として
透過し、波面を変えずにウエハ60面上のウエハアライメ
ントパターン60aに入射する。このとき光束はウエハア
ライメントパターン60aにより回折された後、再びマス
ク68を０次透過光として透過し、集光点78近傍に集光し
ウエハ位置をあらわす集光点78bを形成する。同図にお
いてはウエハ60にはより回折された光束が集光点を形成
する際には、マスク68は単なる素通し状態としての作用
をする。

このようにして形成されたウエハアライメントパター
ン60aによる集光点78bの位置は、ウエハ60のマスク68に
対するずれ量Δσに応じて集光点78を含む光軸と直交す
る平面に沿って該ずれ量Δσに対応した量のずれ量Δ
σ′として形成される。

従来はこのときのずれ量Δσ′を検出しマスク68とウ
エハ60との位置合わせを行っていた。

（発明が解決しようとする問題点）第６図に示す位置合わせ装置においてはマスクとウエ
ハの間隔ｇについて或る量の不確定量が伴い、それによ
り例えば次のような問題点があった。

ずれ量Δσ′がずれ量Δσと間隔ｇの両方の量に依存
する量であるため、１つのずれ量Δσ′に対して幾組も
のずれ量Δσと間隔ｇの組が対応してくる。この為、仮
に集光点78aの位置で合致状態を検出しようとする場
合、非合焦時、例えば集光点78bの位置に光束が集光し
ていたとするとずれ量Δσ′の値を正確に測定したとし
ても、ずれ量Δσが正確に決まらない。この為、１回の
位置合わせ動作ですむところ、２回、３回と行う必要が
起りスループットが低下してくる。

本発明はマスク等の第１物体とウエハ等の第２物体と
の位置検出の際に発生する誤差要因を解決し、高精度に
しかも容易に位置合わせを行なうことのできる簡易な構
成の位置検出装置の提供を目的とする。

（問題点を解決するための手段）本発明は第１物体と第２物体の相対的な面内の位置ず
れ量（以下単に「ずれ量」ともいう。）を求めると共に
同時に間隔も求め、第１物体と第２物体の位置検出を高
精度に求めるようにしたことを特徴としている。

特に本発明では、第１物体面上と第２物体面上に各々
物理光学素子を設け、これらの物理光学素子に入射させ
た光束の所定面上に生ずる所定次数の回折光束を検出手
段で検出することにより該第１物体と第２物体との相対
的な位置検出を行う際、該第１物体面上には第1,第３の
２つの物理光学素子が、該第２物体面上には第2,第４の
２つの物理光学素子が各々設けられており、該検出手段
により該第１物体面上の１つの物理光学素子と、該第２
物体面上の１つの物理光学素子で各々回折された少なく
とも３つの回折光束の各回折光束間のうち該第１物体と
該第２物体との相対的なずれ量Ｗと相対的な間隔ｇの双
方に関係する回折光束間の値を少なくとも２つ検出し、
該検出手段からの出力信号を用いて演算手段によりずれ
量Ｗと間隔ｇを求めたことを特徴としている。

（実施例）第１図は本発明の第１実施例の要部概略図、第２図は
第１図の各光束の光路を模式的に展開したときの要部概
略図である。

第1,第２図においてl1は不図示の半導体レーザ又はLE
D又はＸ線源等からの光束であり、マスク等の第１物体
１面上の後述する物理光学素子z1,z3に角度θで入射し
ている。２はウエハ等の第２物体であり、第１物体１と
間隔ｇ隔てて対向配置されている。Ｗは第１物体１と第
２物体２との相対的なずれ量を示している。z1,z3は各
々第１物体１面上に設けた透過型の第1,第３物理光学素
子であり、光束l1は物理光学素子z1,z3に入射してい
る。z2,z4は第２物体２面上に設けた反射型（第２図で
は透過型）の第2,第４物理光学素子で、これらの物理光
学素子z1〜z4は例えば回折格子やゾーンプレート等から
成っている。

第３図に本実施例に係る第１物体１と第２物体２面上
の物理光学素子のパターン例を示す。

物理光学素子z1〜z4はレンズ作用を有しその焦点は各
々F1〜F4で焦点距離f1〜f4である。

l2〜l9は各々物理光学素子からの所定次数の回折光、
３は検出手段で例えばラインセンサやエリアセンサ等の
センサで第１物体１から距離Ｌだけ離れた位置に配置さ
れている。a1,a2は各々物理光学素子z1,z3の光軸であ
り、このうち光軸a1と光軸a2との間は距離Ｄだけ離れて
いる。

点C1〜C4はそれぞれ回折光l3,l5,l7,l9のセンサ３面
上の光束重心位置である。このうち点C1,C2は光軸a1か
ら各々距離y1,y2離れたところの点であり、点C3,C4は光
軸a2から各々距離y3,y4離れた位置を示している。

尚、ここで光束重心とは便宜上光束断面内に於て、断
面内各点からの位置ベクトルにその点の光量を乗算した
ものを断面全面で積分したときに、積分値が０ベクトル
になる点を示している。

４は演算手段としての信号処理回路であり、センサ３
からの情報により、光束l3,l5,l7,l9の光束重心を求
め、又距離y1〜y4,D等から後述する式を用いて第１物体
１と第２物体２との位置ずれ量Ｗと間隔ｇを求めてい
る。５は制御回路であり、信号処理回路４からの位置ず
れ量Ｗと間隔ｇに関する情報に従って第１物体１と第２
物体２との位置ずれ量Ｗと間隔ｇを制御している。

６はステージコントローラであり、第２物体２を搭載
している不図示のステージを制御回路５からの指令に従
って駆動している。

本実施例では光源からの光束l1は第１物体１面上の物
理光学素子z1,z3に各々入射している。このうち物理光
学素子z1に入射した光束l1のうち物理光学素子z1で生じ
た１次回折光l2は物理光学素子z2に入射する。そして位
置ずれ量Ｗに応じて回折方向が異なる１次回折光l3が発
生する。回折光l3は物理光学素子z1を０次回折光として
そのまま通過する。該回折光l3はセンサ３面上の光軸a1
から距離y1離れた位置に結像する。センサ３と第１物体
１との距離は一定値Ｌなので距離y1の値は間隔ｇと位置
ずれ量Ｗに依存する量となっている。

一方、物理光学素子z1で回折作用を受けずに０次回折
光として通過した光束l1は物理光学素子z2に入射する。
そして物理光学素子z2で１次の回折作用を受けた１次回
折光l4は物理光学素子z1に再入射する。そして位置ずれ
量Ｗに応じて回折方向が異なる１次回折光l5が発生す
る。１次回折光l5はセンサ３面上の光軸a1から距離y2離
れた位置に結像する。

物理光学素子z3に入射した光束l1からは物理光学素子
z1に入射した光束l1と同様な回折光l6〜l9が発生し、こ
のうち回折光l7,l9はそれぞれセンサ３面上の光軸a2か
ら距離y3,y4離れた位置に各々結像する。４は演算手段
としての信号処理回路であり、センサ３から読み込んだ
情報からまず光束l3,l5,l7,l9の光束重心位置C1,C2,C3,
C4を求めた後、点C1と点C4間の間隔D14、点C2と点C3間
の間隔D23を算出する。間隔D14と間隔D23の値を後述す
る各式の関係を利用して第１物体１と第２物体２との位
置ずれ量Ｗと間隔ｇを求めている。

制御回路５は信号処理回路４からの位置ずれ量Ｗと間
隔ｇに関する情報に従ってステージコントローラ６を駆
動させて、所定の位置へ第２物体２を移動させている。

尚本実施例において回折光は１次回折光に限らず２次
以上の高次回折光を用いても同様の効果を得ることがで
きる。

本実施例では光源、センサ等を一箇所に集合させて構
成することができる為、光プローブが小型化され、又露
光時の光プローブの移動が不要の為、スループットがよ
り向上する等の特長を有している。

次に本実施例において第１物体１と第２物体２との位
置ずれ量Ｗと間隔ｇの求め方について第２図を参照して
説明する。

第２図において回折光l3を発生するレンズ系では光束
l1がレンズ作用の働きをする物理光学素子z1,z2を通り
点C1に入射する。このとき回折光l3の光束重心C1までの
距離y1は第１物体１と第２物体２とのずれ量Ｗと間隔ｇ
によって決まる量であり、一般に y1＝F1（W,g） …………（１）のように表わされる。

他の３つのレンズ系においても同様に距離y2,y3,y4は
ずれ量Ｗと間隔ｇによって決まる量であり y2＝F2（W,g） …………（２） y3＝F3（W,g） …………（３） y4＝F4（W,g） …………（４）のように表わされる。

以上のように距離y1〜y4を表わした場合、点C1と点C3
間の間隔D13と点C2と点C4間の間隔D24を用いると、次の
ようにずれ量Ｗと間隔ｇに依存する量Y1,Y2を表わすこ
とができる。

Y1＝y1＋y3＝D13−Ｄ＝F1＋F3＝F5（g,W） Y2＝y2＋y4＝D24−Ｄ＝F2＋F4＝F6（g,W）即ち、 Y1＝F5（g,W） …………（５） Y2＝F6（g,W） …………（６）一般に未知数が２つある場合、未知数を含む式が２つ
あれば未知数の解を求めることができる。

即ちＡ＝G1（W,g） …………（７）Ｂ＝G2（W,g） …………（８）のような２つの関係式が用意できればA,Bの量を計測等
により求めることにより２つの未知数W,gの値を求める
ことができる。

前述の（１）式を具体的にW,gで表わすと次のように
なる。

y1:W＝Ｌ＋2g−f1:f1−ｇこれよりとなる。他の（２），（３），（４）式も同様にしてとなる。以上の関係式を基に（５），（６）式を具体的
に表わすととなる。（13），（14）式に於て間隔Ｄは光軸a1と光軸
a2の間隔で既知であり、間隔D13と間隔D24は計測により
具体的に値を求めることができるので、（13），（14）
式からずれ量Ｗと間隔ｇの値を求めることができる。
（13），（14）式からずれ量Ｗを消去すれば間隔ｇの３
次方程式が得られ、これはパソコン等により容易にずれ
量Ｗと間隔ｇが求まる。

尚、本実施例において第１〜第４物理光学素子z1〜z4
の焦点距離f1〜f4は次式を満足するように設定されてい
る。

第４図は本実施例において回折光束l3,l5,l7,l9の光
束重心C1,C2,C3,C4がずれ量Ｗに応じてセンサ３面上で
どのように変化するかを示した説明図である。回折光束
l3,l5,l7,l9等はセンサ面上である幅を有しているの
で、お互いに重なる部分があると点C1〜C4を精度良く求
めるのが難しくなってくる。

そこで本実施例では例えばずれ量Ｗ＝±３μｍの間で
計測したいときは各光束が離れている範囲を同点の点Wo
−３から点Wo＋３の間の特性を予めシュミレーション等
で求めておき、これを利用する。

即ち、本実施例では前記第1,第２の２つの物理光学素
子を介して所定面上に生ずる第1,第２の２つの回折光束
の重心位置及び前記第3,第４の２つの物理光学素子を介
して所定面上に生ずる第3,第４の２つの回折光束の重心
位置は各々回折光束の幅以上離れた状態で検出してい
る。

尚、本実施例において第１物体と第２物体との位置ず
れ量Ｗが０のとき第１物体上の物理光学素子（例えばz
1）の光軸a1と第２物体上の物理光学素子（例えばz2）
の光軸a2を距離Woだけずらしておくことにより、第１物
体と第２物体との位置ずれ量Ｗが０のときに点C1と点C
2、及び点C3と点C4を離れた状態にしておくことができ
る。

第３図に示す第１〜第４物理光学素子z1〜z4のパター
ン配置はこの様子を示しており、第１物体と第２物体の
位置ずれ量Ｗが０のとき第１と第２物理光学素子z1とz2
の光軸が、又第３と第４物理光学素子z3とz4の光軸が各
々距離Woだけずれるように設定している。

従ってこのパターンを使用した場合、第１物体と第２
物体とが距離Wxだけずれている時は（９）〜（12）式の
ずれ量Ｗの値をＷ＝Wo＋Wx と置き換えて計算すればよい。

尚、本実施例では第1,第２物体面上に各々２個の物理
光学素子を設ける代わりに４個の物理光学素子を設けて
前述の回折光束l3,l5,l7,l9に相当する４つの回折光を
得ても同様の効果を得ることができる。

ただし本実施例のように２個の物理光学素子を設ける
方法は４個の物理光学素子を設ける方法に比べて面積が
少なくてすみ、又同じ面積で比較すると回折光の光量が
２倍となる長所がある。

次に本発明における他の実施例を順に説明する。

（イ）第２実施例第１実施例は距離y1とy3、距離y2とy4の組合せからず
れ量Ｗと間隔ｇを求めたが距離y1とy4、距離y2とy3又は
距離y1とy2、距離y3とy4の組合わせからも同様にずれ量
Ｗと間隔ｇを求めることができる。

距離y1とy4、距離y2とy3の組合せの時、点C1と点C4と
の間隔をD14、点C2と点C3との間隔をD23とすると
（７），（８）式に相当する式は次のように表わされ
る。

同様に距離y1とy2、距離y3とy4の組合わせの時、点C1
と点C2との間隔をD12、点C3と点C4との間隔をD34とする
ととなる。これらの式より、いずれもずれ量Ｗと間隔ｇを
求めることができる。

（ロ）第３実施例第1,第２実施例では４つの光束の光束重心位置C1,C2,
C3,C4を使って（７），（８）式に相当する式を導き出
してずれ量Ｗと間隔ｇを求めたが４つの光束重心C1,C2,
C3,C4のうちの３個を使っても同様に（７），（８）式
に相当する式を導き出すことができる。

即ち、前述と同様に間隔Dij（点ｉと点ｊとの間隔）
を用いて表わすと次にような組合わせが適用可能であ
る。

これらの各組合わせのうち（Ｉ），（IV），（Ｖ），
（VII）の場合は（II），（III），（VI），（VIII）や
第1,2実施例に比してセンサの幅がD12又はD34だけ短か
くてよいという特長を有する。

次に前述の（19），（20）式の（Ｉ）の場合について
具体的な数値例を示す。尚、単位はすべてμｍである。

ｇ＝30,Wo＝10,L＝18627 f1＝150.000 ,f2＝120.768 f3＝115.000 ,f4＝143.885 y1＝154.475・W,y2＝124.547・Ｗ y3＝129.669・W,y4＝162.560・ＷＷ＝７（Wo−３）のときの光束重心C1とC2との間隔:209 光束重心C3とC4との間隔:230 （註光束の幅：約210）Ｗ＝13（Wo＋３）のときの光束重心C1の光軸a1からの距離:2008 光束重心C3の光軸a2からの距離:1685 従って必要なセンサの幅：Ｄ＋3693＋（210/2）×２＝Ｄ＋3903 （ハ）第４実施例第１物体面上に設けた２つの物理光学素子z1,z3及び
第２物体面上に設けた２つの物理光学素子z2,z4を独立
に設ける代わりに第５図に示すように各々互いに重複し
た１つのパターンより構成し、前述と同様の効果を得て
いる。

本実施例において光軸a1とa2との間隔に相当するＤの
値は零となり、第１〜第３実施例においてＤ＝０とすれ
ばすべて本実施例において適用可能である。

本実施例におけるパターンの特長は第２物体が位置合
わせ方向に傾いたときに受ける影響が第３図の場合のパ
ターンに比べて少ないことである。即ち第３図のパター
ンを用いた場合、第２物体が傾くと第1,第２物理光学素
子z1,z2のレンズ系と第3,第４物理光学素子z3,z4のレン
ズ系の受ける影響が異なるため検出誤差を発生する。こ
れに対して本実施例では受ける影響が同じなので検出誤
差が発生しても第３図の場合に比べて極めて少ないとい
う特長がある。

（ニ）第５実施例本実施例においては前記ずれ量Ｗと間隔ｇの双方に関
する回折光束間の２つの値を１組とした複数個の組合わ
せについて各々検出し、該複数個の組合わせから得られ
たずれ量Ｗと間隔ｇを評価手段で評価し、検出精度を高
めている。このときの評価手段としては、例えば複数個
の組合わせから各々得られた複数個のずれ量Ｗと間隔ｇ
の値を平均化すること等が考えられる。

（ホ）第６実施例実際に第１〜第４実施例を実施するに当っては前もっ
てプリアライメントが行われる。ところが第４図から明
らかのようにずれ量Ｗ＝０の右方と左方では、即ちずれ
方向により光束重心位置C1〜C4の位置は逆転している
が、位置C1〜C4の光束の状態を見ただけでは第１物体に
対して第２物体がどちら側にずれているのか判然としな
い。

この為本実施例では第1,第２の２つの回折光束l3,l5
の重心位置C1とC2の間隔D12と前記第3,第４の２つの回
折光束l7,l9の重心位置C3とC4の間隔D34が異なるように
各要素を設定している。

これにより光束重心位置C1〜C4のセンサ３面上の位置
を計測した後、位置C1とC2、位置C3とC4との差を計算し
てみれば判然とする。

又、ずれ量Ｗ＝０の近辺では光束が重なってしまう
が、位置C1とC2、位置C3とC4の組合わせが離れている場
合は、例えば光束の半値幅を求めることにより状態の判
別が可能となる。

又、本実施例において４つの光束がセンサ面上で重な
ってしまい場合には一度第１物体と第２物体とのずれ量
を変化させて判別可能な状態にしてから判別を行えば良
い。

（発明の効果）本発明によれば第１物体と第２物体との位置ずれ量Ｗ
と第１物体と第２物体との間隔ｇを求めることにより、
合致状態を誤認することがなく、高精度な位置合わせが
出来しかもスループットの高い位置検出装置を達成する
ことができる。

例えば本発明の位置検出装置における位置情報C1,C3
とずれ量Ｗとの関係のみから位置合わせする場合、前述
の諸定数がｇ＝30μｍ、f1＝150μm,L＝18627μm,y1＝1
544.75μｍの時、間隔ｇに0.06μｍの誤差があると、ず
れ量Ｗには0.005μｍの誤差が生ずる。従って0.01μｍ
の精度で位置合わせしようとするときは間隔ｇの誤差を
0.06μｍ程度以下にする必要がある。従って何らかの方
法で0.06μｍ以下の精度で間隔ｇの設定を予めしておか
なければならない。

これに対して本発明によればプリアライメントである
程度の精度で間隔ｇの設定がなされていれば間隔ｇがど
のような値であってもずれ量Ｗを正確に求めることがで
きる。

例えば重心位置が位置C1とC2である回折光束が重なっ
た状態で測定し２つの回折光束の重心を求める方式で
は、回折効率の変動等で光量が変化すると重心が移動し
誤差の原因になるが、本発明では回折光束が充分離れた
状態で測定するので、このような検出誤差の発生を防げ
る。

又、本発明においては物理光学素子を位置ずれ量Ｗと
間隔ｇの両方の検出に共用するようにし、これにより光
束や物理光学素子の数を減少させ、検出系の簡素化及び
装置全体の小型化を図っている。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例の要部概略図、第２図は第
１図の各光束の光路を模式的に展開したときの要部概略
図、第３図，第５図は第１図における第１物体１と第２
物体２面上に設けた物理光学素子の説明図、第４図はず
れ量Ｗと光束重心位置C1,C2,C3,C4のセンサ面上の位置
関係を示す説明図、第６図，第７図は従来の位置合わせ
装置の概略図である。図中、１は第１物体、２は第２物体、３はセンサ、４は
信号処理回路、５は制御回路、６はステージコントロー
ラ、l1〜l9は光束、z1〜z4は物理光学素子、a1,a2は物
理光学素子の光軸、Ｗは位置ずれ量、ｇは間隔である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G01B 11/00 - 11/30 H01L 21/30 501 - 531,561 - 5 79

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】第１物体面上と第２物体面上に各々物理光
学素子を設け、これらの物理光学素子に入射させた光束
の所定面上に生ずる所定次数の回折光束を検出手段で検
出することにより該第１物体と第２物体との相対的な位
置検出を行う際、該第１物体面上には第1,第３の２つの
物理光学素子が、該第２物体面上には第2,第４の２つの
物理光学素子が各々設けられており、該検出手段により
該第１物体面上の１つの物理光学素子と、該第２物体面
上の１つの物理光学素子で各々回折された少なくとも３
つの回折光束の各回折光束間のうち該第１物体と該第２
物体との相対的なずれ量Ｗと相対的な間隔ｇの双方に関
係する回折光束間の値を少なくとも２つ検出し、該検出
手段からの出力信号を用いて演算手段によりずれ量Ｗと
間隔ｇを求めたことを特徴とする位置検出装置。
【請求項２】前記第１物体面上の２つの物理光学素子と
前記第２物体面上の２つの物理光学素子は各々互いに重
複して１つのパターンを形成していることを特徴とする
請求項１記載の位置検出装置。
【請求項３】前記第1,第２の２つの物理光学素子を介し
て所定面上に生ずる第1,第２の２つの回折光束の位置及
び前記第3,第４の２つの物理光学素子を介して所定面上
に生ずる第3,第４の２つの回折光束の位置は各々回折光
束の幅以上離れた状態で検出されていることを特徴とす
る請求項１記載の位置検出装置。
【請求項４】前記検出手段は前記ずれ量Ｗと間隔ｇの双
方に関する回折光束間の２つの値を１組とした複数個の
組合わせについて各々検出し、該複数個の組合わせから
得られたずれ量Ｗと間隔ｇを評価手段で評価するように
したことを特徴とする請求項1,2,又は３記載の位置検出
装置。
【請求項５】前記評価手段は複数個の組合わせから各々
得られた複数個のずれ量Ｗと間隔ｇの値を平均化してい
ることを特徴とする請求項４記載の位置検出装置。
【請求項６】前記第1,第２の２つの回折光束の所定面上
における位置間隔D12と前記第3,第４の２つの回折光束
の所定面上における位置間隔D34が異なるように各要素
が設定されていることを特徴とする請求項３記載の位置
検出装置。