JP2758730B2 - 放電励起パルスレーザ発振装置 - Google Patents
放電励起パルスレーザ発振装置Info
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Description
ザ発振装置に関し、特に放電励起パルスレーザ発振装置
の電極構成に関するものである。
放電光イオン化源”(A new type ofcorona-discharge
photoionization source for gas lasers ,J.Appl.Phy
s.56(11),1 December 1984,P.3163-3168)に記載された
従来の放電励起レーザ発振装置のレーザ光軸に直交する
断面の断面図であり、図において1、2はレーザ光軸方
向に平行かつ対向して配置された一対の主電極、3はこ
の主電極1、2間で発生する主放電、4はレーザガス供
給装置(図示せず)によりレーザ光軸方向と直行する方
向から主電極1、2間に供給されるレーザガス流であ
る。5は主電極1、2を挟んでレーザガス流4の上流お
よび下流側のそれぞれに配設され、主電極1、2間で主
放電3を発生させるために主電極1、2間のレーザガス
を予備電離する予備電離発生部である。この予備電離発
生部5は、中空の誘電体パイプ6と、誘電体パイプ6の
中空部に挿入された補助電極7と、誘電体パイプ6の表
面に取り付けられた主電極2と同電位の導体線8とから
構成されている。
装置の動作について説明する。◎まず、レーザガス供給
装置から主電極1、2間にレーザガスを供給する。そこ
で、主電極2と補助電極7との間に電圧が印加される
と、導体線8と誘電体パイプ6とが接する点より誘電体
パイプ6の表面を覆うようにコロナ放電9が開始され
る。そして、コロナ放電9から紫外線が放射される。こ
のコロナ放電9から放射された紫外線が、主電極1、2
間に存在するレーザガスを予備電離する。つぎに、主電
極1、2間に電圧が印加されると、予備電離されたレー
ザガスが放電を開始し、主放電3が発生する。この主放
電3によりレーザガスが励起され、紙面と垂直な方向に
レーザが発振する。
3により発生するイオン、凖安定ガス分子や原子、電極
からスパッタされて出てきた微粒子等からなる放電残留
物がレーザガス流4によって下流側に流され、次の主放
電3が開始されるまでには主電極1、2間には新しいレ
ーザガスが供給されており、また、主電極1、2の両側
から紫外線が放射されているので、予備電離され電子数
の量が一定で、分布が主電極1、2間のレーザガス流4
の上流及び下流側で対称な分布となり、主放電3が常に
同じ状態で放電される。
マレーザ”(HIGH-AVERAGE-POWER EXCIMER LASER,DOE/S
F/90024--T2,1977)に記載された従来の放電励起エキシ
マレーザ発振装置を示す断面図である。この従来装置
は、主電極1の先端部には外径1/4インチのチューブ
1aが設けられ、外径約5mmの石英パイプからなる中
空の誘電体パイプ6と誘電体パイプ6の中空部に挿入さ
れたワイヤーからなる補助電極7とで構成された予備電
離発生部5が、誘電体パイプ6と主電極1とが接するよ
うにレーザガス流4の下流側にのみ設けられている。
ザ発振装置は、図2に示した従来の放電励起レーザ発振
装置と同様に、主電極1、2間にレーザガスを供給した
後、主電極1と補助電極7との間に電圧を印加し、主電
極1と誘電体パイプ6との接触点から誘電体パイプ6を
覆うようにコロナ放電9を開始させる。このコロナ放電
9から放射される紫外線によって主電極1、2間のレー
ザガスは予備電離される。つぎに、主電極1、2間に電
圧が印加されると、予備電離されたレーザガスが放電を
開始し、主放電3が発生する。この主放電3によりレー
ザガスが励起され、紙面と垂直な方向にレーザが発振す
る。このエキシマレーザ発振装置は、予備電離発生部5
がレーザガス流4の下流側のみに設けられ、構成が簡単
となる。
発振装置は以上のように主電極1、2を挟んでレーザガ
ス流4の上流側と下流側とのそれぞれに予備電離発生部
5が設けられているので、下流側の予備電離発生部5か
ら放射される紫外線が主放電3によって発生する放電残
留物によって吸収され、発振周波数が高くなるほど主電
極1、2間の予備電離電子数の分布がレーザガス流4の
上流側にシフトし、図4に示すようにレーザの発振周波
数が高くなるにつれレーザビームの中心位置がレーザガ
ス流4の上流側にシフトするという課題があった。
装置は主電極1、2に対してレーザガス流4の下流側に
のみ予備電離発生部5が設けられているので、予備電離
発生部5から放射される紫外線が主放電3によって発生
する放電残留物によって吸収され、レーザの発振周波数
が高くなるにつれ、予備電離電子数が減少し、主放電3
の均一性が悪化し、レーザガス中に有効にエネルギが注
入されず、レーザ発振効率が低下し、出力エネルギーが
低下してしまい、次の主放電3を発生するまでに主電極
1、2間のレーザガスを新しいレーザガスに置換するこ
とが必要で、強力なレーザガス供給装置が必要となると
いう課題があった。
ためになされたもので、レーザガス供給装置の供給能力
を高くしなくとも出力エネルギが低下せず、発振周波数
によらずレーザビーム中心位置が一定となる高発振周波
数の放電励起パルスレーザ発振装置を得ることを目的と
する。
パルスレーザ発振装置は、予備電離発生部が一対の主電
極に対してレーザガス流の上流側にのみ設けられ、該予
備電離発生部は、その一部を一対の主電極の一方の主電
極の一端に接するようにして該一方の主電極から離間さ
せて、該一方の主電極のレーザガス流の上流側にのみ埋
め込まれた誘電体パイプと、該誘電体パイプに内包され
た補助電極とから構成されているものである。さらに、
誘電体パイプと一方の主電極との距離を、該誘電体パイ
プの厚み以上とするものである。
の接点から誘電体パイプを覆うようにコロナ放電が開始
され、このコロナ放電から紫外線が放射されて一対の主
電極間のレーザガスが予備電離される。そして、一対の
主電極間に電圧が印加されると、予備電離されたレーザ
ガスが放電を開始して主放電が発生する。この時、誘電
体パイプが主電極に埋め込まれているので、レーザガス
流の妨げにならず、レーザガスが一対の主電極間に速や
かに供給される。また、一対の主電極間のレーザガスに
対して、紫外線がレーザガス流の上流側から照射してい
るので、主放電によって発生する放電残留物はレーザガ
ス流により下流側に流され、紫外線がこの放電残留物に
吸収されることなく主電極間のレーザガスを予備電離
し、レーザの発振周波数によらず予備電離された電子数
の分布および量が常に一定となり、主放電が所定位置で
安定して放電する。さらに、主電極と誘電体パイプとの
距離が誘電体パイプの厚み以上となっているので、コロ
ナ放電は進展長が長くなり、予備電離量が多くなる。
る。図1はこの発明の放電励起パルスレーザ発振装置の
一実施例を示す断面図であり、図において図2および図
3に示した従来装置と同一または相当部分には同一符号
を付し、その説明を省略する。図において、10は補助
電極7を内包する中空の誘電体パイプ6からなる予備電
離発生部であり、この予備電離発生部10は、主電極2
のレーザガス流4の上流側に誘電体パイプ6が埋め込ま
れるように配置されるとともに、主電極2の一端と誘電
体パイプ6の一部とが接する以外は所定距離以上離れる
ように浮かして配置されている。ここで、誘電体パイプ
6は、アルミナを主成分とするアルミナセラミックによ
り構成されている。
る。主電極1、2間にレーザガス供給装置から供給した
後、主電極2と補助電極7との間に電圧を印加すると、
主電極2と誘電体パイプ6との接点から誘電体パイプ6
を覆うようにコロナ放電9が開始される。このコロナ放
電9から紫外線が放射されて、主電極1、2間のレーザ
ガスが予備電離される。つぎに、主電極1、2間に電圧
が印加されると、予備電離されたレーザガスが放電を開
始して主放電3が発生する。この主放電3によりレーザ
ガスが励起され、紙面と垂直な方向にレーザが発振す
る。この主放電3によって放電残留物が発生されるが、
つぎの放電が開始されるまでには、この放電残留物はレ
ーザガス流4により下流側に流され、主電極1、2間に
は新しいレーザガスが供給されている。そこで、上記操
作を繰り返すことにより、レーザが繰り返し発振され
る。
込まれるように配置されているので、レーザガス流4の
妨げにならず、高速でレーザガスが供給される。また、
主電極2と誘電体パイプイ6との距離を誘電体パイプ6
の厚み以上にすればコロナ放電9は進展長が長くなり、
予備電離量を多くすることができる。ここで、図2に示
した従来の放電電離レーザ発振装置では、図4に示すよ
うに発振周波数の変化にともなってレーザビームの中心
位置が変化しているが、この実施例では、1〜1000
Hzの発振周波数の範囲で、レーザビームの中心位置の
変化は全く見られなかった。また、この実施例では、レ
ーザ出力エネルギが低下しないように、予備電離のため
の紫外線を吸収する放電残留物を流し出すレーザガス供
給装置の供給能力を、同一条件下で図3に示した放電励
起エキシマレーザ発振装置の約1/2とすることができ
た。
による紫外線が吸収されることがないので、レーザの発
振周波数にかかわらず予備電離された電子数の分布およ
び量を一定にでき、主放電3が均一に放電するとともに
主放電3の位置も変動することもなく、安定してレーザ
を発振できる。
レーザ出力が低下しないという効果は、電子付着性の高
いガス、例えばHclやF2を含むエキシマレーザ発振装
置、特にKrF、ArF、F2レーザにおいてに顕著に現れた。ま
た、レーザビームの中心位置が変動しないという効果
は、エキシマレーザ発振装置以外にも、例えばTEACO2レ
ーザにおいても確認されている。さらに、上記実施例で
は、予備電離発生部5としてコロナ放電9を利用して説
明しているが、アーク放電を利用する予備電離発生部を
用いてもレーザビーム中心位置がずれないという効果が
現れる。ただし、この場合、アーク放電により多量のエ
ネルギーがレーザガス上流側に注入されて、レーザガス
温度の上昇を生じるので、レーザガス供給装置の供給能
力を下げるという効果は出てこない。
離発生部が一対の主電極に対してレーザガス流の上流側
にのみ設けられ、該予備電離発生部は、その一部を一対
の主電極の一方の主電極の一端に接するようにして該一
方の主電極から離間させて、該一方の主電極のレーザガ
ス流の上流側にのみ埋め込まれた誘電体パイプと、該誘
電体パイプに内包された補助電極とから構成されている
ので、レーザガス供給装置の供給能力を高くしなくとも
出力エネルギが低下せず、さらに発振周波数によらずレ
ーザビーム中心位置が一定となる高発振周波数の放電励
起パルスレーザ発振装置が得られる効果がある。さら
に、主電極と誘電体パイプとの距離が誘電体パイプの厚
み以上となっているので、コロナ放電は進展長が長くな
り、予備電離量が多くなる。
実施例を示す断面図である。
面図である。
を示す断面図である。
ける発振周波数とレーザビームの中心位置との関係を示
すグラフである。
Claims (2)
- 【請求項1】 レーザ光軸方向に平行かつ対向して配設
された一対の主電極と、前記レーザ光軸方向と直交する
方向から前記一対の主電極間にレーザガスを供給するレ
ーザガス供給装置と、前記一対の主電極間に供給される
レーザガスのレーザガス流の上流側にのみ配設されて、
前記一対の主電極間の前記レーザガスを予備電離させる
予備電離発生部とを備え、前記予備電離発生部は、その
一部を前記一対の主電極の一方の主電極の一端に接する
ようにして該一方の主電極から離間させて、該一方の主
電極の前記レーザガス流の上流側にのみ埋め込まれた誘
電体パイプと、前記誘電体パイプに内包された補助電極
とから構成されていることを特徴とする放電励起パルス
レーザ発振装置。 - 【請求項2】 上記誘電体パイプと上記一方の主電極と
の距離が、該誘電体パイプの厚み以上であることを特徴
とする請求項1記載の放電励起パルスレーザ発振装置。
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Families Citing this family (16)
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---|---|---|---|---|
EP0577870A1 (en) * | 1992-07-06 | 1994-01-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Discharge excitation pulsed laser oscillation device |
US6198762B1 (en) | 1996-09-26 | 2001-03-06 | Yuri Krasnov | Supersonic and subsonic laser with RF discharge excitation |
US6636545B2 (en) | 1996-09-26 | 2003-10-21 | Alexander V. Krasnov | Supersonic and subsonic laser with radio frequency excitation |
US5682400A (en) * | 1995-09-27 | 1997-10-28 | Krasnov; Alexander V. | Supersonic and subsonic laser with high frequency discharge excitation |
US5976957A (en) * | 1996-10-28 | 1999-11-02 | Sony Corporation | Method of making silicon quantum wires on a substrate |
US5818865A (en) * | 1997-05-16 | 1998-10-06 | Cymer, Inc. | Compact excimer laser insulator with integral pre-ionizer |
JP3796038B2 (ja) * | 1997-11-18 | 2006-07-12 | 株式会社小松製作所 | ガスレーザ発振装置 |
US6700908B1 (en) * | 1999-06-21 | 2004-03-02 | Tui Laser Ag | Device for avoiding sliding discharges in pre-ionization in a gas laser with corona discharge |
US6507596B1 (en) * | 2000-09-08 | 2003-01-14 | Komatsu Ltd. | Gas laser apparatus |
US7402398B2 (en) | 2003-07-17 | 2008-07-22 | Monogram Biosciences, Inc. | Measuring receptor homodimerization |
EP1673399B1 (en) | 2003-08-11 | 2017-04-05 | Monogram BioSciences, Inc. | Detecting and profiling molecular complexes |
US7199374B2 (en) * | 2004-08-30 | 2007-04-03 | Rutgers, The State University | Corona discharge lamps |
US7939267B2 (en) | 2004-11-04 | 2011-05-10 | Laboratory Corporation Of America Holdings | Detection of activation of endothelial cells as surrogate marker for angiogenesis |
ES2615265T3 (es) | 2011-05-19 | 2017-06-06 | Laboratory Corporation Of America Holdings | Métodos para determinar la probabilidad de supervivencia y para predecir la probabilidad de metástasis en el cáncer |
EP2981828A1 (en) | 2013-04-05 | 2016-02-10 | Laboratory Corporation of America Holdings | Systems and methods for facilitating diagnosis, prognosis and treatment of cancer based on detection of her3 activation |
US11095088B1 (en) | 2018-02-21 | 2021-08-17 | Zoyka Llc | Multi-pass coaxial molecular gas laser |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4380079A (en) * | 1980-09-12 | 1983-04-12 | Northrop Corp. | Gas laser preionization device |
JPS57208185A (en) * | 1981-06-17 | 1982-12-21 | Mitsubishi Electric Corp | Lateral excitation type laser oscillator |
US4611327A (en) * | 1983-11-25 | 1986-09-09 | Amoco Corporation | Gas transport laser system |
IT1197768B (it) * | 1983-12-29 | 1988-12-06 | Selenia Ind Elettroniche | Preionizzatore ad effetto corona per laser a gas |
DE3579966D1 (de) * | 1984-05-14 | 1990-11-08 | Telecommunications Sa | Gaslaser. |
JPS61125096A (ja) * | 1984-11-21 | 1986-06-12 | Komatsu Ltd | ガスレ−ザの放電装置 |
JPS61228690A (ja) * | 1985-04-02 | 1986-10-11 | Hitachi Ltd | 超音速エキシマレ−ザ装置 |
JPS6218781A (ja) * | 1985-07-17 | 1987-01-27 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ発振器 |
JPS63133583A (ja) * | 1986-11-25 | 1988-06-06 | Shimadzu Corp | 紫外光予備電離パルスガスレ−ザ装置 |
JPS63217684A (ja) * | 1987-03-06 | 1988-09-09 | Toshiba Corp | パルスガスレ−ザ装置 |
JPS6480081A (en) * | 1987-09-21 | 1989-03-24 | Toshiba Corp | Gas laser |
JPH03227582A (ja) * | 1990-02-01 | 1991-10-08 | Toshiba Corp | パルスレーザ装置 |
JPH03235388A (ja) * | 1990-02-13 | 1991-10-21 | Toshiba Corp | パルスレーザ装置 |
JP3036158U (ja) * | 1994-07-29 | 1997-04-15 | 喜久男 北 | 計算練習器 |
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