KR0147387B1 - 종형 열처리 장치 - Google Patents

종형 열처리 장치

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KR0147387B1
KR0147387B1 KR1019910016609A KR910016609A KR0147387B1 KR 0147387 B1 KR0147387 B1 KR 0147387B1 KR 1019910016609 A KR1019910016609 A KR 1019910016609A KR 910016609 A KR910016609 A KR 910016609A KR 0147387 B1 KR0147387 B1 KR 0147387B1
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히로노브 니시
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이노우에 다케시
도오교오 에레구토론사가미 가부시끼 가이샤
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Abstract

본 발명은, 반도체 장치의 제조공정에 있어서의 열확산공정이나 성막공정에서 사용되는 세로형 열처리장치에 관한 것이다.
피처리물을 수용하고, 이 피처리물에 대하여 열처리를 실시하기 위한 세로형 열처리로와, 미처리의 이 피처리물을 적절하게 덮도록 설치된 포위용기를 가지며 이 피처리물을 일시적으로 대기시키기 위한 피처리물 스톡커와, 이 포위용기 내부와 연결되어 통하며, 이 내부에 불활성 가스 또는 전처리 가스를 도입하기 위한 가스 도입수단과, 이 세로형 열처리로와 피처리물 스톡커 사이에서 이 피처리물을 반송하기 위한 반송장치와를 구비하여 되는 세로형 열처리장치를 제공하는 것이다.
본 발명에 의하면, 피처리물을 대기시키기 위한 처리용 용기 스톡커를 구비하고 있기 때문에, 반송용 용기와 처리용기 사이에서 긴 시간을 필요로하는 피처리물의 이송에 기인하는 처리효율의 저하를 억제할 수 있다.

Description

종형 열처리장치
제1도는, 성형품 자동추출기의 개략을 나타내는 사시도.
제2도는, 상학동장치의 분해 사시도.
제3도 및 제4도는, 작용을 나타내는 정면도.
제5도는, 본 발명의 변경 실시예를 나타내는 설명도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 세로형 열처리 장치 2 : 반도체 웨이퍼
3 : 웨이퍼 캐리어 4 : 웨이퍼 보트
10 : 캐리어 스톡커 11 : 선반
20 : 웨이퍼를 실어서 이송하는 기구 22 : 웨이퍼 재치대
30 : 세로형 열처리로 31, 56 : 반응관(반응용기)
32 : 가열히터 33 : 본체
34 : 베이스 플레이트 35, 53 : 턴테이블
36 : 보온통 37, 55 : 아암
37a : 축 38 : 보트 엘레베이터
39 : 캡부 40 : 반송기구
41 : 보트재치부 42 : 반송레일
50 : 보트 스톡커 51 : 회전구동기구
52 : 회전축 54 : 재치대
57a : 승강부 58 : 틀체
59 : 처리가스 도입배관 60 : 보트 이송기구
61 : 보트 핸드링부 62 : 이송부
301 : 가스 도입장치
본 발명은, 반도체 장치의 제조공정에 있어서의 열확산공정이나 성막공정에서 사용되는 세로형 열처리장치에 관한 것이다.
최근에 반도체 장치의 제조공정에 있어서의 열확산공정이나 성막공정에서 사용되는 세로형 열처리장치로서, 공간절약화, 에너지 절약화, 피처리물인 반도체 웨이퍼의 큰 구멍 직경화 및 자동화에의 대응이 용이한 점등의 이유에서 세로형 열처리장치가 개발되고 있다.
이와같은 세로형 열처리장치에서는, 석영등으로 되는 원통형상의 반응용기 주위로 히터나 단열재등이 배치된 세로형 열처리 노 내에, 여러 개의 반도체 웨이퍼가 소정 간격으로 선반형태로 쌓아서 수용된 석영등으로 되는 웨이퍼 보트를 그 아랫 쪽에서 승강기구로 로딩하고, 소정의 열처리가 실시되도록 구성되어 있다.
또, 통상, 반도체 웨이퍼의 반송은, 수지제의 웨이퍼 캐리어로 불리우는 반송용 용기에 수용되어 이루어지기 때문에, 상기 웨이퍼 보트와 웨이퍼 캐리어 사이에서 반도체 웨이퍼를 실어서 이송할 필요가 있다.
그래서 웨이퍼 보트와 웨이퍼 캐리어 사이에서의 웨이퍼를 실어서 이송하는 기구(이하, 이송기구라 한다)를 설치한 세로형 열처리장치가 일반적으로 많이 이용되고 있다.
한편, 여러갯수의 웨이퍼 보트를 사용하고 열처리 가공중의 웨이퍼 보트에 반도체 웨이퍼의 이송을 실행함과 동시에, 웨이퍼 이송 완료의 웨이퍼 보트를 대기시키는 것에 의하여 웨이퍼 보트와 웨이퍼 캐리어 사이에 있어서의 반도체 웨이퍼의 이송시간에 의한 처리율의 저하를 억제하고 열처리 공정의 효율화를 도모하는 것이 바람직하다.
또, 웨이퍼 이송 완료의 웨이퍼 보트의 대기공정을 설치함과 동시에 세로형 열처리 노(爐)를 여러 갯수로 병렬설치하므로서 1대의 웨이퍼 이송기구를 여러 갯수의 세로형 열처리 노에서 공용으로 할 수 있고, 열처리의 효율화를 도모하는 것도 바람직하다.
상술한 바와 같이, 세로형 열처리장치에서는, 웨이퍼 보트에 반도체 웨이퍼를 탑재한 상태에서 대기시키므로서 처리 효율을 향상시키는 것도 바람직하지만, 반도체 웨이퍼의 대기시간의 증대는, 자연산화막의 형성을 증대하고 길게하는 것을 의미하고 있다.
이것은, 반도체 소자의 고집적화에 수반하여 배선망의 미세화가 진행되고 있는 현상에서는, 거의 수 10Å의 자연산화막도 배선불량의 원인이되기 때문에, 불량발생을 증대시킨다고 하는 문제를 초래하고 있다.
또, 자연산화막은 불균일한 막이기 때문에, 보다 불량을 초래하기 쉽다는 난점도 가지고 있다.
이와같은 점에서 열처리 공정의 처리효율의 향상을 도모함과 동시에 자연산화막의 형성을 억제하고, 더욱이 자연산화막을 열처리 전에 제거하는 것을 가능하게 하므로서 처리품질의 향상을 도모하는 것이 강하게 요청되고 있다.
한편, 반도체 소자의 제조공정등에 이용되는 열처리장치는, 일반적으로 크린룸 내에 배치됨과 동시에 각 장치 내에도 크린에어를 공급하는 등, 반도체 웨이퍼에의 먼지의 부착을 방지하고 있으나, 대류가 있기 때문에 완전하게 먼지의 부착을 방지할 수는 없고, 반도체 웨이퍼의 대기 시간의 증대는, 먼지부착의 가능성을 높이는 것으로 된다.
따라서, 대기중에 있어서의 먼지의 부착을 보다 더 방지하는 것이 강하게 요청되고 있다.
본 발명은, 이와같은 과제에 대처하기 위하여 이루어진 것으로, 피처리물의 대기기구를 설치하므로서 열처리 공정의 효율화를 도모함과 동시에 대기기구에서 피처리물(예를들면 반도체 웨이퍼)의 표면산화방지 또는 전처리를 실행하므로서, 피처리물의 품질저하를 억제할 수 있는 세로형 열처리장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
즉, 본 발명은 피처리물을 수용하고, 이 피처리물에 대하여 열처리를 실시하기 위한 세로형 열처리로와, 미처리의 이 피처리물을 적절하게 덮도록 설치된 포위용기를 가지며 이 피처리물을 일시적으로 대기시키기 위한 피처리물 스톡커와, 이 포위용기 내부와 연결되어 통하며, 이 내부에 불활성 가스 또는 전처리 가스를 도입하기 위한 가스 도입수단과, 이세로형 열처리로와 피처리물 스톡커 사이에서 이 피처리물을 반송하기 위한 반송장치와를 구비하여 되는 세로형 열처리장치를 제공하는 것이다.
또, 이 세로형 열처리장치는 그 일련의 장치내에, 이 피처리물이 수용된 반송용용기를 수용하기 위한 반송용 용기 스톡커와, 이 반송용 용기와 처리용 용기 사이에서 이 피처리물을 실어서 이송하기 위한 기구를 조립하는 것이 바람직하다.
본 발명의 세로형 열처리장치에 있어서는, 피처리물을 대기시키기 위한 처리용 용기 스톡커를 구비하고 있기 때문에, 반송용 용기와 처리용기 사이에서 긴 시간을 필요로하는 피처리물의 이송에 기인하는 처리효율의 저하를 억제할 수 있다.
또, 상기 처리용기 스톡커에 피처리물에 대한 전처리 기능을 부가하고 있기 때문에, 대기시간이 길어짐에 따른 피처리물의 불량발생을 억제할 수 있고, 나아가서는 처리 품질을 보다 높일 수 있다.
또, 피처리물이 수용된 반송용 용기의 스톡커로부터 실어서 이송하는 기구, 피처리물 스톡커, 반송기구, 세로형 열처리로까지를 일련의 장치내에 조립하고 있기 때문에, 열처리에 따르는 피처리물의 실어서 이송하는 것이나 각 용기의 반송도 포함한 각 공정을 효율좋게 실시할 수 있다.
이하, 본 발명의 세로형 열처리장치의 실시예에 대하여 도면을 참조하여 설명한다.
본 실시예에 있어서의 세로형 열처리장치(1)는, 제1도 및 제2도에 도시한 바와 같이, 피처리물로서 반도체 웨이퍼(2)가 수용된 반송용 용기, 예를들면 웨이퍼 캐리어(3)를 다수 수납가능한 캐리어 스톡커(10)와, 상기 웨이퍼 캐리어(3)에 수용된 반도체 웨이퍼(2)를 처리용기, 예를들면 석영등으로 되는 웨이퍼보트(4)에 실어서 이송하기 위한 실어 이송하는 기구(20)와, 상기 반도체 웨이퍼(2)가 탑재된 웨이퍼보트(4)를 수용하여 소정의 열처리를 행하는 병렬배치된 여러 개의 세로형 열처리로(30)와, 이 들 세로형 열처리로(30)의 배열방향을 따라서 그 전방에 설치되고 상기 웨이퍼보트(4)를 수직상태로 반송하는 보트 반송기구(40)와, 이 보트 반송기구(40)를 따라 설치되고, 미처리의 반도체 웨이퍼(2)의 대기위치임과 동시에 전처리를 실시하는 보트 스톡커(피처리물 스톡커)(50)와, 웨이퍼를 실어 이송하는 기구(20)와 보트 반송기구(40) 사이에서의 웨이퍼보트(4)의 이송을 수평-수직변환을 행하면서 실시하는 보트 이송기구(60)로 주로 구성되어 있다.
상기 캐리어 스톡커(10)에는, 다단(多段)적으로 캐리어 배치 선반(11)이 설치되어 있고, 각 캐리어 배치 선반(11)에 여러 개의 웨이퍼 캐리어(3)가 수납되도록 구성되어 있다.
또, 캐리어 스톡커(10)와 웨이퍼를 실어 이송하는 기구(20) 사이에서의 웨이퍼 캐리어(3)의 반송은, 캐리어 반송기구(70)에 의하여 행해진다.
여러 단으로 구성된 캐리어 배치 선반(11)으로부터 웨이퍼 캐리어(3)를 상기 캐리어 반송기구(70)에 이송하기 위하여, 캐리어 스톡커(10)는, 가로-수직방향으로 이동가능한 캐리어 유지 이송기구(12)를 가지고 있다.
또, 실어 이송하는 기구(20)는, 여러 개의 반도체 웨이퍼(2)를 가지고 있고, 보트 이송기구(60)에 의하여 보트를 실어 놓는데(22) 상에 수평방향으로 놓여진 웨이퍼 보트(4), 캐리어 반송기구(70)에 의하여 실어 이송하는 기구(20)측으로 반송된 여러 개의 웨이퍼 캐리어(3) 사이에서, 상기 핸드링부(21)에 의하여 반도체 웨이퍼(2)가 실려서 위치된다.
보트 이송기구(60)는, 웨이퍼 보트(4)의 상하단을 유지하는 보트 핸드링부(61)와, 이 보트 핸드링부(61)의 이송부(62)를 가지고 있으며, 상기 웨이퍼를 실어서 이송하는 기구(20)에 의하여 반도체 웨이퍼(2)가 탑재된 수평상태의 웨이퍼 보트(4)를 유지함과 동시에 수직상태로 변화하면서 보트 반송기구(40)의 보트 재치부(41) 위에 웨이퍼보트(4)를 이송한다.
또, 보트 반송기구(40)는, 웨이퍼보트(4)가 수직상태로 놓여지는 보트재치부(41)와 이것을 처리 프로그램에 기초하여 보트 스톡커(50) 또는 세로형 열처리로(30) 중 어느 것인가에 반송하는 반송 레일(42) 및 보트 재치부(41)를 레일(42)을 따르는 방향, 수직방향 및 상하방향으로 이동되는 구동수단(도시하지 않음)으로 되어있다. 이 구동수단에 대하여는 종래의 전달수단을 채용할 수 있다.
각 세로형 열처리로(30)는, 제3도에 도시한 바와 같이, 예를들면 석영에 의하여 형성된 반응관(31)과 그 주위를 둘러싸는 형태로 배치된 가열히터(32) 및 도시하지 않은 단열재등으로 열처리로 본체(33)가 구성되어 있고, 이 열처리로 본체(33)는 대략 수직으로 배설되도록 베이스 플레이트(34)에 고정되어 있다.
반도체 웨이퍼(2)가 소정 핏치로 선반을 쌓는 형태로 수용된 웨이퍼보트(4)는, 회전이 가능한 턴테이블(35) 상에 설치된 보온통(36)의 윗쪽에, 보트를 실어서 놓는 아암(37)에 의하여 보트 반송기구(40)로부터 이송되고, 승강기구, 예를들면 보트 엘레베이터(38)에 의하여 반응용기(31) 내에 로딩된다.
또, 반응용기(31)의 개방부의 밀폐는, 턴테이블(35)등과 일체로 보트엘레베이터(38)에 의하여 승강되는 원반상의 캡부(39)에 의하여 이루어진다.
실어 놓는 아암(37)은, 제5도에 도시한 바와 같이, 축(37a)에 a방향(수평방향)으로 회전운동이 자유롭게 지지되어 있음과 동시에 축(37a)의 긴 방향으로 상하운동이 가능하게 되어 있고, 웨이퍼보트(4)의 하단부를 지지하며 웨이퍼보트(4)를 턴테이블(35) 상에 실어서 놓을 수 있도록 되어있다.
또, 도면 중에서 37b는 회전위치 센서, 37c는 길이 조정용 구멍이다. 후술하는 보트 스톡커(50)에 설치된 보트를 실어서 놓는 아암(55)도, 이 제5도의 것과 거의 같은 기구로 되어있다.
또, 세로형 열처리로(30)의 일측벽에는, 크린가스 또는 N2가스를 도입하기 위한 가스 도입장치(301)가 설치되어 있다.
또, 보트 스톡커(50)는, 2동(棟)으로 병렬배치된 구성으로 되어있고, 미처리의 반도체 웨이퍼(2)가 수용된 웨이퍼보트(4)를 대기시킴으로서 웨이퍼를 실어서 놓는 시간에 의한 처리효율의 저하를 억제함과 동시에 반도체 웨이퍼(2)에 대하여 산화방지, 산화막 제거등의 전처리를 실시하여 처리품질의 향상을 도모하는 것이다.
각 보트 스톡커(50)는, 제4도에 도시한 바와 같이, 회전구동기구(51)에 연결된 회전축(52)으로 고정된 턴테이블(53) 상에는, 웨이퍼보트(4)가 위치되는, 예를들면 석영등으로 되는 재치대(54)가 배치되어있다.
또, 각 보트 스톡커(50)는, 보트 반송기구(40)에 의하여 반송되어 온 웨이퍼보트(4)를 상기 재치대(54) 상으로 실어 놓는 보트 이송 아암(55)을 가지고 있다.
또, 웨이퍼보트(4)의 이송시에 방해되지 않는 위치에, 원통용기 형상의 용기, 예를들면 석영등으로 되는 반응관(56)이 배치되어있다.
이 반응관(56)은, 승강부(57a)에 틀체(58)로 고정되어 있고, 재치대(54) 상에 위치된 웨이퍼보트(4)를 덮도록 승강 가능하게 되어있다.
또, 반응관(56)에는 처리가스 도입배관(59)이 접속되어 있고, 이 처리가스 도입배관(59)으로부터 소정의 전처리용 가스, 예를들면 질소가스나 에칭가스등이 반응관(56) 내에 공급되고, 원하는 전처리가 미처리 반도체 웨이퍼(2)에 대하여 실시된다.
예를들면, 질소가스를 전처리 가스로서 사용하면, 반도체 웨이퍼(2)에 대한 자연산화막의 형성이나 반도체 웨이퍼(2)에의 먼지부착을 방지할 수 있다.
또, 에칭가스를 이용하면, 전(前)공정에서 형성된 자연상화막의 제거를 열처리 직전에 실시할 수있다.
또, 이 실시예에 있어서의 세로형 열처리 장치(1)에서는, 세로형 열처리로(30)는, 4동으로 병렬배치되어 있고, 다른 열처리, 예를들면 Si에피텍셜 성장과 열확산 공정등을 동시에 실시하는 것이 가능하도록 되어있다.
그런데, 다른 열처리에 의한 크로스컨터미네이션을 방지하기 위하여, 웨이퍼 보트(4)가 접촉하는 부분, 즉 보트 반송기구(40), 보트 이송기구(60)의 보트 유지부(61)(도시 생략), 웨이퍼를 실어서 이송하는 기구(20)의 보트 재치대(22)(도시 생략)등은, 2셋트씩 설치되어 있고, 취급하는 웨이퍼 보트(4)의 처리내용에 따라 각각변경할 수 있도록 되어있다.
또, 세로형 열처리로(30)의 갯수는, 상기 실시예의 4 개의, 경우에 한정되는 것이 아니고, 적절한 갯수, 예를들면 5개 이상이어도 좋고 보트스톡커(50)의 갯수도 2개에 한정되는 것이 아니고 바람직하게는 세로형 열처리로(30)와 같은 갯수로 하는 것이 좋다.
이어서, 이 세로형 열처리 장치(1)의 동작에 대하여 설명한다.
이와같은 구성의 세로형 열처리 장치(1)에서는, 우선, 캐리어 스톡커(10)의 캐리어 배치선반(11)으로부터 캐리어 반송기구(70)의 캐리어대(71)에 실리어 온 웨이퍼 캐리어(3)를, 웨이퍼를 실어 놓는 기구(20)측으로 반송한다.
한편, 보트 이송기구(60)에 의하여 웨이퍼 보트(4)를 보트 재치대(22)상으로 이송하고, 이 웨이퍼 보트(4)에 대하여 웨이퍼 캐리어(3)에 수용된 반도체 웨이퍼(2)의 이송이 종료되면, 반도체 웨이퍼(2)가 탑재된 웨치퍼 보트(4)는, 보트 이송기구(60)에 의하여 수평-수직변환되면서 보트 반송기구(40)로 이송된다.
이어서, 웨이퍼 보트(4)는, 처리프로그램에 의거하여 보트 반송기구(40)에 의하여 각 보트 스톡커(50) 또는 각 세로형 열처리로(30)중 어느 하나에 반송한다.
예를들면, 세로형 열처리로(30)에 반송된 웨이퍼 보트(4)는, 보온통(36)상에 놓여지고 보트 엘레베이터(38)에 의하여, 예를들면 800℃정도의 미리 예비 가열상태에 있는 반응용기(31) 내에 로딩됨과 동시에 캡부(39)에 의하여 반응용기(31)가 밀폐된다. 이 후, 반응용기(31) 내를 소정의 소정의 진공도, 예를들면 10Torr로 유지하면서 처리가스, 예를들면 Sih2, Cl2, HCl, H2를 도시하지 않은 가스 도입관으로부터 공급하고 반도체 웨이퍼(2)의 처리, 예를들면 Si 에피텍셜 성장을 한다.
또, 보트 스톡커(50)에 반송된 웨이퍼 보트(4)는, 턴테이블(52)상에 놓여짐과 동시에 하강한 반응관에 의하여 덮여지고 처리가스 도입배관(59)로 부터 공급된 전처리용 가스, 예를들면 질소가스나 에칭가스에 의하여 열처리 공정의 대기시간 중에 소망하는 전처리(산화방지, 자연산화막 제거등)가 실시된다.
상기 반도체 웨이퍼(2)의 이송과 웨이퍼 보트(4)의 세로형 열처리로(30) 또는 보트 스톡커(50)에의 반송은 차례로 이루어짐과 동시에 처리 프로그램에 따라서 보트 스톡커(50)에서 대기중인 웨이퍼보트(4)도 세로형 열처리로(30)에 반송된다.
한편, 세로형 열처리로(30)에서의 처리가 종료한 반도체 웨이퍼(2)는 웨이퍼 보트(4)와 함께 보트 반송기구(40) 및 보트 이송기구(60)에 의하여, 웨이퍼를 실어 놓는 기구(20)의 보트 재치대(22)상으로 이송되고, 또 웨이퍼 캐리어(3)로 이송되어 놓여진다.
처리완료된 반도체 웨이퍼(2)가 수용된 웨이퍼 캐리어(3)는, 캐리어 스톡커(10)에 돌아가고 다음의 공정으로 반송된다.
상기 구성의 세로형 열처리 장치에는, 반도체 웨치퍼(2)가 탑재된 웨이퍼 보트(4)의 대기위치로서, 여러개의 보트 스톡커(50)를 가지고 있기 때문에, 반도체 웨이퍼(2)의 처리내용에 관계없이 반도체 웨이퍼(2)의 이송에 따르는 처리효율의 저하를 억제할 수 있다.
또, 상기 보트 스톡커(50)를 가짐과 동시에 전공정에서 반송되어 온 웨이퍼 캐리어(3)를 수납하는 캐리어 스톡커(10)나 반도체 웨이퍼(2)를 실어 놓는 기구(20), 또 웨이퍼 보트(4)의 이송이나 반송을 행하는 각 기구(40)(60)를 하나의 장치 내에 설치하고 있기 때문에, 일련의 열처리에 관한 공정을 연속적으로, 또 처리 내용에 따라 유연하게 실시할 수 있고, 이점에서도 처리효율의 향상을 도모할 수 있다.
이러한 점들에 의하여 반도체 웨이퍼(2)의 열처리에 따르는 제조단가의 절감이 가능하게 된다.
또, 상기 보트 스톡커(50)에 상승이 자유로운 반응관(54)을 설치하고 열처리의 전처리로서, 예를들면 불활성 가스의 처리나 반도체 웨이퍼(2)에 대하여 실시하는 것이 가능하기 때문에, 대기기간 중에 자연산화막이 형성되는 것을 방지할 수 있고, 나아가서는 자연산화막을 제거할 수 있다.
또, 반응관 내에서 대기시키고 있기 때문에, 먼지등의 부착에 의한 불량발생을 억제할 수 있다.
상기한 보트 스톡커(50)의 채택에 의하여 반도체 웨이퍼(2)를 웨이퍼보트(4)에 탑재한 상태로 대기시키는 기간중에, 전처리를 실시할 수 있기 때문에, 대기기간 중에 기인하는 불량발생을 억제하며 처리의 품질향상을 도모하고, 열처리 공정의 효율화를 도모할 수 있다.

Claims (14)

  1. 피처리물(2)을 수용하고, 이 피처리물에 대하여 소정의 열처리를 실시하기 위한 세로형 열처리로(30)와, 미처리의 이 피처리물(2)을 적절하게 덮도록 설치된 포위용기를 가지며 이 피처리물(2)을 일시적으로 대기시키기 위한 피처리물 스톡커(3)와, 이 포위용기 내부와 연결되어 통하며, 이 내부에 불활성 가스 또는 전처리 가스를 도입하기 위한 가스 도입수단과, 이 세로형 열처리로(30)와 피처리물 스톡커(3) 사이에서 이 피처리물(2)을 반송하기 위한 반송장치(40)를 구비하여 되는 세로형 열처리장치.
  2. 제1항에 있어서, 피처리물 스톡커(3)가 피처리물(2)이 수용되는 열처리용의 열처리 용기를 수납하는 세로형 열처리장치.
  3. 제2항에 있어서, 처리용 용기가 피처리물인 반도체 웨이퍼(2)를 적층하여 수납하는 세로형 열처리장치.
  4. 제1항에 있어서, 이 피처리물(2)이 수용된 반송용 용기를 수용하기 위한 반송용 용기 스톡커(10)와, 이 반송용 용기와 피처리물(2)이 수용되는 열처리용의 피처리용기와의 사이에서 이 피처리물(2)의 이송을 실행하기 위한 실어서 이송하는 기구(20)로 구비되는 세로형 열처리장치.
  5. 제1항에 있어서, 피처리물이 반도체 웨이퍼(2)인 세로형 열처리장치.
  6. 제1항에 있어서, 세로형 열처리로(30)가, 여러 개 설치되어 있고, 피처리물 스톡커(3)도 이것과 같은 수로 설치되어 있는 세로형 열처리장치.
  7. 제4항에 있어서, 세로형 열처리로(30)가, 적어도 4개 설치되어 있는 세로형 열처리장치.
  8. 제1항에 있어서, 이 포위용기가 하단이 트여지고 상단에 가스 도입수단이 접속되어 있으며, 승강장치에 의하여 지지되어 있는 세로형 열처리장치.
  9. 제1항에 있어서, 이 처리물 스톡커가 세로형 열처리로(30)와 병렬설치되어 있고, 이들 앞에 이 반송기구(40)가 직선상으로 설치되어 있는 세로형 열처리장치.
  10. 제1항에 있어서, 이 처리물 스톡커가 세로형 열처리로(30)와의 사이에 이 실어서 이송하는 기구(20)가 설치되어 있는 세로형 열처리장치.
  11. 제1항에 있어서, 이 처리물 스톡커의 아래 쪽으로 이 피처리물을 회전이 자유롭게 지지하는 턴테이블(35)이 설치되어 있는 세로형 열처리장치.
  12. 제1항에 있어서, 이 불활성 가스가 질소가스인 세로형 열처리장치.
  13. 제1항에 있어서, 이 전처리 가스가 산화물 에칭가스인 세로형 열처리장치.
  14. 제1항에 있어서, 이 반송기구(40)가 적어도 2개 설치되어 있는 세로형 열처리장치.
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