JP2719316B2 - Bitten and sewing machine using it - Google Patents
Bitten and sewing machine using itInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ミシンの全回転かまに
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a full rotation kettle of a sewing machine.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ミシンの全回転かまにおいて、その外か
まは、外かまに形成された軌溝が内かまに形成された軌
条に案内されて回転している。2. Description of the Related Art In a full rotary kettle of a sewing machine, a rail groove formed in an outer hook is guided by a rail formed in an inner hook to rotate.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】したがってミシンの高
速運転時には、内かまと外かまとの接触面に生じる摩擦
抵抗によって焼付けを起こすおそれがあった。さらに、
その焼付けによって内かまが外かまの回転方向に回転し
ようとして内かま回り止め部材に抵抗を生じ、縫目形成
時に内かま回り止め部材からの上糸の離脱を困難にした
り、また糸切れを生ずるおそれがあった。Therefore, during high-speed operation of the sewing machine, there is a possibility that seizure may occur due to frictional resistance generated on the contact surface between the inner and outer hooks. further,
The baking causes the inner hook to rotate in the rotation direction of the outer hook, causing resistance to the inner hook detent member, making it difficult to remove the upper thread from the inner hook detent member during seam formation, or causing thread breakage. There was a fear.
【０００４】したがって本発明の目的は、内かまと外か
まとの接触面の摩擦抵抗を少なくして焼付けを防止し、
また内かまの外側部分の糸滑りを向上させて糸切れを防
止し、縫目形成時の糸締まりをよくするようにしたかま
およびそれを用いたミシンを提供することである。Accordingly, an object of the present invention is to reduce the frictional resistance of the contact surface between the inner and outer hooks to prevent seizure,
Another object of the present invention is to provide a hook and a sewing machine using the hook, which improve thread slippage of an outer portion of an inner hook to prevent thread breakage and improve thread tightness during seam formation.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は、内かまの少な
くとも軌条に、プラズマ化学蒸着法によるカーボン硬質
膜が形成されており、カーボン硬質膜の表面がカーボン
のみから成ることを特徴とする内かまである。また本発
明は、内かまの外周面全面に、プラズマ化学蒸着法によ
るカーボン硬質膜が形成されており、カーボン硬質膜の
表面がカーボンのみから成ることを特徴とする内かまで
ある。また本発明は、外かまの少なくとも剣先に、プラ
ズマ化学蒸着法によるカーボン硬質膜が形成されてお
り、カーボン硬質膜の表面がカーボンのみから成ること
を特徴とする外かまである。また本発明は、外かまの、
少なくとも内かまの軌条を案内する軌溝の内周面に、プ
ラズマ化学蒸着法によるカーボン硬質膜が形成されてお
り、カーボン硬質膜の表面がカーボンのみから成ること
を特徴とする外かまである。また本発明は、外かまの外
周面全面に、プラズマ化学蒸着法によるカーボン硬質膜
が形成されており、カーボン硬質膜の表面がカーボンの
みから成ることを特徴とする外かまである。また本発明
は、外かまの、少なくとも剣先および内かまの軌条を案
内する軌溝の内周面に、プラズマ化学蒸着法によるカー
ボン硬質膜が形成されており、カーボン硬質膜の表面が
カーボンのみから成ることを特徴とする外かまである。
また本発明は、内かまの回り止め凹所に嵌まり込んで、
内かまの回転を阻止する内かま回り止め部材の、少なく
とも回り止め凹所に当接する外周面に、プラズマ化学蒸
着法によるカーボン硬質膜が形成されており、カーボン
硬質膜の表面がカーボンのみから成ることを特徴とする
内かま回り止め部材である。また本発明は、内かまの少
なくとも軌条、または外かまの少なくとも軌溝にプラズ
マ化学蒸着法による表面がカーボンのみから成るカーボ
ン硬質膜を形成した内かま、または外かまを備えること
を特徴とするミシンである。また本発明は、ミシンのか
まを構成する内かまおよび外かまなどの少なくとも一つ
の構成要素の外周面に、構成要素およびプラズマ化学蒸
着法による表面がカーボンのみから成るカーボン硬質膜
に付着が良好な第１層を物理蒸着によって０．５〜４μ
ｍの厚みに設け、さらに前記第１層の表面に表面がカー
ボンのみから成るカーボン硬質膜をプラズマ化学蒸着に
よって、約１μｍの厚みに設けることを特徴とするミシ
ンのかまの製造方法である。また本発明は、内かまの少
なくとも軌条に、プラズマ化学蒸着法による表面がカー
ボンのみから成るカーボン硬質膜が形成され、外かま
の、少なくとも内かまの軌条を案内する軌溝の内周面
に、プラズマ化学蒸着法による表面がカーボンのみから
成るカーボン硬質膜が形成されることを特徴とするミシ
ンである。According to the present invention, a hard carbon film is formed on at least a rail of an inner furnace by a plasma chemical vapor deposition method, and the surface of the hard carbon film is made of only carbon. There is Further, the present invention is characterized in that a hard carbon film is formed on the entire outer peripheral surface of the inner kettle by a plasma chemical vapor deposition method, and the surface of the hard carbon film is made of only carbon. The present invention is also characterized in that a hard carbon film is formed by a plasma chemical vapor deposition method at least at the tip of the outer hook, and the surface of the hard carbon film is made of only carbon. The present invention also relates to an outer kettle,
A hard carbon film is formed on at least the inner peripheral surface of the rail groove for guiding the inner rail by a plasma enhanced chemical vapor deposition method, and the surface of the hard carbon film is made of only carbon. According to the present invention, a hard carbon film is formed on the entire outer peripheral surface of the outer furnace by a plasma chemical vapor deposition method, and the surface of the hard carbon film is made of only carbon. The present invention also provides a carbon hard film formed by a plasma enhanced chemical vapor deposition method on the outer circumferential surface of at least the inner circumferential surface of the rail groove for guiding the rail of the sword tip and the inner hook, and the surface of the carbon hard film is made of only carbon. It is characterized by becoming.
In addition, the present invention fits into the detent of the inner kettle,
A hard carbon film is formed by plasma enhanced chemical vapor deposition on at least the outer circumferential surface of the inner lock member that prevents rotation of the inner lock, which is in contact with the detent recess, and the surface of the hard carbon film is made of only carbon. A member for preventing rotation of the inner pin, which is characterized in that: Further, the present invention provides a sewing machine comprising an inner hook or an outer hook having a carbon hard film having a surface made of only carbon formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition on at least a rail groove of an inner hook or at least a groove of an outer hook. It is. In addition, the present invention provides a method for attaching a carbon hard film made of only carbon to a surface of a component and a surface formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition on the outer peripheral surface of at least one component such as an inner bit and an outer bit constituting a sewing machine bit. 0.5 to 4 μm by physical vapor deposition of the first layer
m, and a hard carbon film having a surface made of only carbon and having a thickness of about 1 μm is formed on the surface of the first layer by plasma-enhanced chemical vapor deposition. Also, the present invention, at least the rail of the inner furnace, a surface formed by plasma enhanced chemical vapor deposition of a carbon hard film formed only of carbon, the outer furnace, at least the inner circumferential surface of the groove guiding the inner rail of the rail, A sewing machine characterized in that a carbon hard film having a surface made of only carbon is formed by a plasma chemical vapor deposition method.
【０００６】[0006]
【作用】本発明に従えば、内かまの少なくとも軌条に機
械的硬度が大きく、低摩擦係数を有し、耐食性に優れた
表面がカーボンのみから成るカーボン硬質膜が形成され
ているので、内かまの軌条の耐摩耗性が向上される。ま
た、外かまの回転を円滑にし、内かまを安定して回転阻
止することができる。According to the present invention, a carbon hard film having a high mechanical hardness, a low friction coefficient, and excellent corrosion resistance is formed on at least the rail of the inner kettle. The abrasion resistance of the rail is improved. In addition, the rotation of the outer hook can be made smooth, and the inner hook can be stably prevented from rotating.
【０００７】また本発明に従えば、内かまの外周面全面
に機械的硬度が大きく低摩擦係数を有し、耐食性に優れ
た表面がカーボンのみから成るカーボン硬質膜が形成さ
れているので、内かまの外周面に沿って糸越しされる上
糸を滑らかに案内することができ、糸玉の発生を防止す
ることができる。Further, according to the present invention, a carbon hard film having a high mechanical hardness, a low friction coefficient, and excellent corrosion resistance is formed on the entire outer peripheral surface of the inner kettle. It is possible to smoothly guide the upper thread which is passed over the yarn along the outer peripheral surface of the kettle, and it is possible to prevent the occurrence of yarn balls.
【０００８】さらに本発明に従えば、外かまの少なくと
も剣先に機械的硬度が大きく、低摩擦係数を有し、耐食
性に優れた表面がカーボンのみから成るカーボン硬質膜
が形成されているので、剣先の耐摩耗性が向上され、ま
た滑らかに上糸を捕捉することができる。Further, according to the present invention, a carbon hard film having a high mechanical hardness, a low friction coefficient, and excellent corrosion resistance is formed on at least the tip of the outer kettle. Has improved abrasion resistance and can smoothly catch the upper thread.
【０００９】さらにまた本発明に従えば、外かまの少な
くとも軌溝に機械的硬度が大きく低摩擦係数を有し、耐
食性に優れた表面がカーボンのみから成るカーボン硬質
膜が形成されているので、外かまの軌溝が内かまの軌条
に沿って案内される際、外かまの回転を円滑にし、内か
まを安定して回転阻止することができる。Further, according to the present invention, a carbon hard film having a high mechanical hardness, a low friction coefficient, and excellent corrosion resistance is formed on at least the rail groove of the outer kettle. When the rail groove of the outer bite is guided along the rail of the inner bite, the rotation of the outer bite can be made smooth and the rotation of the inner bite can be stably prevented.
【００１０】さらにまた本発明に従えば、外かまの外周
面全面に機械的硬度が大きく低摩擦係数を有し、耐食性
に優れた表面がカーボンのみから成るカーボン硬質膜が
形成されるので、外かまの耐摩耗性が向上される。ま
た、外かまの回転を円滑に行うことができ、さらに剣先
で上糸を円滑に捕捉することができる。Further, according to the present invention, a carbon hard film having a high mechanical hardness, a low friction coefficient, and excellent corrosion resistance is formed on the entire outer peripheral surface of the outer kettle. The wear resistance of the kettle is improved. Further, the outer hook can be smoothly rotated, and the upper thread can be smoothly captured by the point of the sword.
【００１１】さらにまた本発明に従えば、外かまの少な
くとも剣先および軌溝に機械的硬度が大きく、低摩擦係
数を有し、耐食性に優れた表面がカーボンのみから成る
カーボン硬質膜が形成されているので、外かまの軌溝の
耐摩耗性が向上され、さらに外かまの回転を円滑に行う
ことができる。また、剣先は滑らかに上糸を捕捉するこ
とができる。Furthermore, according to the present invention, a carbon hard film having a high mechanical hardness, a low friction coefficient, and excellent corrosion resistance is formed on at least the sword tip and the rail groove of the outer hook. As a result, the wear resistance of the outer groove is improved, and the outer shaft can be rotated smoothly. Further, the point of the sword can smoothly catch the upper thread.
【００１２】さらにまた本発明に従えば、回り止め部材
の、少なくとも内かまの回り止め凹所に当接する外周面
に、機械的硬度が大きく、低摩擦係数を有し、耐食性に
優れた表面がカーボンのみから成るカーボン硬質膜が形
成されているので、縫目形成時に回り止め部材からの上
糸の離脱を容易にし、糸締まりを向上することができ
る。また、回り止め部材の耐摩耗性が向上され、長期間
の使用に耐えることができる。Further, according to the present invention, at least the outer peripheral surface of the detent member which comes into contact with the detent recess of the inner hook has a surface having a large mechanical hardness, a low coefficient of friction, and excellent corrosion resistance. Since the carbon hard film made of only carbon is formed, the upper thread can be easily detached from the detent member at the time of forming the stitch, and the thread tightness can be improved. Further, the abrasion resistance of the detent member is improved, and it can withstand long-term use.
【００１３】さらにまた本発明に従えば、内かまの少な
くとも軌条または外かまの少なくとも軌溝に機械的硬度
が大きく、低摩擦係数を有し、耐食性に優れた表面がカ
ーボンのみから成るカーボン硬質膜が形成されているの
で、内かまと外かまの接触面に生じる摩擦抵抗が減少
し、耐摩耗性が向上される。さらに、外かまの回転を円
滑にし、内かまを安定して回転阻止することができる。Still further, according to the present invention, a carbon hard film having a high mechanical hardness, a low friction coefficient, and excellent corrosion resistance on the surface of only the carbon is provided in at least the rail of the inner furnace or at least the groove of the outer furnace. Is formed, the frictional resistance generated on the contact surface between the inner and outer hooks is reduced, and the wear resistance is improved. Further, the rotation of the outer hook can be made smooth, and the inner hook can be prevented from rotating stably.
【００１４】さらにまた本発明に従えば、ミシンのかま
を構成する構成要素およびカーボン硬質膜の両方に付着
が良好な第１層を、まず物理蒸着によって構成要素に設
け、さらに前記第１層の上にプラズマ化学蒸着によって
表面がカーボンのみから成るカーボン硬質膜を設けてミ
シンのかまを製造する。したがって、カーボン硬質膜を
確実にかまの構成要素の外周面に形成することができ、
カーボン硬質膜が容易に剥離することが防がれる。本発
明に従えば、内かまの少なくとも軌条と外かまの少なく
とも軌溝の内周面とに、表面がカーボンのみから成るカ
ーボン硬質膜を形成し、これによって耐摩耗性が向上さ
れ、外かまの回転を円滑にし、内かまを安定して回転阻
止することができる。Further, according to the present invention, a first layer having good adhesion to both the constituent elements of the sewing machine and the carbon hard film is first provided on the constituent elements by physical vapor deposition. A carbon hard film having a surface made of only carbon is provided thereon by plasma-enhanced chemical vapor deposition to manufacture a sewing machine hook. Therefore, the carbon hard film can be reliably formed on the outer peripheral surface of the component of the kettle,
The carbon hard film is prevented from easily peeling off. According to the present invention, a carbon hard film having a surface made of only carbon is formed on at least the rail of the inner furnace and at least the inner peripheral surface of the groove of the outer furnace, whereby the wear resistance is improved, and The rotation can be made smooth and the inner hook can be stably prevented from rotating.
【００１５】[0015]
【実施例】図１は、本発明の一実施例の垂直全回転かま
１の全体の構成を示す斜視図であり、図２はその軸線１
７に沿う断面図である。垂直全回転かま１は、下軸２に
固定され、矢符Ｙ方向に駆動される外かま３と、この外
かま３に収納される内かま４と、内かまに着脱自在に装
着されるボビンケース５とを有する。このボビンケース
５には、ボビン１６が収納されており、このボビン１６
には、下糸が巻回されており、前記内かま４のスタッド
１５に装着される。外かま３のボス１４は水平な軸線１
７を有する下軸２に固定されて高速度で回転駆動され
る。前記内かま４の開放端部のフランジ６には、回り止
め部材７の遊端部に形成される突部８が嵌まり込む回り
止め凹所９が形成され、この回り止め凹所９に前記突部
８が嵌まり込んだ状態で、外かま３の回転に伴う内かま
４の回転が阻止される。前記回り止め部材７は、その基
端部がミシンの機体などに固定される。外かま３の周壁
には剣先１８が形成され、この剣先１８は外かま３の回
転に伴って回転し、上糸を捕捉する。FIG. 1 is a perspective view showing the entire configuration of a vertical full-rotation kettle 1 according to one embodiment of the present invention, and FIG.
It is sectional drawing in alignment with 7. The vertical full rotation kettle 1 is fixed to the lower shaft 2 and is driven in the direction of the arrow Y in the direction of arrow Y, the inner bite 4 accommodated in the outer bite 3, and the bobbin detachably mounted on the inner bite. And a case 5. The bobbin case 5 accommodates a bobbin 16.
The lower thread is wound on the stud 15 of the inner kettle 4. Boss 14 of outer kettle 3 is horizontal axis 1
7 and is driven to rotate at high speed. The flange 6 at the open end of the inner kettle 4 is formed with a detent recess 9 into which a projection 8 formed at the free end of the detent member 7 is fitted. With the projection 8 fitted, the rotation of the inner hook 4 accompanying the rotation of the outer hook 3 is prevented. The rotation preventing member 7 has its base end fixed to the machine body of the sewing machine or the like. A tip 18 is formed on the peripheral wall of the outer kettle 3, and the tip 18 rotates with the rotation of the outer kettle 3 to catch the upper thread.
【００１６】図３は外かま３の正面図であり、図４は内
かま４の正面図である。外かま３の周壁１０の内周面に
は軌溝１１が形成され、この軌溝１１には図４に示され
る内かま４の周壁１２の外周面に形成される軌条１３が
摺動自在に嵌まり込む。FIG. 3 is a front view of the outer kettle 3 and FIG. A rail groove 11 is formed on the inner peripheral surface of the peripheral wall 10 of the outer kettle 3, and a rail 13 formed on the outer peripheral surface of the peripheral wall 12 of the inner kettle 4 shown in FIG. Get stuck.
【００１７】図５は、図２の内かま４の軌条１３、およ
び外かま３の軌溝１１付近の拡大断面図である。内かま
４は、内かま本体４ａならびに突部４ｂとそれを被覆す
る被覆層Ａから成る軌条１３から構成される。内かま４
本体４ａは金属製であり、前記被覆層Ａは、機械的硬度
が大きく、低摩擦係数を有し、耐食性に優れたカーボン
硬質膜２１を表面に有する。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of the rail 13 of the inner hook 4 and the rail groove 11 of the outer hook 3 in FIG. The inner furnace 4 is composed of an inner furnace main body 4a and a rail 13 made of a projection 4b and a coating layer A covering the same. Inner bite 4
The main body 4a is made of metal, and the coating layer A has a carbon hard film 21 having high mechanical hardness, a low friction coefficient, and excellent corrosion resistance on the surface.
【００１８】以下に軌条１３の被覆層Ａの形成方法につ
いて説明する。被覆層Ａは第１層である炭化クロム層２
０およびカーボン硬質膜２１とから成り、外かま３およ
び内かま４は、クロムを含む、たとえばステンレス鋼か
ら成り、既存のかまが用いられてもよい。Hereinafter, a method of forming the coating layer A of the rail 13 will be described. The coating layer A is a chromium carbide layer 2 as a first layer.
The outer furnace 3 and the inner furnace 4 are made of, for example, stainless steel containing chromium, and an existing furnace may be used.
【００１９】第１層である炭化クロム層２０の形成はＰ
ＶＤ（物理蒸着）法、たとえば反応性イオンプレーティ
ング法を使用し、この場合は、真空槽内を１×１０-5Ｔ
ｏｒｒ以下の真空度に排気して、内かま４の突部４ｂを
充分に清浄するために約４ＳＣＣＭ（ｓｔａｎｔａｒｄ
ｃｃ／ｍｉｎｕｔｅ）の流量のアルゴンガスを導入し
てアルゴンプラズマをカソード電位に保たれた内かま４
の突部４ｂに照射し、イオンボンバードを行う。次に、
真空槽内にエチレンガスを導入し、アルゴンガスとの混
合ガスを反応ガスとして真空度１〜５×１０-3Ｔｏｒｒ
に保持する。その後、適当な加速電圧で発生する電子ビ
ームを蒸発源の金属クロムに照射し、発生するクロム蒸
気とエチレンガスをプラズマ中でイオン化し、０．５〜
１μｍの厚さの炭化クロム層２０を形成する。この場合
の形成条件は、アノード電流２０Ａ、フィラメント電流
１０Ａ、カソード電圧−２００Ｖであり、エチレンガス
の流量は０〜５０ＳＣＣＭで、炭化クロム層２０の生成
時には少なく、生成終了時には多くのエチレンガスを導
入する。The chromium carbide layer 20 as the first layer is formed by P
A VD (physical vapor deposition) method, for example, a reactive ion plating method is used. In this case, 1 × 10 −5 T
evacuated to a degree of vacuum equal to or less than orr and about 4 SCCM (standard) in order to sufficiently clean the protrusion 4 b of the inner furnace 4.
(cc / minute) argon gas was introduced at a flow rate of 4 cc / minute to maintain the argon plasma at the cathode potential.
Irradiates the projection 4b of the substrate to perform ion bombardment. next,
Ethylene gas is introduced into the vacuum chamber, and a mixed gas with argon gas is used as a reaction gas, and the degree of vacuum is 1 to 5 × 10 −3 Torr.
To hold. Thereafter, the electron beam generated at an appropriate accelerating voltage is irradiated to the metal chromium of the evaporation source, and the generated chromium vapor and ethylene gas are ionized in the plasma, and 0.5 to
A chromium carbide layer 20 having a thickness of 1 μm is formed. The formation conditions in this case are an anode current of 20 A, a filament current of 10 A, and a cathode voltage of -200 V. The flow rate of the ethylene gas is 0 to 50 SCCM, and a small amount is introduced when the chromium carbide layer 20 is generated, and a large amount of ethylene gas is introduced when the generation is completed. I do.
【００２０】図６は、被覆層Ａの一部の拡大断面図であ
る。図６に示されるように、ここで形成された炭化クロ
ム層２０は、内かま４の突部４ｂと炭化クロム層２０と
の界面ではクロムと結合している炭素が少なくクロムが
多い炭化クロム層２０ａであり、表面に近づくほど結合
している炭素が多くなり、表面近くでは過剰の炭素を含
む炭化クロム層２０ｂ（炭素が多い炭化クロム）となっ
ている。FIG. 6 is an enlarged sectional view of a part of the coating layer A. As shown in FIG. 6, the chromium carbide layer 20 formed here has a chromium carbide layer with a small amount of carbon bonded to chromium and a large amount of chromium at the interface between the protrusion 4 b of the inner furnace 4 and the chromium carbide layer 20. 20a, the closer to the surface, the more carbons are bonded, and near the surface, a chromium carbide layer 20b (chromium carbide with a lot of carbon) containing excess carbon.
【００２１】次に内かま４上に形成された炭化クロム層
２０上に炭化水素を含有するガス雰囲気中で、プラズマ
重合処理によってカーボン硬質膜２１を形成する。たと
えばプラズマＣＶＤ（化学蒸着）法を用いた場合は、真
空槽内にマッチングボックスを介して高周波電源が接続
されているカソード電極上に、内かま４の突部４ｂに炭
化クロム層２０が形成された内かま４を設置する。真空
槽内排気後、ガス導入口より炭化水素ガスであるメタン
ガスを導入し、プラズマを発生させて、膜厚約１μｍの
カーボン硬質膜２１を形成する。成膜条件として真空度
０．１Ｔｏｒｒ、高周波１３．５６ＭＨｚ、高周波電力
３００Ｗで行う。Next, a carbon hard film 21 is formed on the chromium carbide layer 20 formed on the inner furnace 4 by plasma polymerization in a gas atmosphere containing hydrocarbons. For example, when the plasma CVD (chemical vapor deposition) method is used, the chromium carbide layer 20 is formed on the projection 4b of the inner furnace 4 on the cathode electrode to which a high frequency power supply is connected via a matching box in a vacuum chamber. Tanauchi-Kama 4 is installed. After evacuation in the vacuum chamber, a methane gas, which is a hydrocarbon gas, is introduced from a gas inlet, and plasma is generated to form a carbon hard film 21 having a thickness of about 1 μm. The film formation is performed at a degree of vacuum of 0.1 Torr, a high frequency of 13.56 MHz, and a high frequency power of 300 W.
【００２２】図７は、本発明の他の実施例の内かま４の
軌条１３、および外かま３の軌溝１１付近の拡大断面図
である。なお、図５と同様の構成には同一の参照符号を
付す。前記カーボン硬質膜２１を有する被覆層Ａを、前
述と同様に内かま４の突部４ｂに形成し、さらに外かま
３の軌溝１１に被覆層Ｂを形成する。被覆層Ｂは、前述
の被覆層Ａと同様に第１層２２をＰＶＤ法によって設
け、さらにその第１層２２の表面にカーボン硬質膜２３
をプラズマＣＶＤ法で設ける。FIG. 7 is an enlarged sectional view of the rail 13 of the inner kettle 4 and the rail groove 11 of the outer kettle 3 according to another embodiment of the present invention. The same components as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals. The coating layer A having the carbon hard film 21 is formed on the protrusion 4b of the inner furnace 4 as described above, and the coating layer B is formed on the rail groove 11 of the outer furnace 3. As the coating layer B, the first layer 22 is provided by the PVD method in the same manner as the coating layer A, and the carbon hard film 23 is formed on the surface of the first layer 22.
Is provided by a plasma CVD method.
【００２３】被覆層は、外かま３の軌溝１１の表面だけ
に形成してもよい。また、被覆層を外かま３の剣先１
８、外かま３の外周面全面、内かま４の外周面全面、回
り止め部材７の外周面の少なくともいづれか一つに形成
してもよい。The coating layer may be formed only on the surface of the rail groove 11 of the outer kettle 3. In addition, the covering layer is formed by the outer tip 3
8, at least one of the entire outer peripheral surface of the outer furnace 3, the entire outer peripheral surface of the inner furnace 4, and the outer peripheral surface of the rotation preventing member 7 may be formed.
【００２４】ミシンのかまを構成する内かま４または外
かま３などの基材が鉄、銅合金などの比較的耐食性の悪
い基材から形成される場合にカーボン硬質膜を有する被
覆層を形成するときは、この基材に付着する側の第１層
に耐食性被膜を設けてもよい。この耐食性被膜は、たと
えばイオンプレーティング法または湿式電気メッキ法で
形成され、たとえばクロム、コバルト、ニッケル、銅、
パラジウム、白金、金の中の少なくとも１つより成り、
厚みは好ましくは約０．３μｍとする。この耐食性被膜
の外表面に、厚みが０．５〜１μｍであり、たとえばシ
リコン、酸化シリコン、ゲルマニウム、周期律表４ａ、
５ａ、６ａ族元素の窒化物、窒炭化物、窒炭酸化物の中
の少なくとも１つより成る層を、たとえばイオンプレー
ティング法で設けて耐食性被膜を有する第１層を形成す
る。When the base material such as the inner hook 4 or the outer hook 3 constituting the sewing machine is formed from a substrate having relatively low corrosion resistance such as iron or copper alloy, a coating layer having a hard carbon film is formed. At this time, a corrosion-resistant coating may be provided on the first layer on the side adhering to the substrate. The corrosion-resistant coating is formed by, for example, an ion plating method or a wet electroplating method, and is formed by, for example, chromium, cobalt, nickel, copper,
Made of at least one of palladium, platinum and gold,
The thickness is preferably about 0.3 μm. On the outer surface of this corrosion-resistant coating, the thickness is 0.5 to 1 μm, for example, silicon, silicon oxide, germanium, periodic table 4a,
A first layer having a corrosion-resistant coating is formed by providing a layer made of at least one of nitrides, carbides, and carbonitrides of Group 5a and 6a elements by, for example, an ion plating method.
【００２５】また前記基材が、ステンレス、銅合金など
の比較的低硬度の場合にカーボン硬質膜を有する被覆層
を形成するときは、この基材に付着する側の第１層に硬
質膜を形成してもよい。この硬質膜は、たとえばイオン
プレーティング法で形成され、たとえば周期律表４ａ、
５ａ、６ａ族元素の窒化物、窒炭化物、窒炭酸化物の中
の少なくとも１つより成り、ビッカース硬度１０００Ｈ
ｖ以上の硬度を有することが望ましく、厚みは好ましく
は２〜３μｍとする。この硬質膜の外表面に、厚みが
０．５〜１μｍであり、たとえばシリコン、酸化シリコ
ン、ゲルマニウム、周期律表４ａ、５ａ、６ａ族元素の
窒化物、窒炭化物、窒炭酸化物の中の少なくとも１つよ
り成る層をたとえばイオンプレーティング法で設けて硬
質膜を有する第１層を形成する。When forming a coating layer having a carbon hard film when the base material is relatively low in hardness such as stainless steel or copper alloy, a hard film is formed on the first layer attached to the base material. It may be formed. This hard film is formed by, for example, an ion plating method.
Vickers hardness of 1000H, made of at least one of nitrides, nitrided carbides and carbonitrides of group 5a and 6a elements
v and a thickness of preferably 2 to 3 μm. On the outer surface of this hard film, the thickness is 0.5 to 1 μm, and for example, at least one of silicon, silicon oxide, germanium, nitrides, nitrocarbides, and nitrocarboxylates of Group 4a, 5a, and 6a group elements A single layer is provided by, for example, an ion plating method to form a first layer having a hard film.
【００２６】第１層の上にはたとえば、プラズマＣＶＤ
法によってカーボン硬質膜が形成される。また、前述の
第１層の形成手段としてイオンプレーティング法で示し
たが、これに代えて真空蒸着法、スパッタリング法でも
よい。On the first layer, for example, plasma CVD
A carbon hard film is formed by the method. Although the above-described first layer is formed by the ion plating method, a vacuum deposition method or a sputtering method may be used instead.
【００２７】また、基材が、炭化タングステンなどの超
硬材料の場合は、カーボン硬質膜を基材に直接被覆して
もよい。When the substrate is made of a super-hard material such as tungsten carbide, a hard carbon film may be directly coated on the substrate.
【００２８】[0028]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、内かまの
軌条に表面がカーボンのみから成るカーボン硬質膜が形
成されているので、内かまの軌条の耐摩耗性が向上され
る。また、外かまの回転を円滑にし、内かまを安定して
回転阻止することができる。As described above, according to the present invention, the wear resistance of the inner rail is improved because the hard carbon film whose surface is made of only carbon is formed on the inner rail. In addition, the rotation of the outer hook can be made smooth, and the inner hook can be stably prevented from rotating.
【００２９】また、内かまの外周面全面に表面がカーボ
ンのみから成るカーボン硬質膜が形成されているので、
滑らかに糸越しを行うことができ、糸玉の発生を防止す
ることができる。Also, since a carbon hard film whose surface is made of only carbon is formed on the entire outer peripheral surface of the inner kettle,
The yarn can be smoothly passed over, and the generation of yarn balls can be prevented.
【００３０】さらに、外かまの剣先に表面がカーボンの
みから成るカーボン硬質膜が形成されているので、剣先
の耐摩耗性が向上され、また滑らかに上糸を捕捉するこ
とができる。Further, since the carbon hard film whose surface is made only of carbon is formed on the outer hook tip, the wear resistance of the tip is improved and the upper thread can be captured smoothly.
【００３１】さらにまた、外かまの軌溝に表面がカーボ
ンのみから成るカーボン硬質膜が形成されているので、
軌溝の耐摩耗性が向上され、さらに外かまの回転を円滑
にし、内かまを安定して回転阻止することができる。Furthermore, since a carbon hard film whose surface is made of only carbon is formed in the outer groove of the cage,
The abrasion resistance of the track groove is improved, the rotation of the outer kettle is smoothed, and the inner kettle can be stably prevented from rotating.
【００３２】さらにまた、外かまの外周面全面に表面が
カーボンのみから成るカーボン硬質膜が形成されている
ので、外かまの耐摩耗性が向上される。また、剣先によ
って滑らかに上糸を捕捉することができ、さらに外かま
の回転を円滑にし、内かまを安定して回転阻止すること
ができる。Further, since the hard carbon film whose surface is made of only carbon is formed on the entire outer peripheral surface of the outer furnace, the wear resistance of the outer furnace is improved. Further, the upper thread can be smoothly captured by the point of the sword, and further, the rotation of the outer hook can be made smooth, and the inner hook can be stably prevented from rotating.
【００３３】さらにまた、外かまの少なくとも剣先およ
び軌溝に表面がカーボンのみから成るカーボン硬質膜が
形成されているので、外かまの耐摩耗性が向上され、外
かまの回転が円滑になる。また滑らかに上糸を捕捉する
ことができる。Further, since the carbon hard film whose surface is made of only carbon is formed on at least the sword tip and the rail groove of the outer basket, the wear resistance of the outer basket is improved and the rotation of the outer basket becomes smooth. In addition, the upper thread can be captured smoothly.
【００３４】さらにまた、回り止め部材の外周面に表面
がカーボンのみから成るカーボン硬質膜が形成されてい
るので、縫目形成時に回り止め部材から上糸の離脱を容
易にし、糸締まりを向上することができる。また、回り
止め部材の耐摩耗性が向上され、長期間の使用に耐える
ことができる。Further, since the carbon hard film whose surface is made of only carbon is formed on the outer peripheral surface of the detent member, the upper thread can be easily detached from the detent member at the time of forming the stitch, and the thread tightness is improved. be able to. Further, the abrasion resistance of the detent member is improved, and it can withstand long-term use.
【００３５】さらにまた、内かまの少なくとも軌条また
は外かまの少なくとも軌溝に表面がカーボンのみから成
るカーボン硬質膜が形成されているので、内かまおよび
外かまの耐摩耗性が向上され、さらに外かまの回転を円
滑にし、内かまを安定して回転阻止することができる。
これにより、ミシンの外かまおよび内かまを長期間交換
することなく使用することができる。Further, since the carbon hard film whose surface is made of only carbon is formed on at least the rail of the inner furnace or at least the groove of the outer furnace, the wear resistance of the inner and outer furnaces is improved, and the outer and inner furnaces are further improved. The rotation of the kettle can be made smooth and the inner kettle can be stably prevented from rotating.
Thereby, the outer hook and the inner hook of the sewing machine can be used without replacement for a long time.
【００３６】さらにまた、かまの構成要素およびカーボ
ン硬質膜の両方に付着が良好な第１層を、構成要素とカ
ーボン硬質膜との間に設けるので、カーボン硬質膜がか
まの構成要素から剥離することが防がれ、ミシンのかま
の耐久性が向上する。本発明によれば、内かまの少なく
とも軌条と外かまの少なくとも軌溝の内周面とに、表面
がカーボンのみから成るカーボン硬質膜を形成し、これ
によって耐摩耗性が向上され、また外かまの回転を円滑
にし、内かまを安定して回転阻止することができる。Furthermore, since the first layer having good adhesion to both the component and the hard carbon film is provided between the component and the hard carbon film, the hard carbon film is peeled off from the component of the kettle. Is prevented, and the durability of the sewing machine is improved. ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the carbon hard film whose surface consists only of carbon is formed on at least the rail of the inner furnace and the inner peripheral surface of at least the groove of the outer furnace, whereby the wear resistance is improved and the outer furnace is improved. Can be smoothly rotated, and the inner hook can be stably prevented from rotating.
【図１】本発明の一実施例の垂直全回転かま１の斜視図
である。FIG. 1 is a perspective view of a vertical full rotation kettle 1 according to an embodiment of the present invention.
【図２】図１に示される垂直全回転かま１の軸線１７に
沿う断面図である。FIG. 2 is a sectional view along the axis 17 of the vertical full-rotation kettle 1 shown in FIG.
【図３】外かま３の正面図である。FIG. 3 is a front view of the outer hook 3;
【図４】内かま４の正面図である。FIG. 4 is a front view of the inner hook 4;
【図５】図２の内かま４の軌条１３および外かま３の軌
溝１１の拡大断面図である。5 is an enlarged sectional view of the rail 13 of the inner hook 4 and the rail groove 11 of the outer hook 3 of FIG.
【図６】被覆層Ａの拡大断面図である。FIG. 6 is an enlarged sectional view of a coating layer A.
【図７】本発明の他の実施例の内かま４の軌条１３およ
び外かま３の軌溝１１の拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged sectional view of the rail 13 of the inner kettle 4 and the rail groove 11 of the outer kettle 3 according to another embodiment of the present invention.
１ 垂直全回転かま ３ 外かま ４ 内かま ４ａ 内かま本体 ４ｂ 突部 ７ 回り止め部材 １１ 軌溝 １３ 軌条 １８ 剣先 ２０，２２ 第１層 ２１，２３ カーボン硬質膜 Ａ，Ｂ 被覆層 Ｙ 矢符 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vertical full rotation kettle 3 Outer bite 4 Inner bite 4a Inner bite body 4b Projection 7 Detent member 11 Track groove 13 Rail 18 Sword point 20,22 First layer 21,23 Carbon hard film A, B Coating layer Y Arrow mark
Claims (10)
学蒸着法によるカーボン硬質膜が形成されており、カー
ボン硬質膜の表面がカーボンのみから成ることを特徴と
する内かま。An inner kettle characterized in that a hard carbon film is formed on at least a rail of the inner kettle by a plasma chemical vapor deposition method, and the surface of the hard carbon film is made of only carbon.
着法によるカーボン硬質膜が形成されており、カーボン
硬質膜の表面がカーボンのみから成ることを特徴とする
内かま。2. An inner kettle, wherein a hard carbon film is formed on the entire outer peripheral surface of the inner kettle by a plasma chemical vapor deposition method, and the surface of the hard carbon film is made of only carbon.
学蒸着法によるカーボン硬質膜が形成されており、カー
ボン硬質膜の表面がカーボンのみから成ることを特徴と
する外かま。3. An outer kettle characterized in that a hard carbon film is formed at least at the tip of the outer kettle by a plasma chemical vapor deposition method, and the surface of the hard carbon film is made of only carbon.
内する軌溝の内周面に、プラズマ化学蒸着法によるカー
ボン硬質膜が形成されており、カーボン硬質膜の表面が
カーボンのみから成ることを特徴とする外かま。4. A hard carbon film formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition on an inner circumferential surface of at least a rail groove for guiding a rail of an inner hook, wherein a surface of the hard carbon film is made of only carbon. Outer bite characterized by.
着法によるカーボン硬質膜が形成されており、カーボン
硬質膜の表面がカーボンのみから成ることを特徴とする
外かま。5. An outer kettle characterized in that a hard carbon film is formed on the entire outer peripheral surface of the outer kettle by a plasma chemical vapor deposition method, and the surface of the hard carbon film is made of only carbon.
の軌条を案内する軌溝の内周面に、プラズマ化学蒸着法
によるカーボン硬質膜が形成されており、カーボン硬質
膜の表面がカーボンのみから成ることを特徴とする外か
ま。6. A hard carbon film formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition on the inner circumferential surface of at least one of the outer grooves, which guides the rails of the sword tip and the inner bit, and the surface of the hard carbon film is made of only carbon. An outer bite characterized by being formed.
内かまの回転を阻止する内かま回り止め部材の、少なく
とも回り止め凹所に当接する外周面に、プラズマ化学蒸
着法によるカーボン硬質膜が形成されており、カーボン
硬質膜の表面がカーボンのみから成ることを特徴とする
内かま回り止め部材。7. Fit into the detent recess of the inner hook,
A hard carbon film is formed by plasma enhanced chemical vapor deposition on at least the outer circumferential surface of the inner lock member that prevents rotation of the inner lock, which is in contact with the detent recess, and the surface of the hard carbon film is made of only carbon. An inner pin stop member characterized by the above-mentioned.
の少なくとも軌溝にプラズマ化学蒸着法による表面がカ
ーボンのみから成るカーボン硬質膜を形成した内かま、
または外かまを備えることを特徴とするミシン。8. An inner kettle having a carbon hard film having a surface made of only carbon formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition on at least a rail of the inner kettle or at least a groove of the outer kettle,
Or a sewing machine comprising an outer hook.
かまなどの少なくとも一つの構成要素の外周面に、構成
要素およびプラズマ化学蒸着法による表面がカーボンの
みから成るカーボン硬質膜に付着が良好な第１層を物理
蒸着によって０．５〜４μｍの厚みに設け、さらに前記
第１層の表面に表面がカーボンのみから成るカーボン硬
質膜をプラズマ化学蒸着によって、約１μｍの厚みに設
けることを特徴とするミシンのかまの製造方法。9. A carbon hard film made of only carbon and having a surface formed by plasma chemical vapor deposition on the outer peripheral surface of at least one component such as an inner bit and an outer bit constituting a sewing machine bit. The first layer is provided with a thickness of 0.5 to 4 μm by physical vapor deposition, and a carbon hard film having a surface made of only carbon is provided on the surface of the first layer to a thickness of about 1 μm by plasma chemical vapor deposition. Manufacturing method of a sewing machine.
化学蒸着法による表面がカーボンのみから成るカーボン
硬質膜が形成され、外かまの、少なくとも内かまの軌条
を案内する軌溝の内周面に、プラズマ化学蒸着法による
表面がカーボンのみから成るカーボン硬質膜が形成され
ることを特徴とするミシン。10. A carbon hard film having a surface made of only carbon by plasma-enhanced chemical vapor deposition formed on at least a rail of the inner furnace, and an inner circumference of a rail groove of the outer furnace, which guides at least the inner furnace rail, A sewing machine characterized in that a hard carbon film having a surface made of only carbon is formed by a plasma chemical vapor deposition method.
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|---|---|---|---|
| JP7138228A JP2719316B2 (en) | 1995-06-05 | 1995-06-05 | Bitten and sewing machine using it |
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|---|---|---|---|
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| JPH04295397A (en) * | 1991-03-22 | 1992-10-20 | Sabun Kogyosho:Kk | Shuttle body of half-rotation sewing machine |
| JPH0775638B2 (en) * | 1993-03-12 | 1995-08-16 | 株式会社廣瀬製作所 | Vertical full rotary hook |
-
1995
- 1995-06-05 JP JP7138228A patent/JP2719316B2/en not_active Expired - Fee Related
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