JP2714852B2 - 液晶性化合物 - Google Patents
液晶性化合物Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は，表示素子又は電気光学素子に有用な液晶性
化合物に関する。
化合物に関する。
近年，強誘電性液晶は，従来のネマチック型液晶に比
較して，速い応答速度に特徴があることから，多方面で
応用研究が盛んになされている。例えば第１表に示す化
合物がある。
較して，速い応答速度に特徴があることから，多方面で
応用研究が盛んになされている。例えば第１表に示す化
合物がある。
〔発明が解決しようとする問題点〕 強誘電性は液晶相のSc＊相，その他数種の相に発現す
る性質であるが，実用上重要なのはSc＊相である。第１
表に示すように従来の化合物の多くにはSc＊の低温域に
Sc＊相以外のスメクチック相が発現することが多く，実
用的な使用温度範囲を確保する上で妨げとなっている。
そこでSc＊相の低温域にSc＊相以外のスメクチック相の
発現のない液晶化合物が望まれている。
る性質であるが，実用上重要なのはSc＊相である。第１
表に示すように従来の化合物の多くにはSc＊の低温域に
Sc＊相以外のスメクチック相が発現することが多く，実
用的な使用温度範囲を確保する上で妨げとなっている。
そこでSc＊相の低温域にSc＊相以外のスメクチック相の
発現のない液晶化合物が望まれている。
本発明者等は，上記観点から鋭意研究の結果,Sc＊相
の低温域に他のスメクチック相を有しない化合物を見出
し，本発明に到った。
の低温域に他のスメクチック相を有しない化合物を見出
し，本発明に到った。
すなわち，本発明は，一般式〔Ｉ〕 （式中Ｒ＊は不斉炭素原子を有するアルキル基を,Rは直
鎖アルキル又はアルコキシ基を,Xは水素原子又はハロゲ
ン原子を,Yは基−Ｃ≡Ｃ−，基−CH2CH2−又は Ｚは基−Ｃ≡Ｃ−，基−CH2CH2−又は ｎは０又は１をそれぞれ示す）で表わされる液晶性化合
物である。
鎖アルキル又はアルコキシ基を,Xは水素原子又はハロゲ
ン原子を,Yは基−Ｃ≡Ｃ−，基−CH2CH2−又は Ｚは基−Ｃ≡Ｃ−，基−CH2CH2−又は ｎは０又は１をそれぞれ示す）で表わされる液晶性化合
物である。
本発明においては，上記一般式〔Ｉ〕で表わされる液
晶性化合物を少なくとも１種含有させた液晶組成物とし
て使用することもできる。
晶性化合物を少なくとも１種含有させた液晶組成物とし
て使用することもできる。
一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物の典型例を具体的に
示すと，式中のY, Ｚ及びｎの組合せにより，次のグループに分けることが
できる。
示すと，式中のY, Ｚ及びｎの組合せにより，次のグループに分けることが
できる。
（式中Ｒ＊,R及びＸは前記と同じ意義を有する。） Ｒ＊OHとしては不斉炭素原子を有する光学活性アルコ
ールであれば何でも使用できるが，産業上の汎用性を考
えて，安価で入手できる，例えば１級の基として,2−メ
チルブチル基,3−メチルペンチル基,4−メチルヘキシル
基,5−メチルヘプチル基,6−メチルオクチル基,3,7−ジ
メチルオクチル基などが，また２級の基として,1−メチ
ルプロピル基,1−メチルブチル基,1−メチルペンチル
基,1−メチルヘキシル基,1−メチルヘプチル基,1−メチ
ルオクチル基などを有する光学活性アルコールが挙げら
れる。
ールであれば何でも使用できるが，産業上の汎用性を考
えて，安価で入手できる，例えば１級の基として,2−メ
チルブチル基,3−メチルペンチル基,4−メチルヘキシル
基,5−メチルヘプチル基,6−メチルオクチル基,3,7−ジ
メチルオクチル基などが，また２級の基として,1−メチ
ルプロピル基,1−メチルブチル基,1−メチルペンチル
基,1−メチルヘキシル基,1−メチルヘプチル基,1−メチ
ルオクチル基などを有する光学活性アルコールが挙げら
れる。
本発明の化合物の製造法の概略を示すと次のようにな
る。
る。
（式中Ｒ＊,R及びＸは前記と同じ意義を有し,mは０又は
１を示す。） 〔発明の作用及び効果〕 本発明の化合物はSc＊相の低温域に他のスメクチック
相がないため，室温を含めた実用的なSc＊相の温度域を
得てゆく上で重要な化合物となることが期待される。
１を示す。） 〔発明の作用及び効果〕 本発明の化合物はSc＊相の低温域に他のスメクチック
相がないため，室温を含めた実用的なSc＊相の温度域を
得てゆく上で重要な化合物となることが期待される。
以下に実施例を例示して，本発明を説明するが，実施
例中の％は重量％を示すものとする。
例中の％は重量％を示すものとする。
製造例１ ４−アルコキシカルボニルフェニルアセチレ
ン〔Ｂ〕の合成 撹拌器，温度計及び還流冷却器を備えた500ccの三つ
口フラスコに，窒素気流中で４−アルコキシカルボニル
ブロムベンゼン64mmol,3−メチル−１−ブチン−３−オ
ール5.91g（70mmol），トリフェニルホスフィン270mg,
ジクロルビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム触
媒140mg（0.20mmol）及びトリエチルアミン60mlを仕込
み，撹拌溶解し，ヨウ化銅45mgを加えた。室温で３時間
撹拌後，徐々に加熱し,30分要して内温を80℃とした。
この温度で10時間反応させた。反応後は室温に戻し，ト
リエチルアミンを減圧下留去し，残留物にエーテル300m
lを加えて水洗，無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過
後，エーテルを留去し，残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（200メッシュのシリカゲル100g,展開溶
媒：ジクロルメタン）にかけて，次式の化合物〔Ａ〕を
中間化合物として得た。
ン〔Ｂ〕の合成 撹拌器，温度計及び還流冷却器を備えた500ccの三つ
口フラスコに，窒素気流中で４−アルコキシカルボニル
ブロムベンゼン64mmol,3−メチル−１−ブチン−３−オ
ール5.91g（70mmol），トリフェニルホスフィン270mg,
ジクロルビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム触
媒140mg（0.20mmol）及びトリエチルアミン60mlを仕込
み，撹拌溶解し，ヨウ化銅45mgを加えた。室温で３時間
撹拌後，徐々に加熱し,30分要して内温を80℃とした。
この温度で10時間反応させた。反応後は室温に戻し，ト
リエチルアミンを減圧下留去し，残留物にエーテル300m
lを加えて水洗，無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過
後，エーテルを留去し，残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（200メッシュのシリカゲル100g,展開溶
媒：ジクロルメタン）にかけて，次式の化合物〔Ａ〕を
中間化合物として得た。
撹拌器，温度計及び蒸留装置を備えた300cc.の三つ口
フラスコに，窒素気流中で上記化合物〔Ａ〕57.8mmol,
無水トルエン120ml及びナトリウムハイドライド（60％
ヌジュール分散剤）200mgを仕込み，室温で30分間撹拌
した。徐々に加熱し,30分要して内温を70℃とした。ア
セトン（副生物）の還流が始まり，トルエンと共に留出
しはじめるが，さらに加熱して留出温度がトルエンの沸
点となるまで反応を続けた。この間２時間を要し留出し
た溶媒は60mlであった。反応終了後，室温に戻し，ベン
ゼン100ml加えて水洗，無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。過後，有機溶媒を留去し，残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（200メッシュのシリカゲル100
g,展開溶媒：ベンゼン）にかけて，第３表の４−アルコ
キシカルボニルフェニルアセチレン〔Ｂ〕を85〜88％の
収率で得た。その構造はIR及びNMRスペクトルで確認し
た。
フラスコに，窒素気流中で上記化合物〔Ａ〕57.8mmol,
無水トルエン120ml及びナトリウムハイドライド（60％
ヌジュール分散剤）200mgを仕込み，室温で30分間撹拌
した。徐々に加熱し,30分要して内温を70℃とした。ア
セトン（副生物）の還流が始まり，トルエンと共に留出
しはじめるが，さらに加熱して留出温度がトルエンの沸
点となるまで反応を続けた。この間２時間を要し留出し
た溶媒は60mlであった。反応終了後，室温に戻し，ベン
ゼン100ml加えて水洗，無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。過後，有機溶媒を留去し，残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（200メッシュのシリカゲル100
g,展開溶媒：ベンゼン）にかけて，第３表の４−アルコ
キシカルボニルフェニルアセチレン〔Ｂ〕を85〜88％の
収率で得た。その構造はIR及びNMRスペクトルで確認し
た。
結果を第２表に示す。
製造例２ アルキル−６−クロルニコチン酸エステル及
び４′−アルコキシカルボニルフェニル−６−クロルニ
コチン酸エステル〔Ｄ〕の合成 撹拌器，温度計及び還流冷却器を備えた100ccの三ツ
口フラスコに，光学活性アルコール又は光学活性アルコ
キシカルボニルフェノール15mmolとピリジン10mlを入れ
て溶解した。このピリジン溶液に，ジクロルエタン20ml
に溶解した６−クロルニコチン酸クロライド17mmolを氷
冷下に加え，室温とした後，さらに24時間撹拌した。減
圧にてジクロルエタン及びピリジンを留去し，残留物を
エーテル100mlに溶解,10％NaOH水溶液で洗浄，無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。過後，エーテルを留去，残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（200メッシ
ュのシリカゲル100g,展開溶媒：ジクロルメタン）にか
けて，第３表のアルキル−６−クロルニコチン酸エステ
ル又は４′−アルコキシカルボニルフェニル−６−クロ
ルニコチン酸エステル〔Ｄ〕を90〜98％の収率で得た。
び４′−アルコキシカルボニルフェニル−６−クロルニ
コチン酸エステル〔Ｄ〕の合成 撹拌器，温度計及び還流冷却器を備えた100ccの三ツ
口フラスコに，光学活性アルコール又は光学活性アルコ
キシカルボニルフェノール15mmolとピリジン10mlを入れ
て溶解した。このピリジン溶液に，ジクロルエタン20ml
に溶解した６−クロルニコチン酸クロライド17mmolを氷
冷下に加え，室温とした後，さらに24時間撹拌した。減
圧にてジクロルエタン及びピリジンを留去し，残留物を
エーテル100mlに溶解,10％NaOH水溶液で洗浄，無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。過後，エーテルを留去，残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（200メッシ
ュのシリカゲル100g,展開溶媒：ジクロルメタン）にか
けて，第３表のアルキル−６−クロルニコチン酸エステ
ル又は４′−アルコキシカルボニルフェニル−６−クロ
ルニコチン酸エステル〔Ｄ〕を90〜98％の収率で得た。
結果を第３表に示す。
製造例３ ｐ−アルコキシ（又はアルキル）フェニル−
６−クロルニコチン酸エステル〔Ｅ〕（Ｘ＝Ｈ）の合成 撹拌器，温度計及び還流冷却器を備えた100ccの三ツ
口フラスコに,p−アルコキシ（又はアルキル）フェノー
ル30mmolと無水ピリジン20mlを仕込み，撹拌下に溶解し
た。このピリジン溶液に,6−クロルニコチニルクロライ
ド35mmolを含むジクロルエタン溶液50mlを氷冷下加え
た。反応温度を室温に戻した後,40℃に加熱し,8時間撹
拌した。反応終了後，ベンゼンを加え，水洗,10％苛性
ソーダのアルカリ水洗，水洗の順で洗浄した後，無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し，残留
物をエタノールから単離精製し，第４表のｐ−アルコキ
シ（又はアルキル）フェニル−６−クロルニコチン酸エ
ステル〔Ｅ〕を72〜95％の収率で得た。
６−クロルニコチン酸エステル〔Ｅ〕（Ｘ＝Ｈ）の合成 撹拌器，温度計及び還流冷却器を備えた100ccの三ツ
口フラスコに,p−アルコキシ（又はアルキル）フェノー
ル30mmolと無水ピリジン20mlを仕込み，撹拌下に溶解し
た。このピリジン溶液に,6−クロルニコチニルクロライ
ド35mmolを含むジクロルエタン溶液50mlを氷冷下加え
た。反応温度を室温に戻した後,40℃に加熱し,8時間撹
拌した。反応終了後，ベンゼンを加え，水洗,10％苛性
ソーダのアルカリ水洗，水洗の順で洗浄した後，無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し，残留
物をエタノールから単離精製し，第４表のｐ−アルコキ
シ（又はアルキル）フェニル−６−クロルニコチン酸エ
ステル〔Ｅ〕を72〜95％の収率で得た。
製造例４ ４′−アルコキシ−３′−クロルフェニル−
６−クロルニコチン酸エステル〔Ｅ〕（Ｘ＝Cl）の合成 ｐ−アルコキシ（又はアルキル）フェノール30mmolの
代りに,4−アルコキシ−３−クロルフェノール30mmolを
用いる以外はすべて製造例３と同一条件で合成し，第４
表の４′−アルコキシ−３′−クロルフェニル−６−ク
ロルニコチン酸エステル〔Ｅ〕を83％の収率で得た。
６−クロルニコチン酸エステル〔Ｅ〕（Ｘ＝Cl）の合成 ｐ−アルコキシ（又はアルキル）フェノール30mmolの
代りに,4−アルコキシ−３−クロルフェノール30mmolを
用いる以外はすべて製造例３と同一条件で合成し，第４
表の４′−アルコキシ−３′−クロルフェニル−６−ク
ロルニコチン酸エステル〔Ｅ〕を83％の収率で得た。
以上の結果を第４表に示す。
製造例５ ４−アルコキシ−３−フルオロフェニルアセ
チレン〔Ｆ〕（Ｘ＝Ｆ）の合成 反応温度を90℃とし，原料のハロゲン化物を４−アル
コキシ−３−フルオロフェニルブロマイドとする以外は
製造例１と同一条件で反応させ，次式の化合物〔Ｇ〕を
中間化合物として得た。
チレン〔Ｆ〕（Ｘ＝Ｆ）の合成 反応温度を90℃とし，原料のハロゲン化物を４−アル
コキシ−３−フルオロフェニルブロマイドとする以外は
製造例１と同一条件で反応させ，次式の化合物〔Ｇ〕を
中間化合物として得た。
撹拌器，温度計及び蒸留装置を備えた200ccの三ツ口
フラスコに，窒素気流中で前記４−（４′−アルコキシ
−３′−フルオロフェニル）−２−メチル−３−ブチン
−オール〔Ｇ〕37.9mmol,無水トルエン100ml及びナトリ
ウムハイドライド（60％ヌジョール分散剤）100mgを仕
込み，室温で30分間撹拌した。徐々に加熱し,30分要し
て内温を70℃とした。アセトン（副生物）の還流が始ま
り，トルエンと共に留出しはじめるが，さらに加熱して
留出温度がトルエンの沸点となるまで反応を続けた。こ
の間２時間を要し，留出した溶媒は50mlであった。反応
終了後，室温に戻し，ベンゼン100mlを加えて水洗，無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。過後，有機溶媒を留去
し，残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（20
0メッシュのシリカゲル100g,展開溶媒：ヘキサン）にか
けて第５表の４−アルコキシ−３−フルオロフェニルア
セチレン〔Ｆ〕を80〜97％の収率で得た。その構造はIR
及びNMRスペクトルで確認した。
フラスコに，窒素気流中で前記４−（４′−アルコキシ
−３′−フルオロフェニル）−２−メチル−３−ブチン
−オール〔Ｇ〕37.9mmol,無水トルエン100ml及びナトリ
ウムハイドライド（60％ヌジョール分散剤）100mgを仕
込み，室温で30分間撹拌した。徐々に加熱し,30分要し
て内温を70℃とした。アセトン（副生物）の還流が始ま
り，トルエンと共に留出しはじめるが，さらに加熱して
留出温度がトルエンの沸点となるまで反応を続けた。こ
の間２時間を要し，留出した溶媒は50mlであった。反応
終了後，室温に戻し，ベンゼン100mlを加えて水洗，無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。過後，有機溶媒を留去
し，残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（20
0メッシュのシリカゲル100g,展開溶媒：ヘキサン）にか
けて第５表の４−アルコキシ−３−フルオロフェニルア
セチレン〔Ｆ〕を80〜97％の収率で得た。その構造はIR
及びNMRスペクトルで確認した。
得られた各化合物の性状及び物性と共に結果を第５表
に示す。
に示す。
実施例１ アルキル−６−（ｐ−アルコキシフェニルエ
チニル）ニコチン酸エステル〔Ia〕（Ｘ＝Ｈ）の合成 撹拌器，温度計及び還流冷却器を備えた100ccの三ツ
口フラスコに，窒素気流中で製造例２で得られた光学活
性アルキル−６−クロルニコチン酸エステル〔Ｄ〕23.3
mmol,4−置換フェニルアセチレン23.3mmol,トリフェニ
ルホスフィン100mgジクロルビス（トリフェニルホスフ
ィン）パラジウム触媒60mg及びトリエチルアミン50mlを
仕込み，撹拌溶解し，ヨウ化銅20mgを加えた。室温で２
時間撹拌後，徐々に加熱し,30分要して内温を80℃とし
た。この温度で16時間反応させた。反応後は室温に戻
し，トリエチルアミンを減圧下留去し，残留物にエーテ
ル100mlを加えて水洗，無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。過後，エーテルを留去し，残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（200メッシュのシリカゲル100
g,展開溶媒：ジクロルメタン）にかけて単離精製した。
石油エーテルから再結晶化して第６表のアルキル−６−
（ｐ−アルコキシフェニルエチニル）ニコチン酸エステ
ル〔Ia〕（Ｘ＝Ｈ）を71〜80％の収率で得た。各化合物
の構造はIR,NMRスペクトルデータで確認した。
チニル）ニコチン酸エステル〔Ia〕（Ｘ＝Ｈ）の合成 撹拌器，温度計及び還流冷却器を備えた100ccの三ツ
口フラスコに，窒素気流中で製造例２で得られた光学活
性アルキル−６−クロルニコチン酸エステル〔Ｄ〕23.3
mmol,4−置換フェニルアセチレン23.3mmol,トリフェニ
ルホスフィン100mgジクロルビス（トリフェニルホスフ
ィン）パラジウム触媒60mg及びトリエチルアミン50mlを
仕込み，撹拌溶解し，ヨウ化銅20mgを加えた。室温で２
時間撹拌後，徐々に加熱し,30分要して内温を80℃とし
た。この温度で16時間反応させた。反応後は室温に戻
し，トリエチルアミンを減圧下留去し，残留物にエーテ
ル100mlを加えて水洗，無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。過後，エーテルを留去し，残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（200メッシュのシリカゲル100
g,展開溶媒：ジクロルメタン）にかけて単離精製した。
石油エーテルから再結晶化して第６表のアルキル−６−
（ｐ−アルコキシフェニルエチニル）ニコチン酸エステ
ル〔Ia〕（Ｘ＝Ｈ）を71〜80％の収率で得た。各化合物
の構造はIR,NMRスペクトルデータで確認した。
例〔化合物No.8〕収率80％ 実施例２ アルキル−６−（４′−アルコキシ−３′−
フルオロフェニルエチニル）ニコチン酸エステル〔Ia〕
（Ｘ＝Ｆ）の合成 ４−置換フェニルアセチレンの代りに製造例４で得ら
れた４−アルコキシ−３−フルオロフェニルアセチレン
〔Ｆ〕を用いる以外はすべて実施例１と同一条件で合成
し，第６表のアルキル−６−（４′−アルコキシ−３′
−フルオロフェニルエチニル）ニコチン酸エステル〔I
a〕を79％の収率で得た。
フルオロフェニルエチニル）ニコチン酸エステル〔Ia〕
（Ｘ＝Ｆ）の合成 ４−置換フェニルアセチレンの代りに製造例４で得ら
れた４−アルコキシ−３−フルオロフェニルアセチレン
〔Ｆ〕を用いる以外はすべて実施例１と同一条件で合成
し，第６表のアルキル−６−（４′−アルコキシ−３′
−フルオロフェニルエチニル）ニコチン酸エステル〔I
a〕を79％の収率で得た。
例．〔化合物No.5〕収率79％ 以上実施例１及び２で得られた各化合物の相転移温度
を第６表に示す。
を第６表に示す。
実施例３ ｐ−アルコキシ（又はアルキル）フェニル−
６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエチニル）ニ
コチン酸エステル〔Ib〕（Ｘ＝Ｈ）の合成 撹拌器，温度計及び還流冷却器を備えた三ツ口フラス
コに，製造例３で得られたｐ−アルコキシ（又はアルキ
ル）フェニル−６−クロルニコチン酸エステル4.8mmol,
製造例１で得られた４−アルコキシカルボニルフェニル
アセチレン5.0mmol,トリフェニルホスフィン60mg,ジク
ロルビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム触媒30
mg及びトリエチルアミン30mlを仕込み，撹拌溶解し，ヨ
ウ化銅6mgを加えた。窒素雰囲気下，室温で２時間撹拌
後，加熱し,80℃で16時間反応させた。反応後は室温に
戻し，トリエチルアミンを減圧下留去，残留物にエーテ
ルを加え水洗，無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過
後，エーテルを留去，残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（200メッシュのシリカゲル100g,展開溶
媒：ジクロルメタン）にかけて単離精製した。ヘキサン
から再結晶化して第７表のｐ−アルキル又はアルコキシ
フェニル−６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエ
チニル）ニコチン酸エステル〔Ib〕を71〜82％の収率で
得た。各化合物の構造はIR及びNMRスペクトルデータで
確認した。
６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエチニル）ニ
コチン酸エステル〔Ib〕（Ｘ＝Ｈ）の合成 撹拌器，温度計及び還流冷却器を備えた三ツ口フラス
コに，製造例３で得られたｐ−アルコキシ（又はアルキ
ル）フェニル−６−クロルニコチン酸エステル4.8mmol,
製造例１で得られた４−アルコキシカルボニルフェニル
アセチレン5.0mmol,トリフェニルホスフィン60mg,ジク
ロルビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム触媒30
mg及びトリエチルアミン30mlを仕込み，撹拌溶解し，ヨ
ウ化銅6mgを加えた。窒素雰囲気下，室温で２時間撹拌
後，加熱し,80℃で16時間反応させた。反応後は室温に
戻し，トリエチルアミンを減圧下留去，残留物にエーテ
ルを加え水洗，無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過
後，エーテルを留去，残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（200メッシュのシリカゲル100g,展開溶
媒：ジクロルメタン）にかけて単離精製した。ヘキサン
から再結晶化して第７表のｐ−アルキル又はアルコキシ
フェニル−６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエ
チニル）ニコチン酸エステル〔Ib〕を71〜82％の収率で
得た。各化合物の構造はIR及びNMRスペクトルデータで
確認した。
例．〔化合物No.16〕収率77％ 実施例４ ４′−アルコキシ−３′−クロルフェニル−
６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエチニル）ニ
コチン酸エステル〔Ib〕（Ｘ＝Cl）の合成 ｐ−アルコキシ（又はアルキル）フェニル−６−クロ
ルニコチン酸エステルの代りに製造例４で得られた４′
−アルコキシ−３′−クロルフェニル−６−クロルニコ
チン酸エステルを用いる以外はすべて実施例３と同一条
件で合成し，第７表の４′−アルコキシ−３′−クロル
フェニル−６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエ
チニル）ニコチン酸エステル〔Ib〕を77％の収率で得
た。化合物の構造はIR及びNMRスペクトルデータで確認
した。
６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエチニル）ニ
コチン酸エステル〔Ib〕（Ｘ＝Cl）の合成 ｐ−アルコキシ（又はアルキル）フェニル−６−クロ
ルニコチン酸エステルの代りに製造例４で得られた４′
−アルコキシ−３′−クロルフェニル−６−クロルニコ
チン酸エステルを用いる以外はすべて実施例３と同一条
件で合成し，第７表の４′−アルコキシ−３′−クロル
フェニル−６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエ
チニル）ニコチン酸エステル〔Ib〕を77％の収率で得
た。化合物の構造はIR及びNMRスペクトルデータで確認
した。
例．〔化合物No.19〕収率77％ 以上実施例３及び４で得られた各化合物の相転移温度
を第７表に示す。
を第７表に示す。
実施例５ ４′−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニ
ル）オキシカルボニルフェニル−６−（ｐ−アルコキシ
フェニルエチニル）ニコチン酸エステル〔Ic〕（Ｘ＝
Ｈ）の合成 撹拌器，温度計及び還流冷却器を備えた三ツ口フラス
コに,4′−アルコキシカルボニルフェニル−６−クロル
ニコチン酸エステル4.8mmol,4−アルコキシフェニルア
セチレン5.0mmol,トリフェニルホスフィン60mg,ジクロ
ルビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム触媒30mg
及びトリエチルアミン30mlを仕込み，撹拌溶解し，ヨウ
化銅6mgを加えた。窒素雰囲気下，室温で２時間撹拌後,
80℃に加熱し,16時間反応させた。反応後，室温に戻
し，トリエチルアミンを減圧下留去，残留物にエーテル
を加えて水洗，無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過
後，エーテルを留去，残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（200メッシュのシリカゲル100g,展開溶
媒：ジクロルメタン）にかけて単離精製した。ヘキサン
から再結晶して，第８表の４′−（ｐ−アルコキシカル
ボニルフェニル）オキシカルボニルフェニル−６−（ｐ
−アルコキシフェニルエチニル）ニコチン酸エステル
〔Ic〕を65〜84％の収率で得た。各化合物の構造はIR及
びNMRスペクトルデータで確認した。
ル）オキシカルボニルフェニル−６−（ｐ−アルコキシ
フェニルエチニル）ニコチン酸エステル〔Ic〕（Ｘ＝
Ｈ）の合成 撹拌器，温度計及び還流冷却器を備えた三ツ口フラス
コに,4′−アルコキシカルボニルフェニル−６−クロル
ニコチン酸エステル4.8mmol,4−アルコキシフェニルア
セチレン5.0mmol,トリフェニルホスフィン60mg,ジクロ
ルビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム触媒30mg
及びトリエチルアミン30mlを仕込み，撹拌溶解し，ヨウ
化銅6mgを加えた。窒素雰囲気下，室温で２時間撹拌後,
80℃に加熱し,16時間反応させた。反応後，室温に戻
し，トリエチルアミンを減圧下留去，残留物にエーテル
を加えて水洗，無水硫酸ナトリウムで乾燥した。過
後，エーテルを留去，残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（200メッシュのシリカゲル100g,展開溶
媒：ジクロルメタン）にかけて単離精製した。ヘキサン
から再結晶して，第８表の４′−（ｐ−アルコキシカル
ボニルフェニル）オキシカルボニルフェニル−６−（ｐ
−アルコキシフェニルエチニル）ニコチン酸エステル
〔Ic〕を65〜84％の収率で得た。各化合物の構造はIR及
びNMRスペクトルデータで確認した。
例．〔化合物No.32〕収率69％ 実施例６ ４′−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニ
ル）オキシカルボニルフェニル−６−（４″−アルコキ
シ−３″−フルオロフェニルエチニル）ニコチン酸エス
テル〔Ic〕（Ｘ＝Ｆ）の合成 ４−アルコキシフェニルアセチレンの代りに製造例５
で得られた４−アルコキシ−３−フルオロフェニルアセ
チレンを用いる以外はすべて実施例５と同一条件で合成
し，第８表の４′−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニ
ル）オキシカルボニルフェニル−６−（４″−アルコキ
シ−３″−フルオロフェニルエチニル）ニコチン酸エス
テル〔Ic〕を65〜71％の収率で得た。化合物の構造はIR
及びNMRスペクトルデータで確認した。
ル）オキシカルボニルフェニル−６−（４″−アルコキ
シ−３″−フルオロフェニルエチニル）ニコチン酸エス
テル〔Ic〕（Ｘ＝Ｆ）の合成 ４−アルコキシフェニルアセチレンの代りに製造例５
で得られた４−アルコキシ−３−フルオロフェニルアセ
チレンを用いる以外はすべて実施例５と同一条件で合成
し，第８表の４′−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニ
ル）オキシカルボニルフェニル−６−（４″−アルコキ
シ−３″−フルオロフェニルエチニル）ニコチン酸エス
テル〔Ic〕を65〜71％の収率で得た。化合物の構造はIR
及びNMRスペクトルデータで確認した。
例．〔化合物No.33〕収率65％ 以上実施例５及び６で得られた各化合物の相転移温度
を第８表に示す。
を第８表に示す。
実施例７ アルキル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は４′
−アルコキシ−３−フルオロ）フェニルエチル〕ニコチ
ン酸エステル〔Id〕（Ｘ＝Ｈ又はＦ）の合成 撹拌器，温度計，還流冷却器及び水素ガスをためたゴ
ム風せんを備えたフラスコに，実施例１又は２で得たア
ルキル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は４′−アルコキシ
−３′−フルオロ）フェニルエチニル〕ニコチン酸エス
テル〔Ia〕4mmol,5％パラジウム−炭素触媒200mg,ベン
ゼン10ml及び酢酸エチル30mlを仕込み，水素ガス置換
後，室温で反応させた。反応の進行を簿層クロマトチッ
プで調べた。反応は約1.5時間でほぼ完了するが，さら
に0.5時間水素雰囲気中で反応を続けた。反応後は過
助剤を敷いたガラスフィルターで触媒を除去し，溶媒を
減圧下で留去した。反応粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（200メッシュのシリカゲル50g,展開
溶媒：ジクロルメタン）にかけて精製し，第９表のアル
キル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は４′−アルコキシ−
３−フルオロ）フェニルエチル〕ニコチン酸エステル
〔Id〕を90〜97％の収率で得た。各化合物の構造はIR及
びNMRスペクトルで確認した。
−アルコキシ−３−フルオロ）フェニルエチル〕ニコチ
ン酸エステル〔Id〕（Ｘ＝Ｈ又はＦ）の合成 撹拌器，温度計，還流冷却器及び水素ガスをためたゴ
ム風せんを備えたフラスコに，実施例１又は２で得たア
ルキル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は４′−アルコキシ
−３′−フルオロ）フェニルエチニル〕ニコチン酸エス
テル〔Ia〕4mmol,5％パラジウム−炭素触媒200mg,ベン
ゼン10ml及び酢酸エチル30mlを仕込み，水素ガス置換
後，室温で反応させた。反応の進行を簿層クロマトチッ
プで調べた。反応は約1.5時間でほぼ完了するが，さら
に0.5時間水素雰囲気中で反応を続けた。反応後は過
助剤を敷いたガラスフィルターで触媒を除去し，溶媒を
減圧下で留去した。反応粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（200メッシュのシリカゲル50g,展開
溶媒：ジクロルメタン）にかけて精製し，第９表のアル
キル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は４′−アルコキシ−
３−フルオロ）フェニルエチル〕ニコチン酸エステル
〔Id〕を90〜97％の収率で得た。各化合物の構造はIR及
びNMRスペクトルで確認した。
例1.〔化合物No.38〕収率90％ 例2.〔化合物No.37〕収率92％ 得られた各化合物の相転移温度を第９表に示す。
実施例８ ｐ−アルコキシ（又はアルキル）フェニル−
６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエチル）ニコ
チン酸エステル〔Ie〕（Ｘ＝Ｈ）の合成 実施例７のアルキル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は
４′−アルコキシ−３′−フルオロ）フェニルエチニ
ル〕ニコチン酸エステル〔Ia〕の代りに実施例３で得た
ｐ−アルコキシ（又はアルキル）フェニル−６−（ｐ−
アルコキシカルボニルフェニルエチニル）ニコチン酸エ
ステル〔Ib〕を用いる以外はすべて実施例７と同一条件
で合成し，第10表のｐ−アルコキシ（又はアルキル）フ
ェニル−６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエチ
ル）ニコチン酸エステル〔Ie〕を90〜97％の収率で得
た。各化合物の構造はIR及びNMRスペクトルデータで確
認した。
６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエチル）ニコ
チン酸エステル〔Ie〕（Ｘ＝Ｈ）の合成 実施例７のアルキル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は
４′−アルコキシ−３′−フルオロ）フェニルエチニ
ル〕ニコチン酸エステル〔Ia〕の代りに実施例３で得た
ｐ−アルコキシ（又はアルキル）フェニル−６−（ｐ−
アルコキシカルボニルフェニルエチニル）ニコチン酸エ
ステル〔Ib〕を用いる以外はすべて実施例７と同一条件
で合成し，第10表のｐ−アルコキシ（又はアルキル）フ
ェニル−６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエチ
ル）ニコチン酸エステル〔Ie〕を90〜97％の収率で得
た。各化合物の構造はIR及びNMRスペクトルデータで確
認した。
例．〔化合物No.46〕収率95％ 実施例９ ４′−アルコキシ−３′−クロルフェニル−
６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエチル）ニコ
チン酸エステル〔Ie〕（Ｘ＝Cl）の合成 実施例７のアルキル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は
４′−アルコキシ−３′−フルオロ）フェニルエチニ
ル〕ニコチン酸エステル〔Ia〕の代りに実施例４で得た
４′−アルコキシ−３′−クロルフェニル−６−（ｐ−
アルコキシカルボニルフェニルエチニル）ニコチン酸エ
ステル〔Ib〕を用いる以外はすべて実施例７と同一条件
で合成し，第10表の４′−アルコキシ−３′−クロルフ
ェニル−６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエチ
ル）ニコチン酸エステル〔Ie〕を92〜93％の収率で得
た。化合物の構造はIR及びNMRスペクトルデータで確認
した。
６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエチル）ニコ
チン酸エステル〔Ie〕（Ｘ＝Cl）の合成 実施例７のアルキル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は
４′−アルコキシ−３′−フルオロ）フェニルエチニ
ル〕ニコチン酸エステル〔Ia〕の代りに実施例４で得た
４′−アルコキシ−３′−クロルフェニル−６−（ｐ−
アルコキシカルボニルフェニルエチニル）ニコチン酸エ
ステル〔Ib〕を用いる以外はすべて実施例７と同一条件
で合成し，第10表の４′−アルコキシ−３′−クロルフ
ェニル−６−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニルエチ
ル）ニコチン酸エステル〔Ie〕を92〜93％の収率で得
た。化合物の構造はIR及びNMRスペクトルデータで確認
した。
例．〔化合物No.49〕収率93％ 以上実施例８及び９で得られた各化合物の相転移温度
を第10表に示す。
を第10表に示す。
実施例10 ４′−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニ
ル）オキシカルボニルフェニル−６−〔ｐ−アルコキシ
（又は４″−アルコキシ−３″−フルオロ）フェニルエ
チル〕ニコチン酸エステル〔If〕（Ｘ＝Ｈ又はＦ）の合
成 実施例７のアルキル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は
４′−アルコキシ−３′−フルオロ）フェニルエチニ
ル〕ニコチン酸エステル〔Ia〕の代りに実施例５又は６
で得た４′−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニル）オ
キシカルボニルフェニル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は
４″−アルコキシ−３″−フルオロ）フェニルエチニ
ル〕ニコチン酸エステル〔Ic〕を用いる以外はすべて実
施例７と同一条件で合成し，第11表の４′−（ｐ−アル
コキシカルボニルフェニル）オキシカルボニルフェニル
−６−〔ｐ−アルコキシ（又は４″−アルコキシ−３″
−フルオロ）フェニルエチル〕ニコチン酸エステル〔I
f〕を91〜95％の収率で得た。各化合物の構造はIR及びN
MRスペクトルデータで確認した。
ル）オキシカルボニルフェニル−６−〔ｐ−アルコキシ
（又は４″−アルコキシ−３″−フルオロ）フェニルエ
チル〕ニコチン酸エステル〔If〕（Ｘ＝Ｈ又はＦ）の合
成 実施例７のアルキル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は
４′−アルコキシ−３′−フルオロ）フェニルエチニ
ル〕ニコチン酸エステル〔Ia〕の代りに実施例５又は６
で得た４′−（ｐ−アルコキシカルボニルフェニル）オ
キシカルボニルフェニル−６−〔ｐ−アルコキシ（又は
４″−アルコキシ−３″−フルオロ）フェニルエチニ
ル〕ニコチン酸エステル〔Ic〕を用いる以外はすべて実
施例７と同一条件で合成し，第11表の４′−（ｐ−アル
コキシカルボニルフェニル）オキシカルボニルフェニル
−６−〔ｐ−アルコキシ（又は４″−アルコキシ−３″
−フルオロ）フェニルエチル〕ニコチン酸エステル〔I
f〕を91〜95％の収率で得た。各化合物の構造はIR及びN
MRスペクトルデータで確認した。
例1.〔化合物No.62〕収率94％ 例2.〔化合物No.63〕収率93％ 得られた各化合物の相転移温度を第11表に示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−14553（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−161473（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−115243（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−229174（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−229128（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−225434（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】一般式〔Ｉ〕 （式中Ｒ＊は不斉炭素原子を有するアルキル基を,Rは直
鎖アルキル又はアルコキシ基を,Xは水素原子又はハロゲ
ン原子を,Yは基−Ｃ≡Ｃ−，基−CH2CH2−又は Ｚは基−Ｃ≡Ｃ−，基−CH2CH2−又は ｎは０又は１をそれぞれ示す）で表わされる液晶性化合
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11549489A JP2714852B2 (ja) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | 液晶性化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11549489A JP2714852B2 (ja) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | 液晶性化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02292260A JPH02292260A (ja) | 1990-12-03 |
| JP2714852B2 true JP2714852B2 (ja) | 1998-02-16 |
Family
ID=14663899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11549489A Expired - Fee Related JP2714852B2 (ja) | 1989-05-08 | 1989-05-08 | 液晶性化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2714852B2 (ja) |
-
1989
- 1989-05-08 JP JP11549489A patent/JP2714852B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02292260A (ja) | 1990-12-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |