JP2713788B2 - 酸素発生用電極及びその製造方法 - Google Patents

酸素発生用電極及びその製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規な酸素発生用電極及びその製造方法に
関するものである。さらに、詳しくいえば、本発明は、
所望の水溶液を電解して、陽極で酸素を発生させる反応
に好適に用いられる、優れた耐久性及び低い酸素過電圧
を有する酸素発生用電極及びこれを製造するための方法
に関するものである。
従来の技術 従来、金属チタンを導電性基体として、その上に白金
族金属やその酸化物の被覆層を設けた金属電極は、種々
の電解工業の分野において使用されている。
例えば、チタン基板上に、ルテニウムとチタンの酸化
物や、ルテニウムとスズの酸化物の被覆を施した電極が
食塩電解による塩素発生用陽極として知られている(特
公昭46−21884号公報、特公昭48−3954号公報、特公昭5
0−11330号公報)。
ところで、電解工業においては、前記の食塩電解の場
合のように塩素発生を伴う電解のほかに、酸、アルカリ
又は塩の回収、銅、亜鉛などの金属の採取、めっき、陰
極防食など酸素発生を伴う場合がある。
そして、このような酸素発生を伴う電解に、塩素発生
用として慣用されている電極、例えば前記したチタン基
板上に、ルテニウムとチタンの酸化物やルテニウムとス
ズの酸化物の被覆を施した電極を用いると、短期間で腐
食し、電解が不能になるため、特に酸素発生用として構
成された電極が用いられている。このような電極として
は、酸化イリジウム−白金系電極、酸化イリジウム−酸
化スズ系電極、白金めっきチタン電極などが知られてい
るが、最も一般的に使用されているのは鉛系電極や可溶
性亜鉛陽極である。
しかしながら、これらの公知の電極は、その使用目的
によっては種々のトラブルを生じ、必ずしも適当なもの
とはいえない。例えば亜鉛めっき用の陽極として可溶性
亜鉛陽極を用いると、陽極の溶解が著しいので、極間距
離の調節を頻繁に行わなければならないし、また鉛系の
不溶性陽極を用いると、電解液中に混入した鉛の影響に
よりめっき不良を生じる。また、白金めっきチタン電極
は、100A/dm2以上の高電流密度で、いわゆる高速亜鉛め
っきを行う場合には、消耗が激しく使用することができ
ない。
したがって、酸素発生を伴う電解用として、なんら障
害を伴わずに、広い分野に普遍的に適用できる電極の開
発が、電極製造技術における重要な課題の1つになって
いる。
他方、一般に被覆層を有するチタン基板電極を陽極と
して、酸素発生を伴う電極を行うと、基板と被覆層との
間に酸化チタン層を生じ、次第に陽極電位が高くなり遂
には被覆層が剥離して陽極が不働態化することがしばし
ばみられ、このような中間に形成される酸化チタンを抑
制し、陽極の不働態化を防止するために、適当な中間層
を設けることが行われている(特公昭60−21232号公
報、特公昭60−22074号公報、特開昭57−116786号公
報、特開昭60−184690号公報)。
しかしながら、このようにして設けられた中間層は、
一般に被覆層よりも導電性が低いため、高電流密度が電
解を行う場合には、期待するほどの効果が得られないの
が実状である。また、卑金属酸化物に白金を分散させた
中間層を設けること(特開昭60−184691号公報)や、バ
ルブ金属酸化物と貴金属から成る中間層を設けること
(特開昭57−73193号公報)も提案されているが、白金
はそれ自体耐食性が低いため、中間層としての効果が不
十分であるし、またバルブ金属酸化物を混合する場合に
は、その種類や配合量におのずから制約があり、所期の
効果を奏することが困難である。
そのほか、導電性金属基体の上に酸化イリジウムと酸
化タンタルを含む中間層を介して二酸化鉛被覆を施した
電極も知られているが(特開昭56−123388号公報、特開
昭56−123389号公報)、この中間層は単に金属基体と二
酸化鉛被覆との間の密着性を改善し、ピンホールなどに
起因する腐食を防止する効果があるだけで、これを酸素
発生を伴う電解に用いた場合、酸化チタンの生成抑制の
効果が不十分な上に、電解液中に鉛が混入するのを避け
られないという欠点がある。
さらに、導電性金属基体上に、酸化イリジウムと酸化
タンタルを中間層として上地層に酸化イリジウムを施し
た電極も提案されているが(特開昭63−235493号公
報)、このものは上地層の酸化イリジウムが、酸化イリ
ジウムと酸化タンタルから成る中間層よりも酸素過電圧
が高いため、電力ロスを生じる上に密着強度が低下する
という欠点がある。
また、酸素過電圧の低い電極として、酸化イリジウム
と酸化タンタルと白金を含むものが知られているが(特
開平1−301876号公報)、このものは白金を用いる必要
があるためコスト高になるのを免れない上に、寿命の点
においても特に長くなることは期待できず、実用上必ず
しも満足しうるものとはいえない。
発明が解決しようとする課題 本発明は、チタン基板上に酸化インジウム被覆を有す
る電極において、中間に酸化チタンが生成するのを効果
的に抑制し、酸素発生を伴う電解に用いた場合にも、長
期間にわたって、なんの支障もなく使用することがで
き、しかも高電流密度での電解においても低い陽極電位
を示す電極を提供することを目的としてなされたもので
ある。
課題を解決するための手段 本発明者らは、優れた耐久性を有し、長期間にわたっ
て使用可能な酸素発生用電極を開発するために種々研究
を重ねた結果、チタンのような導電性基体上に酸化イリ
ジウムと酸化タンタル被覆層を設けることにより電気抵
抗を低下させうる上に、電極の消耗劣化を抑制しうるこ
とを見出し、また、酸化タンタルに富む被覆層の上に酸
化イリジウムに富む層を設けることにより酸化イリジウ
ムの利用率を増大させうることを見出し、さらに、酸化
イリジウム−酸化タンタル単一層では電解時に過電圧の
経時的な上昇による電力ロスを伴うが、このような経時
変化は、酸化イリジウム−酸化タンタル被覆層を2層以
上にすると、酸化イリジウムの酸素発生に対する触媒能
と酸化タンタルの高耐食性特にチタン基材の耐久性とが
共に高められることによって改善されることを見出し、
これらの知見に基づいて本発明をなすに至った。
すなわち、本発明は、導電性基体上に、金属換算でイ
リジウム40〜79.9モル%及びタンタル60〜20.1モル%を
含有する酸化イリジウム及び酸化タンタルから成る下地
層を介して、金属換算でイリジウム80〜99.9モル%及び
タンタル20〜0.1モル%を含有する酸化イリジウム及び
酸化タンタルから成る上地層を設けたことを特徴とする
酸素発生用電極、及び導電性基体上に、金属換算でイリ
ジウム40〜79.9モル%及びタンタル60〜20.1モル%を含
有する酸化イリジウム及び酸化タンタルから成る第一層
を介して、金属換算でイリジウム80〜99.9モル%及びタ
ンタル20〜0.1モル%を含有する酸化イリジウム及び酸
化タンタルから成る層を第二層として設け、さらに、そ
の上に第一層あるいは第一層と第二層とを交互に繰り返
し、複数層設けたことを特徴とする酸素発生用電極を提
供するものである。
この酸素発生用電極は、例えば導電性基体上に、先ず
イリジウム化合物とタンタル化合物とを含有する溶液を
塗布したのち、酸化性雰囲気中で熱処理して、金属換算
でイリジウム40〜79.9モル%及びタンタル60〜20.1モル
%を含有する酸化イリジウム及び酸化タンタルから成る
下地層を形成させ、次いで、この上にイリジウム化合物
とタンタル化合物とを含有する溶液を塗布したのち、酸
化性雰囲気中で熱処理して、金属換算でイリジウム80〜
99.9モル%及びタンタル20〜0.1モル%を含有する酸化
イリジウム及び酸化タンタルから成る上地層を形成させ
るか、あるいは導電性基体上に、先ずイリジウム化合物
とタンタル化合物とを含有する溶液を塗布したのち、酸
化性雰囲気中で熱処理して、金属換算でイリジウム40〜
79.9モル%及びタンタル60〜20.1モル%を含有する酸化
イリジウム及び酸化タンタルから成る第一層を形成さ
せ、次いで、この上にイリジウム化合物とタンタル化合
物とを含有する溶液を塗布したのち、酸化性雰囲気中で
熱処理して、金属換算でイリジウム80〜99.9モル%及び
タンタル20〜0.1モル%を含有する酸化イリジウム及び
酸化タンタルから成る第二層を形成させ、さらにこの上
に同様にして第一層、第二層を交互に繰り返し形成させ
ることによって製造することができる。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の電極に用いられる導電性基体としては、例え
ばチタン、タンタル、ジルコニウム、ニオブなどのバル
ブ金属又はこれらのバルブ金属の中から選ばれた2種以
上の金属の合金が挙げられる。
本発明の電極においては、これらの導電性基体上に、
下地層として酸化イリジウム及び酸化タンタルから成る
層が設けられており、この層の各成分の割合は、金属換
算でイリジウムが40〜79.9モル%及びタンタル60〜20.1
モル%の範囲にあることが必要である。この範囲内にお
いては、酸化イリジウムの割合が少ない方が良好な結果
が得られる。酸化タンタルが多すぎると過電圧の増加を
招き、十分な効果が発揮されない。また、所期の効果を
十分達成するためには、該被覆層において酸化イリジウ
ムをイリジウム換算で0.1mg/cm2以上の割合で施すのが
好ましい。
また、該被覆層を下地層としてこの上に酸化イリジウ
ム及び酸化タンタルから成る上地層が被覆されて設けら
れるが、この上地被覆層の金属換算のイリジウム及びタ
ンタルの割合は、イリジウムが80〜99.9モル及びタンタ
ルが20〜0.1モル%の範囲にあることが必要である。こ
の範囲内においては、酸化イリジウムの割合が多い方が
良好な結果が得られるが、あまり多すぎると密着強度が
低下し十分な効果が発揮されない。また、この被覆層に
おいては、酸化イリジウムをイリジウム換算で0.01〜7m
g/cm2の割合で施すのが好ましい。この被覆層がイリジ
ウム換算で0.01m/cm2未満では電解時の電極消耗量が多
く、耐久性が低下するし、また7mg/cm2を越えると密着
強度が低下する。
また、前記下地層を第一層、前記上地層を第二層とし
て交互に繰り返し被覆層を設けると密着強度が増大する
とともに、電解時の電極消耗度が低下し、十分な効果が
発揮される。この際の被覆層は、第一層、第二層共に酸
化イリジウムをイリジウム換算で0.01〜5mg/cm2の割合
で施すのが上記効果が十分に発揮されるので好ましい。
次に、この酸素発生用電極を製造するための好適な実
施態様を説明すると、先ず導電性基体上に、イリジウム
化合物及びタンタル化合物を含有する溶液を塗布したの
ち、酸化性雰囲気中で熱処理して、金属換算でイリジウ
ム40〜79.9モル%及びタンタル60〜20.1モル%を含有す
る、酸化イリジウム及び酸化タンタルから成る下地層を
形成させる。この際使用する塗布液は、熱分解によって
酸化イリジウムになる化合物、例えば塩化イリジウム酸
(H2IrCl6・6H2O)、塩化イリジウムなどのイリジウム
化合物と、熱分解によって酸化タンタルになる化合物、
例えば塩化タンタルのようなハロゲン化タンタルやエト
キシタンタルのようなタンタルアルコキシドなどのタン
タル化合物とを、所定の割合で適当な溶媒に溶解するこ
とによって調製することができる。また、酸化性雰囲気
中での熱処理は、前記塗布液を導電性基体上に塗布し、
乾燥したのち、酸素の存在下に、好ましくは400〜550℃
の範囲の温度において焼成することによって行われる。
この操作は、必要な担持量になるまで複数回繰り返され
る。
このようにして、所望の担持量の下地層が得られる
が、本発明においては、さらに、この上にイリジウムと
タンタルの組成の異なる上地層の塗布液を塗布したの
ち、酸化性雰囲気中で熱処理して、金属換算でイリジウ
ム80〜99.9モル%及びタンタル20〜0.1モル%を含有す
る酸化イリジウム及び酸化タンタルから成る上地被覆層
を形成させる。この際使用する塗布液は、前記下地層用
塗布液と同様のイリジウム化合物とタンタル化合物と
を、所定の割合で適当な溶媒に溶解することによって調
製することができる。また、酸化性雰囲気中での熱処理
は、この塗布液を該下地層の上に塗布し、乾燥したの
ち、酸素の存在下好ましくは400〜550℃の範囲の温度に
おいて、焼成することによって行われる。この操作は必
要な担持量に達するまで複数回繰り返される。このよう
にして、該下時層の上に所望の担持量を有する酸化イリ
ジウム−酸化タンタル上地層が施され、本発明の電極が
得られる。
また、上記下地層を第一層とし、上記上地層を第二層
として、これら第一層と第二層とを上記と同様の条件で
被覆操作を交互に複数回繰り復すことにより、本発明の
別の電極が得られる。
これらの被覆層、すなわち下地層、上地層、第一層あ
るいは第二層を形成するための熱処理を酸化性雰囲気中
で行わない場合には、酸化が不十分になり、金属が遊離
状態で存在するので得られる電極の耐久性が低下する。
発明の効果 本発明の電極は、酸素発生を伴う電解において陽極と
して使用する場合、低い槽電圧で長期間の使用に耐える
上、100A/dm2以上の高電流密度で電解を行っても、耐久
性に優れ、長期間の使用が可能である。また、酸素過電
圧の経時変化も少ない。
このような、本発明の電極は、酵素発生用電極とし
て、好適である。
実施例 次に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。
実施例1〜5、比較例1〜7 第1表に示した下地層の酸化イリジウムと酸化タンタ
ルの組成比に相当する所定割合の塩化イリジウム酸(H2
IrCl6・6H2O)及びタンタルエトキシド〔Ta(CO2H
5)〕をブタノールに溶解して、イリジウム/タンタ
ルの組成比を変化させた金属換算濃度80g/の下地用塗
布液を調整した。
また、第1表に示した上地層の酸化イリジウムと酸化
タンタルの組成比に相当する所定割合の塩化イリジウム
酸及びタンタルエトキシドをブタノールに溶解して、イ
リジウム/タンタルの組成比を変化させた金属換算濃度
80g/の上地用塗布液を調整した。
別に、熱シュウ酸でエッチングしたチタン基体上に、
前記下地用塗布液を刷毛で塗布し、乾燥した後、電気炉
に入れて空気を吹き込みながら500℃で焼付けた。この
塗布、乾燥、焼付けの操作を適当な回数所定の担持量に
なるまで繰返して、酸化イリジウムと酸化タンタルの被
覆下地層を作成した。
さらに、該下地層に前記上地用塗布液を刷毛で塗布
し、乾燥した後、電気炉に入れて空気を吹き込みながら
500℃で焼付けた。この塗布、乾燥、焼付けの操作を適
当な回数所定の担持量になるまで繰り返して、下地層の
上に酸化イリジウムと酸化タンタルの上地層が被覆した
電極試料を作成した。
次に、この作成した電極について、酸素過電圧を測定
した。測定方法は電位走査法により、30℃、1モル/
硫酸水溶液中で電流密度20A/dm2における値を求めた。
その結果を第1表に示す。
また、この電極について60℃、1モル/硫酸水溶液
中で寿命試験を行った。この電極を陽極として陰極には
白金を用い、電流密度20A/dm2で電解を行った。その結
果も第1表に示した。
また、電極の経時変化については、上記寿命試験を10
00時間まで行い、試験を一時中断して上記の酸素過電圧
の測定により1000時間経過後の酸素過電圧を求め、その
値と初期値との差を求めて評価を行った。
これらの結果から明らかなように、本発明の電極は低
い酸素過電圧を示し、しかも酸素過電圧の経時変化も小
さく、著しく長い寿命を有する。
なお、電極の寿命は、◎:3000時間以上、○:2000〜30
00時間、△:1000〜2000時間、×:1000時間以下で表示し
てあり、電解可能時間を示している。
また、酸素過電圧の経時変化は、○:0.3V以下、△:0.
3〜0.7Vの過電圧の上昇、×:0.7V以上の過電圧の上昇で
表示している。
実施例6〜12、比較例8 前記実施例又は比較例の下地層作成と同様にして酸化
イリジウムと酸化タンタルの被覆層(以下、被覆層Aと
いう)を設けた。
この上に前記実施例又は比較例の上地層作成と同様に
して酸化イリジウムと酸化タンタルの被覆層(以下、被
覆層Bという)を設けた。
さらに上記被覆層Aと被覆層Bの形成操作を第2表に
示したとおり複数回繰り返して多層の被覆層を設けて本
発明の電極を作成した。
次に、この作成した電極について前記実施例又は比較
例と同様に酸素過電圧測定、寿命試験、酸素過電圧の経
時変化測定を行い、その結果を第2表に示した。この結
果から明らかなように本発明の電極は低い酸素過電圧を
示し、しかも酸素過電圧の経時変化も小さく、著しく長
い寿命を有する。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−294494(JP,A) 特開 平1−301876(JP,A) 特開 昭57−144033(JP,A) 特開 昭63−235493(JP,A)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】導電性基体上に、金属換算でイリジウム40
    〜79.9モル%及びタンタル60〜20.1モル%を含有する酸
    化イリジウム及び酸化タンタルから成る下地層を介し
    て、金属換算でイリジウム80〜99.9モル%及びタンタル
    20〜0.1モル%を含有する酸化イリジウム及び酸化タン
    タルから成る上地層を設けたことを特徴とする酸素発生
    用電極。
  2. 【請求項2】導電性基体上に、金属換算でイリジウム40
    〜79.9モル%及びタンタル60〜20.1モル%を含有する酸
    化イリジウム及び酸化タンタルから成る第一層を介し
    て、金属換算でイリジウム80〜99.9モル%及びタンタル
    20〜0.1モル%を含有する酸化イリジウム及び酸化タン
    タルから成る層を第二層として設け、さらにその上に第
    一層あるいは第一層と第二層を交互に繰り返し、複数層
    設けたことを特徴とする酸素発生用電極。
  3. 【請求項3】導電性基体上に、先ずイリジウム化合物と
    タンタル化合物とを含有する溶液を塗布したのち、酸化
    性雰囲気中で熱処理して、金属換算でイリジウム40〜7
    9.9モル%及びタンタル60〜20.1モル%を含有する酸化
    イリジウム及び酸化タンタルから成る下地層を形成さ
    せ、次いで、この上にイリジウム化合物とタンタル化合
    物とを含有する溶液を塗布したのち、酸化性雰囲気中で
    熱処理して、金属換算でイリジウム80〜99.9モル%及び
    タンタル20〜0.1モル%を含有する酸化イリジウム及び
    酸化タンタルから成る上地層を形成させることを特徴と
    する酸素発生用電極の製造方法。
  4. 【請求項4】導電性基体上に、先ずイリジウム化合物と
    タンタル化合物とを含有する溶液を塗布したのち、酸化
    性雰囲気中で熱処理して、金属換算でイリジウム40〜7
    9.9モル%及びタンタル60〜20.1モル%を含有する酸化
    イリジウム及び酸化タンタルから成る第一層を形成さ
    せ、次いで、この上にイリジウム化合物とタンタル化合
    物とを含有する溶液を塗布したのち、酸化性雰囲気中で
    熱処理して、金属換算でイリジウム80〜99.9モル%及び
    タンタル20〜0.1モル%を含有する酸化イリジウム及び
    酸化タンタルから成る第二層を形成させ、さらにこの上
    に同様にして第一層、第二層を交互に繰り返し形成させ
    ることを特徴とする酸素発生用電極の製造方法。
JP1331376A 1989-12-22 1989-12-22 酸素発生用電極及びその製造方法 Expired - Fee Related JP2713788B2 (ja)

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GB9027731A GB2239260B (en) 1989-12-22 1990-12-20 Oxygen-generating electrode and method for the preparation thereof
NL9002829A NL193665C (nl) 1989-12-22 1990-12-20 Zuurstofgenererende elektrode.
FR9016162A FR2656337B1 (fr) 1989-12-22 1990-12-21 Electrode generatrice d'oxygene et procede pour sa preparation.
CN90106017A CN1024570C (zh) 1989-12-22 1990-12-21 生氧电极及其制备方法
KR1019900021469A KR920010101B1 (ko) 1989-12-22 1990-12-22 산소발생용 전극 및 그 제조방법
HK98106439A HK1007336A1 (en) 1989-12-22 1998-06-24 Oxygen-generating electrode and method for the preparation thereof

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Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5314601A (en) * 1989-06-30 1994-05-24 Eltech Systems Corporation Electrodes of improved service life
US5549937A (en) * 1989-10-11 1996-08-27 U.S. Philips Corporation Method of plasma-activated reactive deposition of electrically conducting multicomponent material from a gas phase
NL9101753A (nl) * 1991-10-21 1993-05-17 Magneto Chemie Bv Anodes met verlengde levensduur en werkwijzen voor hun vervaardiging.
KR100196094B1 (ko) * 1992-03-11 1999-06-15 사토 히로시 산소발생전극
LU88516A1 (de) * 1993-07-21 1996-02-01 Furukawa Electric Co Ltd Sauerstoff erzeugende Elektrode und Verfahren dieselbe herzustellen
JP3188361B2 (ja) * 1994-06-27 2001-07-16 ペルメレック電極株式会社 クロムめっき方法
US5935392A (en) * 1995-06-01 1999-08-10 Upscale Water Technologies, Inc. Electrodes for electrolytic removal of nitrates from water, methods of making same, and apparatus incorporating said electrodes
US5958196A (en) * 1995-06-01 1999-09-28 Upscale Water Technologies, Inc. Planar carbon fiber and noble metal oxide electrodes and methods of making the same
JP3810043B2 (ja) * 1998-09-30 2006-08-16 ペルメレック電極株式会社 クロムめっき用電極
ITMI20021128A1 (it) * 2002-05-24 2003-11-24 De Nora Elettrodi Spa Elettrodo per sviluppo di gas e metodo per il suo ottenimento
DE102004015633A1 (de) * 2004-03-31 2005-10-20 Studiengesellschaft Kohle Mbh Verfahren zur Herstellung von Beschichtungen aus Iridiumoxiden
JP4501726B2 (ja) * 2005-03-07 2010-07-14 住友金属鉱山株式会社 酸性塩化物水溶液からの鉄の電解採取方法
CN1908237B (zh) * 2006-07-20 2011-06-01 福州大学 具有高析氧活性的高铈含量的铱涂层钛阳极
FR2909390B1 (fr) * 2006-11-30 2009-12-11 Electro Rech Anode pour dispositif d'electrodeposition de revetements metalliques anticorrosion ou cosmetique quelconque sur une piece metallique
US8022004B2 (en) * 2008-05-24 2011-09-20 Freeport-Mcmoran Corporation Multi-coated electrode and method of making
IT1395113B1 (it) * 2009-07-28 2012-09-05 Industrie De Nora Spa Elettrodo per evoluzione di ossigeno in processi elettrochimici industriali
CN102443818B (zh) * 2010-10-08 2016-01-13 水之星公司 多层混合金属氧化物电极及其制造方法
US10208384B2 (en) * 2011-08-11 2019-02-19 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Efficient water oxidation catalysts and methods of oxygen and hydrogen production by photoelectrolysis
CN102605386A (zh) * 2012-02-29 2012-07-25 华侨大学 碱性介质析氧用Ni/NiCo2O4多孔复合电极的制备方法
CN103088362B (zh) * 2012-12-13 2015-12-23 苏州赛斯德工程设备有限公司 一种管状钛阳极
CN103774175B (zh) * 2014-01-26 2015-12-02 福州大学 一种嵌入钌锆锡钛氧化物的活性涂层及其制备方法
CN103774177B (zh) * 2014-01-26 2015-12-02 福州大学 一种嵌入钌锆锡氧化物的活性涂层及其制备方法
US9618773B2 (en) 2014-04-08 2017-04-11 Novartis Ag Ophthalmic lenses with oxygen-generating elements therein
CN104988530B (zh) * 2015-08-12 2018-01-26 海南金海浆纸业有限公司 一种复合涂层电极及其制备方法和电解槽
CN106367779A (zh) * 2016-11-07 2017-02-01 南昌专腾科技有限公司 一种多孔钛基电极材料及其制备方法
US11668017B2 (en) 2018-07-30 2023-06-06 Water Star, Inc. Current reversal tolerant multilayer material, method of making the same, use as an electrode, and use in electrochemical processes
CN112553657B (zh) * 2019-09-10 2023-06-02 马赫内托特殊阳极(苏州)有限公司 一种电极及其制备方法和用途
KR20220140859A (ko) 2020-03-19 2022-10-18 알콘 인코포레이티드 내장형 실리콘 히드로겔 콘택트 렌즈
US11867874B2 (en) 2020-03-19 2024-01-09 Alcon Inc. Insert materials with high oxygen permeability and high refractive index
US11618823B2 (en) 2020-03-19 2023-04-04 Alcon Inc. High refractive index siloxane insert materials for embedded contact lenses
EP4121279A1 (en) 2020-03-19 2023-01-25 Alcon Inc. Method for producing embedded or hybrid hydrogel contact lenses
US20220306810A1 (en) 2021-03-23 2022-09-29 Alcon Inc. Polysiloxane vinylic crosslinkers with high refractive index
US20220305747A1 (en) 2021-03-24 2022-09-29 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
US20220324187A1 (en) 2021-04-01 2022-10-13 Alcon Inc. Embedded hydrogel contact lenses
WO2022208448A1 (en) 2021-04-01 2022-10-06 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
CN114752971B (zh) * 2022-04-11 2023-03-28 西安泰金新能科技股份有限公司 一种具有高电解耐久性的涂层钛阳极的制备方法
US20230339148A1 (en) 2022-04-26 2023-10-26 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
US20230339149A1 (en) 2022-04-26 2023-10-26 Alcon Inc. Method for making embedded hydrogel contact lenses
TW202402514A (zh) 2022-05-09 2024-01-16 瑞士商愛爾康公司 用於製造嵌入式水凝膠接觸鏡片之方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3616445A (en) * 1967-12-14 1971-10-26 Electronor Corp Titanium or tantalum base electrodes with applied titanium or tantalum oxide face activated with noble metals or noble metal oxides
US3926751A (en) * 1972-05-18 1975-12-16 Electronor Corp Method of electrowinning metals
IT959730B (it) * 1972-05-18 1973-11-10 Oronzio De Nura Impianti Elett Anodo per sviluppo di ossigeno
US4072585A (en) * 1974-09-23 1978-02-07 Diamond Shamrock Technologies S.A. Valve metal electrode with valve metal oxide semi-conductive coating having a chlorine discharge catalyst in said coating
JPS54125197A (en) * 1978-03-24 1979-09-28 Berumeretsuku Denkiyoku Kk Electrolytic electrode and its manufacture
US4214971A (en) * 1978-08-14 1980-07-29 The Dow Chemical Company Electrode coating process
JPS6021232B2 (ja) * 1981-05-19 1985-05-25 ペルメレツク電極株式会社 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法
EP0243302B1 (en) * 1986-04-17 1992-01-22 Eltech Systems Corporation An electrode with a platinum metal catalyst in surface film and its use
JPS63235493A (ja) * 1987-03-24 1988-09-30 Tdk Corp 酸素発生用電極及びその製造方法
JPH0660427B2 (ja) * 1988-05-31 1994-08-10 ティーディーケイ株式会社 酸素発生用電極及びその製造方法
JP2596807B2 (ja) * 1988-08-24 1997-04-02 ダイソー株式会社 酸素発生用陽極及びその製法
JP2596821B2 (ja) * 1988-12-29 1997-04-02 ダイソー株式会社 酸素発生用陽極
JP2505563B2 (ja) * 1989-01-30 1996-06-12 石福金属興業株式会社 電解用電極
JPH0631454B2 (ja) * 1989-03-06 1994-04-27 ダイソー株式会社 酸素発生陽極及びその製法

Also Published As

Publication number Publication date
GB2239260A (en) 1991-06-26
JPH03193889A (ja) 1991-08-23
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FR2656337A1 (fr) 1991-06-28
FR2656337B1 (fr) 1993-04-16

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