JP2704982B2 - 空気又はガス冷却型ランプにおいて逆流を防止する方法及び装置 - Google Patents

空気又はガス冷却型ランプにおいて逆流を防止する方法及び装置

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JP2704982B2 JP5332485A JP33248593A JP2704982B2 JP 2704982 B2 JP2704982 B2 JP 2704982B2 JP 5332485 A JP5332485 A JP 5332485A JP 33248593 A JP33248593 A JP 33248593A JP 2704982 B2 JP2704982 B2 JP 2704982B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ランプの表面及びラン
プを冷却するために使用する空気又はガスの流れの近く
にあるその他の表面が汚染されることを防止する方法及
び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】本発明は、マイクロ波駆動型無電極ラン
プにおいて使用する場合について説明するが、それは、
空気又はガス冷却型ランプのその他のタイプのものと共
に使用することも可能であり、本発明は特に無電極ラン
プに適用可能なものである。マイクロ波駆動型ランプの
具体的な例としては、例えば、米国特許第３，８７２，
３４９号、第４，０４２，８５０号、第４，６９５，７
５７号、第４，４８５，３３２号に記載されている。こ
れらのランプは、インク、有機樹脂のキュア即ち硬化及
びフォトリソグラフィにおいて使用される。
【０００３】上掲した特許において記載されている無電
極ランプはマイクロ波包囲体内に配設されるプラズマ形
成用媒体を収容するランプバルブから構成されている。
ランプの動作期間中、バルブ内の媒体はマイクロ波包囲
体と結合されるマイクロ波又はその他の電磁ラジエーシ
ョン（照射）に露呈され、その際に紫外線（ＵＶ）、可
視光線及び赤外線を射出するプラズマを発生する。典型
的には、このマイクロ波包囲体はリフレクタ即ち反射器
とメッシュとから構成されている。反射器はバルブによ
って射出されたラジエーション即ち光を反射させてメッ
シュを介して包囲体の外部へ出力する。尚、該メッシュ
はマイクロ波エネルギを包囲体内に閉込めるべく作用す
る。包囲体から射出されたラジエーション即ち光はＵＶ
エネルギで処理される物質に入力される。
【０００４】ランプによって射出されるラジエーション
は、入力マイクロ波エネルギの関数として増加し、その
際に高い処理速度を可能としている。然しながら、ラン
プは動作期間中に多大の熱をバルブへ伝達し、且つ性能
はバルブ冷却技術の効果性によって制限される。冷却技
術は、ランプバルブに衝突し且つその周りを流れる高速
の空気の流れを使用し（空気のみならず、その他のガス
を使用することも可能である）その場合に空気の流れに
よってバルブから熱が持ちさられる。
【０００５】高いパワー密度でランプを動作させるため
に適切なる冷却を与えるために高速とすることが必要な
冷却用空気の流れが、反射器空胴内部及び処理中の物質
の周りにおいて複雑な過渡的な流れパターンを発生させ
るものであることが判明した。更に、この複雑な流れパ
ターンはランプ包囲体の外側からその内部への空気の
（又はその他の冷却用ガスの）再循環を包含するもので
あることが判明した。この外側のガスは、通常、例え塵
埃のない環境においてもキュアリング即ち硬化及びリソ
グラフィの生成物を含有している。高速の噴流は、これ
らの汚染物を引込み且つランプ包囲体及び反射器表面上
に該汚染物を付着させ、その結果これらの表面を汚し且
つダウンタイムを発生させると共に部品交換のコストを
発生させる。この問題に対する従来の解決方法は、石英
シールドを設けるものであるが、そのようなシールドは
光出力を減少させ且つ逆流を防止する上では部分的に効
果があるに過ぎない。空気の外側の流れによるキュアリ
ング及びフォトリソグラフィの生成物の除去も不充分な
ものであった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、冷却用空気又はガスの流れによって発生される
複雑な再循環流れによって発生されるランプの汚染を防
止する改良した方法及び装置を提供することである。
【０００７】本発明の別の目的とするところは、ランプ
の表面の汚染を除去することによってランプバルブの寿
命を改善することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らの知得したと
ころによれば、高速の冷却用流体の流れによって空気又
はガスが引込れることによって発生される真空領域によ
り逆流がランプ内に引込まれることが判明した。本発明
によれば、高速の流れの引込条件を満足するために清浄
な空気又はガスの供給源が設けられ、従って汚染物の逆
流を取除いている。
【０００９】
【実施例】図１を参照すると、図示した光源は、楕円形
状の反射器１と金属端部プレート５０及び５１と、メッ
シュスクリーン５２とから構成される長手軸方向に延在
するマイクロ波包囲体内に配設されている長手軸方向に
延在するランプバルブ１６を有している。バルブ、反射
器及びメッシュスクリーンの長手方向寸法は図面の表面
に垂直な方向であり且つ端部プレートは図面の用紙に平
行な面内に位置している。このことは、図２及び３を参
照するとより良く理解することが可能である。
【００１０】ランプバルブが楕円の焦点及びその近くに
位置されており、且つマイクロ波パワーが二個のマグネ
トロンによって発生される。各マグネトロンはマイクロ
波空胴の夫々の端部近くに装着されている。図２におい
て、右側端部のマグネトロン４のみが示されている。こ
れらのマグネトロンは導波路２及び３上に装着されてお
り、且つマイクロ波エネルギを発生し、そのエネルギは
楕円形状の反射器の各端部におけるスロットを介して通
過し、且つバルブ内の物質によって吸収され、その結果
所望の光出力が発生する。バルブによって発生される光
は、楕円形状の反射器から一度又はそれ以上の反射を伴
うか又は反射を伴うことなしにワイヤメッシュ５２を介
して外部に取出される。マイクロ波はワイヤメッシュに
よってマイクロ波空胴から漏れることが防止されてい
る。米国特許第４，０４２，８５０号に記載されている
本発明の好適実施例においては、マグネトロンは１，５
００ワットの供給源であり、且つプラズマ負荷が直線方
向に沿って１インチ当たり約３００ワットを熱及び光と
して散逸し、その大部分は熱として散逸される。バルブ
及び種々の部品の過熱を防止するために圧縮空気供給源
がポート４１及び４２へ圧縮空気を供給する。この空気
は複数個の孔４を介してマグネトロンを冷却し、多数の
孔４０を介して導波路を冷却し、且つ最後に反射器内の
多数の孔２２を介してランプバルブ１を冷却するために
使用される。図４は圧縮空気が流れる反射器における孔
のパターンを示している。
【００１１】図５を参照すると、ランプ内の空気の流れ
パターン、特に楕円形状の反射器及びメッシュによって
形成される包囲体即ちマイクロ波空胴内における空気の
流れパターンが概略的に示されている。このパターンは
レーザー光シート流れ可視化技術を使用して見出された
ものである。冷却用の孔２２を出る空気は流れ１４で示
した如くワイヤメッシュの半分を介して外部に流れ出る
ことが判明した。図示した如く、空気の小さな部分が装
着用のプレートにおけるギャップ１５を介して漏洩す
る。図示した実施例においては、これは外部ハウジング
と反射器との間のギャップである。例えば塵埃粒子及び
光源によって実施された処理の生成物などの汚染物を包
含する外部からの空気が、流れ３２で示した如く、他の
半分のワイヤメッシュからランプ包囲体内に入込む。流
体力学の原理に基づいて、このようなパターンは一つの
領域内に集中された比較的小さな開口を介して大きな空
胴内へ入込む高速の空気の流れによって発生される剪断
力に起因して不可避的に発生されるものである。空気の
流れが反射器における孔から更に遠くへ移動すると、空
気の流れは広がって剪断力又は摩擦によって包囲体内の
より多くの空気を引きずり、従って包囲体から空気を除
去し且つ低圧力区域を発生させる。キュア即ち硬化中の
基板に衝突する空気が反射され且つランプ包囲体内のこ
の低圧区域内へ引込まれる場合がある。この「逆流」は
参照番号３２で示してあり、且つランプ包囲体表面を汚
すこととなる。この逆流の位置及び範囲は流れの特定の
境界条件及び初期条件によって非常に敏感に作用され、
わずかの擾乱が存在しても動作期間中の逆流の位置が変
化する。
【００１２】本発明の方法及び装置によれば、清浄な空
気の供給源が設けられており、上述した剪断力によって
引きずられる空気を置換し、従って低圧力区域を取除き
逆流が包囲体内部へ引込まれることを防止する。
【００１３】図６は米国特許第４，０４２，８５０号に
記載されている無電極ランプに本発明を適用した実施例
を示している。図６において、前述した図面に示されて
いるものと同一の構成要素には同一の参照番号を付して
ある。図６を参照すると、ガイド乃至は空気偏向器１７
がキャビネット上に装着して設けられている。図示した
実施例においては、この空気偏向器はＵ形状部材であ
り、それはシートメタル締着具１８によってキャビネッ
トに固着されている装着部材２１から懸架されている。
更に、例えばガスケット等の可撓性部材１９が、偏向器
と装着部材との界面を密封するために設けられている。
本発明によれば、空気偏向器１７は、ギャップ１５を介
して流れる空気の方向を変えて、置換用空気の流れ２０
を形成し、その流れは冷却用空気の流れによって引きず
られる空気を置換し、従って汚染物の逆流が流入するこ
とを防止している。
【００１４】注意すべきことであるが、スクリーンの全
長を被覆するようにこの空気シールドを構成することも
可能である。何故ならば、この逆流の位置は極めて不安
定なものだからである。適切な調節を行なうことによっ
て、問題となるような逆流は完全に除去することが可能
であり、且つ汚染物はランプ包囲体内に流入することが
阻止される。
【００１５】本発明の別の実施例を図７に示してあり、
それは反射器７０における新規な孔のパターンを示して
いる。この実施例においては、反射器７０は、図１及び
４に示されている反射器１の代わりに使用される。理解
される如く、複数個の行の孔７２が反射器の中心近くに
位置されており、これらの孔は図４における孔２２と同
一の機能を達成するものであり、即ち冷却用の流体はこ
れらの孔を介して流れバルブを冷却する。然しながら、
反射器の端部近くに位置されている複数個の行の孔７４
はこの実施例に特有のものである。
【００１６】孔７２を介して流れる流れによって引きず
られる置換用の空気用の清浄な置換用空気又はガスは孔
７４によって供給される。従って、図６を参照すると、
置換用の空気が孔７４によって供給されるので、この実
施例では偏向器１７も、ギャップ１５も有することはな
い。反射器内の孔７４を介して射出される置換用空気は
図６における流れ２０と同一の態様で上方向へ引込まれ
て引きずり込まれた空気を置換する。図示した実施例に
おいては、置換用空気の量は、冷却用空気及び置換用空
気を包含する空気全体の約１／３である。
【００１７】図７に示した実施例においては、陰線の付
けた孔７２は陰線の付けてない孔７２よりも多少寸法が
大きい。上述した如く、流れは初期条件及び境界条件に
敏感である。例えば、流れは、左側（又は、ランプが側
部に装着されている場合には上部）においてランプ内に
流れ込み且つ右側において流れ出す図６に示したモード
から、両側において流込み且つ中央において流れ出すモ
ードへ自発的にスイッチする場合がある。
【００１８】更に、本装置は、逆流の位置に依存して置
換用空気の流れの位置がスイッチされるように構成する
ことが可能である。例えば、逆流が包囲体の左側から右
側へスイッチする場合には、図６においては、右側にお
けるギャップ１５を開放状態のまま、左側のギャップ１
５を完全にブロックするためのシャッタ手段を設けるこ
とが可能である。
【００１９】空気又はガスの供給源及び置換用の空気又
はガスが流れる流れ経路としては種々のものを使用する
ことが可能であり、例えば空気に方向づけを与え且つ偏
向させる手段として種々の機械的な構成を使用すること
が可能である。
【００２０】以上、本発明を直線状の形態の無電極ラン
プを使用する好適実施例について詳細に説明したが、本
発明は、例えば球状、トロイド等の異なった形態の無電
極ランプに適用することも可能である。また、冷却用の
空気又はガスの流れによって冷却が行なわれるＲＦ励起
型ランプ及びその他の任意のタイプのランプに適用する
ことも可能である。
【００２１】以上、本発明の具体的実施の態様について
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ限定
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 米国特許第４，０４２，８５０号に記載され
ているマイクロ波駆動型無電極ランプの概略断面図。
【図２】 図１のランプの上側半分を示した概略斜視
図。
【図３】 図１のランプの下側半分を示した概略斜視
図。
【図４】 図１のランプにおいて使用される反射器を示
した概略平面図。
【図５】 図１のランプにおいて使用される冷却用ガス
によって発生される流れのパターンを示した説明図。
【図６】 改善された流れパターンを有する本発明の一
実施例を示した概略図。
【図７】 本発明の別の実施例を示した概略図。
【符号の説明】
１ 反射器 ２，３ 導波路 ４ マグネトロン １７ ガイド（空気偏向器） １８ 締着具 １９ 可撓性部材 ２０ 置換用空気 ２１ 装着部材 ７０ 反射器 ７２，７４ 孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (73)特許権者 594001373 ザ ユニバーシティー オブ メリーラ ンド ＴＨＥ ＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹ ＯＦ ＭＡＲＹＬＡＮＤ アメリカ合衆国， メリーランド 20742， カレッジ パーク， オフィ ス オブ テクノロジー リエゾン （番地の表示なし) (72)発明者 ジエイヤバント ピー． ゴール アメリカ合衆国， インディアナ 47906， ウエスト ラファイエット, イースト ケストラル ブルバード 2440 (72)発明者 ロバート ジェイ． スウィートマン アメリカ合衆国， メリーランド 20832， オルニー， ソーンハースト ドライブ 4612 (56)参考文献 特開 平４−171601（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−49102（ＪＰ，Ａ) 米国特許3792230（ＵＳ，Ａ) 米国特許4630182（ＵＳ，Ａ)

Claims (14)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 逆流を発生させる圧力下において少なく
    とも空気又はガスの流れによって冷却されるバルブへ向
    かって汚染されている場合のある空気又はガスの逆流を
    防止する方法において、清浄な空気又はガスの供給源を
    設け、且つ前記清浄な空気又はガスで前記汚染された逆
    流を置換させる、上記各ステップを有することを特徴と
    する方法。
  2. 【請求項２】 請求項１において、前記清浄なガスが冷
    却システムによって発生される真空によって前記汚染さ
    れた空気又はガスを置換すべく引込まれることを特徴と
    する方法。
  3. 【請求項３】 汚染されている場合のある空気又はガス
    の逆流が排除されているランプにおいて、 光を発生するバルブが設けられており、 圧力下において前記バルブへ指向されている冷却用空気
    又はガスの流れを与える手段が設けられており、前記流
    れは空気を引込む効果を有しており、 清浄な空気又はガスの供給源が設けられており、 前記清浄な空気又はガスが前記冷却用の流れの引込条件
    を満足させる手段が設けられており、従って、前記逆流
    を減少させるか又は排除することを特徴とするランプ。
  4. 【請求項４】 請求項３において、前記ランプが前記バ
    ルブが位置されている包囲体を有しており、且つ前記清
    浄な空気又はガスの供給源が前記包囲体内に設けられて
    いることを特徴とするランプ。
  5. 【請求項５】 請求項４において、前記包囲体が前記清
    浄な空気又はガスを供給するための少なくとも一個の開
    口を有していることを特徴とするランプ。
  6. 【請求項６】 請求項５において、前記圧力下において
    冷却用ガスの流れを供給する手段が前記包囲体における
    少なくとも一個の開口を有することを特徴とするラン
    プ。
  7. 【請求項７】 請求項６において、前記包囲体が圧力下
    において冷却用ガスの複数個の流れを与えるための複数
    個の開口を有すると共に前記清浄なガスを供給するため
    の複数個の開口を有する反射器を有することを特徴とす
    るランプ。
  8. 【請求項８】 請求項５において、更に、前記開口から
    射出された清浄な空気又はガスを方向づけるための空気
    又はガス偏向手段が設けられていることを特徴とするラ
    ンプ。
  9. 【請求項９】 請求項７において、前記包囲体が反射器
    とメッシュとを有しており、且つ前記ランプがマイクロ
    波エネルギによって駆動されることを特徴とするラン
    プ。
  10. 【請求項１０】 マイクロ波駆動型ランプにおいて、 プラズマ形成用媒体を収容するバルブが設けられてお
    り、 反射器とメッシュとから構成されており且つその中に前
    記バルブが位置されているマイクロ波空胴が設けられて
    おり、 前記反射器はその中心近くに一組の開口を有しており、 圧力下において冷却用ガスを供給する手段が設けられて
    おり、前記ガスの少なくとも一部は前記反射器の一組の
    開口を介して射出され、前記開口を介して射出される空
    気又はガスは空気又はガスを引込む夫々の流れを構成
    し、 清浄な空気又はガスの供給源を与える手段が設けられて
    おり、 前記清浄な空気又はガスを前記流れによって引込まれた
    空気又はガスと置換させる手段が設けられている、こと
    を特徴とするランプ。
  11. 【請求項１１】 請求項１０において、前記清浄な空気
    又はガスの供給源を与える手段が、前記圧力下において
    冷却用空気又はガスを供給する手段と、前記反射器の端
    部近くの一組の開口とを有することを特徴とするラン
    プ。
  12. 【請求項１２】 請求項１０において、前記マイクロ波
    空胴がハウジング内に配設されており、且つ前記清浄な
    空気又はガスの供給源を与える手段が、前記圧力下にお
    いて冷却用空気又はガスを供給する手段と、前記マイク
    ロ波空胴と前記ハウジングとの間の開口とを有すること
    を特徴とするランプ。
  13. 【請求項１３】 請求項１１において、前記バルブが直
    線状の形態であることを特徴とするランプ。
  14. 【請求項１４】 請求項１２において、前記バルブが直
    線状の形態であることを特徴とするランプ。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5861706A (en) * 1997-06-10 1999-01-19 Osram Sylvania Inc. Electrodeless high intensity discharge medical lamp
DE19729758A1 (de) * 1997-07-11 1999-01-14 Berchtold Gmbh & Co Geb Operationsleuchte
GB2335265B (en) * 1998-03-10 2001-12-05 Smiths Industries Plc Lamp arrangements
DE19926690A1 (de) 1999-06-11 2000-12-14 Berchtold Gmbh & Co Geb Operationsleuchte mit Entladungslampen
US6351070B1 (en) * 1999-12-28 2002-02-26 Fusion Uv Systems, Inc. Lamp with self-constricting plasma light source
US6509697B2 (en) * 2001-01-30 2003-01-21 Fusion Uv Systems, Inc. Compact microwave-powered lamp, inkjet printer using this lamp, and ultraviolet light curing using this lamp
US6445138B1 (en) 2001-03-14 2002-09-03 Fusion Uv Systems, Inc. Microwave powered lamp with improved cooling system
US6646384B2 (en) * 2002-02-20 2003-11-11 Fusion Uv Systems, Inc. Microwave powered UV lamp with improved RF gasket arrangement
US6933683B2 (en) * 2003-02-27 2005-08-23 Nordson Corporation Microwave powered lamphead having external shutter
US8507884B2 (en) * 2011-01-05 2013-08-13 Heraeus Noblelight Fusion Uv Inc. Elliptical light source for ultraviolet (UV) curing lamp assemblies
US8888336B2 (en) 2012-02-29 2014-11-18 Phoseon Technology, Inc. Air deflectors for heat management in a lighting module

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE900118C (de) * 1939-12-28 1953-12-21 Quarzlampen Gmbh Therapeutische Bestrahlungslampe fuer Waermebehandlung
US3792230A (en) * 1972-03-30 1974-02-12 Industrial Innovations Inc Gas-cooled torch lamp
US3966308A (en) * 1974-05-01 1976-06-29 Infrarodteknik Ab Device for reflecting radiant energy
US4402850A (en) * 1981-11-03 1983-09-06 Schoerghuber Karl P Method of producing a liquid agent for improving the quality of contaminated water
US4695757A (en) * 1982-05-24 1987-09-22 Fusion Systems Corporation Method and apparatus for cooling electrodeless lamps
JPH071374B2 (ja) * 1984-03-06 1995-01-11 株式会社ニコン 光源装置
DE3663370D1 (en) * 1985-03-08 1989-06-22 Unitika Ltd Polyester resin composition for forming an impact resistant article
DE8508206U1 (de) * 1985-03-19 1985-07-25 Weiner, Rudolf, Dipl.-Ing., 6360 Friedberg Bestrahlungseinrichtung
JPH0637521Y2 (ja) * 1988-10-05 1994-09-28 高橋 柾弘 マイクロ波励起による紫外線発生装置
JP2708495B2 (ja) * 1988-09-19 1998-02-04 株式会社日立製作所 半導体冷却装置

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Publication number Publication date
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