JP2690657B2 - レイアウトパターン発生装置 - Google Patents

レイアウトパターン発生装置

Info

Publication number
JP2690657B2
JP2690657B2 JP4130173A JP13017392A JP2690657B2 JP 2690657 B2 JP2690657 B2 JP 2690657B2 JP 4130173 A JP4130173 A JP 4130173A JP 13017392 A JP13017392 A JP 13017392A JP 2690657 B2 JP2690657 B2 JP 2690657B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
layout pattern
value data
rectangle
truth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4130173A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05152548A (ja
Inventor
伊藤  嘉浩
秀幸 深谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP4130173A priority Critical patent/JP2690657B2/ja
Priority to US08/046,610 priority patent/US5348558A/en
Publication of JPH05152548A publication Critical patent/JPH05152548A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2690657B2 publication Critical patent/JP2690657B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、マスクR0M内蔵L
SIへROMデータを書き込むために用いられるレイア
ウトパターンを発生するレイアウトパターン発生装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】通常、ROM製造に際しては、論理
「1」を書込むためにこの論理「1」を書込むのに必要
な露光用のマスクを製造しなければならず、このマスク
を製造するために真理値データよりマスク製造の座標値
を算出して出力するレイアウトパターン発生装置を必要
としている。
【0003】つまり、図5に示すように論理「1」の真
理値データfの右側に、論理「1」が有るか否かを順次
検索して行く場合に、論理「1」の真理値データfの右
に論理「1」の真理値データgが存在すると判定された
場合、始点f1からデータfの下部右端設定ポイントf
2を読込むことなく、データgの下部左端設定ポイント
g1を読込み、ついで上部左端設定ポイントg4を読込
み、ついで上部左端設定ポイントf4を読込み、ついで
始点f1を読込み、全5点を読込んで領域Mを設定し、
データfとgとの間隙Nを取込む処理をする。その後
に、つぎのデータgの各ポイントg1,g2,g3,g
4,g1を読込んで領域Pを設定していた。これによれ
ば、データfに対応する矩形領域,間隙Nに対応する矩
形領域,データgに対応する矩形領域を個々に読込む処
理と異なり、データfとともに間隙Nが読込めるので、
その分作業が楽となる。
【0004】図20は、従来のレイアウトパターン発生
装置をより具体的に説明するための入出力関連図であ
る。図20において、201は本装置の入力となる真理
値データ、206は出力となる補正済レイアウトパター
ンである。207は本レイアウトパターン発生装置とし
てのマスクROMレイアウトパターン補正装置である。
【0005】図21は、従来のレイアウトパターン発生
装置の機能ブロック図である。図21において、202
は真理値データ201の読み込みを行なう真理値データ
読み込み手段、213は真理値データ201に対応する
レイアウトパターンの座標データを算出する座標データ
算出手段、214はレイアウトパターンの補正を行い補
正済レイアウトパターン206を作成するレイアウトパ
ターン補正手段、215は座標データ算出手段213で
算出された座標データを記憶する座標データ記憶部であ
る。
【0006】図22は真理値データの例であり、図23
は論理「1」の真理値データに対してのみレイアウトパ
ターンの座標を算出したレイアウトパターンの例であ
る。また図24はレイアウトパターンの補正を行った後
の補正済レイアウトパターンの例であり、図25はこの
従来のレイアウトパターン発生装置の動作を示すフロー
チャートである。
【0007】次に図20〜図25を参照してこの従来例
の動作について説明する。最初に、真理値データ読み込
み手段202によって真理値データの読み込みを行う
(ステップN1)。真理値データとはROMデータを論
理「1」と論理「0」の2進数のデータに変換し、レイ
アウトパターン上のメモリセルアレイに対応する様に並
び換えたものである。論理「1」の真理値データに対し
てマスクROM上に作画すべき矩形の座標データを座標
データ算出手段213によって算出し、レイアウトパタ
ーンを作成する(ステップN2)。次にレイアウトパタ
ーン補正手段214はレイアウトパターンの各矩形に対
して、上下左右に隣接する矩形が有るか否かの検索を行
う(ステップN3)。隣接する矩形が有る場合、レイア
ウトパターン補正手段214はレイアウトパターンの補
正を行い補正済レイアウトパターンを作成する(ステッ
プN4)。隣接する矩形が無い場合、レイアウトパター
ンの補正を行わない。ここで、レイアウトパターンの補
正とは、隣接する矩形間にあるすき間(ギャップ)を埋
めるように矩形の座標データを算出し直すことである
(図24)。
【0008】図26は、従来のレイアウトパターン発生
装置の機能ブロック図である。図26において、1は本
レイアウトパターン発生装置の入力となる真理値デー
タ、4は座標値データ、12は本装置の出力となる補正
済みレイアウトパターンデータ、124は真理値データ
の読み込み手段、125は矩形(真理値データ=
「1」)の周辺に隣接する矩形が有るか検索する真理値
データ検索手段、126はレイアウトパターンの補正処
理を行いレイアウトパターンデータを作成するレイアウ
トパターン作成手段である。
【0009】図27は、真理値データの例である。図2
8は、レイアウトパターンの処理を行った後のレイアウ
トパターンの例である。図28において、15aは光透
過パターン、15bが光しゃ断パターンであり、このパ
ターンに従って、素子に焼付けが行われる。
【0010】図29は、従来のレイアウトパターン発生
装置の動作を示すフローチャートである。図29におい
て、最初に真理値データの読み込みを行う(ステップ1
27)。真理値データとは、マスクROM内蔵LSI内
に書き込むROMデータ(16進数)を「1」と「0」
の2進数のデータに変換し、レイアウトパターン上のメ
モリセルアレイに対応する様に並び換えたものである。
ここで、真理値データの終わりならば処理を終了する。
(ステップ128)。
【0011】読み込んだ真理値データが、矩形を発生す
るデータか否かを判定する(ステップ129)。真理値
データが矩形を発生するデータ(真理値データ=
「1」)の場合、レイアウトパターンデータの補正処理
を行うため、座標値データを算出する処理に進み、矩形
を発生しないデータ(真理値データ=「0」)の場合、
真理値データの読み込み処理に戻る。
【0012】矩形を発生するデータの上,右上,右側に
隣接する矩形(真理値データ=「1」が有るか検索する
(ステップ130)。上,右上,右側の全てに隣接する
矩形が有る場合、上,右上,右側の矩形の隙間が埋まる
ようにレイアウトパターンの補正処理を行い(ステップ
131)、補正済みレイアウトパターンを作成する。
上,右上,右側のいずれか1つでも隣接する矩形が無い
場合、次の検索処理を行う。ここでレイアウトパターン
の補正処理とは、隣接する矩形間にある隙間(ギャッ
プ)を埋めるように矩形の座標値データを算出すること
である(図28)。
【0013】矩形を発生するデータの右側に隣接する矩
形が有るかどうかを検索する(ステップ132)。右側
に隣接する矩形が有る場合、右側の矩形の隙間が埋まる
ようにレイアウトパターンの補正処理を行い、(ステッ
プ133)、補正済みレイアウトパターン12を作成す
る。右側に隣接する矩形が無い場合、次の検索処理を行
う。
【0014】矩形を発生するデータの下,右下側に隣接
する矩形が有るかどうかを検索する(ステップ13
4)。下,右下側の全てに隣接する矩形が有る場合、上
側に隣接する矩形が有るかどうかを検索する(ステップ
135)。ここで、上側に隣接する矩形が有る場合、
上,下側の矩形の隙間が埋まるようにレイアウトパター
ンの補正処理を行い(ステップ136)、上側に隣接す
る矩形が無い場合、下側の矩形の隙間が埋まるようにレ
イアウトパターンの補正処理を行い(ステップ13
7)、補正済みレイアウトパターン12を作成する。
下,右下側のいずれか隣接する矩形が無ければ、次の検
索処理を行う。
【0015】矩形を発生するデータの上側に隣接する矩
形が有るかどうかを検索する(ステップ138)。上側
に隣接する矩形が有る場合、上側の矩形の隙間が埋まる
ようにレイアウトパターンの補正処理を行い(ステップ
139)、補正済みレイアウトパターンを作成する。上
側に隣接する矩形が無い場合、次の処理を行う。
【0016】矩形を発生するデータの上,右,右上,右
下,下側に隣接する矩形が無い場合、レイアウトパター
ンの補正処理を行わず、レイアウトパターンを作成する
(ステップ140)。
【0017】以上の隣接する矩形を検索し、矩形の座標
値データを算出する処理を真理値データ1つ1つに対し
て行い真理値データの終わりまで繰り返し行う。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】従来のレイアウトパタ
ーン発生装置は以上のように構成されているので、隣接
の論理「1」のデータfとgとの間隙Nを取込むとして
も、レイアウトパターンは論理「1」の真理値データに
対応して一つ一つ座標データが作成される。つまり、個
々のデータf,gについてはやはり座標データを作成す
る処理を行わなければならない。マスクROMLSIの
ようなROM容量の膨大なものでは、論理「1」の真理
値データの一つ一つに対して座標データを作成している
とレイアウトパターンのデータ量が膨大になり処理に多
くのディスク容量を必要とし、即ち処理に使用するディ
スク容量が不足し、また、処理に時間がかかるという問
題点があった。
【0019】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、レイアウトパターン作成時に
補正処理を考慮(補正された矩形どうしを組み合わせ、
1つの図形にする処理を考慮)した多角形でレイアウト
パターンを作成することにより、つまり、隣接の論理
「1」のデータfとgを合せた矩形の領域を、ポイント
f1,g2,g3,f4,f1と読込むことにより、レ
イアウトパターンのデータ量を削減することのできるレ
イアウトパターン発生装置を得ることを目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係るレ
イアウトパターン発生装置は、レイアウトパターン上の
メモリセルアレイに対応するようにROMデータを並び
換えた論理「1」又は「0」の真理値データを読み込む
真理値データ読み込み手段202と、同じ値の真理値デ
ータを隣接するもの同志でグループ化する真理値データ
グループ化手段203と、上記グループ化した真理値デ
ータ毎にレイアウトパターン上の座標値データを算出し
てレイアウトパターンを作成する座標値データ算出手段
204とを備えたものである。
【0021】請求項2の発明に係るレイアウトパターン
発生装置は、レイアウトパターン上のメモリセルアレイ
に対応するようにROMデータを並び換えた論理「1」
の真理値データの読み込みを行なう真理値データ読み込
み手段2と、上記論理「1」の真理値データの上側方向
又は下側方向又は左側方向又は右側方向に論理「1」の
データが存在するか否かを順次判別して行き、論理
「1」のデータが存在すれば、これを同一グループとみ
なしてグループ化する真理値データグループ化手段3
と、マスク上に作画すべきレイアウトパターンの座標値
を算出する座標値データ算出手段5と、グループ化され
た論理「1」の真理値データの全体の外周を決定する外
枠座標値データ抽出手段8を含むレイアウトパターン作
成手段7とを備えたものである。
【0022】請求項3の発明に係るレイアウトパターン
発生装置は、レイアウトパターンの補正処理においては
データのグループ化を縦方向又は横方向のみにしたもの
である。
【0023】請求項4の発明に係るレイアウトパターン
発生装置は、真理値データグループ化手段3によりグル
ープ化された論理「1」の真理値データの全体の中に論
理「0」のデータが存在するか否かを判別する中抜きデ
ータ検索手段9をレイアウトパターン作成手段7に備
え、この中抜きデータ検索手段9で論理「0」のデータ
が存在すると判別されたときに上記真理値データグルー
プ化手段3により論理「0」の真理値データの上側方向
又は下側方向又は左側方向又は右側方向に論理「0」の
データが存在するか否かを順次判別して行き、論理
「0」のデータが存在すれば、これを同一グループとみ
なしてグループ化するようにし、このグループ化された
論理「0」の真理値データの全体の外周を決定する中抜
き座標値データ抽出手段10を上記レイアウトパターン
作成手段7に備えたものである。
【0024】
【作用】請求項1の発明において、論理「1」又は
「0」の真理値データは隣接するもの同志でグループ化
され、このグループ化された真理値データ毎に座標値デ
ータが算出される。したがってレイアウトパターンのデ
ータ量が減少する。
【0025】請求項2の発明において、論理「1」の真
理値データは隣接するもの同志でグループ化され、この
グループ化された真理値データ毎に座標値データが算出
される。したがってレイアウトパターンのデータ量が減
少する。
【0026】請求項3の発明において、レイアウトパタ
ーンの補正処理は論理「1」又は「0」のデータのグル
ープ化を縦方向又は横方向のみにする。したがってレイ
アウトパターンのデータ量が減少する。
【0027】請求項4の発明において、グループ化され
た論理「1」の真理値データの全体の中に論理「0」の
データが存在すれば、これを同一グループとみなしてグ
ループ化され、このグループ化された論理「0」の真理
値データの全体の外周が決定される。したがってレイア
ウトパターンのデータ量が減少する。
【0028】
【実施例】実施例1.図1は請求項1の発明の一実施例
に係るレイアウトパターン発生装置の機能ブロック図で
ある。図1において、図19に示す構成要素に対応する
ものには同一の符号を付し、その説明を省略する。図1
において、203は隣接した論理「1」の真理値データ
をグループ化し、グループ化済真理値データを作成する
真理値データグループ化手段、204はグループ化した
真理値データごとに座標データを算出して補正済レイア
ウトパターンデータを作成する座標データ算出手段、2
05は真理値データグループ化手段203でグループ化
した真理値データを記憶するグループ化済真理値データ
記憶部である。
【0029】図2はグループ化済真理値データの例であ
り、図3はグループ化した真理値データ毎に座標値を算
出して得られた補正済レイアウトパターンの例である。
図4はこの実施例の動作を示すフローチャートである。
【0030】次に図1〜図4を参照してこの実施例の動
作について説明する。まず、真理値データ読み込み手段
202によって真理値データの読み込みを行なう(ステ
ップS1)。この処理は従来と同じである。次に真理値
データグループ化手段203によって論理「1」の真理
値データを隣接するもの同志でグループ化する(ステッ
プS2)。即ち真理値データグループ化手段203は論
理「1」の真理値データの上側方向又は下側方向又は左
側方向又は右側方向に論理「1」のデータが存在するか
否かを順次判別して行き、論理「1」のデータが存在す
れば、これを同一グループとみなしてグループ化する。
グループ化した真理値データの一番外側(外周部分)の
真理値データを組み合わせてレイアウトパターン上の座
標データを座標データ算出手段204によって算出する
ことにより、補正を考慮した多角形の補正済レイアウト
パターンを作成する(ステップS3)。次にグループ化
した論理「1」の真理値データ内に論理「0」の真理値
データの部分(中抜き部分)があるか否かを検索する
(ステップS4)。中抜き部分がある場合、中抜き部分
の座標データを座標データ算出手段204で算出し(ス
テップS5)、ステップS3で算出した外周部分の座標
データと中抜き部分の座標データとを合成して(ステッ
プS6)、補正済レイアウトパターンを再作成する。中
抜き部分が無い場合は中抜き部分に対する処理を行なわ
ない。
【0031】実施例2.図6は、請求項2,4の発明の
一実施例に係るレイアウトパターン発生装置の機能ブロ
ック図である。図6において、1は本レイアウトパター
ン発生装置の入力となる真理値データ、2はレイアウト
パターン上のメモリセルアレイに対応するようにROM
データを並び換えた論理「1」の真理値データの読み込
みを行なう真理値データ読み込み手段、3は矩形を発生
するデータ(真理値データ=「1」)を隣接するものど
うしでグループ化する、即ち論理「1」の真理値データ
の上側方向又は下側方向又は左側方向又は右側方向に論
理「1」のデータが存在するか否かを順次判別して行
き、論理「1」のデータが存在すれば、これを同一グル
ープとみなしてグループ化する真理値データグループ化
手段、4は座標値を算出するための情報を格納した座標
値データ、5はマスク上に作画すべきレイアウトパター
ンの座標値を算出する座標値データ算出手段、6は算出
した座標値データをメモリ上に格納する座標値データ記
憶部、7はグループ化した真理値データからレイアウト
パターンの補正処理を考慮して、レイアウトパターンデ
ータ(多角形)を作成するレイアウトパターン作成手段
である。レイアウトパターン作成手段7において、8は
グループ化した真理値データの外周部の頂点座標を座標
値データ記憶部6から抽出する、即ちグループ化された
論理「1」の真理値データの全体の外周を決定する外枠
座標値データ抽出手段、9はグループ化した真理値デー
タ内に矩形を発生しないデータ(真理値データ=
「0」)が有るかどうかを検索する中抜きデータ検索手
段、10は中抜きデータ検索手段9で検索した中抜きデ
ータの座標値を座標値データ記憶部6から抽出する、即
ち中抜きデータ検索手段9で論理「0」のデータが存在
すると判定されたときに真理値データグループ化手段3
により論理「0」の真理値データの上側方向又は下側方
向又は左側方向又は右側方向に論理「0」のデータが存
在するか否かを順次判別して行き、論理「0」のデータ
が存在すれば、これを同一グループとみなしてグループ
化するようにし、このグループ化された論理「0」の真
理値データの全体の外周を決定する中抜き座標値データ
抽出手段、11はレイアウトパターン作成の詳細手段を
示す外枠座標値データ抽出手段で作成したレイアウトパ
ターンデータと中抜き座標値データ抽出手段で作成した
レイアウトパターンデータを合成して一つのレイアウト
パターンデータを作成するレイアウトパターンデータ合
成手段、12はレイアウトパターンデータの発生装置の
出力となる補正済みレイアウトパターンである。
【0032】図7は、グループ化した後の真理値データ
の例である。図7において、13は外枠座標値データを
抽出するレイアウトパターンデータの外周部分、14は
外中抜き座標値データを抽出するレイアウトパターンデ
ータの中抜き部分である。図8は、グループ化した真理
値データごとに座標値データを抽出して作成した補正済
みレイアウトパターンの例である。
【0033】図9は、本レイアウトパターン発生装置の
動作を示すフローチャートである。図9に従って動作を
説明する。最初に、レイアウトパターンデータ作成の前
処理としてマスク上に作画すべきレイアウトパターンの
座標値を算出し、座標値データ記憶部6に格納する(ス
テップ15)。次に真理値データの読み込みを行う(ス
テップ16)。この処理は、従来と同じである。ここ
で、読み込みが真理値データの終わりならば処理を終了
する(ステップ17)。
【0034】読み込んだ真理値データが、矩形を発生す
るデータか否かを判定する(ステップ18)。真理値デ
ータが矩形を発生するデータ(真理値データ=「1」)
の場合、隣接する真理値データ=「1」をグループ化し
ながら、グループ化した真理値データの外周部のレイア
ウトパターンを作成する外枠データ作成処理に進み、矩
形を発生しないデータ(真理値データ=「0」)の場
合、真理値データの読み込み処理に戻る。
【0035】隣接する真理値データ=「1」をグループ
化しながら、グループ化した真理値データごとにマスク
上に作画すべきレイアウトパターンの外周部分の座標値
データを座標値データ記憶部から抽出し、外枠レイアウ
トパターンデータを作成する(ステップ19)。次にグ
ループ化した真理値データ=「1」内にレイアウトパタ
ーンを発生しない真理値データ=「0」があるかどうか
を検索する(ステップ20)。
【0036】レイアウトパターンを発生しないデータの
有無を示す中抜きフラグを判定する(ステップ21)。
中抜きフラグ=「1」の場合、中抜きデータを作成する
処理に進み、中抜きフラグ=「0」の場合、処理済みデ
ータの削除処理に進む。中抜きフラグ=「1」の場合、
中抜き部分の座標値データを座標値データ記憶部から抽
出し、中抜きレイアウトパターンデータを作成する(ス
テップ22)。外枠レイアウトパターンデータと中抜き
レイアウトパターンデータを合成し、一つのレイアウト
パターンデータを作成する(ステップ23)。中抜きデ
ータの作成処理は、グループ化した真理値データ内に中
抜きデータ(真理値データ=「0」)が無くなるまで繰
り返し行う。
【0037】他のグループ化した真理値データのレイア
ウトパターンデータ作成処理の妨げにならないようにレ
イアウトパターンデータ作成処理済みの真理値データを
削除する(ステップ24)。
【0038】以上の処理を、真理値データの終わりまで
繰り返し行う。そして、真理値データが終了すれば、本
処理が終了する。
【0039】図10,11は本レイアウトパターン発生
装置の外枠データ作成処理の動作を示すフローチャート
である。図10,11に従って説明する。最初に、外枠
データ作成の基準となる矩形(真理値データ=「1」)
の左下の座標値データを座標値データ記憶部6から抽出
する(ステップ25)。この座標値データが外枠レイア
ウトパターンデータの始点の座標となる。基本となる矩
形に処理済みフラグを設定(真理値データ=「1」を
「2」に変更)する(ステップ26)。
【0040】基本矩形の右,右下に隣接する矩形(真理
値データ=「1」)があるかどうかを検索する(ステッ
プ27)。基本矩形の右,右下に隣接する矩形がある場
合、基本矩形の右側の矩形の左下の座標を座標値データ
記憶部6から抽出し(ステップ30)、基本矩形を右下
の矩形に移動する(ステップ31)。この時、基本矩形
の右,右下の矩形に処理済みフラグを設定する(ステッ
プ32)。そして、基本矩形の下,左下に隣接する矩形
があるかどうかを検索する処理に本処理を移動する。基
本矩形の右側のみに隣接する矩形がある場合、基本矩形
を右側の矩形に移動し(ステップ28)、右側の矩形に
処理済みフラグを設定する(ステップ29)。そして、
もう一度基本矩形の右,右下に隣接する矩形があるかど
うかを検索する処理を行う。基本矩形の右,右下に隣接
する矩形が無い場合、基本矩形の右下の座標を座標値デ
ータ記憶部6から抽出する(ステップ33)。そして、
基本矩形の上,右上に隣接する矩形があるかどうかを検
索する処理に本処理を移動する。
【0041】基本矩形の下,左下に隣接する矩形がある
か検索する(ステップ34)。基本矩形の下,左下に隣
接する矩形がある場合、基本矩形の下側の矩形の左上の
座標を座標値データ記憶部6から抽出し(ステップ3
7)、基本矩形を左下の矩形に移動する(ステップ3
8)。この時、基本矩形の左,左下の矩形に処理済みフ
ラグを設定する(ステップ39)。そして、基本矩形の
左,左上に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
に本処理を移動する。基本矩形の下側のみに隣接する矩
形がある場合、基本矩形を下側の矩形に移動し(ステッ
プ35)、下側の矩形に処理済みフラグを設定する(ス
テップ36)。そして、もう一度基本矩形の下,左下に
隣接する矩形があるか検索する処理を行う。基本矩形の
下,左下に隣接する矩形が無い場合、基本矩形の左下の
座標を抽出する(ステップ40)。この時、抽出した座
標が始点の座標と同じかどうかを検索する(ステップ4
1)。抽出した座標と始点の座標が同じ場合、グループ
化した真理値データ内の処理済みフラグを設定した真理
値データに隣接する全ての真理値データ=「1」に処理
済みフラグを設定し(ステップ42)、処理を終了す
る。抽出した座標と始点の座標が違う場合、基本矩形の
右,右下に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
に本処理を移動する。
【0042】基本矩形の左,左上に隣接する矩形がある
かどうかを検索する(ステップ43)。基本矩形の左,
左上に隣接する矩形がある場合、基本矩形の左側の矩形
の右上の座標を座標値データ記憶部6から抽出し(ステ
ップ46)、基本矩形を左上の矩形に移動する(ステッ
プ47)。この時、基本矩形の左,左上の矩形に処理済
みフラグを設定する(ステップ48)。そして、基本矩
形の上,右上に隣接する矩形があるかどうかを検索する
処理に本処理を移動する。基本矩形の左側のみに隣接す
る矩形がある場合、基本矩形を左側の矩形に移動し(ス
テップ44)、左側の矩形に処理済みフラグを設定する
(ステップ45)。そして、もう一度基本矩形の左,左
上に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理を行
う。基本矩形の左,左上に隣接する矩形が無い場合、基
本矩形の左上の座標を座標値データ記憶部から抽出する
(ステップ49)。そして、基本矩形の下,左下に隣接
する矩形があるかどうかを検索する処理に処理を移動す
る。
【0043】基本矩形の上,右上に隣接する矩形がある
か検索する(ステップ50)。基本矩形の上,右上に隣
接する矩形がある場合、基本矩形の上側の矩形の右下の
座標を座標値データ記憶部6から抽出し(ステップ5
3)、基本矩形を右上の矩形に移動する(ステップ5
4)。この時、基本矩形の上,右上の矩形に処理済みフ
ラグを設定する(ステップ55)。そして、基本矩形の
右,右下に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
に本処理を移動する。基本矩形の上側のみに隣接する矩
形がある場合、基本矩形を上側の矩形に移動し(ステッ
プ51)、上側の矩形に処理済みフラグを設定する(ス
テップ52)。そして、もう一度基本矩形の上,右上に
隣接する矩形があるかどうかを検索する処理を行う。基
本矩形の上、右上に隣接する矩形が無い場合、基本矩形
の右上の座標を座標値データ記憶部から抽出する(ステ
ップ56)。そして、基本矩形の左,左上に隣接する矩
形があるかどうかを検索する処理に本処理を移動する。
【0044】以上の4タイプの検索処理(ステップ2
7,34,43,50)を、抽出したレイアウトパター
ンの座標が最初に抽出したレイアウトパターンの座標と
一致するまで行う。そして、座標が一致すれば処理を終
了する。
【0045】図12は、レイアウトパターン発生装置の
中抜きデータ検索処理の動作を示すフローチャートであ
る。図12に従って説明する。最初に、グループ化した
真理値データを読み込み(ステップ57)。この時、読
み込まれた真理値データの外枠にはすべて処理済みフラ
グが設定されている。ここで真理値データが終わりか否
かを検索し(ステップ58)、真理値データの終わりな
らば処理を終了する。
【0046】同一X線分内の処理済みフラグ間に矩形を
発生しないデータ(真理値データ=「0」)があるか検
索する(ステップ59)。同一X線分内の処理済みフラ
グ間に矩形を発生しないデータがある場合、中抜きデー
タがあることを示す中抜きフラグを設定(中抜きフラグ
=「1」)する(ステップ60)。
【0047】図13,14は、レイアウトパターン発生
装置の中抜きデータ作成処理の動作を示すフローチャー
トである。図13,14に従って説明する。最初に、中
抜きデータ作成の基準となる矩形(真理値データ=
「0」)の左下の矩形の右上の座標値データを座標値デ
ータ記憶部6から抽出する(ステップ61)。この座標
値データが中抜きレイアウトパターンデータの始点の座
標となる。基本となる矩形に処理済みフラグ設定(真理
値データ=「0」を「2」に変更)する(ステップ6
2)。
【0048】基本矩形の上,左上に隣接する座標値を発
生しない矩形(真理値データ=「0」)があるかどうか
を検索する(ステップ63)。基本矩形の上,左上、ま
たは、左上のみ隣接する矩形が無い場合、基本矩形の左
側の矩形の右上の座標を座標値データ記憶部6から抽出
し(ステップ66)、基本矩形を左上の矩形に移動する
(ステップ67)。この時、基本矩形の上,左上に隣接
する矩形が無い場合、基本矩形の上,左上に処理済みフ
ラグを設定し、基本矩形の左上のみ隣接する矩形が無い
場合、基本矩形の左上に処理済みフラグを設定する(ス
テップ68)。そして、基本矩形の左,左下に隣接する
矩形があるかどうかを検索する処理に本処理を移動す
る。基本矩形の上側のみに隣接する矩形が無い場合、基
本矩形を上側の矩形に移動し(ステップ64)、上側の
矩形に処理済みフラグを設定する(ステップ65)。そ
して、もう一度基本矩形の上,左上に隣接する矩形があ
るかどうかを検索する処理を行う。基本矩形の上,左上
に隣接する矩形がある場合、基本矩形の左上の矩形の右
下の座標を座標値データ記憶部6から抽出する(ステッ
プ69)。基本矩形の右,右上に隣接する矩形があるか
どうかを検索する処理に本処理を移動する。
【0049】基本矩形の左,左下に隣接する座標値を発
生しない矩形があるかどうかを検索する(ステップ7
0)。基本矩形の左,左下、または、左下のみ隣接する
矩形が無い場合、基本矩形の下側の矩形の左上の座標を
座標値データ記憶部6から抽出し(ステップ73)、基
本矩形を左下の矩形に移動する(ステップ74)。この
時、基本矩形の左,左下に隣接する矩形が無い場合、基
本矩形の左,左下に処理済みフラグを設定し、基本矩形
の左下のみ隣接する矩形が無い場合、基本矩形の左下に
処理済みフラグを設定する(ステップ75)。そして、
基本矩形の下,左下に隣接する矩形があるかどうかを検
索する処理に本処理を移動する。基本矩形の左側のみに
隣接する矩形が無い場合、基本矩形を左側の矩形に移動
し(ステップ71)、左側の矩形に処理済みフラグを設
定する(ステップ72)。そして、もう一度基本矩形の
左,左下に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
を行う。基本矩形の左,左下に隣接する矩形がある場
合、基本矩形の左下の矩形の右上の座標を座標値データ
記憶部6から抽出する(ステップ76)。この時、抽出
した座標が始点の座標と同じかどうかを検索する(ステ
ップ77)。抽出した座標と始点の座標が同じ場合、グ
ループ化した真理値データ内の処理済みフラグを設定し
た真理値データに隣接する全ての真理値データ=「0」
に処理済みフラグを設定し(ステップ78)、処理を終
了する。抽出した座標と始点の座標が違う場合、基本矩
形の上,左上に隣接する矩形があるかどうかを検索する
処理に本処理を移動する。
【0050】基本矩形の下,右下に隣接する座標値を発
生しない矩形があるかどうかを検索する(ステップ7
9)。基本矩形の下,右下、または、右下のみ隣接する
矩形が無い場合、基本矩形の右側の矩形の左下の座標を
座標値データ記憶部6から抽出し(ステップ82)、基
本矩形を右下の矩形に移動する(ステップ83)。この
時、基本矩形の下,右上に隣接する矩形が無い場合、基
本矩形の下,右下に処理済みフラグを設定し、基本矩形
の右下のみ隣接する矩形が無い場合、基本矩形の右下に
処理済みフラグを設定する(ステップ84)。そして、
基本矩形の右,右上に隣接する矩形があるかどうかを検
索する処理に本処理を移動する。基本矩形の下側のみに
隣接する矩形が無い場合、基本矩形を下側の矩形に移動
し(ステップ80)、上側の矩形に処理済みフラグを設
定する(ステップ81)。そして、もう一度基本矩形の
下,右下に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
を行う。基本矩形の下,右下に隣接する矩形がある場
合、基本矩形の右下の矩形の左上の座標を座標値データ
記憶部6から抽出する(ステップ85)。そして、基本
矩形の左,左下に隣接する矩形があるかどうかを検索す
る処理に本処理を移動する。
【0051】基本矩形の右,右上に隣接する座標値を発
生しない矩形があるかどうかを検索する(ステップ8
6)。基本矩形の右,右上、または、右上のみ隣接する
矩形が無い場合、基本矩形の上側の矩形の右下の座標を
座標値データ記憶部6から抽出し(ステップ89)、基
本矩形を右上の矩形に移動する(ステップ90)。この
時、基本矩形の右,右上に隣接する矩形が無い場合、基
本矩形の右,右上に処理済みフラグを設定し、基本矩形
の右上のみ隣接する矩形が無い場合、基本矩形の右上に
処理済みフラグを設定する(ステップ91)。そして、
基本矩形の上,左上に隣接する矩形があるかどうかを検
索する処理に本処理を移動する。基本矩形の右側のみに
隣接する矩形が無い場合、基本矩形を右側の矩形に移動
し(ステップ87)、右側の矩形に処理済みフラグを設
定する(ステップ88)。そして、もう一度基本矩形の
右,右上に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
を行う。基本矩形の右,右上に隣接する矩形がある場
合、基本矩形の右上の矩形の左下の座標を座標値データ
記憶部6から抽出する(ステップ92)。そして、基本
矩形の下,右下に隣接する矩形があるかどうかを検索す
る処理に本処理を移動する。
【0052】以上の4タイプの検索処理(ステップ6
3,70,79,86)を、抽出したレイアウトパター
ンの座標が最初に抽出したレイアウトパターンの座標と
一致するまで行う。そして、座標が一致すれば処理を終
了する。
【0053】図15は、レイアウトパターン発生装置の
外枠データと中抜きデータの合成処理の動作を示すフロ
ーチャートである。図15に従って説明する。最初に、
中抜きレイアウトパターンデータ作成の始点の座標を読
み込む(ステップ93)。外枠レイアウトパターンデー
タの座標値を読み込み、中抜きレイアウトパターンデー
タの始点座標が外枠レイアウトパターンデータのどの位
置にくるかを検索する(ステップ94)。外枠データと
中抜きデータの位置が見つかれば、外枠データと中抜き
データを合成して補正処理済みレイアウトパターンデー
タを作成する(ステップ95)。
【0054】図16は、ROMレイアウトパターンデー
タ作成フローの処理済みデータの削除処理の動作を示す
フローチャートである。図16に従って説明する。最初
に、レイアウトパターンデータを作成後のグループ化済
み真理値データを読み込む(ステップ96)。ここで、
真理値データが終わりか否かを判定し(ステップ9
7)、終わりならば処理を終了する。読み込んだ処理済
み真理値データが処理済み真理値データ(真理値データ
=「2」)か否かを判定し(ステップ98)、処理済み
真理値データならば真理値データをクリア(真理値デー
タ=「0」)する(ステップ99)。
【0055】実施例3.なお、上記実施例では、レイア
ウトパターンの補正処理を縦方向と横方向のどちらも行
う場合について説明したが、縦方向、または、横方向の
どちらか一方のみレイアウトパターンの補正処理を行っ
てもよく、この場合も上記実施例と同様の効果を奏す
る。以下、この発明の実施例3を図について説明する。
図17は、縦方向、または、横方向のどちらか一方のみ
レイアウトパターンの補正処理を行う請求項3の発明の
一実施例に係るレイアウトパターン発生装置の動作を示
すフローチャートである。図17に従って説明する。最
初に、レイアウトパターンデータ作成の前処理としてマ
スク上に作画すべきレイアウトパターンの座標値を算出
し、座標値データ記憶部に格納する(ステップ10
0)。この処理は、実施例2と同じである。
【0056】次に真理値データの読み込みを行う(ステ
ップ101)。この処理は、実施例2と同じである。こ
こで、真理値データの終わりならば処理を終了する(ス
テップ102)。読み込んだ真理値データが、矩形を発
生するデータか否かを判定する(ステップ103)。こ
の処理は、実施例2と同じである。
【0057】縦方向、または、横方向に隣接する真理値
データ=「1」をグループ化しながら、グループ化した
真理値データごとにマスク上に作画すべきレイアウトパ
ターンデータを作成する(ステップ104)。レイアウ
トパターンデータ作成処理済みの真理値データを削除
(真理値データ=「2」を真理値データ=「0」に変
更)する(ステップ105)。
【0058】以上の処理を、真理値データの終わりまで
繰り返し行う。そして、真理値データが終了すれば処理
を終了する。
【0059】図18は、横方向のみレイアウトパターン
の補正処理を行うレイアウトパターンデータ作成処理の
動作を示すフローチャートである。図18に従って説明
する。最初に、基準となる矩形の左下の座標を座標値デ
ータ記憶部から抽出する(ステップ106)。基本矩形
の位置を記憶する(ステップ107)。この位置が始点
の位置となる。基本となる矩形に処理済みフラグを設定
する(ステップ108)。基本矩形の右側に隣接する矩
形があるかどうかを検索する(ステップ109)。隣接
する矩形がある場合、基本矩形を右側に移動し(ステッ
プ110)、右側の矩形に処理済みフラグを設定する
(ステップ111)。そして、もう一度基本矩形の右側
に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理を行う。
基本矩形の右側に隣接する矩形が無い場合、基本矩形の
右下の座標を座標値データ記憶部6から抽出する(ステ
ップ112)。基本矩形の右上の座標を座標値データ記
憶部6から抽出する(ステップ113)。基本矩形を始
点の位置まで移動し(ステップ114)、基本矩形の左
上の座標を座標値データ記憶部6から抽出し(ステップ
115)、処理を終了する。
【0060】図19は、縦方向のみレイアウトパターン
の補正処理を行うレイアウトパターンデータ作成処理の
動作を示すフローチャートである。図19に従って説明
する。最初に、基準となる矩形の左下の座標を座標値デ
ータ記憶部6から抽出する(ステップ116)。基準と
なる矩形の右下の座標を座標値データ記憶部6から抽出
する(ステップ117)。基本となる矩形に処理済みフ
ラグを設定する(ステップ118)。基本矩形の上側に
隣接する矩形があるかどうかを検索する(ステップ11
9)。隣接する矩形がある場合、基本矩形を上側に移動
し(ステップ122)、右側の矩形に処理済みフラグを
設定する(ステップ123)。そして、もう一度基本矩
形の右上に隣接する矩形があるかどうかを検索する処理
を行う。基本矩形の上側に隣接する矩形が無い場合、基
本矩形の右上の座標を座標値データ記憶部6から抽出す
る(ステップ120)。基本矩形の左上の座標を座標値
データ記憶部6から抽出し(ステップ121)、処理を
終了する。
【0061】
【発明の効果】以上のように請求項1〜4の発明によれ
ば、同じ値の真理値データを隣接するもの同志をグルー
プ化するとともに、グループ化した真理値データ毎に座
標データを算出し、レイアウトパターンを作成するよう
に構成したので、マスクROM用のレイアウトパターン
が多角形として得ることができる。これによりレイアウ
トパターンのデータ量が削減でき、したがってこの処理
に使用するディスク容量が少なくて済み、また、処理時
間が短縮できるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】請求項1の発明の一実施例に係るレイアウトパ
ターン発生装置の機能ブロック図である。
【図2】図1の実施例のレイアウトパターン発生装置に
よるグループ化済の真理値データの例を示す図である。
【図3】図1の本実施例のレイアウトパターン発生装置
による補正済レイアウトパターンの例を示す図である。
【図4】図1の実施例のレイアウトパターン発生装置の
動作を示すフローチャートである。
【図5】真理値データを検索する処理を説明するための
図である。
【図6】請求項2,4の発明の一実施例に係るレイアウ
トパターン発生装置の機能ブロック図である。
【図7】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置に
よるグループ化済の真理値データの例を示す図である。
【図8】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置に
よる補正済レイアウトパターンの例を示す図である。
【図9】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置の
動作を示すフローチャートである。
【図10】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置
による外枠データ作成処理の動作を示すフローチャート
である。
【図11】図10の続きを示すフローチャートである。
【図12】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置
による中抜きデータ検索処理の動作を示すフローチャー
トである。
【図13】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置
による中抜きデータ作成処理の動作を示すフローチャー
トである。
【図14】図13の続きを示すフローチャートである。
【図15】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置
による外枠データと中抜きデータの合成処理の動作を示
すフローチャートである。
【図16】図6の実施例のレイアウトパターン発生装置
による処理済みデータの削除処理の動作を示すフローチ
ャートである。
【図17】縦方向、または、横方向のどちらか一方のみ
レイアウトパターンの補正処理を行う請求項3の発明の
一実施例に係るレイアウトパターン発生装置の動作を示
すフローチャートである。
【図18】上記横方向のみレイアウトパターンの補正処
理を行うレイアウトパターン補正処理の動作を示すフロ
ーチャートである。
【図19】上記縦方向のみレイアウトパターンの補正処
理を行うレイアウトパターン補正処理の動作を示すフロ
ーチャートである。
【図20】従来のレイアウトパターン発生装置の入出力
関連を示す図である。
【図21】従来のレイアウトパターン発生装置の機能ブ
ロック図である。
【図22】レイアウトパターン発生装置の入力となる真
理値データの例を示す図である。
【図23】従来のレイアウトパターン発生装置によるレ
イアウトパターンの例を示す図である。
【図24】従来のレイアウトパターン発生装置による補
正済レイアウトパターンの例を示す図である。
【図25】従来のレイアウトパターン発生装置の動作を
示すフローチャートである。
【図26】従来のレイアウトパターン発生装置の機能ブ
ロック図である。
【図27】レイアウトパターン発生装置の入力となる真
理値データの例を示す図である。
【図28】従来のレイアウトパターン発生装置により処
理を行った後のレイアウトパターンの例を示す図であ
る。
【図29】従来のレイアウトパターン発生装置の動作を
示すフローチャートである。
【符号の説明】
2,202 真理値データ読み込み手段 3,203 真理値データグループ化手段 5,204 座標値データ算出手段 7 レイアウトパターン作成手段 8 外枠座標値データ抽出手段 9 中抜きデータ検出手段 10 中抜き座標値データ抽出手段

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 マスクROM内蔵の大規模集積回路へR
    OMデータを書き込むために用いられるレイアウトパタ
    ーンを発生するレイアウトパターン発生装置において、
    レイアウトパターン上のメモリセルアレイに対応するよ
    うにROMデータを並び換えた論理「1」又は「0」の
    真理値データを読み込む真理値データ読み込み手段と、
    同じ値の真理値データを隣接するもの同志でグループ化
    する真理値データグループ化手段と、上記グループ化し
    た真理値データ毎にレイアウトパターン上の座標値デー
    タを算出してレイアウトパターンを作成する座標値デー
    タ算出手段とを備えたことを特徴とするレイアウトパタ
    ーン発生装置。
  2. 【請求項2】 マスクROM内蔵の大規模集積回路へR
    OMデータを書き込むために用いられるレイアウトパタ
    ーンを発生するレイアウトパターン発生装置において、
    レイアウトパターン上のメモリセルアレイに対応するよ
    うにROMデータを並び換えた論理「1」の真理値デー
    タの読み込みを行なう真理値データ読み込み手段と、上
    記論理「1」の真理値データの上側方向又は下側方向又
    は左側方向又は右側方向に論理「1」のデータが存在す
    るか否かを順次判別して行き、論理「1」のデータが存
    在すれば、これを同一グループとみなしてグループ化す
    る真理値データグループ化手段と、マスク上に作画すべ
    きレイアウトパターンの座標値を算出する座標値データ
    算出手段と、グループ化された論理「1」の真理値デー
    タの全体の外周を決定する外枠座標値データ抽出手段を
    含むレイアウトパターン作成手段とを備えたことを特徴
    とするレイアウトパターン発生装置。
  3. 【請求項3】 マスクROM内蔵の大規模集積回路へR
    OMデータを書き込むために用いられるレイアウトパタ
    ーンを発生するレイアウトパターン発生装置において、
    レイアウトパターン上のメモリセルアレイに対応するよ
    うにROMデータを並び換えた論理「1」の真理値デー
    タの読み込みを行なう真理値データ読み込み手段と、上
    記論理「1」の真理値データの上側方向又は下側方向又
    は左側方向又は右側方向に論理「1」のデータが存在す
    るか否かを順次判別して行き、論理「1」のデータが存
    在すれば、これを同一グループとみなしてグループ化す
    る真理値データグループ化手段と、マスク上に作画すべ
    きレイアウトパターンの座標値を算出する座標値データ
    算出手段と、グループ化された論理「1」の真理値デー
    タの全体の外周を決定する外枠座標値データ抽出手段を
    含むレイアウトパターン作成手段とを備え、レイアウト
    パターンの補正処理においてはデータのグループ化を縦
    方向又は横方向のみにしたことを特徴とするレイアウト
    パターン発生装置。
  4. 【請求項4】 マスクROM内蔵の大規模集積回路へR
    OMデータを書き込むために用いられるレイアウトパタ
    ーンを発生するレイアウトパターン発生装置において、
    レイアウトパターン上のメモリセルアレイに対応するよ
    うにROMデータを並び換えた論理「1」の真理値デー
    タの読み込みを行なう真理値データ読み込み手段と、上
    記論理「1」の真理値データの上側方向又は下側方向又
    は左側方向又は右側方向に論理「1」のデータが存在す
    るか否かを順次判別して行き、論理「1」のデータが存
    在すれば、これを同一グループとみなしてグループ化す
    る真理値データグループ化手段と、マスク上に作画すべ
    きレイアウトパターンの座標値を算出する座標値データ
    算出手段と、グループ化された論理「1」の真理値デー
    タの全体の外周を決定する外枠座標値データ抽出手段を
    含むレイアウトパターン作成手段とを備え、上記真理値
    データグループ化手段によりグループ化された論理
    「1」の真理値データの全体の中に論理「0」のデータ
    が存在するか否かを判別する中抜きデータ検索手段を上
    記レイアウトパターン作成手段に備え、この中抜きデー
    タ検索手段で論理「0」のデータが存在すると判別され
    たときに上記真理値データグループ化手段により論理
    「0」の真理値データの上側方向又は下側方向又は左側
    方向又は右側方向に論理「0」のデータが存在するか否
    かを順次判別して行き、論理「0」のデータが存在すれ
    ば、これを同一グループとみなしてグループ化するよう
    にし、このグループ化された論理「0」の真理値データ
    の全体の外周を決定する中抜き座標値データ抽出手段を
    上記レイアウトパターン作成手段に備えたことを特徴と
    するレイアウトパターン発生装置。
JP4130173A 1991-08-01 1992-04-23 レイアウトパターン発生装置 Expired - Lifetime JP2690657B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4130173A JP2690657B2 (ja) 1991-08-01 1992-04-23 レイアウトパターン発生装置
US08/046,610 US5348558A (en) 1992-04-23 1993-04-12 Layout pattern generating apparatus

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3-215853 1991-08-01
JP21585391 1991-08-01
JP4130173A JP2690657B2 (ja) 1991-08-01 1992-04-23 レイアウトパターン発生装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05152548A JPH05152548A (ja) 1993-06-18
JP2690657B2 true JP2690657B2 (ja) 1997-12-10

Family

ID=26465366

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4130173A Expired - Lifetime JP2690657B2 (ja) 1991-08-01 1992-04-23 レイアウトパターン発生装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2690657B2 (ja)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04350964A (ja) * 1991-05-29 1992-12-04 Matsushita Electron Corp レイアウト処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05152548A (ja) 1993-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10261568A (ja) 荷電ビーム描画データ作成方法
JPH10126731A (ja) 旅行アルバム作成システム
JPH05250357A (ja) 画像読取修正装置および修正画像形成装置
CN113255289A (zh) 一种文案排版布局的方法及***
JP2690657B2 (ja) レイアウトパターン発生装置
JP3042443B2 (ja) マスクパターンデータの作成方法
US5348558A (en) Layout pattern generating apparatus
JP2710178B2 (ja) 土地家屋登記公文書作成システム
JPS60178581A (ja) 罫線編集方式
JPH05292294A (ja) デジタル複写機
JP2705549B2 (ja) 集積回路設計データ変換装置およびそのデータの階層展開方法
JPS63205693A (ja) 拡大文字生成方式
JP2002049653A (ja) パターンデータ修正方法及び装置
JPH0766385B2 (ja) 文書作成装置
JP2548433B2 (ja) 物理量分布の処理方法
JP2995906B2 (ja) プリント配線板配置処理装置
JPH09319859A (ja) 特徴点に着目した画像データの作成方法
JPH0535872A (ja) 2値画像の輪郭追跡方式
JP2833203B2 (ja) 表作成処理装置
JPS62157462A (ja) 企画編集システム
JPH05210661A (ja) 文書処理装置及び方法
JPS63218993A (ja) 文字・図形拡大装置
JPH09319855A (ja) 地図作成装置及び方法
JPH06163697A (ja) 集積回路のレイアウト設計データの画面表示方式
JPH0237391A (ja) 画像補間方式