JP2685330B2 - 感光材料処理装置及びその装置の加水方法 - Google Patents
感光材料処理装置及びその装置の加水方法Info
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- JP2685330B2 JP2685330B2 JP2117972A JP11797290A JP2685330B2 JP 2685330 B2 JP2685330 B2 JP 2685330B2 JP 2117972 A JP2117972 A JP 2117972A JP 11797290 A JP11797290 A JP 11797290A JP 2685330 B2 JP2685330 B2 JP 2685330B2
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- G03D3/00—Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
- G03D3/02—Details of liquid circulation
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03D2203/02—Details of liquid circulation
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光材料処理装置の処理槽に貯留された処理
液の濃度を一定に保持するための感光材料処理装置及び
その装置の加水方法に関する。
液の濃度を一定に保持するための感光材料処理装置及び
その装置の加水方法に関する。
感光材料処理装置の一部である自動現像機では、現像
槽、漂白槽、定着槽、水洗槽及び安定槽の各槽が設けら
れ、それぞれ現像液、漂白液、定着液、水洗水及び安定
液が貯留されている（以下総称して処理液という）。焼
付処理された感光材料は、順次各処理槽へ浸漬され、現
像処理がなされた後、乾燥装置へと至り乾燥されて取り
出される。
槽、漂白槽、定着槽、水洗槽及び安定槽の各槽が設けら
れ、それぞれ現像液、漂白液、定着液、水洗水及び安定
液が貯留されている（以下総称して処理液という）。焼
付処理された感光材料は、順次各処理槽へ浸漬され、現
像処理がなされた後、乾燥装置へと至り乾燥されて取り
出される。
処理液は、感光材料の処理量に応じて補充液が補充さ
れ、相当量が廃液として、オーバフローし排出される。
また、感光材料の搬送によって処理液は持ち出され、こ
の感光材料が持ち出す量は、感光材料の処理量から演算
によって容易に求めることができる。一方、蒸発による
処理液の減量は、処理液中の水分のみが減るため、処理
液の濃度が変化することになる。このため、補充液とは
別に蒸発された分の水を加える必要がある。しかし、蒸
発量は、周囲の環境、すなわち、温度や湿度によって異
なり、また、装置が稼働中か休止中かによっても異なる
ため、演算によって一義的に定めることはできない。
れ、相当量が廃液として、オーバフローし排出される。
また、感光材料の搬送によって処理液は持ち出され、こ
の感光材料が持ち出す量は、感光材料の処理量から演算
によって容易に求めることができる。一方、蒸発による
処理液の減量は、処理液中の水分のみが減るため、処理
液の濃度が変化することになる。このため、補充液とは
別に蒸発された分の水を加える必要がある。しかし、蒸
発量は、周囲の環境、すなわち、温度や湿度によって異
なり、また、装置が稼働中か休止中かによっても異なる
ため、演算によって一義的に定めることはできない。
このため、各処理槽の処理液中に比重計等の濃度セン
サを取付け、この濃度センサからの検出値に基づいて加
水することが提案されている（一例として特開平１−28
1446号公報参照）。これによれば、濃度センサで処理液
の濃度変化が認識でき、適量の加水を行うことができ
る。
サを取付け、この濃度センサからの検出値に基づいて加
水することが提案されている（一例として特開平１−28
1446号公報参照）。これによれば、濃度センサで処理液
の濃度変化が認識でき、適量の加水を行うことができ
る。
ところが、濃度センサは信頼性が低く、処理液の析出
等により誤検出する場合があり、適正な加水を行えない
ことがある。これは、フロート等の液面センサについて
も言えることであり、かつこれらの濃度センサ、液面セ
ンサはコストが高く、実用性に乏しい。このため、実際
の処理槽とは別にモニタ用の処理槽を設け、この処理槽
の蒸発度合いに基づいて実際の処理槽へ加水することが
提案されている（特開平１−254959号、特開平１−2549
60号公報参照）。
等により誤検出する場合があり、適正な加水を行えない
ことがある。これは、フロート等の液面センサについて
も言えることであり、かつこれらの濃度センサ、液面セ
ンサはコストが高く、実用性に乏しい。このため、実際
の処理槽とは別にモニタ用の処理槽を設け、この処理槽
の蒸発度合いに基づいて実際の処理槽へ加水することが
提案されている（特開平１−254959号、特開平１−2549
60号公報参照）。
これによれば、実際の蒸発量と同等のデータを得るこ
とができるので、信頼性が向上する。
とができるので、信頼性が向上する。
しかしながら、上記のような加水システムでは、実際
の処理槽とは別にモニタ用の処理槽が必要であるため、
装置が大型化され部品点数も増加するという問題点があ
る。また、実際の処理槽と同等の条件とするための管理
やメンテナンスが煩雑となるという問題点もある。
の処理槽とは別にモニタ用の処理槽が必要であるため、
装置が大型化され部品点数も増加するという問題点があ
る。また、実際の処理槽と同等の条件とするための管理
やメンテナンスが煩雑となるという問題点もある。
本発明は上記事実を考慮し、装置自体に蒸発量を得る
ための装備が不要で信頼性の高い適正な加水量を得るこ
とができ、かつ管理、メンテナンス性を向上することが
できる感光材料処理装置及びその装置の加水方法を得る
ことが目的である。
ための装備が不要で信頼性の高い適正な加水量を得るこ
とができ、かつ管理、メンテナンス性を向上することが
できる感光材料処理装置及びその装置の加水方法を得る
ことが目的である。
請求項（１）に記載の発明は、感光材料を処理する処
理液が貯留された処理槽と、処理槽に隣接され処理槽内
の処理液の余剰分を排出させるオーバフロー槽と、オー
バフロー槽に配設され補充液の補充又は加水時にオーバ
フロー槽へ案内される処理液の有無を検知する自己発熱
型温度センサと、を有している。
理液が貯留された処理槽と、処理槽に隣接され処理槽内
の処理液の余剰分を排出させるオーバフロー槽と、オー
バフロー槽に配設され補充液の補充又は加水時にオーバ
フロー槽へ案内される処理液の有無を検知する自己発熱
型温度センサと、を有している。
請求項（２）に記載の発明は、感光材料を処理する処
理液が貯留された処理槽と、処理槽に隣接され処理槽内
の処理液の余剰分を排出させるオーバフロー槽と、オー
バフロー槽に配設され補充液の補充又は加水時にオーバ
フロー槽へ案内される処理液の有無を検知するオーバフ
ローセンサと、処理槽への補充液補充又は加水を実行し
ていないときにオーバフローセンサによって処理液が検
知された場合に報知する報知手段と、を有している。
理液が貯留された処理槽と、処理槽に隣接され処理槽内
の処理液の余剰分を排出させるオーバフロー槽と、オー
バフロー槽に配設され補充液の補充又は加水時にオーバ
フロー槽へ案内される処理液の有無を検知するオーバフ
ローセンサと、処理槽への補充液補充又は加水を実行し
ていないときにオーバフローセンサによって処理液が検
知された場合に報知する報知手段と、を有している。
請求項（３）に記載の発明は、請求項（２）に記載の
発明において、前記オーバフローセンサが自己発熱型温
度センサであることを特徴としている。
発明において、前記オーバフローセンサが自己発熱型温
度センサであることを特徴としている。
請求項（４）に記載の発明は、感光材料を処理する処
理液が貯留された処理槽と、処理槽に隣接され処理槽内
の処理液の余剰分を排出させるオーバフロー槽と、オー
バフロー槽に配設されオーバフロー槽へ案内される処理
液の有無を検知するオーバフローセンサと、を有する感
光材料処理装置に用いられ、感光材料を処理する処理液
が貯留された処理液からの蒸発分を加水して処理液の濃
度を一定に保持するための感光材料処理装置の加水方法
であって、予め定められた一定量の補充液を所定量ずつ
間欠補充し、間欠補充を行う度にオーバフローセンサに
よってオーバフロー槽へ案内される処理液の有無を検知
すると共に、一定量の補充液の補充終了後にオーバフロ
ーセンサによる処理液の検知結果に基づいて、実際に処
理槽に貯留された補充液としての実貯留量を求め、この
実貯留量から蒸発水量を得て加水することを特徴として
いる。
理液が貯留された処理槽と、処理槽に隣接され処理槽内
の処理液の余剰分を排出させるオーバフロー槽と、オー
バフロー槽に配設されオーバフロー槽へ案内される処理
液の有無を検知するオーバフローセンサと、を有する感
光材料処理装置に用いられ、感光材料を処理する処理液
が貯留された処理液からの蒸発分を加水して処理液の濃
度を一定に保持するための感光材料処理装置の加水方法
であって、予め定められた一定量の補充液を所定量ずつ
間欠補充し、間欠補充を行う度にオーバフローセンサに
よってオーバフロー槽へ案内される処理液の有無を検知
すると共に、一定量の補充液の補充終了後にオーバフロ
ーセンサによる処理液の検知結果に基づいて、実際に処
理槽に貯留された補充液としての実貯留量を求め、この
実貯留量から蒸発水量を得て加水することを特徴として
いる。
請求項（１）に記載の発明によれば、処理槽に貯留さ
れた処理液の余剰分はオーバフロー槽へ排出される。オ
ーバフロー槽には自己発熱型温度センサが設けられてい
るので、オーバフロー槽への処理液の流出の有無を検知
することができる。自己発熱型温度センサは、通常は所
定の温度に設定されているが、処理液により冷却された
ときの温度変化によって処理液の有無を検知することが
できる。この自己発熱型温度センサによってオーバフロ
ー槽への処理液の流出、すなわちオーバフローが検知さ
れたときは、処理槽内の処理液が規定量満たされたとき
であるので、処理槽内の処理液の液面レベルを判断する
ことができる。このため、処理槽へフロート等の機械的
な動きにより処理液の液面を検出する必要がなくなり、
液面レベル検出の精度の向上を図ることができる。
れた処理液の余剰分はオーバフロー槽へ排出される。オ
ーバフロー槽には自己発熱型温度センサが設けられてい
るので、オーバフロー槽への処理液の流出の有無を検知
することができる。自己発熱型温度センサは、通常は所
定の温度に設定されているが、処理液により冷却された
ときの温度変化によって処理液の有無を検知することが
できる。この自己発熱型温度センサによってオーバフロ
ー槽への処理液の流出、すなわちオーバフローが検知さ
れたときは、処理槽内の処理液が規定量満たされたとき
であるので、処理槽内の処理液の液面レベルを判断する
ことができる。このため、処理槽へフロート等の機械的
な動きにより処理液の液面を検出する必要がなくなり、
液面レベル検出の精度の向上を図ることができる。
また、オーバフローを検知するために自己発熱型温度
センサを用いることにより、単に通常の温度センサでオ
ーバフローする処理液との温度差を検知するよりも感度
が極めて向上すると共に、周囲の環境温度の影響を受け
ずに常時適正な温度変化を検知し、確実に処理液の有無
を検知することができる。さらに、一般に処理液は析出
してセンサ表面を被覆することが知られているが、オー
バブローを検知するために取り付けられた自己発熱型温
度センサは、常にオーバフローした処理液によって洗い
流されるため、析出しにくい。このため、処理液の有無
を確実に検知することができる。
センサを用いることにより、単に通常の温度センサでオ
ーバフローする処理液との温度差を検知するよりも感度
が極めて向上すると共に、周囲の環境温度の影響を受け
ずに常時適正な温度変化を検知し、確実に処理液の有無
を検知することができる。さらに、一般に処理液は析出
してセンサ表面を被覆することが知られているが、オー
バブローを検知するために取り付けられた自己発熱型温
度センサは、常にオーバフローした処理液によって洗い
流されるため、析出しにくい。このため、処理液の有無
を確実に検知することができる。
なお、補充液の補充が正しく行われ、処理液の液面レ
ベルが足りない場合は、この不足分が蒸発水量であるの
で、自己発熱型温度センサによってオーバフローが検知
されるまで加水すればよい。これによって、過不足なく
加水を行うことができると共に、処理槽に貯留された処
理液の濃度を常に一定に維持することができる。
ベルが足りない場合は、この不足分が蒸発水量であるの
で、自己発熱型温度センサによってオーバフローが検知
されるまで加水すればよい。これによって、過不足なく
加水を行うことができると共に、処理槽に貯留された処
理液の濃度を常に一定に維持することができる。
請求項（２）に記載の発明によれば、オーバフロー槽
にはこのオーバフロー槽への処理液の流出の有無を検知
するオーバフローセンサが設けられている。このオーバ
フローセンサを補充液の補充時又は加水時以外において
も作動させておく。このとき、装置が正常に作動してい
ればオーバフロー槽への処理液の流出は検知されない
が、地震等による装置の振動で処理液がオーバフロー槽
へ流出されたことを検知することがある。このように、
感光材料を処理していないにも拘らず、処理液がオーバ
フロー槽へ流出すると、処理槽内の処理液が不足する。
この処理液の不足分を補足するため、補充液の補充時又
は加水時以外で処理液の流出を検知した場合には、処理
液の不足分を補正する旨を報知する。
にはこのオーバフロー槽への処理液の流出の有無を検知
するオーバフローセンサが設けられている。このオーバ
フローセンサを補充液の補充時又は加水時以外において
も作動させておく。このとき、装置が正常に作動してい
ればオーバフロー槽への処理液の流出は検知されない
が、地震等による装置の振動で処理液がオーバフロー槽
へ流出されたことを検知することがある。このように、
感光材料を処理していないにも拘らず、処理液がオーバ
フロー槽へ流出すると、処理槽内の処理液が不足する。
この処理液の不足分を補足するため、補充液の補充時又
は加水時以外で処理液の流出を検知した場合には、処理
液の不足分を補正する旨を報知する。
これにより、処理液の減少分を補正すると、処理槽内
の処理液の液面レベルを一定に保持することができる。
また、地震等の振動によるコンタミ（異なる種類の液の
混入）をコントロールネガの処理等によって確認できる
ので、感光材料の処理不良を防止することができる。
の処理液の液面レベルを一定に保持することができる。
また、地震等の振動によるコンタミ（異なる種類の液の
混入）をコントロールネガの処理等によって確認できる
ので、感光材料の処理不良を防止することができる。
請求項（３）に記載の発明によれば、補充液の補充時
又は加水時以外においても作動させるオーバフローセン
サには自己発熱型温度センサを用いている。この自己発
熱型温度センサを用いることにより、前述したようにオ
ーバフロー槽へ流出した処理液を確実に検知することが
できる。
又は加水時以外においても作動させるオーバフローセン
サには自己発熱型温度センサを用いている。この自己発
熱型温度センサを用いることにより、前述したようにオ
ーバフロー槽へ流出した処理液を確実に検知することが
できる。
処理槽に貯留された処理液は感光材料の搬送によって
持ち出されるため、感光材料の処理量に伴って減少す
る。また、これに加えて温度、湿度及び時間の経過等の
諸条件によって処理液中の水分が蒸発する。すなわち、
処理液の減少量は感光材料の搬送による持ち出し量と処
理液中の蒸発水量の合計量である。こうして、処理液中
の水分が蒸発すると、処理槽に貯留された処理液の濃度
が変化し、感光材料の処理に影響を及ぼすことになる。
従って、蒸発水量分を処理槽に加水する必要がある。そ
こで、請求項（４）に記載の発明によれば、処理槽に補
充液を補充する場合には、予め定められた一定量の補充
液を所定量ずつ分割し、間欠的に補充する。また、補充
液を所定量ずつ間欠的に補充する度に、オーバフロー槽
に配設されたオーバフローセンサによって処理液の流出
の有無を検知する。このとき、オーバフローセンサが処
理液の流出を検知した場合、すなわちオーバフローが検
知された場合には、この時の補充回数を記憶しておく。
なお、前述した一定量の補充液とは感光材料の処理量か
ら演算によって容易に求めることができるものである。
持ち出されるため、感光材料の処理量に伴って減少す
る。また、これに加えて温度、湿度及び時間の経過等の
諸条件によって処理液中の水分が蒸発する。すなわち、
処理液の減少量は感光材料の搬送による持ち出し量と処
理液中の蒸発水量の合計量である。こうして、処理液中
の水分が蒸発すると、処理槽に貯留された処理液の濃度
が変化し、感光材料の処理に影響を及ぼすことになる。
従って、蒸発水量分を処理槽に加水する必要がある。そ
こで、請求項（４）に記載の発明によれば、処理槽に補
充液を補充する場合には、予め定められた一定量の補充
液を所定量ずつ分割し、間欠的に補充する。また、補充
液を所定量ずつ間欠的に補充する度に、オーバフロー槽
に配設されたオーバフローセンサによって処理液の流出
の有無を検知する。このとき、オーバフローセンサが処
理液の流出を検知した場合、すなわちオーバフローが検
知された場合には、この時の補充回数を記憶しておく。
なお、前述した一定量の補充液とは感光材料の処理量か
ら演算によって容易に求めることができるものである。
次に一定量の補充液を処理槽に補充した後、前述した
補充回数に基づいて実際に処理槽へ貯留された補充液の
補充量を求める。この補充液の補充量は、オーバフロー
センサによってオーバフローが検知される直前までに処
理槽に貯留された補充液であり、これを実貯留量として
定める。実貯留量と蒸発水量との関係は予め定められて
いるため（図４参照）、実貯留量がわかれば蒸発水量を
求めることができる。こうして求められた蒸発水量分を
加水するので、処理槽に貯留された処理液の濃度を常に
一定に維持することができる。なお、実際に処理槽に貯
留された補充液の補充量（実貯留量）に基づいて蒸発水
量を求めるので、より正確な加水を行うことができる。
補充回数に基づいて実際に処理槽へ貯留された補充液の
補充量を求める。この補充液の補充量は、オーバフロー
センサによってオーバフローが検知される直前までに処
理槽に貯留された補充液であり、これを実貯留量として
定める。実貯留量と蒸発水量との関係は予め定められて
いるため（図４参照）、実貯留量がわかれば蒸発水量を
求めることができる。こうして求められた蒸発水量分を
加水するので、処理槽に貯留された処理液の濃度を常に
一定に維持することができる。なお、実際に処理槽に貯
留された補充液の補充量（実貯留量）に基づいて蒸発水
量を求めるので、より正確な加水を行うことができる。
第１図には本発明に係る感光材料処理装置としての自
動現像機が示されている。この自動現像機では現像槽1
2、漂白槽14、漂白定着槽16、定着槽18、水洗槽22、2
4、定定槽26が直列に設置され各々現像液、漂白液、漂
白定着液、定着液、水洗水、安定液の各処理液が所定量
充填されており、感光材料Ｆは図示しない搬送系により
これらの処理槽へ順次搬送されるようになっている（以
下総称する場合に処理槽10という）。この搬送系は制御
装置78によって制御されている。この制御装置78には、
現像槽12の入口に設けられ、感光材料Ｆの通過を検出す
るセンサ76の信号線が接続され、制御装置78で感光材料
Ｆの有無を認識することができるようになっている。
動現像機が示されている。この自動現像機では現像槽1
2、漂白槽14、漂白定着槽16、定着槽18、水洗槽22、2
4、定定槽26が直列に設置され各々現像液、漂白液、漂
白定着液、定着液、水洗水、安定液の各処理液が所定量
充填されており、感光材料Ｆは図示しない搬送系により
これらの処理槽へ順次搬送されるようになっている（以
下総称する場合に処理槽10という）。この搬送系は制御
装置78によって制御されている。この制御装置78には、
現像槽12の入口に設けられ、感光材料Ｆの通過を検出す
るセンサ76の信号線が接続され、制御装置78で感光材料
Ｆの有無を認識することができるようになっている。
第１図に示される如く、処理槽10の近傍には水タンク
36が配設されている。この水タンク36は配管34を介して
漂白槽14と連通されている。配管34の中間部には制御装
置78によって駆動制御されるポンプ32が介在されてお
り、このポンプ32の駆動によって漂白槽14へ水が供給さ
れる構成となっている。また、水タンク36に隣接して、
補充液タンク44が配設されており、配管42を介して漂白
槽14と連通されている。この配管42の中間部には制御装
置78によって駆動制御されるポンプ38が介在され、前記
水供給と同様に、ポンプ38の駆動によって漂白補充液が
漂白槽14へ補充される構成となっている。
36が配設されている。この水タンク36は配管34を介して
漂白槽14と連通されている。配管34の中間部には制御装
置78によって駆動制御されるポンプ32が介在されてお
り、このポンプ32の駆動によって漂白槽14へ水が供給さ
れる構成となっている。また、水タンク36に隣接して、
補充液タンク44が配設されており、配管42を介して漂白
槽14と連通されている。この配管42の中間部には制御装
置78によって駆動制御されるポンプ38が介在され、前記
水供給と同様に、ポンプ38の駆動によって漂白補充液が
漂白槽14へ補充される構成となっている。
なお、漂白槽14へ水補充を行う配管34には、ポンプ32
の上流側で分岐配管35が設けられている。この分岐配管
35は現像槽12へ延設されている。分岐配管35の中間部に
は制御装置78によって駆動制御されるポンプ33が介在さ
れポンプ33の駆動によって現像槽12へ水が供給されるよ
うになっている。
の上流側で分岐配管35が設けられている。この分岐配管
35は現像槽12へ延設されている。分岐配管35の中間部に
は制御装置78によって駆動制御されるポンプ33が介在さ
れポンプ33の駆動によって現像槽12へ水が供給されるよ
うになっている。
前記漂白槽14以外の処理槽である現像槽12、定着槽1
8、安定槽26には、それぞれ補充処理液を供給するため
の配管56、58、62が設けられている。また水洗槽24へは
水供給管64が配置され水洗水補充用となっている。水洗
槽24からはオーバフロー66によって水洗水が水洗槽22へ
と送られ、また定着槽18からはオーバフロー67によって
漂白定着槽16へと定着液槽が送られるようになってい
る。水洗槽22の水洗水はポンプ72及び配管73によって定
着槽18へと送られる構成である。なお、これらのポンプ
の駆動においても、前記制御装置78によって制御されて
いる。
8、安定槽26には、それぞれ補充処理液を供給するため
の配管56、58、62が設けられている。また水洗槽24へは
水供給管64が配置され水洗水補充用となっている。水洗
槽24からはオーバフロー66によって水洗水が水洗槽22へ
と送られ、また定着槽18からはオーバフロー67によって
漂白定着槽16へと定着液槽が送られるようになってい
る。水洗槽22の水洗水はポンプ72及び配管73によって定
着槽18へと送られる構成である。なお、これらのポンプ
の駆動においても、前記制御装置78によって制御されて
いる。
第２図に示される如く、各処理槽10にはオーバフロー
槽64が隣接して設けられいる。オーバフロー槽46と処理
槽10との間には立壁48が立設され、処理槽10とオーバフ
ロー槽46とが仕切られている。立壁48の高さは、処理槽
10の側壁50よりも低く設定されており、この立壁48を超
えて処理槽10内の処理液がオーバフロー槽46へと流出す
る構成となっている。
槽64が隣接して設けられいる。オーバフロー槽46と処理
槽10との間には立壁48が立設され、処理槽10とオーバフ
ロー槽46とが仕切られている。立壁48の高さは、処理槽
10の側壁50よりも低く設定されており、この立壁48を超
えて処理槽10内の処理液がオーバフロー槽46へと流出す
る構成となっている。
このオーバフロー槽46には、自己発熱型温度センサ52
が配設されている。自己発熱型温度センサ52は周囲がテ
フロン系樹脂で被覆されて棒状とされており、オーバフ
ロー槽46での処理液の流れに沿って配設されており、そ
の長手方向中間部にセンサ部54が配置されている。セン
サ部54はガラス管によって被覆されたサーミスタチツプ
で構成されている。
が配設されている。自己発熱型温度センサ52は周囲がテ
フロン系樹脂で被覆されて棒状とされており、オーバフ
ロー槽46での処理液の流れに沿って配設されており、そ
の長手方向中間部にセンサ部54が配置されている。セン
サ部54はガラス管によって被覆されたサーミスタチツプ
で構成されている。
この自己発熱型温度センサ52は、図示しない制御回路
によってセンサ部54が常時150℃〜200℃に自己発熱され
ており、棒状部分を滴り落ちてくる処理液により、セン
サ部54の発熱温度が変化して、処理液の有無を検知する
構成となっている。この自己発熱型温度センサ52として
は、ホツトサーミスタ（商品名、芝浦電子製）が適用可
能である。なお、自己発熱温度センサ52は、制御装置78
へ接続されている。
によってセンサ部54が常時150℃〜200℃に自己発熱され
ており、棒状部分を滴り落ちてくる処理液により、セン
サ部54の発熱温度が変化して、処理液の有無を検知する
構成となっている。この自己発熱型温度センサ52として
は、ホツトサーミスタ（商品名、芝浦電子製）が適用可
能である。なお、自己発熱温度センサ52は、制御装置78
へ接続されている。
第１図に示される如く、制御装置78はマイクロコンピ
ュータ80を含んで構成されている。マイクロコンピュー
タ80は、CPU82、RAM84、ROM86、入出力ポート88及びこ
れらを接続するデータバスやコントロールバス等のバス
90で構成されている。入出力ポート88へは、前記ポンプ
32、33、38、46、72がそれぞれドライバ32A、33A、38
A、46A、72Aを介して接続されている、また、この入出
力ポート88へはセンサ76及び自己発熱型温度センサ52が
接続されている。さらに、この入出力ポート88には、搬
送系への信号線92も接続されている。
ュータ80を含んで構成されている。マイクロコンピュー
タ80は、CPU82、RAM84、ROM86、入出力ポート88及びこ
れらを接続するデータバスやコントロールバス等のバス
90で構成されている。入出力ポート88へは、前記ポンプ
32、33、38、46、72がそれぞれドライバ32A、33A、38
A、46A、72Aを介して接続されている、また、この入出
力ポート88へはセンサ76及び自己発熱型温度センサ52が
接続されている。さらに、この入出力ポート88には、搬
送系への信号線92も接続されている。
マイクロコンピュータ80のRAM84には、第４図に示さ
れるような補充液の実貯留量と必要加水量との関係を示
すマツプが記憶されている。この実貯留量とは、実際の
処理槽内に補充された量であり、送り込まれる一定量
（例えば150ml）の補充液を所定量（例えば10ml）毎に
間欠補充し、それぞれインタバルの間にオーバフローの
有無を検知し、オーバフローしたことが検知された以前
に補充された量である。
れるような補充液の実貯留量と必要加水量との関係を示
すマツプが記憶されている。この実貯留量とは、実際の
処理槽内に補充された量であり、送り込まれる一定量
（例えば150ml）の補充液を所定量（例えば10ml）毎に
間欠補充し、それぞれインタバルの間にオーバフローの
有無を検知し、オーバフローしたことが検知された以前
に補充された量である。
また、マイクロコンピュータ80のROM86には、第３図
に示される補充液補充プログラム及び加水制御プログラ
ムが記憶されている。
に示される補充液補充プログラム及び加水制御プログラ
ムが記憶されている。
次に本実施例の作用を第３図の制御フローチャートに
従い説明する。
従い説明する。
感光材料Ｆは現像槽12から順次漂白槽14、漂白定着槽
16へと案内されて現像、漂白等の処理が行われ、安定槽
26から引出された後に乾燥される。
16へと案内されて現像、漂白等の処理が行われ、安定槽
26から引出された後に乾燥される。
ステツプ100では、加水時期か否かが判断され、例え
ば朝の稼働開始時等、加水時期であると判断された場合
は、ステツプ102へ移行して制御装置78のRAM84に記憶さ
れている加水量Ｗを読み出す。この加水量Ｗは補充液の
補充量から設定されるものであり、後述する。
ば朝の稼働開始時等、加水時期であると判断された場合
は、ステツプ102へ移行して制御装置78のRAM84に記憶さ
れている加水量Ｗを読み出す。この加水量Ｗは補充液の
補充量から設定されるものであり、後述する。
ステツプ102で加水量Ｗが読み出されると、ステツプ104
へ移行して、所定のオンプを作動させ所定の処理槽10へ
の加水制御が行われた後、ステツプ106へ移行する。ま
た、ステツプ100において加水時期ではないと判断され
た場合は、ステツプ102及びステツプ104は飛び越してス
テツプ106へ移行する。
へ移行して、所定のオンプを作動させ所定の処理槽10へ
の加水制御が行われた後、ステツプ106へ移行する。ま
た、ステツプ100において加水時期ではないと判断され
た場合は、ステツプ102及びステツプ104は飛び越してス
テツプ106へ移行する。
ステツプ106では、補充液の補充時期か否かが判断さ
れる。これは、例えば、感光材料Ｆの処理量がネガフイ
ルム50本分になると、補充液の補充時期であると判断さ
れる。ここで、否定判定の場合はステツプ100へ移行す
る。
れる。これは、例えば、感光材料Ｆの処理量がネガフイ
ルム50本分になると、補充液の補充時期であると判断さ
れる。ここで、否定判定の場合はステツプ100へ移行す
る。
ステツプ106で肯定判定、すなわち補充時期であると
判定されると、ステツプ108へ移行して予め定められた
全補充量を読出、次いでステツプ110でこの全補充量を
分割して補充する間欠補充量を読み出す。本実施例では
全補充量は150mlであり、間欠補充量は10mlである。次
のステツプ112では、間欠補充回数Ａが設定され、次い
でステツプ114で１回分のポンプ作動時間ｔが設定され
た後ステツプ116へ移行する。
判定されると、ステツプ108へ移行して予め定められた
全補充量を読出、次いでステツプ110でこの全補充量を
分割して補充する間欠補充量を読み出す。本実施例では
全補充量は150mlであり、間欠補充量は10mlである。次
のステツプ112では、間欠補充回数Ａが設定され、次い
でステツプ114で１回分のポンプ作動時間ｔが設定され
た後ステツプ116へ移行する。
ステツプ116では、ｔ秒間ポンプを作動させ、間欠補
充分量補充し、ステツプ118へ移行する。ステツプ118で
は、補充回数をカウントするカウンタＣをインクリメン
トし、次いでステツプ120へ移行して所定時間経過した
か否かが判断される。この所定時間は、ポンプ作動開始
時からオーバフローされる場合に処理槽10内の処理液が
実際にオーバフローされるまでの時間である。
充分量補充し、ステツプ118へ移行する。ステツプ118で
は、補充回数をカウントするカウンタＣをインクリメン
トし、次いでステツプ120へ移行して所定時間経過した
か否かが判断される。この所定時間は、ポンプ作動開始
時からオーバフローされる場合に処理槽10内の処理液が
実際にオーバフローされるまでの時間である。
ステップ120で所定時間が経過したと判断されると、
ステップ122へ移行して自己発熱型温度センサ52により
オーバフローが検知されたか否かが判断され、肯定判定
の場合はステップ124においてオーバフロー検知回数Ｂ
をインクリメントしてステップ126へ移行し、否定判定
の場合は、直接ステップ126へ移行する。
ステップ122へ移行して自己発熱型温度センサ52により
オーバフローが検知されたか否かが判断され、肯定判定
の場合はステップ124においてオーバフロー検知回数Ｂ
をインクリメントしてステップ126へ移行し、否定判定
の場合は、直接ステップ126へ移行する。
ステップ126ではカウンタＣの値が間欠補充回数Ａに
達したか否かが判断され、否定判定の場合はステップ11
6へ移行し、上記工程を繰り返す。また、ステップ126に
おいて肯定判定された場合はステップ128へ移行して、
間欠補充回数Ａからオーバフロー検知回数Ｂを差し引い
た補充回数Ｌが演算される。次いでステップ130では、
この補充回数Ｌの補充量、すなわち、実際に処理槽10へ
貯留された補充量（実貯留量）に基づいて、第４図のマ
ップから加水量Ｗ（必要加水量）が演算され、ステップ
132でこの加水量ＷがRAM84へメモリされた後、ステップ
134へ移行する。ステップ134では、間欠補充回数Ａ、オ
ーバフロー検知回数Ｂ、カウンタＣ及び補充回数Ｌがク
リアされ、ステップ100へ移行する。
達したか否かが判断され、否定判定の場合はステップ11
6へ移行し、上記工程を繰り返す。また、ステップ126に
おいて肯定判定された場合はステップ128へ移行して、
間欠補充回数Ａからオーバフロー検知回数Ｂを差し引い
た補充回数Ｌが演算される。次いでステップ130では、
この補充回数Ｌの補充量、すなわち、実際に処理槽10へ
貯留された補充量（実貯留量）に基づいて、第４図のマ
ップから加水量Ｗ（必要加水量）が演算され、ステップ
132でこの加水量ＷがRAM84へメモリされた後、ステップ
134へ移行する。ステップ134では、間欠補充回数Ａ、オ
ーバフロー検知回数Ｂ、カウンタＣ及び補充回数Ｌがク
リアされ、ステップ100へ移行する。
本実施例によれば、オーバフローを自己発熱型温度セ
ンサ52を用いて検知するので、フロート等の機械的な動
きによって判断する場合に生じる誤動作はない。また、
自己発熱型温度センサ52は自己発熱しているので、単に
熱電対等の温度センサを用いた場合のように外気の温度
や析出等、他の温度変化を与える要因による誤動作が防
止でき、正確かつ確実にオーバフローの有無を検知する
ことができる。
ンサ52を用いて検知するので、フロート等の機械的な動
きによって判断する場合に生じる誤動作はない。また、
自己発熱型温度センサ52は自己発熱しているので、単に
熱電対等の温度センサを用いた場合のように外気の温度
や析出等、他の温度変化を与える要因による誤動作が防
止でき、正確かつ確実にオーバフローの有無を検知する
ことができる。
なお、本実施例では、自己発熱型温度センサ52をオー
バフロー槽の実際に処理液が流れる部分に露出させて設
けたが、第５図に示される如く、立壁48へ略Ｖ字型の切
欠部60を設け、処理液の流れを集中させるようにし、こ
の切欠部60の下方へ自己発熱型温度センサ52の外形とほ
ぼ一致する溝部68を設け、この溝部68へ自己発熱型温度
センサ52を埋め込んでもよい。溝部68は蓋70によって密
閉してもよい。
バフロー槽の実際に処理液が流れる部分に露出させて設
けたが、第５図に示される如く、立壁48へ略Ｖ字型の切
欠部60を設け、処理液の流れを集中させるようにし、こ
の切欠部60の下方へ自己発熱型温度センサ52の外形とほ
ぼ一致する溝部68を設け、この溝部68へ自己発熱型温度
センサ52を埋め込んでもよい。溝部68は蓋70によって密
閉してもよい。
また、本実施例では、補充液の補充時にオーバフロー
量を求め、加水量をRAM84に記憶されたマツプから求め
たが、この自己発熱型温度センサ52を用いて、加水時に
オーバフローの有無を検知し、無駄な加水を防止するよ
うにしてもよい。
量を求め、加水量をRAM84に記憶されたマツプから求め
たが、この自己発熱型温度センサ52を用いて、加水時に
オーバフローの有無を検知し、無駄な加水を防止するよ
うにしてもよい。
さらに、この自己発熱型温度センサ52を補充液の補充
時又は加水時以外でも作動させておき、通常の稼働時や
休止中にオーバフローがあったか否かを判断させるよう
にしてもよい。これにより、稼働時又は休止時に地震等
による装置の振動で液がオーバフロー槽46へ溢れたこと
を判別でき、その後の補充液の補充量や加水量を補正す
ることができる。
時又は加水時以外でも作動させておき、通常の稼働時や
休止中にオーバフローがあったか否かを判断させるよう
にしてもよい。これにより、稼働時又は休止時に地震等
による装置の振動で液がオーバフロー槽46へ溢れたこと
を判別でき、その後の補充液の補充量や加水量を補正す
ることができる。
以上説明した如く本発明に係る感光材料処理装置及び
その装置の加水方法は、装置自体に蒸発量を得るための
装備が不要で信頼性の高い適正な加水量を得ることがで
き、かつ管理、メンテナンス性を向上することができる
という優れた効果を有する。
その装置の加水方法は、装置自体に蒸発量を得るための
装備が不要で信頼性の高い適正な加水量を得ることがで
き、かつ管理、メンテナンス性を向上することができる
という優れた効果を有する。
第１図は本発明が適用された自動現像機を示す概略断面
図で、第２図はオーバフロー槽周辺の拡大図、第３図は
加水制御ルーチンを示すフローチャート、第４図は実補
充量と加水量との関係を示すマツプ、第５図は自己発熱
型温度センサの取付位置の変形例を示す分解斜視図であ
る。 Ｆ……感光材料、10……処理槽、12……現像槽、14……
漂白槽、16……漂白定着槽、18……定着槽、32、38、46
……ポンプ、36……水タンク、44……補充液タンク、46
……オーバフロー槽、52……自己発熱型温度センサ、78
……制御装置。
図で、第２図はオーバフロー槽周辺の拡大図、第３図は
加水制御ルーチンを示すフローチャート、第４図は実補
充量と加水量との関係を示すマツプ、第５図は自己発熱
型温度センサの取付位置の変形例を示す分解斜視図であ
る。 Ｆ……感光材料、10……処理槽、12……現像槽、14……
漂白槽、16……漂白定着槽、18……定着槽、32、38、46
……ポンプ、36……水タンク、44……補充液タンク、46
……オーバフロー槽、52……自己発熱型温度センサ、78
……制御装置。
Claims (4)
- 【請求項１】感光材料を処理する処理液が貯留された処
理槽と、処理槽に隣接され処理槽内の処理液の余剰分を
排出させるオーバフロー槽と、オーバフロー槽に配設さ
れ補充液の補充又は加水時にオーバフロー槽へ案内され
る処理液の有無を検知する自己発熱型温度センサと、を
有する感光材料処理装置。 - 【請求項２】感光材料を処理する処理液が貯留された処
理槽と、処理槽に隣接され処理槽内の処理液の余剰分を
排出させるオーバフロー槽と、オーバフロー槽に配設さ
れ補充液の補充又は加水時にオーバフロー槽へ案内され
る処理液の有無を検知するオーバフローセンサと、処理
槽への補充液補充又は加水を実行していないときにオー
バフローセンサによって処理液が検知された場合に報知
する報知手段と、を有する感光材料処理装置。 - 【請求項３】前記オーバフローセンサが自己発熱型温度
センサであることを特徴とする請求項（２）記載の感光
材料処理装置。 - 【請求項４】感光材料を処理する処理液が貯留された処
理槽と、処理槽に隣接され処理槽内の処理液の余剰分を
排出されるオーバフロー槽と、オーバフロー槽に配設さ
れオーバフロー槽へ案内される処理液の有無を検知する
オーバフローセンサと、を有する感光材料処理装置に用
いられ、感光材料を処理する処理液が貯留された処理液
からの蒸発分を加水して処理液の濃度を一定に保持する
ための感光材料処理装置の加水方法であって、予め定め
られた一定量の補充液を所定量ずつ間欠補充し、間欠補
充を行う度にオーバフローセンサによってオーバフロー
槽へ案内される処理液の有無を検知すると共に、一定量
の補充液の補充終了後にオーバフローセンサによる処理
液の検知結果に基づいて、実際に処理槽に貯留された補
充液としての実貯留量を求め、この実貯留量から蒸発水
量を得て加水する感光材料処理装置の加水方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117972A JP2685330B2 (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | 感光材料処理装置及びその装置の加水方法 |
| US07/694,736 US5185623A (en) | 1990-05-08 | 1991-05-02 | Apparatus for treating a photosensitive material and method of adding water for use in the same |
| EP91107334A EP0456167B1 (en) | 1990-05-08 | 1991-05-06 | Apparatus for treating a photosensitive material and method of adding water for use in the same |
| DE69116418T DE69116418T2 (de) | 1990-05-08 | 1991-05-06 | Vorrichtung zur Behandlung von lichtempfindlichem Material und Verfahren zur Zugabe von Wasser in derselben |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117972A JP2685330B2 (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | 感光材料処理装置及びその装置の加水方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0414042A JPH0414042A (ja) | 1992-01-20 |
| JP2685330B2 true JP2685330B2 (ja) | 1997-12-03 |
Family
ID=14724836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2117972A Expired - Fee Related JP2685330B2 (ja) | 1990-05-08 | 1990-05-08 | 感光材料処理装置及びその装置の加水方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5185623A (ja) |
| EP (1) | EP0456167B1 (ja) |
| JP (1) | JP2685330B2 (ja) |
| DE (1) | DE69116418T2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2866749B2 (ja) * | 1991-01-18 | 1999-03-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料処理装置 |
| JP2710506B2 (ja) * | 1991-12-27 | 1998-02-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料処理装置の加水方法 |
| US5576795A (en) * | 1994-02-15 | 1996-11-19 | Konica Corporation | Automatic processing apparatus for silver halide photographic light-sensitive material |
| US5570154A (en) * | 1994-02-15 | 1996-10-29 | Konica Corporation | Automatic developing apparatus, using solid processing agent dissolved in water, for developing a photosensitive material |
| JP3662317B2 (ja) * | 1995-11-21 | 2005-06-22 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料処理装置の液補充方法及び感光材料処理装置 |
| JP3441035B2 (ja) * | 1996-05-20 | 2003-08-25 | ノーリツ鋼機株式会社 | 写真現像処理装置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53110532A (en) * | 1977-03-09 | 1978-09-27 | Ricoh Co Ltd | Automatic controller of developer concentrations of wet type diazo copiers |
| DE3044126A1 (de) * | 1980-11-24 | 1982-06-24 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Einrichtung und verfahren zum automatischen, kontinuierlichen verdunstungsausgleich |
| JPS62143051A (ja) * | 1985-12-17 | 1987-06-26 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光材料の現像処理方法及びその装置 |
| JPH0769597B2 (ja) * | 1988-04-04 | 1995-07-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 処理液槽への給水方法 |
| JPH0769598B2 (ja) * | 1988-04-04 | 1995-07-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 処理液槽への給水方法 |
| JP3010361B2 (ja) * | 1988-05-07 | 2000-02-21 | コニカ株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 |
| JPH0795191B2 (ja) * | 1988-08-19 | 1995-10-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 写真現像装置 |
| JPH0268548A (ja) * | 1988-09-05 | 1990-03-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光材料処理装置 |
| JP2685327B2 (ja) * | 1990-04-26 | 1997-12-03 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料処理装置及びその装置の加水方法 |
-
1990
- 1990-05-08 JP JP2117972A patent/JP2685330B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-05-02 US US07/694,736 patent/US5185623A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-05-06 DE DE69116418T patent/DE69116418T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-05-06 EP EP91107334A patent/EP0456167B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69116418D1 (de) | 1996-02-29 |
| EP0456167B1 (en) | 1996-01-17 |
| DE69116418T2 (de) | 1996-05-30 |
| JPH0414042A (ja) | 1992-01-20 |
| EP0456167A2 (en) | 1991-11-13 |
| EP0456167A3 (en) | 1993-01-20 |
| US5185623A (en) | 1993-02-09 |
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