JP2680519B2 - 高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法Info
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- JP2680519B2 JP2680519B2 JP5002065A JP206593A JP2680519B2 JP 2680519 B2 JP2680519 B2 JP 2680519B2 JP 5002065 A JP5002065 A JP 5002065A JP 206593 A JP206593 A JP 206593A JP 2680519 B2 JP2680519 B2 JP 2680519B2
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- flux density
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- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は変圧器などの鉄心に使用
される高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法に関する
ものである。
される高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】一方向性電磁鋼板は主に変圧器や発電機
の鉄心材料に使用されるが、省エネルギー化が要求され
ている昨今、更に磁束密度が高く、鉄損の少ない鋼板が
市場から要求されている。低鉄損を達成するためには、
鋼板のＳｉ含有量を極力高め素材の固有抵抗を上げて渦
電流損を下げる方法と、製品板厚を極力薄くし渦電流損
を下げる方法が知られている。また、最近、製品の鋼板
表面にレーザ照射したり、歯形ロールにより鋼板表面に
溝を形成するというような磁区制御技術が開発、実用化
されており、鉄損を著しく少なくすることが可能となっ
ている。この場合、磁区制御後の鉄損は磁区制御前の磁
束密度が高いほど少なくなることが知られており、磁束
密度の高い鋼板を製造することが非常に重要となってい
る。
の鉄心材料に使用されるが、省エネルギー化が要求され
ている昨今、更に磁束密度が高く、鉄損の少ない鋼板が
市場から要求されている。低鉄損を達成するためには、
鋼板のＳｉ含有量を極力高め素材の固有抵抗を上げて渦
電流損を下げる方法と、製品板厚を極力薄くし渦電流損
を下げる方法が知られている。また、最近、製品の鋼板
表面にレーザ照射したり、歯形ロールにより鋼板表面に
溝を形成するというような磁区制御技術が開発、実用化
されており、鉄損を著しく少なくすることが可能となっ
ている。この場合、磁区制御後の鉄損は磁区制御前の磁
束密度が高いほど少なくなることが知られており、磁束
密度の高い鋼板を製造することが非常に重要となってい
る。
【０００３】磁束密度の高い一方向性電磁鋼板を得るに
は、｛１１０｝〈００１〉方位いわゆるゴス方位に高度
に集積した２次再結晶組織を得ることが必要である。２
次再結晶には、インヒビターと１次再結晶集合組織が大
きく影響することが知られている。インヒビターについ
ては、仕上焼鈍を行うまでに鋼中に１００〜１０００オ
ングストローム程度の析出分散相を均一微細に存在させ
ることが必要で、ＡｌＮ，ＭｎＳ，ＭｎＳｅなどが一般
的に知られている。更には、結晶粒界に粒界偏析元素の
Ｓｂ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ｍｏ，Ｇｅ，Ｂ，Ｔｅ，Ａｓ，Ｂｉ
などを偏析させることが有用である。一方、１次再結晶
集合組織については、従来から熱延、冷延、焼鈍の各工
程条件を適切に組み合わせることにより制御されてき
た。
は、｛１１０｝〈００１〉方位いわゆるゴス方位に高度
に集積した２次再結晶組織を得ることが必要である。２
次再結晶には、インヒビターと１次再結晶集合組織が大
きく影響することが知られている。インヒビターについ
ては、仕上焼鈍を行うまでに鋼中に１００〜１０００オ
ングストローム程度の析出分散相を均一微細に存在させ
ることが必要で、ＡｌＮ，ＭｎＳ，ＭｎＳｅなどが一般
的に知られている。更には、結晶粒界に粒界偏析元素の
Ｓｂ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ｍｏ，Ｇｅ，Ｂ，Ｔｅ，Ａｓ，Ｂｉ
などを偏析させることが有用である。一方、１次再結晶
集合組織については、従来から熱延、冷延、焼鈍の各工
程条件を適切に組み合わせることにより制御されてき
た。
【０００４】しかし、Ｓｉ含有量を高め、かつ製品板厚
を薄くすると、仕上焼鈍での２次再結晶方位制御は難し
くなり、磁束密度の高い０．２５mm以下の板厚の製品を
得ることは容易ではなかった。製品板厚が薄くなると２
次再結晶方位制御が難しくなる原因の一つは、同一熱延
板からより薄い製品を得るにはより大きい冷延圧下を施
すところとなり、集合組織上の不利が生じるためであ
る。また、製品板厚に応じて熱延板の板厚を減少させる
方法が考えられるが、熱延板を薄くすることは必然的に
熱延終了温度が低くなり、ＭｎＳ，ＭｎＳｅなどの析出
状態が不適切となり、磁気特性が劣化する欠点が生じ、
この方法には限界がある。
を薄くすると、仕上焼鈍での２次再結晶方位制御は難し
くなり、磁束密度の高い０．２５mm以下の板厚の製品を
得ることは容易ではなかった。製品板厚が薄くなると２
次再結晶方位制御が難しくなる原因の一つは、同一熱延
板からより薄い製品を得るにはより大きい冷延圧下を施
すところとなり、集合組織上の不利が生じるためであ
る。また、製品板厚に応じて熱延板の板厚を減少させる
方法が考えられるが、熱延板を薄くすることは必然的に
熱延終了温度が低くなり、ＭｎＳ，ＭｎＳｅなどの析出
状態が不適切となり、磁気特性が劣化する欠点が生じ、
この方法には限界がある。
【０００５】かかる問題の解決策として、熱延板に熱延
板焼鈍を施したのち予備冷延する方法がある。ところ
で、冷延工程については、冷延率、ワークロール径、ワ
ークロールの粗度などが磁気特性に影響を及ぼすことが
知られている。特に予備冷延におけるワークロール径の
影響については、特開平４−２８９１２１号に、熱延板
を（ロール径）／（板厚）≧５０の圧延機によって圧下
率０．５〜１５％で圧下した後、７００〜１１００℃の
温度域で熱延板焼鈍し、中間焼鈍を挟む２回以上の冷間
圧延によって最終板厚に仕上げることを特徴とする方法
が開示されている。
板焼鈍を施したのち予備冷延する方法がある。ところ
で、冷延工程については、冷延率、ワークロール径、ワ
ークロールの粗度などが磁気特性に影響を及ぼすことが
知られている。特に予備冷延におけるワークロール径の
影響については、特開平４−２８９１２１号に、熱延板
を（ロール径）／（板厚）≧５０の圧延機によって圧下
率０．５〜１５％で圧下した後、７００〜１１００℃の
温度域で熱延板焼鈍し、中間焼鈍を挟む２回以上の冷間
圧延によって最終板厚に仕上げることを特徴とする方法
が開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】特開平４−２８９１２
１号に提案されている方法は、予備冷延、熱延板焼鈍に
加えて、２回以上の冷間圧延を行う方法であり、製造コ
ストが高くなり、また、工程管理が煩雑になるという問
題がある。また、インヒビターとしてＡｌＮを用いてお
らず、最終強冷延の圧下率が８０％未満の製造工程に関
するものであり、磁束密度Ｂ8 は１．９２Ｔ前後した得
られていない。本発明はインヒビターとしてＡｌＮを使
用し、熱延板に熱延板焼鈍し、予備冷延し、析出焼鈍
し、８１〜８８％の圧下率の最終強冷延するという工程
で、予備冷延をワークロール径／熱延板厚≦９０の冷延
機で５〜５０％の圧下率で行う方法を提案するもので、
磁束密度が高く、製造コストが安く、工程管理が煩雑で
ない高磁束密度一方向性電磁鋼板を製造する方法を提供
するものである。
１号に提案されている方法は、予備冷延、熱延板焼鈍に
加えて、２回以上の冷間圧延を行う方法であり、製造コ
ストが高くなり、また、工程管理が煩雑になるという問
題がある。また、インヒビターとしてＡｌＮを用いてお
らず、最終強冷延の圧下率が８０％未満の製造工程に関
するものであり、磁束密度Ｂ8 は１．９２Ｔ前後した得
られていない。本発明はインヒビターとしてＡｌＮを使
用し、熱延板に熱延板焼鈍し、予備冷延し、析出焼鈍
し、８１〜８８％の圧下率の最終強冷延するという工程
で、予備冷延をワークロール径／熱延板厚≦９０の冷延
機で５〜５０％の圧下率で行う方法を提案するもので、
磁束密度が高く、製造コストが安く、工程管理が煩雑で
ない高磁束密度一方向性電磁鋼板を製造する方法を提供
するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は重量％で、Ｃ：
０．０１５〜０．１００％、Ｓｉ：２．０〜４．０％、
Ｍｎ：０．０３〜０．１２％、Ｓｏｌ．Ａｌ：０．０１
０〜０．０６５％、Ｎ：０．００４０〜０．０１００
％、ＳおよびＳｅのうちから選んだ１種または２種の合
計：０．００５〜０．０５０％、更にＳｂ，Ｓｎ，Ｃ
ｕ，Ｍｏ，Ｇｅ，Ｂ，Ｔｅ，Ａｓ、およびＢｉから選ば
れる１種または２種以上を０．００３〜０．３％含有
し、残部は実質的にＦｅの組成になる連続鋳造スラブに
スラブ加熱を施したのち熱延し、熱延板焼鈍し、予備冷
延を施し、析出焼鈍し、８１〜８９％の圧下率の最終強
冷延により０．２５mm以下の最終板厚とし、脱炭・１次
再結晶焼鈍、最終仕上焼鈍、コーティング塗布によって
高磁束密度一方向性電磁鋼板を製造する方法において、
予備冷延をワークロール径／熱延板厚≦９０の冷延機で
５〜５０％の圧下率で行うことを特徴とする高磁束密度
一方向性電磁鋼板の製造方法である。
０．０１５〜０．１００％、Ｓｉ：２．０〜４．０％、
Ｍｎ：０．０３〜０．１２％、Ｓｏｌ．Ａｌ：０．０１
０〜０．０６５％、Ｎ：０．００４０〜０．０１００
％、ＳおよびＳｅのうちから選んだ１種または２種の合
計：０．００５〜０．０５０％、更にＳｂ，Ｓｎ，Ｃ
ｕ，Ｍｏ，Ｇｅ，Ｂ，Ｔｅ，Ａｓ、およびＢｉから選ば
れる１種または２種以上を０．００３〜０．３％含有
し、残部は実質的にＦｅの組成になる連続鋳造スラブに
スラブ加熱を施したのち熱延し、熱延板焼鈍し、予備冷
延を施し、析出焼鈍し、８１〜８９％の圧下率の最終強
冷延により０．２５mm以下の最終板厚とし、脱炭・１次
再結晶焼鈍、最終仕上焼鈍、コーティング塗布によって
高磁束密度一方向性電磁鋼板を製造する方法において、
予備冷延をワークロール径／熱延板厚≦９０の冷延機で
５〜５０％の圧下率で行うことを特徴とする高磁束密度
一方向性電磁鋼板の製造方法である。
【０００８】本発明者は、磁気特性の優れた高磁束密度
一方向性電磁鋼板を製造する方法を検討したところ、予
備冷延のワークロール径をワークロール径／熱延板厚≦
９０とすることが非常に有効であることを見出した。図
１は、本発明者が行った実験結果の一例である。本発明
に従った成分範囲にあるＣ：０．０６９％、Ｓｉ：３．
０９％、Ｍｎ：０．０６８％、Ｓ：０．０２９％、Ｓｏ
ｌ．Ａｌ：０．０３５％、Ｎ：０．００８７％、Ｓｎ：
０．１０％を含有する鋳片を連続鋳造し、スラブ加熱
後、板厚を２．３０mmに熱延した。そして１１５０℃で
２分均熱の熱延板焼鈍をし、種々のワークロール径の冷
延機で１．８０mmに２２％の圧下率で予備冷延し、１０
００℃で２分均熱後急冷する析出焼鈍をし、１００mmφ
のワークロール径の冷延機で０．２２mmに８７．８％の
圧下率で最終強冷延し製品板厚とした。そして、冷延板
に脱炭・１次再結晶焼鈍を行い、最終仕上焼鈍そしてコ
ーティングを施す工程によって製品となした。この時の
予備冷延のワークロール径／熱延板厚と磁束密度との関
係を図１に示す。これより、ワークロール径／熱延板厚
が≦９０の場合に特に高い磁束密度を得られることが分
かる。
一方向性電磁鋼板を製造する方法を検討したところ、予
備冷延のワークロール径をワークロール径／熱延板厚≦
９０とすることが非常に有効であることを見出した。図
１は、本発明者が行った実験結果の一例である。本発明
に従った成分範囲にあるＣ：０．０６９％、Ｓｉ：３．
０９％、Ｍｎ：０．０６８％、Ｓ：０．０２９％、Ｓｏ
ｌ．Ａｌ：０．０３５％、Ｎ：０．００８７％、Ｓｎ：
０．１０％を含有する鋳片を連続鋳造し、スラブ加熱
後、板厚を２．３０mmに熱延した。そして１１５０℃で
２分均熱の熱延板焼鈍をし、種々のワークロール径の冷
延機で１．８０mmに２２％の圧下率で予備冷延し、１０
００℃で２分均熱後急冷する析出焼鈍をし、１００mmφ
のワークロール径の冷延機で０．２２mmに８７．８％の
圧下率で最終強冷延し製品板厚とした。そして、冷延板
に脱炭・１次再結晶焼鈍を行い、最終仕上焼鈍そしてコ
ーティングを施す工程によって製品となした。この時の
予備冷延のワークロール径／熱延板厚と磁束密度との関
係を図１に示す。これより、ワークロール径／熱延板厚
が≦９０の場合に特に高い磁束密度を得られることが分
かる。
【０００９】本発明の諸条件および限定理由は以下の通
りである。Ｃは、下限０．０１５％未満であれば２次再
結晶が不安定となり、上限の０．１００％は、これより
Ｃが多くなると脱炭所要時間が長くなり経済的に不利と
なるために限定した。Ｓｉは、下限２％未満では良好な
鉄損が得られず、上限４％を超えると冷延性が著しく劣
化する。Ｍｎは、下限０．０３％未満であれば熱間脆化
を起こし、上限０．１２％を超えると磁性不良を起こ
す。Ｓ，Ｓｅは、ＭｎＳ，ＭｎＳｅを形成するために必
要な元素で、これらの１種または２種の合計が下限０．
００５％未満ではＭｎＳ，ＭｎＳｅの絶対量が不足し、
上限０．０５０％を超えると熱間割れを生じ、また、最
終仕上焼鈍での純化が困難となる。
りである。Ｃは、下限０．０１５％未満であれば２次再
結晶が不安定となり、上限の０．１００％は、これより
Ｃが多くなると脱炭所要時間が長くなり経済的に不利と
なるために限定した。Ｓｉは、下限２％未満では良好な
鉄損が得られず、上限４％を超えると冷延性が著しく劣
化する。Ｍｎは、下限０．０３％未満であれば熱間脆化
を起こし、上限０．１２％を超えると磁性不良を起こ
す。Ｓ，Ｓｅは、ＭｎＳ，ＭｎＳｅを形成するために必
要な元素で、これらの１種または２種の合計が下限０．
００５％未満ではＭｎＳ，ＭｎＳｅの絶対量が不足し、
上限０．０５０％を超えると熱間割れを生じ、また、最
終仕上焼鈍での純化が困難となる。
【００１０】Ｓｏｌ．Ａｌは、ＡｌＮを形成するために
必要な元素で、下限０．０１０％未満ではＡｌＮの絶対
量が不足し、上限０．０６５％を超えるとＡｌＮの適当
な分散状態が得られない。Ｎは、ＡｌＮを形成するため
に必要な元素で、下限０．００４０％未満ではＡｌＮの
絶対量が不足し、上限０．０１００％を超えるとＡｌＮ
の適当な分散状態が得られない。Ｓｂ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ｍ
ｏ，Ｇｅ，Ｂ，Ｔｅ，Ａｓ、およびＢｉは粒界に偏析さ
せ、２次再結晶を安定化させるが、これらから選ばれる
１種または２種以上の含有量が下限０．０３％未満では
偏析量が不足し、上限０．３％は経済的理由と脱炭性の
悪化によるものである。
必要な元素で、下限０．０１０％未満ではＡｌＮの絶対
量が不足し、上限０．０６５％を超えるとＡｌＮの適当
な分散状態が得られない。Ｎは、ＡｌＮを形成するため
に必要な元素で、下限０．００４０％未満ではＡｌＮの
絶対量が不足し、上限０．０１００％を超えるとＡｌＮ
の適当な分散状態が得られない。Ｓｂ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ｍ
ｏ，Ｇｅ，Ｂ，Ｔｅ，Ａｓ、およびＢｉは粒界に偏析さ
せ、２次再結晶を安定化させるが、これらから選ばれる
１種または２種以上の含有量が下限０．０３％未満では
偏析量が不足し、上限０．３％は経済的理由と脱炭性の
悪化によるものである。
【００１１】熱延板焼鈍は、熱延板の組織、析出分散相
の均一化に効果があり、線状細粒の発生防止にも効果が
あるので実施する。予備冷延のワークロール径はワーク
ロール径／熱延板厚≦９０とする。これよりも小さいと
磁束密度を高くできない。予備冷延は１回または２回以
上のパスで施し、全圧下率で５〜５０％とする。５％未
満では、続く最終強冷延への圧下率調整量が少なすぎ
る。予備冷延率が５０％を超えると集合組織が不適当と
なり磁束密度の低下が著しい。最終強冷延の圧下率につ
いては、８１％未満でも８８％を超えても集合組織が不
適当になるので２次再結晶が不安定となる。製品板厚を
０．２５mm以下と限定したのは、最近の需要ニーズに対
応して低鉄損な製品を得るためである。
の均一化に効果があり、線状細粒の発生防止にも効果が
あるので実施する。予備冷延のワークロール径はワーク
ロール径／熱延板厚≦９０とする。これよりも小さいと
磁束密度を高くできない。予備冷延は１回または２回以
上のパスで施し、全圧下率で５〜５０％とする。５％未
満では、続く最終強冷延への圧下率調整量が少なすぎ
る。予備冷延率が５０％を超えると集合組織が不適当と
なり磁束密度の低下が著しい。最終強冷延の圧下率につ
いては、８１％未満でも８８％を超えても集合組織が不
適当になるので２次再結晶が不安定となる。製品板厚を
０．２５mm以下と限定したのは、最近の需要ニーズに対
応して低鉄損な製品を得るためである。
【００１２】
〔実施例１〕Ｃ：０．０８８％、Ｓｉ：３．４５％、Ｍ
ｎ：０．０６２％、Ｓ：０．０２１％、Ｓｏｌ．Ａｌ：
０．０３６％、Ｎ：０．００９１％、Ｓｎ：０．１４
％、Ｃｕ：０．０７％を含有する鋳片を連続鋳造し、ス
ラブ加熱し、熱間圧延し２．１mm厚のホットコイルとし
た。そして、１０８０℃×２分均熱後急冷するという熱
間板焼鈍をし、種々のワークロール径で１．３０mmに３
８％の圧下率で予備冷延した。そして、１０５０℃×２
分の均熱後急冷するという析出焼鈍をし、１００mmφの
ワークロール径の冷延機で８６．９％の圧下率で最終冷
延し、板厚を０．１７mmとした。その後、冷延板に脱炭
・１次再結晶焼鈍を行い、最終仕上焼鈍そして最終コー
ティングを施す工程によって製品となした。
ｎ：０．０６２％、Ｓ：０．０２１％、Ｓｏｌ．Ａｌ：
０．０３６％、Ｎ：０．００９１％、Ｓｎ：０．１４
％、Ｃｕ：０．０７％を含有する鋳片を連続鋳造し、ス
ラブ加熱し、熱間圧延し２．１mm厚のホットコイルとし
た。そして、１０８０℃×２分均熱後急冷するという熱
間板焼鈍をし、種々のワークロール径で１．３０mmに３
８％の圧下率で予備冷延した。そして、１０５０℃×２
分の均熱後急冷するという析出焼鈍をし、１００mmφの
ワークロール径の冷延機で８６．９％の圧下率で最終冷
延し、板厚を０．１７mmとした。その後、冷延板に脱炭
・１次再結晶焼鈍を行い、最終仕上焼鈍そして最終コー
ティングを施す工程によって製品となした。
【００１３】この時の予備冷延のワークロール径、ワー
クロール径／熱延板厚と得られた製品の磁束密度Ｂ8 を
表１に示す。これより、本発明例は比較例と比べ高い磁
束密度が得られることが分かる。
クロール径／熱延板厚と得られた製品の磁束密度Ｂ8 を
表１に示す。これより、本発明例は比較例と比べ高い磁
束密度が得られることが分かる。
【００１４】
【表１】
【００１５】〔実施例２〕種々の成分を含有する鋳片を
連続鋳造し、スラブ加熱した後、熱間圧延し、１．８mm
厚の熱延板を得た。熱間板焼鈍は１１００℃で２分間の
均熱後急冷し、ワークロール径／熱延板厚＝３８．９と
なるワークロール径７０mmφの冷延機と、ワークロール
径／熱延板厚＝３３３．３となるワークロール径６００
mmφの冷延機で１．１０mmに３９％の圧下率で予備冷延
し、１１００℃で２分均熱後急冷する析出焼鈍を行い、
０．１５mmに７０mmφのワークロール径の冷延機で８
６．４％の圧下率で最終強冷延した。その後、得られた
冷延板に脱炭・１次再結晶焼鈍を行い、最終仕上焼鈍そ
して最終コーティングを施す工程によって製品となし
た。
連続鋳造し、スラブ加熱した後、熱間圧延し、１．８mm
厚の熱延板を得た。熱間板焼鈍は１１００℃で２分間の
均熱後急冷し、ワークロール径／熱延板厚＝３８．９と
なるワークロール径７０mmφの冷延機と、ワークロール
径／熱延板厚＝３３３．３となるワークロール径６００
mmφの冷延機で１．１０mmに３９％の圧下率で予備冷延
し、１１００℃で２分均熱後急冷する析出焼鈍を行い、
０．１５mmに７０mmφのワークロール径の冷延機で８
６．４％の圧下率で最終強冷延した。その後、得られた
冷延板に脱炭・１次再結晶焼鈍を行い、最終仕上焼鈍そ
して最終コーティングを施す工程によって製品となし
た。
【００１６】この時の鋳片の成分、予備冷延のワークロ
ール径と製品の磁束密度Ｂ8 を表２に示す。これより、
本発明例は比較例と比べ高い磁束密度が得られることが
分かる。
ール径と製品の磁束密度Ｂ8 を表２に示す。これより、
本発明例は比較例と比べ高い磁束密度が得られることが
分かる。
【００１７】
【表２】
【００１８】
【表３】
【００１９】
【表４】
【００２０】
【表５】
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、磁気特性の優れた高磁
束密度一方向性電磁鋼板を製造でき、その工業的効果は
非常に大きい。
束密度一方向性電磁鋼板を製造でき、その工業的効果は
非常に大きい。
【図１】予備冷延のワークロール径／熱延板厚と製品の
磁束密度Ｂ8 の関係図表である。
磁束密度Ｂ8 の関係図表である。
Claims (1)
- 【請求項１】 重量％で、 Ｃ ：０．０１５〜０．１００％、 Ｓｉ：２．０〜４．０％、 Ｍｎ：０．０３〜０．１２％、 Ｓｏｌ．Ａｌ：０．０１０〜０．０６５％、 Ｎ ：０．００４０〜０．０１００％、 ＳおよびＳｅのうちから選んだ１種または２種の合計：
０．００５〜０．０５０％、 更にＳｂ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ｍｏ，Ｇｅ，Ｂ，Ｔｅ，Ａｓ、
およびＢｉから選ばれる１種または２種以上を０．００
３〜０．３％、 残部は実質的にＦｅの組成になる連続鋳造スラブにスラ
ブ加熱を施したのち熱延し、熱延板焼鈍し、予備冷延を
施し、析出焼鈍し、８１〜８９％の圧下率の最終強冷延
により０．２５mm以下の最終板厚とし、脱炭・１次再結
晶焼鈍、最終仕上焼鈍、コーティング塗布によって高磁
束密度一方向性電磁鋼板を製造する方法において、予備
冷延をワークロール径／熱延板厚≦９０の冷延機で５〜
５０％の圧下率で行うことを特徴とする高磁束密度一方
向性電磁鋼板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5002065A JP2680519B2 (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5002065A JP2680519B2 (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06207220A JPH06207220A (ja) | 1994-07-26 |
| JP2680519B2 true JP2680519B2 (ja) | 1997-11-19 |
Family
ID=11518948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5002065A Expired - Lifetime JP2680519B2 (ja) | 1993-01-08 | 1993-01-08 | 高磁束密度一方向性電磁鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2680519B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1993
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