JP2654076B2 - 保護基の脱離方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、置換もしくは非置換−ベンジルオキシカル
ボニル基で保護されたアミノ基、水酸基、もしくはメル
カプト基または置換もしくは非置換のベンジル基で保護
されたアミノ基、水酸基、メルカプト基もしくはカルボ
キシル基を少なくとも１個有する化合物に緩衝液中で亜
鉛を作用させて、保護基である該ベンジルオキシカルボ
ニル基および該ベンジル基を脱離させる方法に関する。

アミノ基、水酸基、メルカプト基またはカルボキシル
基を有する化合物の製造に際し、好ましくない副反応な
いし分解反応を避けるために、これらの基を予め適当な
保護基で保護しておき、目的の反応を実施した後に保護
基を脱離することは一般に行なわれている常法の１つで
ある。このような目的で用いられる保護基としては、置
換もしくは非置換のベンジルオキシカルボニル基または
置換もしくは非置換のベンジル基が一般的であり、より
具体的には、ベンジルオキシカルボニル基；例えば、オ
ルトニトロベンジルオキシカルボニル基、メタニトロベ
ンジルオキシカルボニル基、パラニトロペンジルオキシ
カルボニル基、2,4−ジニトロベンジルオキシカルボニ
ル基、3,4−ジニトロベンジルオキシカルボニル基、パ
ラクロルベンジルオキシカルボニル基、パラブロモベン
ジルオキシカルボニル基、パラメトキシペンジルオキシ
カルボニル基等の置換ベンジルオキシカルボニル基；ベ
ンジル基；例えばオルトニトロベンジル基、メタニトロ
ベンジル基、パラニトロベンジル基、2,4−ジニトロベ
ンジル基、3,4−ジニトロベンジル基、パラクロルベン
ジル基、パラブロモベンジル基、パラメトキシベンジル
基等の置換ベンジル基がしばしば使用される。

一方、これら保護基を脱離する方法としては、たとえ
ば液体アンモニア中での金属ナトリウムによる処理、氷
酢酸中での臭化水素酸による処理、アルコール中での塩
酸による処理等が挙げられ、さらにまた、パラジウム−
炭素、パラジウム黒等を用いる接触的水素化方法も採用
されている。しかしながら、たとえば、液体アンモニア
中での金属ナトリウムによる処理は反応自体に危険な液
体アンモニアおよび金属ナトリウムを使用しなければな
らない欠点があり、アルコール中での塩酸による処理は
一旦脱離され遊離となったカルボキシル基がエステル化
されてしまう可能性がある。また、接触的水素化反応
は、イオウまたはリンを含む化合物の混在によって触媒
の被毒をうけ易く、さらに被反応物が第四級アルミニウ
ム塩のような場合には該化合物自体が触媒毒となり、比
較的温和な脱保護条件下であっても目的とする化合物の
収率が著しく低下することがしばしばみられる。

例えば、最近強力の抗菌力を有する抗生物質として注
目を浴びているカルバペネム系化合物の製造にあって
は、その３位のカルボキシル基がパラニトロベンジル基
で保護された対応する化合物を出発化合物として使用
し、最終段階でこの保護基を脱離して、目的とするカル
バペネム化合物を得る方法が広く採用されているが、カ
ルバペネム骨格の２位の置換基として例えば（第四級ア
ルミニウム官能基）−アルキルチオ基を有する場合に
は、その第四級アンモニウム官能基が触媒毒となり、接
触的水素化反応の収率がわずか10数パーセント以下とな
る。一般に脱保護は最終化合物を得る段階で行なわれる
ことが多いことを考慮すること、上記の如き低収率の処
理手段は工業的製造手段として致命的な欠点となる。

本発明者らは、置換もしくは非置換のベンジルオキシ
カルボニル基または置換もしくは非置換のベンジル基の
脱離反応における上記の如き諸欠点を改良するべく種々
検討を加えた結果、これら保護基で保護されたアミノ
基、水酸基、メルカプト基またはカルボキシル基を少な
くとも１個有する化合物に緩衝液中で亜鉛を作用させる
と、温和な条件下で保護基が脱離され、目的とする化合
物が収率良く得られることを見出し、本発明を完成し
た。

本発明の方法によって脱離しうる保護基としての置換
もしくは非置換のベンジルオキシカルボニル基および置
換もしくは非置換のベンジル基は、通常のペプチド化学
で従来から使用されるアミノ基、水酸基、メルカプト基
またはカルボキシル基の保護基であることができ、具体
的には例えば以下のものが挙げられる。

（１）置換もしくは非置換ベンジルオキシカルボニル
基： ベンジルオキシカルボニル、 オルトニトロベンジルオキシカルボニル、 メタニトロベンジルオキシカルボニル、 パラニトロベンジルオキシカルボニル、 2,4−ジニトロベンジルオキシカルボニル、 3,4−ジニトロベンジルオキシカルボニル、 パラメトキシベンジルオキシカルボニル、 パラクロルベンジルオキシカルボニル、 パラブロモベンジルオキシカルボニルなど。

（２）置換もしくは非置換ベンジル基： ベンジル、 オルトニトロベンジル、 メタニトロベンジル、 パラニトロベンジル、 2,4−ジニトロベンジル、 3,4−ジニトロベンジル、 パラメトキシベンジル、 パラクロルベンジル、 パラブロモベンジルなど。

上記のなかでも特に、アミノ基または水酸基がパラニ
トロベンジルオキシカルボニル基により、そしてカルボ
キシル基がパラニトロベンジル基により保護されている
場合に好適に本発明の脱離方法が適用される。

一方、アミノ基、水酸基、メルカプト基またはカルボ
キシル基を少なくとも１個有する化合物としては種々の
化合物が挙げられ、たとえばアミノ基含有化合物として
は脂肪族アミノ化合物、芳香族アミノ化合物、５員また
は６員ヘテロ芳香環アミノ化合物または脂環アミノ化合
物などが包含される。したがって、分子中にアミノ基を
有する分枝または直鎖状アルカン、分枝または直鎖状の
アルケン、飽和または不飽和シクロアルカン、芳香族炭
化水素、フラン、チオフェン、ピロール、チアゾール、
オキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ジ
アゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、
ピリジン、ピリミジン、ピリダジンなどの５〜６員複素
環等ならびにこれらが更に分子中に結合した化合物等が
挙げられる。

また、カルボキシル基含有化合物としては、脂肪族カ
ルボン酸、芳香族カルボン酸、５員または６員ヘテロ芳
香環カルボン酸、脂環カルボン酸などが包含され、具体
的には上記アミノ基含有化合物におけるアミノ基の代り
にカルボキシル基が結合している化合物が挙げられる。

一方、水酸基またはメルカプト基を有する化合物とし
ては、上記各化合物に対応するアルコール類、フェノー
ル類またはチオール類、チオフェノール類を挙げること
ができる。

更に、分子中にアミノ基およびカルボキシル基の両者
を有する化合物としては、各種のアミノ酸あるいは上記
各例示の化合物の置換基としてアミノ基とカルボキシル
基の両者で置換された化合物等が挙げられる。なお、こ
れら化合物にあっては更に水酸基、メルカプト基、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基などの反応を阻害しない
置換基が置換していてもよい。なかでも、比較的不安定
なセフェム核、ペナム核、ペネム核、モノバクタム核等
をもつアミノ基および／またはカルボキシル基含有セフ
ァロスポリン化合物およびカルバペネム化合物に対し
て、本発明の方法は特に好適であり、そのような化合物
の具体例としては例えば以下のものが挙げられる。

７−アミノ−３−カルバモイルオキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸、 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（シン）−メトキシイミノアセトアミド］−３−カル
バモイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸、 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（シン）−メトキシイミノアセトアミド］−３−
［（1,2,3−チアジアゾール−５−イル）チオメチル］
−３−セフェム−４−カルボン酸、 （1R,5S,6S）−２−［（２−メチル−1,2,3−チアジ
アゾリウム−４−イル）メチル］チオ−６−［（Ｒ）−
１−ヒドロキシエチル］−１−メチル−カルバペネム−
３−カルボキシレート、 （1R,5S,6S）−２−［２−（ピリジニウム−１−イ
ル）エチル］チオ−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
ル］−１−メチル−カルバペネム−３−カルボキシレー
ト、 （1R,5S,6S）−２−［1,6−ジメチルピリジニウム−
２−イル）メチル］−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキシエ
チル］−１−メチル−カルバペネム−３−カルボキシレ
ート、 （1R,5S,6S）−２−［４−ピラゾリジニル］チオ−６
−［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−１−メチル−カ
ルバペネム−３−カルボン酸、 （1R,5S,6S）−２−［アゼチジン−３−イル］チオ−
６−［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−１−メチル−
カルバペネム−３−カルボン酸など。

なお上記の各化合物は本発明の脱離方法が適用される
化合物の一部分の例示であって、本発明がこれら化合物
に限定される意図を有するものでないことはいうまでも
ない。

本発明の脱離方法は、置換もしくは非置換のベンジル
オキシカルボニル基デ保護されたアミノ基、水酸基もし
くはメルカプト基または置換もしくは非置換のベンジル
基で保護されたアミノ基、水酸基、メルカプト基もしく
はカルボキシル基を有する化合物に緩衝液中で亜鉛を作
用させることにより行なわれる。

用いる緩衝液としては、好ましくはリン酸緩衝液、酢
酸緩衝液、クエン酸緩衝液、モルホリノプロパンスルホ
ン酸緩衝液等の酸性緩衝液、Ｎ−メチルモルホリン酸緩
衝液等が挙げられる。該緩衝液の濃度は一般に0.1ない
し10モル濃度、好ましくは0.2ないし2.0モル濃度、より
好ましくは0.3ないし1.0モル濃度であることができる。
保護基の脱離反応は被反応物が少なくとも部分的に溶解
するものであれば緩衝液単独使用が可能であるが、均一
反応系を確保するため、必要に応じて反応に実質的に影
響を与えない有機溶媒を併用することもできる。そのよ
うな溶媒の例としては、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；アセトニト
リル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等
が挙げられるが、特にテトラヒドロフラン、アセトニト
リルが好ましく用いられる。

反応系のpHは緩衝液や被反応物の種類等に応じて変え
ることができ一概に限定し得ないが、一般にはpH3ない
し９、好ましくは５〜７、より好ましくは６〜７の範囲
が採用される。

本発明の脱離方法で使用される亜鉛としては、例え
ば、亜鉛粉末（Zn powder）、華状亜鉛、顆粒状亜鉛、
砂状亜鉛、削状亜鉛等の種々の形態の単体状亜鉛のみな
らず亜鉛−銅粉末、亜鉛アマルガム等の亜鉛合金も使用
することができる。さらに亜鉛−銅（Zn−Cu）として
は、例えば硫酸銅水溶液に亜鉛粉末を加えるか、あるい
は酢酸銅の酢酸溶液中に亜鉛粉末を加える用時調製した
銅亜鉛偶（cupper zinc couple）を用いることができ
る。本発明の方法で使用する亜鉛の使用量は厳密に制限
されるものではないが、一般には、被反応物１重量部に
対し１ないし10重量部、好ましくは１ないし５重量部、
より好ましくは1.5ないし2.5重量部の範囲で用いるのが
好都合である。

反応温度ならびに反応時間も被反応物の種類等によっ
て異なり一概には限定し得ないが、通常、−20ないし50
℃、好ましくは０ないし30℃、より好ましくは室温下に
行なうのがよく、かかる反応温度で反応は一般に0.1な
いし５時間で完結する。

本発明の方法における反応は非常に温和に収率よく進
行し、保護基の脱離によって得られる目的化合物は、た
とえば濾過、抽出、結晶化、蒸留、クロマトグラフィー
等の一般の有機化学における公知の手段により単離、精
製することができる。

以下に本発明を実施例により更に詳細に説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。

実施例1: 式中、Phはフエニル基を意味し（以下、同様）、PNB
はパラニトロベンジル基を意味し（以下、同様）、OTf
はトリフルオロメタンスルホネート基を意味する。

（ａ）ｐ−ニトロベンジル（1R,5S,6S）−２−（ジフェ
ニルホスホノ）オキシ−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキシ
エチル］−１−メチル−カルバペネム−３−カルボキシ
レート594mgをテトラヒドロフラン10mlに溶解し、更にp
H7.0の0.35Mリン酸緩衝液8mlを加える。

一方、４−メルカプトメチル−２−メチル−1,2,3−
チアジアゾリウム トリフルオロメタンスルホネート67
6mgをメタノール4mlおよび水1mlの混液に溶解し、−20
℃にて1N水酸化ナトリウム水溶液2mlを加え、直ちにこ
の反応液を前記で調製した溶液に氷冷下加え、テトラヒ
ドロフラン1mlで洗い込む。反応混合物を同温度下に１
時間撹拌すると、ｐ−ニトロベンジル（1R,5S,6S）−２
−［（２−メチル−1,2,3−チアジアゾリウム−４−イ
ル）メチル］チオ−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチ
ル］−１−メチル−カルバペネム−３−カルボキシレー
ト トリフルオロメタンスルホーネートが得られる。

本品は単離、精製することなく次の反応に付す。

（ｂ）次いで、上記の如くして得た反応混合物にpH6.1
の0.35Mリン酸緩衝液20mlを加え、更にリン酸で反応液
をpH＝6.1に調整する。この反応液に亜鉛粉末1.2gを加
え、18〜20℃にて30分間撹拌後、セライト濾過を行な
う、濾液中の有機層を減圧留去し、残留物を酢酸エチル
100mlにて洗浄後、水層を減圧下に濃縮する。次いで残
留物のpHを6.3〜6.5に調整し、Dowex50W×４樹脂カラム
クロマトグラフィーに付し、水にて溶出し、凍結乾燥す
ると、（1R,5S,6S）−２−［（２−メチル−1,2,3−チ
アジアゾリウム−４−イル）メチル］チオ−６−
［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−１−メチル−カル
バペネム−３−カルボキシレートを195.4mg（全工程収
率54.4％）得た。

IR（KBr）cm^-1:1750,1590,1380 NMR（CD₃OD）δ： 1.16（3H,d,J＝7.0Hz）、 1.24（3H,d,J＝6.0Hz）、 3.12−3.45（3H,m） 3.98−4.52（3H,m） 4.63（3H,s） 実施例2: 式中、 は第３級ブチルジフエニルシリン基を意味する。

（ａ）ｐ−ニトロベンジル（1R,5S,6S）−２−（ジフェ
ニルホスホノ）オキシ−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキシ
エチル］−１−メチル−カルバペネム−３−カルボキシ
レート804mgと２−メチル−４−第３級ブチルジフェニ
ルシリルチオメチル−1,2,3−チアジアゾリウム トリ
フルオロメタンスルホネート904mgをアセトニトリル21m
lの溶解させる。この溶液に窒素ガス気流下にテトラブ
チルアンモニウムフロライド／テトラヒドロフラン溶液
（1.0Mとテトラヒドロフラン溶液）1.62mlとテトラヒド
ロフラン2ml混液を−40℃にて滴下する。滴下終了後反
応液を同温にて20分間撹拌すると、ｐ−ニトロベンジル
（1R,5S,6S）−２−［（２−メチル−1,2,3−チアジア
ゾリウム−４−イル）メチル］チオ−６−［（Ｒ）−１
−ヒドロキシエチル］−１−メチル−カルバペネム−３
−カルボキシレート トリフルオロメタンスルホネート
を得る。本品は、単離、精製することなく次の反応に付
す。

（ｂ）上記の如くして得た反応混合物にpH7.0の0.5Mリ
ン酸緩衝液12mlおよび水21mlを加え、更に亜鉛粉末1.6g
を加える。次いで反応混合物のpHを、飽和リン酸二水素
カリウム水溶液にて6.7とし、20分間撹拌後セライト濾
過する。濾液をエーテル50mlで抽出する。合せた水層を
減圧留去し、残留物のpHを6.6に調整し、Dowex50W×４
（Na⁺）樹脂カラムクロマトグラフィーに付し、水にて
溶出しHPLCにて目的分画を集め、凍結乾燥すると（1R,5
S,6S）−２−［（２−メチル−1,2,3−チアジアゾリウ
ム−４−イル）メチル］チオ−６−［（Ｒ）−１−ヒド
ロキシエチル］−１−メチル−カルバペネム−３−カル
ボキシレートを251mg（収率52％）を得た。

本品のIRおよびNMRスペクトルは、実施例１で得た化
合物のものと完全に一致した。

実施例3: （ａ）ｐ−ニトロベンジル（1R,5S,6S）−２−（ジフェ
ニルホスホノ）オキシ−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキシ
エチル］−１−メチル−カルバペネム−３−カルボキシ
レート1.49gをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、更にpH
7.0の0.35Mリン酸緩衝液20mlを加える。

一方、４−アセチルチオメチル−２−メチル−1,2,3
−チアジアゾリウム トリフルオロメタンスルホネート
1.69gをメタノール10mlおよび水2.5mlの混液に溶解し、
−20℃にて1N水酸化ナトリウム水溶液5mlを加え１分間
撹拌後、直ちにこの反応液を前記で調製した溶液に０℃
にて加える。反応混合物を同温度下に１時間撹拌後、リ
ン酸にてpHを5.8に調整し、減圧濃縮する。得られた残
留物をダイヤイオンHP40カラムクロマトグラフイー
（水、次いで20％イソプロパノール−水にて溶出）で精
製し、凍結乾燥すると、ｐ−ニトロベンジル（1R,5S,6
S）−２−［（２−メチル−1,2,3−チアジアゾリウム−
４−イル）メチル］チオ−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキ
シエチル］−１−メチル−カルバペネム−３−カルボキ
レート トリフルオロメタンスルホネートを1.24g（収
率77.2％）得る。（ｂ）次いで、上記（ａ）で得たｐ−
ニトロベンジル（1R,5S,6S）−２−［（２−メチル−1,
2,3−チアジアゾリウム−４−イル）メチル］チオ−６
−［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−１−メチル−カ
ルバペネム−３−カルボキレート トリフルオロメタン
スルホネート640mgテトラヒドロフラン10mlおよびpH5.0
の0.35M酢酸緩衝液20mlに溶解し、０℃に亜鉛粉末5gを
加え、同温にて１時間撹拌する。反応終了後、反応混合
物をセライト濾過し、濾液をエーテルにて洗浄後減圧濃
縮する。残留物をDowex50W×４樹脂カラムクロマトグラ
フィーに付し、水にて溶出し、凍結乾燥すると、（1R,5
S,6S）−２−［（２−メチル−1,2,3−チアジアゾリウ
ム−４−イル）メチル］チオ−６−［（Ｒ）−１−ヒド
ロキシエチル］−１−メチル−カルバペネム−３−カル
ボキレートを179mg（収率50.4％）得た。

本品のIRおよびNMRスペクトルは、実施例１で得た化
合物のものと完全に一致した。

実施例4: 実施例３の（ａ）で得たｐ−ニトロベンジル（1R,5S,
6S）−２−［（２−メチル−1,2,3−チアジアゾリウム
−４−イル）メチル］チオ−６−［（Ｒ）−１−ヒドロ
キシエチル］−１−メチル−カルバペネム−３−カルボ
キレート トリフルオロメタンスルホネート640mgをテ
トラヒドロフラン10mlに溶解し、これにpH6.6の0.35Mリ
ン酸緩衝液20mlを加える。一方、無水硫酸銅300mgを水1
0mlに溶解した液に亜鉛粉末1.5gを加え、１分間撹拌後
濾取し、少量の水にて洗浄し、銅亜鉛偶を調製し、この
ものを前記溶液に加え、室温にて１時間撹拌する。反応
終了後、反応混合物をセライト濾過し、得られる濾液を
前記実施例３、（ｂ）と同様の処理を行い、（1R,5S,6
S）−２−［（２−メチル−1,2,3−チアジアゾリウム−
４−イル）メチル］チオ−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキ
シエチル］−１−メチル−カルバペネム−３−カルボキ
レートを158mg（収率44.5％）得た。

本品のIRおよびNMRスレクトルは、実施例１で得た化
合物のものと完全に一致した。

実施例5: （ａ）ｐ−ニトロベンジル（1R,5S,6S）−２−（ジフェ
ニルホスホノ）オキシ−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキシ
エチル］−１−メチル−カルバペネム−３−カルボキレ
ート298mgテトラヒドロフラン5mlに溶解し、更にpH7.0
の0.35Mリン酸緩衝液4mlを加える。

一方、４−アセチルチオメチル−２−メチル−1,2,3
−チアジアゾリウム トリフルオロメタンスルホネート
338mgをメタノール2mlおよび水0.5mlの混液に溶解し、
−20℃にて1N水酸化ナトリウム水溶液1mlを加え、１分
間撹拌したのちにこの反応後を前記で調整した溶液に氷
冷下滴下する。反応混合物を同温度下に１時間撹拌する
と、ｐ−ニトロベンジル（1R,5S,6S）−２−［（２−メ
チル−1,2,3−チアジアゾリウム−４−イル）メチル］
チオ−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−１−メ
チル−カルバペネム−３−カルボキレート トリフルオ
ロメタンスルホネートを含む混合物を得た。

（ｂ）次いで、上記の如くして得た反応混合物にpH6.1
の0.35Mリン酸緩衝液11mlならびにｎ−ブタノール10ml
を加え、更にリン酸で反応液をpH＝6.1に調整する。こ
の反応後に亜鉛粉末600mgを加え、室温にて50分間撹拌
後、セライト濾過を行ない、濾液を酢酸エチルにて洗浄
後、水層を減圧下に濃縮する。次いで残留物をDowex50W
×４樹脂カラムクロマトグラフィーに付し、水にて溶出
し、凍結乾燥すると、（1R,5S,6S）−２−［（２−メチ
ル−1,2,3−チアジアゾリウム−４−イル）メチル］チ
オ−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−１−メチ
ル−カルバペネム−３−カルボキレートを108mg（全工
程収率60.6％）得た。

本品のIRおよびNMRスペクトルは実施例１のものと完
全に一致した。

実施例6: 式中、PNZはパラニトロベンジルオキシカルボニル基
を意味する。

ｐ−ニトロベンジル（1R,5S,6S）−６−［（Ｒ）−１
−ヒドロキシエチル］−１−メチル−２−［N,N'−ジ
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピラゾリジン
−４−イル］チオ−２−カルバペネム−３−カルボキレ
ート200mgテトラヒドロフラン3mlとpH5.8の0.35Mリン酸
緩衝液9mlに溶解し、室温にて亜鉛粉末600mgを加え２時
間撹拌する。反応終了後不溶物をセライト濾過を用いて
除去し、濾液をpH5.5に調整後エーテルにて洗浄する。
水層を減圧濃縮し、HP−40のカラムクロマトに付し水で
溶出し、凍結乾燥し、（1R,5S,6S）−２−（４−ピラゾ
リジン−４−イル）チオ−６−［（Ｒ）−１−ヒドロキ
シエチル］−１−メチル−カルバペネム−３−カルボン
酸47mg（60.5％）を得た。

IR（KBr）cm^-1:1750 NMR（D₂O−CD₃OD）δ： 1.23（3H,d,J＝6.0Hz） 1.40（3H,d,J＝7.0Hz） 3.3〜4.4（9H,m） 実施例7: ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
（Ｚ）−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−
［（1,2,3−チアジアゾール−５−イル）チオメチル］
セフ−３−エム−４−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエ
ステル500mgをテトラヒドロフラン7mlおよびpH6.1の0.3
5Mリン酸緩衝液7mlに溶解し、室温にて亜鉛粉末5gを加
え30分間撹拌する。反応終了後不溶物をセライトを用い
て除去し、濾液を希塩酸で酸性とし、析出する沈殿を濾
取し、0.1N水酸化ナトリウム水溶液に溶解しpHを5.5に
調整後HP−40カラムクロマトに付し水、ついで水−イソ
プロパノール（9:1）で溶出し、凍結乾燥を行ない、７
β−［（２−アミノチアゾール−４−イル）−（Ｚ）−
２−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（1,2,3−
チアジアゾール−５−イル）チオメチル］セフ−３−エ
ム−４−カルボン酸ナトリウム322mg（78.0％）を得
た。

本品のIRおよびNMRスペクトルは標品のそれと完全に
一致した。

実施例8: 安息香酸のｐ−ニトロベンジルエステル160mgをテト
ラヒドロフラン5mlおよびpH6.1の0.35Mリン酸緩衝液5ml
の混液に溶解し、室温撹拌下に亜鉛粉末1.6gを加え同温
にて３時間撹拌する。反応終了後セライト濾過により亜
鉛粉末を除き、濾液を炭酸ナトリウムにてアルカリ性と
したのち酢酸エチル10mlで２回洗浄後、希塩酸にて酸性
とし酢酸エチル10mlで３回抽出する。水洗、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を留去し、残留物をクロマトグラ
フィーにて精製し、融点121〜122℃の安息香酸を58mg
（収率76.4％）得た。

本品は標品とIRおよびNMRスペクトルが完全に一致し
た。

実施例9: ４−クロロ桂皮酸のｐ−ニトロベンジルエステル100m
g、テトラヒドロフラン4ml、0.35Mリン酸緩衝液（pH＝
6.1）4mlおよび亜鉛粉末1gを用い、実施例８と同様2.5
時間処理し、ｐ−ニトロベンジル基が脱離した融点246
−248℃の４−クロロ桂皮酸を53mg（収率92.2％）を得
た。本品は標品とIRスペクトルが完全に一致した。

実施例10: ４−ホルミル桂皮酸のｐ−ニトロベンジルエステル20
0mg、テトラヒドロフラン7ml、0.35Mリン酸緩衝液（pH
＝6.1）7mlおよび亜鉛粉末2gを用い、実施例８と同様４
時間処理し、脱ｐ−ニトロベンジルさせた４−ホルミル
桂皮酸を105mg（収率92.8％）得た。融点250−252℃
（分解）。本品は標品とIRスペクトルが完全に一致し
た。

実施例11: α−シアノ桂皮酸のｐ−ニトロベンジルエステル150m
g、テトラヒドロフラン5ml、0.35Mリン酸緩衝液（pH＝
6.1）5mlおよび亜鉛粉末1.5gを用い、実施例８と同様1.
5時間処理し、融点180℃のα−シアノ桂皮酸を78mg（収
率92.6％）得た。本品は標品とIRスペクトルが完全に一
致した。

実施例12: ４−メトキシフェニル酢酸のｐ−ニトロベンジルエス
テル180mg、テトラヒドロフラン4ml、0.35Mリン酸緩衝
液（pH＝6.1）4mlおよび亜鉛粉末1.8gを用い、実施例８
と同様3.5時間処理し、融点85℃〜86℃の結晶として４
−メトキシフェニル酢酸を92mg（収率92.6％）得た。本
品のIRおよびNMRスペクトルは標品のものと完全に一致
した。

実施例13: ４−メチル−５−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル−1,2,3−チオジアゾール270mgをテトラヒドロフラン
7mlおよびpH6.1の0.35Mリン酸緩衝液7ml混合液に溶解
し、これに亜鉛粉末2.7gを加え４時間室温にて撹拌す
る。反応終了後、反応混合物をセライト濾過し、濾液を
炭酸ナトリウムにてアルカリ性としたのち酢酸エチルに
て洗浄し、希塩酸にて酸性とし酢酸エチルにて抽出す
る。水洗、硫酸マグネシウム乾燥後溶媒を留去し、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、
融点190℃の４−メチル−５−ヒドロキシカルボニル−
1,2,3−チアジアゾール120mg（収率91.0％）得た。本品
は標品とIRスペクトルが完全に一致した。

参考例：水素添加反応による脱保護 ｐ−ニトロベンジル（1R,5S,6S）−２−［（1,2,3−
チアジアゾール−４−イル）メチル］チオ−６−
［（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル］−１−メチル−カル
バペネム−３−カルボキシレート257mgをジクロルメタ
ン4.0mlに溶解し０℃に冷却する。次いでこの溶液にト
リフルオロメタンスルホン酸メチル0.073mlを滴下した
のち０℃で18時間撹拌した。0.5M Ｎ−メチルモルホリ
ン−塩酸緩衝液（pH6.8）5.0ml、ｎ−ブタノール4.4ml
および酢酸エチル4.0mlを順次加え、20％水酸化パラジ
ウム−炭素260mgを添加したのち、3.0atmで２時間、室
温で水素添加を行なった。反応液をセライト濾過し、セ
ライト層を少量のメタノールと水で洗浄したのち、濾液
を集めエーテルにて洗浄した。水層を減圧濃縮したのち
Dowex50W×４（Na⁺）のカラムにて精製し、凍結乾燥し
（1R,5S,6S）−２−［２−（２−メチル−1,2,3−チア
ジアゾリウム−４−イル）メチル］チオ−６−［（Ｒ）
−１−ヒドロキシエチル］−１−メチル−カルバペネム
−３−カルボキシレートを22.6mg（11.8％）得た。

本品は実施例１で得た化合物とIRおよびNMRスペクト
ルが完全に一致した。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 477/00 9164−4Ｃ Ｃ０７Ｄ 501/36 １１４ 501/36 １１４ 487/04 １３４

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ｐ−ニトロベンジル基で保護されたカルボ
   キシル基またはｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基
   で保護されたアミノ基を少なくとも１個有する化合物
   に、リン酸緩衝液、酢酸緩衝液、クエン酸緩衝液、Ｎ−
   メチルモルホリン緩衝液またはモルホリノプロパンスル
   ホン酸緩衝液中で亜鉛を作用させることを特徴とする保
   護基の脱離方法。