JP2647450B2 - ピラゾロ〔５．１−ｂ〕キナゾロンの製法 - Google Patents
ピラゾロ〔５．１−ｂ〕キナゾロンの製法Info
- Publication number
- JP2647450B2 JP2647450B2 JP63222577A JP22257788A JP2647450B2 JP 2647450 B2 JP2647450 B2 JP 2647450B2 JP 63222577 A JP63222577 A JP 63222577A JP 22257788 A JP22257788 A JP 22257788A JP 2647450 B2 JP2647450 B2 JP 2647450B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- reaction
- mono
- solvent
- quinazolone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D487/04—Ortho-condensed systems
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、イサト酸無水物をピラゾロンと反応させる
ことによるピラゾロ〔5.1−ｂ〕キナゾロンの新規な製
法に関する。
ことによるピラゾロ〔5.1−ｂ〕キナゾロンの新規な製
法に関する。
イサト酸無水物を３−メチルピラゾール−５−オンと
溶融状で又は高沸点溶剤中で200〜250℃の温度で反応さ
せることによる、２−メチルピラゾロ〔5.1−ｂ〕キナ
ゾロンの製法は既知である（アンゲヴアンテ・ヘミー74
巻839頁1962年参照）。J.Heterocyol.Chem.18巻117頁19
81年及びJ.Med.Chem.24巻735頁1981年によれば、他のピ
ラゾロ〔5.1−ｂ〕キナゾロンの製造が知られている。
出発物質としては同様にイサト酸無水物とピラゾロンが
用いられる。この場合反応は溶剤としてのN,N−ジメチ
ルホルムアミド中で、塩基としての水素化ナトリウムの
存在下に−10〜０℃の温度で行われる。
溶融状で又は高沸点溶剤中で200〜250℃の温度で反応さ
せることによる、２−メチルピラゾロ〔5.1−ｂ〕キナ
ゾロンの製法は既知である（アンゲヴアンテ・ヘミー74
巻839頁1962年参照）。J.Heterocyol.Chem.18巻117頁19
81年及びJ.Med.Chem.24巻735頁1981年によれば、他のピ
ラゾロ〔5.1−ｂ〕キナゾロンの製造が知られている。
出発物質としては同様にイサト酸無水物とピラゾロンが
用いられる。この場合反応は溶剤としてのN,N−ジメチ
ルホルムアミド中で、塩基としての水素化ナトリウムの
存在下に−10〜０℃の温度で行われる。
この両方法とも工業的規模の生産には適しない。反応
を溶融物中又は高沸点溶剤中できわめて高い温度で行い
うるようにするために、特別の条件が必要である。その
ほか塩基としての水素化ナトリウムの使用には安全性そ
の他の問題がある。
を溶融物中又は高沸点溶剤中できわめて高い温度で行い
うるようにするために、特別の条件が必要である。その
ほか塩基としての水素化ナトリウムの使用には安全性そ
の他の問題がある。
本発明の課題は、工業的に容易に入手しうる原料物質
から出発して、目的物質を大きい工業的費用なしに良好
な収率で提供しうるピラゾロ〔5.1−ｂ〕キナゾロンの
製法を開発することであつた。
から出発して、目的物質を大きい工業的費用なしに良好
な収率で提供しうるピラゾロ〔5.1−ｂ〕キナゾロンの
製法を開発することであつた。
本発明は、次式 （R1、R2及びR3は後記の意味を有する）のイサト酸無水
物を次式 （Ｘは後記の意味を有する）のピラゾロンと、不活性有
機溶剤中で100〜180℃の温度で反応させ、同時に反応に
より生成した水を共沸蒸留することを特徴とする、次式 （R1、R2及びR3は同一でも異なつてもよく、互いに無関
係に水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4−アルコキシ基、
ニトロ基、C1〜C4−アルキル基、トリフルオルメチル
基、カルボキシ基、シアノ基、カルバモイル基、C1〜C4
−モノ−もしくはジアルキルカルバモイル基、フエニル
カルバモイル基、スルフアモイル基、C1〜C4−モノ−も
しくはジアルキルスルフアモイル基、フエニルスルフア
モイル基、ヒドロキシスルホニル基又はC1〜C4−アルカ
ノイルアミノ基、ＸはC1〜C4−アルキル基又は置換され
ていてもよいフエニル基を意味する）のピラゾロ〔5.1
−ｂ〕キナゾロンの製法である。
物を次式 （Ｘは後記の意味を有する）のピラゾロンと、不活性有
機溶剤中で100〜180℃の温度で反応させ、同時に反応に
より生成した水を共沸蒸留することを特徴とする、次式 （R1、R2及びR3は同一でも異なつてもよく、互いに無関
係に水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4−アルコキシ基、
ニトロ基、C1〜C4−アルキル基、トリフルオルメチル
基、カルボキシ基、シアノ基、カルバモイル基、C1〜C4
−モノ−もしくはジアルキルカルバモイル基、フエニル
カルバモイル基、スルフアモイル基、C1〜C4−モノ−も
しくはジアルキルスルフアモイル基、フエニルスルフア
モイル基、ヒドロキシスルホニル基又はC1〜C4−アルカ
ノイルアミノ基、ＸはC1〜C4−アルキル基又は置換され
ていてもよいフエニル基を意味する）のピラゾロ〔5.1
−ｂ〕キナゾロンの製法である。
これら式中のアルキル基は直鎖状でも分岐状でもよ
い。
い。
式Ｉ及びIIIの置換フエニル基の置換基は、例えばC1
〜C4−アルキル基、C1〜C4−アルコキシ基、ハロゲン原
子特に弗素原子、塩素原子又は臭素原子、ニトロ基又は
シアノ基である。
〜C4−アルキル基、C1〜C4−アルコキシ基、ハロゲン原
子特に弗素原子、塩素原子又は臭素原子、ニトロ基又は
シアノ基である。
R1、R2、R3及びＸは例えば次の基である。メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル又
は二級ブチル。
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル又
は二級ブチル。
Ｘはさらに例えば次の基を意味する。フエニル、２−
メチルフエニル、４−メチルフエニル、４−エチルフエ
ニル、４−プロピルフエニル、４−イソプロピルフエニ
ル、2,4−ジメチルフエニル、２−メトキシフエニル、
４−エトキシフエニル、４−イソプロポキシフエニル、
４−ブトキシフエニル、2,6−ジメトキシフエニル、４
−フルオルフエニル、４−クロルフエニル、４−ブロム
フエニル、2,4−ジクロルフエニル、２−又は３−ニト
ロフエニル又は３−又は４−シアノフエニル。
メチルフエニル、４−メチルフエニル、４−エチルフエ
ニル、４−プロピルフエニル、４−イソプロピルフエニ
ル、2,4−ジメチルフエニル、２−メトキシフエニル、
４−エトキシフエニル、４−イソプロポキシフエニル、
４−ブトキシフエニル、2,6−ジメトキシフエニル、４
−フルオルフエニル、４−クロルフエニル、４−ブロム
フエニル、2,4−ジクロルフエニル、２−又は３−ニト
ロフエニル又は３−又は４−シアノフエニル。
R1、R2及びR3はそのほか例えば次の原子及び基を意味
する。Ｆ、Cl、Br、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、二級ブトキ
シ、モノ−又はジメチルカルバモイル、モノ−又はジエ
チルカルバモイル、モノ−又はジプロピルカルバモイ
ル、モノ−又はジイソプロピルカルバモイル、モノ−又
はジブチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカル
バモイル、モノ−又はジメチルスルフアモイル、モノ−
又はジエチルスルフアモイル、モノ−又はジプロピルス
ルフアモイル、モノ−又はジイソプロピルスルフアモイ
ル、モノ−又はジブチルスルフアモイル、Ｎ−メチル−
Ｎ−エチルスルフアモイル、ホルミルアミノ、アセチル
アミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ又はイソ
ブチリルアミノ。
する。Ｆ、Cl、Br、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、二級ブトキ
シ、モノ−又はジメチルカルバモイル、モノ−又はジエ
チルカルバモイル、モノ−又はジプロピルカルバモイ
ル、モノ−又はジイソプロピルカルバモイル、モノ−又
はジブチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカル
バモイル、モノ−又はジメチルスルフアモイル、モノ−
又はジエチルスルフアモイル、モノ−又はジプロピルス
ルフアモイル、モノ−又はジイソプロピルスルフアモイ
ル、モノ−又はジブチルスルフアモイル、Ｎ−メチル−
Ｎ−エチルスルフアモイル、ホルミルアミノ、アセチル
アミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ又はイソ
ブチリルアミノ。
Ｘがメチル基又はフエニル基、R1、R2及びR3が水素原
子、ニトロ基、メトキシ基、フエニルスルフアモイル
基、塩素原子又は臭素原子を意味する式Ｉの化合物を製
造することが特に好ましい。
子、ニトロ基、メトキシ基、フエニルスルフアモイル
基、塩素原子又は臭素原子を意味する式Ｉの化合物を製
造することが特に好ましい。
本発明の方法は、不活性有機溶剤中で、100〜180℃特
に120〜160℃の温度で行われる。一般に常圧で操作する
が、場合によつては５バールまでの加圧で反応を行うこ
とも有利である。
に120〜160℃の温度で行われる。一般に常圧で操作する
が、場合によつては５バールまでの加圧で反応を行うこ
とも有利である。
不活性溶剤としては、特にキシロール、ジクロルベン
ゾール、ニトロベンゾール又は安息香酸メチルエステル
が役立つ。普通はイサト酸無水物IIの１重量部に対し、
３〜10重量部の溶剤が用いられる。
ゾール、ニトロベンゾール又は安息香酸メチルエステル
が役立つ。普通はイサト酸無水物IIの１重量部に対し、
３〜10重量部の溶剤が用いられる。
イサト酸無水物IIとピラゾロンIIIは、普通は1.2:1な
いし0.8:1のモル比で使用する。本発明方法は式IIIのピ
ラゾロンに対し１〜50重量％好ましくは５〜30重量％特
に10〜20重量％の無水の炭酸ナトリウム又は炭酸カリウ
ムの存在下で行うこともできる。
いし0.8:1のモル比で使用する。本発明方法は式IIIのピ
ラゾロンに対し１〜50重量％好ましくは５〜30重量％特
に10〜20重量％の無水の炭酸ナトリウム又は炭酸カリウ
ムの存在下で行うこともできる。
新規方法は好ましくは次のように実施する。不活性溶
剤及びピラゾロンIIIを用意し、撹拌しながら前記の必
要温度に加熱し、イサト酸無水物IIを添加する。炭酸ガ
ス発生の終了後、反応混合物を場合により触媒を添加し
たのち、必要温度で普通は１〜10時間撹拌する。その際
同時に反応により生成した水を、共沸蒸留により反応混
合物から除去する。牽引剤としては不活性溶剤が役立
つ。イサト酸無水物IIとピラゾロンIIIは水性ペースト
として使用することもでき、その水は反応と共に共沸に
より反応混合物から留去される。反応中に留出した溶剤
は、場合により新溶剤又は再生溶剤の形で、反応に使用
できる。
剤及びピラゾロンIIIを用意し、撹拌しながら前記の必
要温度に加熱し、イサト酸無水物IIを添加する。炭酸ガ
ス発生の終了後、反応混合物を場合により触媒を添加し
たのち、必要温度で普通は１〜10時間撹拌する。その際
同時に反応により生成した水を、共沸蒸留により反応混
合物から除去する。牽引剤としては不活性溶剤が役立
つ。イサト酸無水物IIとピラゾロンIIIは水性ペースト
として使用することもでき、その水は反応と共に共沸に
より反応混合物から留去される。反応中に留出した溶剤
は、場合により新溶剤又は再生溶剤の形で、反応に使用
できる。
次式 （式中の記号は前記の意味を有する）の開環した中間生
成物を経由する反応の終了後、生成したピラゾロ〔5.1
−ｂ〕キナゾロン（Ｉ）を分離し、溶剤、メタノール及
び温水で順次洗浄したのち乾燥する。
成物を経由する反応の終了後、生成したピラゾロ〔5.1
−ｂ〕キナゾロン（Ｉ）を分離し、溶剤、メタノール及
び温水で順次洗浄したのち乾燥する。
溶剤を水蒸気蒸留により除去することも可能で、その
場合目的物質は水性懸濁液から分離する。夾雑物は７以
上のpHで溶液中に移行し、過では除去できない。
場合目的物質は水性懸濁液から分離する。夾雑物は７以
上のpHで溶液中に移行し、過では除去できない。
連続法でも非連続法でも行われる本発明の方法によつ
て、目的のピラゾロ〔5.1−ｂ〕キナゾロンが、大きい
技術的費用を要しないで良好な収率で得られる。合成に
用いられた溶剤は、一般に再生（蒸留）したのち再使用
できる。
て、目的のピラゾロ〔5.1−ｂ〕キナゾロンが、大きい
技術的費用を要しないで良好な収率で得られる。合成に
用いられた溶剤は、一般に再生（蒸留）したのち再使用
できる。
ピラゾロ〔5.1−ｂ〕キナゾロンは、染料及び顔料を
合成するための価値の高い中間体である。
合成するための価値の高い中間体である。
実施例１ ３−メチルピラゾール−５−オン100gをキシロール10
00gに添加し、115℃に加熱したのち、５−クロルイサト
酸無水物200gを徐々に添加する。炭酸ガス発生の終了
後、20分間撹拌し、次いで140℃に加熱し、この温度を
反応水が留出しなくなるまで保持する。次いで70℃に冷
却し、過し、まずメタノール550gで、続いて温水で洗
浄したのち乾燥すると、次式の無色粉末が200g得られ
る。
00gに添加し、115℃に加熱したのち、５−クロルイサト
酸無水物200gを徐々に添加する。炭酸ガス発生の終了
後、20分間撹拌し、次いで140℃に加熱し、この温度を
反応水が留出しなくなるまで保持する。次いで70℃に冷
却し、過し、まずメタノール550gで、続いて温水で洗
浄したのち乾燥すると、次式の無色粉末が200g得られ
る。
実施例２ ３−フエニルピラゾール−５−オン160gをキシロール
750gに添加し、115℃に加熱したのち、イサト酸無水物1
60gを徐々に添加する。炭酸ガス発生の終了後20分間撹
拌し、次いで140℃に加熱し、この温度を６時間保持す
る。次いで95℃に冷却し、水1000mlで希釈し、溶剤を水
蒸気蒸留により留去する。残留物を水2000mlで希釈し、
50％苛性ソーダ液40gを添加して１時間撹拌する。次い
で過し、水で中性になるまで洗浄したのち乾燥する
と、次式の帯黄色粉末が220g得られる。
750gに添加し、115℃に加熱したのち、イサト酸無水物1
60gを徐々に添加する。炭酸ガス発生の終了後20分間撹
拌し、次いで140℃に加熱し、この温度を６時間保持す
る。次いで95℃に冷却し、水1000mlで希釈し、溶剤を水
蒸気蒸留により留去する。残留物を水2000mlで希釈し、
50％苛性ソーダ液40gを添加して１時間撹拌する。次い
で過し、水で中性になるまで洗浄したのち乾燥する
と、次式の帯黄色粉末が220g得られる。
実施例３ ３−メチルピラゾール−５−オン100g及び６−クロル
イサト酸無水物200gを、ニトロベンゾール700g中で150
℃に４時間加熱する。次いで80℃に冷却し、過し、残
留物をメタノール500g及び温水3000mlで順次洗浄したの
ち乾燥すると、次式の無色粉末が195g得られる。
イサト酸無水物200gを、ニトロベンゾール700g中で150
℃に４時間加熱する。次いで80℃に冷却し、過し、残
留物をメタノール500g及び温水3000mlで順次洗浄したの
ち乾燥すると、次式の無色粉末が195g得られる。
実施例４ ３−メチルピラゾール−５−オン50gをキシロール350
gに添加し、115℃に加熱し、イサト酸無水物80gを徐々
に添加し、炭酸ガス発生が終了するまで撹拌する。次い
で無水炭酸ナトリウム10gを添加し、135℃に加熱し、反
応水が移行しなくなるまで撹拌する。次いで100℃に冷
却し、水200mlを添加し、キシロールを水蒸気により除
去する。水性懸濁液を70℃に冷却し、96％硫酸5gを加え
てpHを７〜7.5となし、過し、流出液が無色になるま
で温水で洗浄したのち乾燥すると、次式の物質が85g得
られる。
gに添加し、115℃に加熱し、イサト酸無水物80gを徐々
に添加し、炭酸ガス発生が終了するまで撹拌する。次い
で無水炭酸ナトリウム10gを添加し、135℃に加熱し、反
応水が移行しなくなるまで撹拌する。次いで100℃に冷
却し、水200mlを添加し、キシロールを水蒸気により除
去する。水性懸濁液を70℃に冷却し、96％硫酸5gを加え
てpHを７〜7.5となし、過し、流出液が無色になるま
で温水で洗浄したのち乾燥すると、次式の物質が85g得
られる。
実施例５ ３−メチルピラゾール−５−オン100g及び４−クロル
イサト酸無水物200gを、ジクロルベンゾール800g中で15
5℃に３時間加熱する。80℃に冷却したのち過し、メ
タノール500g及び温水3000mlで順次洗浄したのち乾燥す
ると、次式の無色粉末が180g得られる。
イサト酸無水物200gを、ジクロルベンゾール800g中で15
5℃に３時間加熱する。80℃に冷却したのち過し、メ
タノール500g及び温水3000mlで順次洗浄したのち乾燥す
ると、次式の無色粉末が180g得られる。
実施例６ ３−メチルピラゾール−５−オン200gを安息香酸メチ
ルエステル1500gに添加し、撹拌しながら115℃に加熱
し、3,5−ジクロルイサト酸無水物300gを徐々に添加す
る。反応水を留去しながら170℃で３時間撹拌したの
ち、90℃に冷却し、過し、メタノール1000g及び温水3
000mlで順次洗浄したのち乾燥すると、次式の淡色粉末
が250g得られる。
ルエステル1500gに添加し、撹拌しながら115℃に加熱
し、3,5−ジクロルイサト酸無水物300gを徐々に添加す
る。反応水を留去しながら170℃で３時間撹拌したの
ち、90℃に冷却し、過し、メタノール1000g及び温水3
000mlで順次洗浄したのち乾燥すると、次式の淡色粉末
が250g得られる。
同様に得られる化合物を、反応条件及び収率と共に下
記表に示す。
記表に示す。
Claims (3)
- 【請求項１】次式 （R1、R2及びR3は後記の意味を有する）のイサト酸無水
物を次式 （Ｘは後記の意味を有する）のピラゾロンと、不活性有
機溶剤中で100〜180℃の温度で反応させ、同時に反応に
より生成した水を共沸蒸留することを特徴とする、次式 （R1、R2及びR3は同一でも異なつてもよく、互いに無関
係に水素原子、ハロゲン原子、C1〜C4−アルコキシ基、
ニトロ基、C1〜C4−アルキル基、トリフルオルメチル
基、カルボキシ基、シアノ基、カルバモイル基、C1〜C4
−モノ−もしくはジアルキルカルバモイル基、フエニル
カルバモイル基、スルフアモイル基、C1〜C4−モノ−も
しくはジアルキルスルフアモイル基、フエニルスルフア
モイル基、ヒドロキシスルホニル基又はC1〜C4−アルカ
ノイルアミノ基、ＸはC1〜C4−アルキル基又は置換され
ていてもよいフエニル基を意味する）のピラゾロ〔5.1
−ｂ〕キナゾロンの製法。 - 【請求項２】触媒量の無水の炭酸ナトリウム又は炭酸カ
リウムの存在下に反応を行うことを特徴とする、第１請
求項に記載の方法。 - 【請求項３】溶剤としてのキシロール、ジクロルベンゾ
ール、ニトロベンゾール又は安息香酸メチルエステルの
中で反応を行うことを特徴とする、第１請求項に記載の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3730536.0 | 1987-09-11 | ||
| DE3730536 | 1987-09-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6471879A JPS6471879A (en) | 1989-03-16 |
| JP2647450B2 true JP2647450B2 (ja) | 1997-08-27 |
Family
ID=6335786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63222577A Expired - Fee Related JP2647450B2 (ja) | 1987-09-11 | 1988-09-07 | ピラゾロ〔５．１−ｂ〕キナゾロンの製法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5028705A (ja) |
| EP (1) | EP0306876B1 (ja) |
| JP (1) | JP2647450B2 (ja) |
| DE (1) | DE3854027D1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6011052A (en) * | 1996-04-30 | 2000-01-04 | Warner-Lambert Company | Pyrazolone derivatives as MCP-1 antagonists |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1242863A (en) * | 1968-05-10 | 1971-08-18 | Pharmacia As | 2,3-DIHYDRO-5H-THIAZOLO[2,3-b]QUINAZOLINES AND PROCESSES FOR THE PREPARATION THEREOF |
| US3883524A (en) * | 1972-06-08 | 1975-05-13 | Hoechst Co American | Quinazoline derivatives |
| US4261997A (en) * | 1980-01-11 | 1981-04-14 | Warner-Lambert Company | 4-Alkyl-pyrazolo[5,1-b]-quinazolin-9(4H)-ones and anti-allergic compositions containing them |
| US4247555A (en) * | 1980-01-11 | 1981-01-27 | Warner-Lambert Company | 4,9-Dihydro-9-oxo-N-1H-tetrazol-5-yl-pyrazolo[5,1-b]-quinazoline-2-carboxamides and antiallergic compositions and methods using them |
| US4261996A (en) * | 1980-01-11 | 1981-04-14 | Warner-Lambert Company | Pyrazolo[5,1-b]quinazolin-9-(4H)-ones and anti-allergic pharmaceutical compositions containing them |
| DE3065963D1 (en) * | 1979-01-24 | 1984-02-02 | Warner Lambert Co | Pyrazolo (5,1-b) quinazolin-9(4h)-one derivatives, process for their preparation and pharmaceutical compositions containing them |
| US4303795A (en) * | 1979-07-11 | 1981-12-01 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Substituted β-anilino-γ-methoxy-crotonates |
| EP0306866B1 (de) * | 1987-09-11 | 1993-03-03 | BASF Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung von Pyrazolo [5,1-b] chinazolonen |
-
1988
- 1988-09-03 DE DE3854027T patent/DE3854027D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-03 EP EP88114433A patent/EP0306876B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-09-07 JP JP63222577A patent/JP2647450B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1988-09-09 US US07/242,118 patent/US5028705A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3854027D1 (de) | 1995-07-27 |
| EP0306876B1 (de) | 1995-06-21 |
| JPS6471879A (en) | 1989-03-16 |
| EP0306876A2 (de) | 1989-03-15 |
| US5028705A (en) | 1991-07-02 |
| EP0306876A3 (en) | 1989-12-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100509812C (zh) | 制备n-([1,2,4]***并嘧啶-2-基)芳基磺酰胺的改进方法 | |
| JP2023027091A (ja) | アミノピリミジン誘導体を調製するための改善されたプロセス | |
| KR20000028987A (ko) | 피라졸로[4,3-디]피리미딘-7-온 및 그의 중간체의 제조방법 | |
| JP2647450B2 (ja) | ピラゾロ〔５．１−ｂ〕キナゾロンの製法 | |
| JP3101721B2 (ja) | 芳香族弗素化合物の製造法 | |
| EP3915984A1 (en) | SYNTHESIS OF 3-BROMO-5-(2-ETHYLIMIDAZO[1,2-alpha]PYRIDINE-3-CARBONYL)-2-HYDROXYBENZONITRILE | |
| JPH0641135A (ja) | イミダゾプテリジン誘導体及びその製造方法 | |
| JPS6026389B2 (ja) | ピリジンアルデヒドおよびその誘導体の製造方法 | |
| RU2241710C1 (ru) | Способ получения замещенных пиридо[1,2-а][1,3]бензимидазолов | |
| JP2710636B2 (ja) | ピラゾロ〔５．１−ｂ〕キナゾロンの製法 | |
| US6762303B2 (en) | Method for producing pyridine compounds | |
| US5223622A (en) | Quinazolin-2-ones | |
| JPS63104955A (ja) | スルホニルイソチオ尿素の製造方法 | |
| US3082212A (en) | Sulphonamides of th-pyrrolo[3, 4-b]-pyridines | |
| KR20170109709A (ko) | 신규한 피리도아이소인돌 유도체의 제조방법 | |
| JPH06220019A (ja) | ２−ヒドロキシ−３，５−ジニトロピリジン類の製造法 | |
| JPH0673058A (ja) | ５−デアザフラビン誘導体、その製造法 | |
| JPH04323267A (ja) | トリメチン色素の製造方法 | |
| CN111606850A (zh) | 贝达喹啉及其中间体的制备方法 | |
| JPH03169864A (ja) | ３―メチルキノリン―８―カルボン酸の製造法 | |
| CN115677696A (zh) | 一种苯并萘啶衍生物的制备方法 | |
| CN116283707A (zh) | 一种可见光促进吲哚化合物的合成方法 | |
| JPH0713041B2 (ja) | ハロゲノニトロベンゼン誘導体とその製造方法 | |
| JPH0417182B2 (ja) | ||
| JPH02300155A (ja) | ２―アシル―２―アリールオキシ又はヘテロ環オキシアセトニトリル類およびアミノピラゾール類の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |