JP2645201B2 - 点状被覆形成装置および被覆された部材 - Google Patents
点状被覆形成装置および被覆された部材Info
- Publication number
- JP2645201B2 JP2645201B2 JP4080656A JP8065692A JP2645201B2 JP 2645201 B2 JP2645201 B2 JP 2645201B2 JP 4080656 A JP4080656 A JP 4080656A JP 8065692 A JP8065692 A JP 8065692A JP 2645201 B2 JP2645201 B2 JP 2645201B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- band
- wheel
- shaped
- segments
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/02—Electroplating of selected surface areas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/02—Electroplating of selected surface areas
- C25D5/022—Electroplating of selected surface areas using masking means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Medicinal Preparation (AREA)
Description
【０００１】本発明は、金属バンドまたはメタライズド
バンドに、点状被覆を電解または無電解金属メッキによ
って形成する装置であり、この装置が金属バンドまたは
メタライズドバンドを通過させることができるホイール
形ガイド手段と、動作中に通過するバンドと協働して、
所望の点状被覆を形成するのに適する形状の流路を設け
たエンドレスマスク手段とを有し、このマスク手段が相
互に独立したマスク・セグメントからなり、各マスク・
セグメントが、マスク手段の長手方向に相互に運動可能
に結合されており、かつ、少なくとも１つの流路と、ピ
ンと、マスク・セグメントの内方界面とを有し、このピ
ンが、動作中にバンドに設けた凹部と係合するように設
けてあり、マスク・セグメントの内方界面が、バンドを
支持するマスク・セグメントの外方界面から隔たった側
にあって、動作中に、ホイール形手段の円周状支持面と
協働するように設けてある装置に関する。
バンドに、点状被覆を電解または無電解金属メッキによ
って形成する装置であり、この装置が金属バンドまたは
メタライズドバンドを通過させることができるホイール
形ガイド手段と、動作中に通過するバンドと協働して、
所望の点状被覆を形成するのに適する形状の流路を設け
たエンドレスマスク手段とを有し、このマスク手段が相
互に独立したマスク・セグメントからなり、各マスク・
セグメントが、マスク手段の長手方向に相互に運動可能
に結合されており、かつ、少なくとも１つの流路と、ピ
ンと、マスク・セグメントの内方界面とを有し、このピ
ンが、動作中にバンドに設けた凹部と係合するように設
けてあり、マスク・セグメントの内方界面が、バンドを
支持するマスク・セグメントの外方界面から隔たった側
にあって、動作中に、ホイール形手段の円周状支持面と
協働するように設けてある装置に関する。
【０００２】このような装置は欧州特許０，０６０，５
９１から知られている。このような装置は、電子工業で
大量に必要とされる基本要素、たとえばトランジスタ、
集積回路などの製造において使用される金属から切抜い
た支持要素、またはコンタクト系、スイッチ要素など、
ならびにプラスチック材料の支持シートの上でエッチン
グされた金属パターンの処理に使用される。一般に金、
パラジウムまたは銀のような高価な金属の被覆を、一方
において、搭載する目的で、また他方において、特に信
頼性のあるコンタクト系を得る目的で、これらの基本要
素に適用する必要がある。通常、このような被覆は、基
本要素の特定の作用部分に限定することができる。高価
な金属を使用する被覆は前述の型の装置に基本要素を通
過させて行う。このような被覆は、通常、特定の基本要
素の作用部分に限定される。前述のような装置を使用し
て高価な金属の被覆を行うには、長いバンドをエッチン
グするか、または切抜いて作製した基本要素を前述の装
置に通過させる。このとき基本要素はバンドに結合され
たままの状態であって、バンドは装置の外側に配置した
リールから巻出され、次に他のリールに巻込まれる。
９１から知られている。このような装置は、電子工業で
大量に必要とされる基本要素、たとえばトランジスタ、
集積回路などの製造において使用される金属から切抜い
た支持要素、またはコンタクト系、スイッチ要素など、
ならびにプラスチック材料の支持シートの上でエッチン
グされた金属パターンの処理に使用される。一般に金、
パラジウムまたは銀のような高価な金属の被覆を、一方
において、搭載する目的で、また他方において、特に信
頼性のあるコンタクト系を得る目的で、これらの基本要
素に適用する必要がある。通常、このような被覆は、基
本要素の特定の作用部分に限定することができる。高価
な金属を使用する被覆は前述の型の装置に基本要素を通
過させて行う。このような被覆は、通常、特定の基本要
素の作用部分に限定される。前述のような装置を使用し
て高価な金属の被覆を行うには、長いバンドをエッチン
グするか、または切抜いて作製した基本要素を前述の装
置に通過させる。このとき基本要素はバンドに結合され
たままの状態であって、バンドは装置の外側に配置した
リールから巻出され、次に他のリールに巻込まれる。
【０００３】電子工業が進歩し、使用する基本要素は、
ますます複雑なパターンを有し、しかもますます小型か
つ軽量となることが求められた。この開発の結果、集積
回路の製造に使用する切取った基本要素、または支持部
材には、従来、通常使用されていた厚み０．２５〜０．
４０mmの金属バンドの代りに、厚み０．０７５〜０．１
２５mmの金属バンドを使用するようになった。さらに、
通常、ポリイミドであるプラスチック材料から作製した
厚み０．０１５〜０．１５０mmのバンドには、通常、銅
である厚み０．０３５mmの金属被覆を適用して、フォト
ケミカルエッチングによって所望のパターンの基本要素
を金属被覆に形成する。
ますます複雑なパターンを有し、しかもますます小型か
つ軽量となることが求められた。この開発の結果、集積
回路の製造に使用する切取った基本要素、または支持部
材には、従来、通常使用されていた厚み０．２５〜０．
４０mmの金属バンドの代りに、厚み０．０７５〜０．１
２５mmの金属バンドを使用するようになった。さらに、
通常、ポリイミドであるプラスチック材料から作製した
厚み０．０１５〜０．１５０mmのバンドには、通常、銅
である厚み０．０３５mmの金属被覆を適用して、フォト
ケミカルエッチングによって所望のパターンの基本要素
を金属被覆に形成する。
【０００４】明らかなように、このような金属バンドま
たはメタライズドバンドは特に損傷されやすいので、こ
のバンドを処理する装置は、一方において、バンドに損
傷を与えないことが強く要求され、他方において、点状
被覆を、最小の使用量で、基本要素の所望の位置に厳密
な正確性で適用することが強く要求される。
たはメタライズドバンドは特に損傷されやすいので、こ
のバンドを処理する装置は、一方において、バンドに損
傷を与えないことが強く要求され、他方において、点状
被覆を、最小の使用量で、基本要素の所望の位置に厳密
な正確性で適用することが強く要求される。
【０００５】前記欧州特許０，０６０，５９１は、バン
ドの処理についての注意事項および点状被覆の適用につ
いての正確性のいずれもそれ自身として、満足なもので
ある。この公知の装置を熟練者が使用するとき、バンド
の長手方向で測定して、点状被覆の相互間の距離の偏差
は、±０．１５mm未満である。
ドの処理についての注意事項および点状被覆の適用につ
いての正確性のいずれもそれ自身として、満足なもので
ある。この公知の装置を熟練者が使用するとき、バンド
の長手方向で測定して、点状被覆の相互間の距離の偏差
は、±０．１５mm未満である。
【０００６】本発明の目的は、寸法の正確性を一層達成
し、これによって被覆材料を一層節減し、および／また
は基本要素は一層複雑なパターンを形成し、しかも点状
被覆を正確な位置に適用することができることである。
し、これによって被覆材料を一層節減し、および／また
は基本要素は一層複雑なパターンを形成し、しかも点状
被覆を正確な位置に適用することができることである。
【０００７】本発明によって、マスク手段を構成するマ
スク・セグメントの内方界面は、ホイール形手段の円周
状支持面と協働するものであるが、マスク手段の長手方
向で測定して、前者の内方界面の全長は、後者の円周状
支持面より大きい。
スク・セグメントの内方界面は、ホイール形手段の円周
状支持面と協働するものであるが、マスク手段の長手方
向で測定して、前者の内方界面の全長は、後者の円周状
支持面より大きい。
【０００８】本発明の構成を使用するとき、動作中に、
マスク・セグメントは、処理すべきバンドと、ホイール
形手段の円周状支持面との間で、保持されず、円周状支
持面から幾らかの距離をあけて隔設されている。これと
異なり、欧州特許０，０６０，５９１で使用する構造
は、ホイール形手段の周りのマスク手段は比較的密接し
ており、マスク手段は、何時でもホイール形手段の円周
状支持面で支持される。本発明の構成を使用するとき、
バンドが最初にホイール形手段と点接触し、この点に来
るマスク・セグメントのピンがバンドの対応する凹部と
係合し、マスク・セグメントは、このマスク・セグメン
トの運動方向から見て、後方から来るマスク・セグメン
トによって邪魔されずに、バンドに対して自身を自由に
調節することができる。
マスク・セグメントは、処理すべきバンドと、ホイール
形手段の円周状支持面との間で、保持されず、円周状支
持面から幾らかの距離をあけて隔設されている。これと
異なり、欧州特許０，０６０，５９１で使用する構造
は、ホイール形手段の周りのマスク手段は比較的密接し
ており、マスク手段は、何時でもホイール形手段の円周
状支持面で支持される。本発明の構成を使用するとき、
バンドが最初にホイール形手段と点接触し、この点に来
るマスク・セグメントのピンがバンドの対応する凹部と
係合し、マスク・セグメントは、このマスク・セグメン
トの運動方向から見て、後方から来るマスク・セグメン
トによって邪魔されずに、バンドに対して自身を自由に
調節することができる。
【０００９】本発明の構成を使用するとき、バンドが極
めて薄く、かつ損傷されやすくても、処理装置を連続的
に通過させることができると同時に、マスク・セグメン
トが処理すべきバンドと最初に接触する点において、マ
スク・セグメントが自由に調節することができる。これ
によって許容度の差が蓄積することを回避する。許容度
の差の蓄積を回避することによって、相互に接触して来
る、マスク・セグメントのピンの部分とバンドに設けた
凹部との間の遊びの量を、従来の装置を使用したときの
遊びの量と比べて、減少させることができる。驚くべき
ことに、ベルトの長手方向で測定して、連続する点状被
覆の距離の変化は、±０．０７５mm以下に限定すること
ができ、全く問題のないことが明らかになった。
めて薄く、かつ損傷されやすくても、処理装置を連続的
に通過させることができると同時に、マスク・セグメン
トが処理すべきバンドと最初に接触する点において、マ
スク・セグメントが自由に調節することができる。これ
によって許容度の差が蓄積することを回避する。許容度
の差の蓄積を回避することによって、相互に接触して来
る、マスク・セグメントのピンの部分とバンドに設けた
凹部との間の遊びの量を、従来の装置を使用したときの
遊びの量と比べて、減少させることができる。驚くべき
ことに、ベルトの長手方向で測定して、連続する点状被
覆の距離の変化は、±０．０７５mm以下に限定すること
ができ、全く問題のないことが明らかになった。
【００１０】米国特許Ａ−４，４１４，０７５の開示す
る、金属バンドなどに点状被覆を適用する装置は、マス
ク・セグメントをピボット結合したエンドレスマスク手
段を使用する。各セグメントにマスク・カバーをピボッ
ト結合させ、マスク・カバーが、非動作位置と、マスク
カバーとこれに結合させたマスク・セグメントとの間
で、バンドを把持する動作位置との間でピボット運動さ
せる。
る、金属バンドなどに点状被覆を適用する装置は、マス
ク・セグメントをピボット結合したエンドレスマスク手
段を使用する。各セグメントにマスク・カバーをピボッ
ト結合させ、マスク・カバーが、非動作位置と、マスク
カバーとこれに結合させたマスク・セグメントとの間
で、バンドを把持する動作位置との間でピボット運動さ
せる。
【００１１】この公知の装置を使用すると、バンドの部
分がマスク・セグメントと、これに結合したマスク・カ
バーとの間にあり、これらは、マスク・セグメントを押
す隔設された真直な静止ガイド手段とマスク・カバーと
の間で、マスク・セグメントとマスク・カバーとを相互
に向けて案内する。これによってバンドの把持された部
分は、電解部署を眞直な通路に沿って通過し、電解部署
の内部のバンドに向けて電解液を放出し、バンドの上に
所望の被覆を形成する。
分がマスク・セグメントと、これに結合したマスク・カ
バーとの間にあり、これらは、マスク・セグメントを押
す隔設された真直な静止ガイド手段とマスク・カバーと
の間で、マスク・セグメントとマスク・カバーとを相互
に向けて案内する。これによってバンドの把持された部
分は、電解部署を眞直な通路に沿って通過し、電解部署
の内部のバンドに向けて電解液を放出し、バンドの上に
所望の被覆を形成する。
【００１２】この公知の装置の構造は繁雑であって費用
がかかり、さらに力の比較的大部分が、マスク手段とバ
ンドとの変位、特に電解部署の近くに配置したガイド手
段の間で、相互に把持されたマスク・セグメントとマス
ク・カバーとの運動に関して必要となる。これによっ
て、米国特許Ａ−４，４１４，０７５は、損傷されやす
いバンドを処理するとき、マスク手段を駆動することを
提案するが、この運動のとき、バンドがマスク・セグメ
ントと最初に接触すると、バンドに対して特定の位置を
最初に占めたマスク・セグメントが、マスク手段の長手
方向に、相互に運動し、その結果、バンドまたは基本要
素の変形を回避することができない、これは特にバンド
が薄いとき、および／または基本要素が複雑な切抜きパ
ターンを有するときに問題となる。従って点状被覆を狭
い許容度で所望のように適用することは不可能である。
がかかり、さらに力の比較的大部分が、マスク手段とバ
ンドとの変位、特に電解部署の近くに配置したガイド手
段の間で、相互に把持されたマスク・セグメントとマス
ク・カバーとの運動に関して必要となる。これによっ
て、米国特許Ａ−４，４１４，０７５は、損傷されやす
いバンドを処理するとき、マスク手段を駆動することを
提案するが、この運動のとき、バンドがマスク・セグメ
ントと最初に接触すると、バンドに対して特定の位置を
最初に占めたマスク・セグメントが、マスク手段の長手
方向に、相互に運動し、その結果、バンドまたは基本要
素の変形を回避することができない、これは特にバンド
が薄いとき、および／または基本要素が複雑な切抜きパ
ターンを有するときに問題となる。従って点状被覆を狭
い許容度で所望のように適用することは不可能である。
【００１３】本発明は、添付図面を参照して、さらに説
明する。図２に示すように、金属バンドまたはメタライ
ズドバンドは、点状被覆を局部的に設けるものであり、
これらは切抜いた金属バンドでもよく、またはプラスチ
ック材料のバンドに適用した金属被覆でもよい。バンド
の形は、バンドの長手方向に延在する２つの縁部１およ
び２と、２つの縁部の間にあって、これらに連結してい
る指形部３および４と、この指形部３の自由端で囲まれ
た直方形部５とを有し、この直方形部５が連結ストリッ
プ６および７によってそれぞれ縁部１および２に連結し
ている。これらのうち部分３〜７が基本製品を形成し、
縁部１および２が多数の同様な基本製品を相互に連結し
てバンドを形成する。このバンドはさらに１つ以上の工
程で処理する。たとえば後に記載する装置を通過させ
て、バンドの上に点状被覆を適用する。一般に、この点
状被覆は、図２のハッチングされた領域Ａで示される各
基本製品の部分に適用する。
明する。図２に示すように、金属バンドまたはメタライ
ズドバンドは、点状被覆を局部的に設けるものであり、
これらは切抜いた金属バンドでもよく、またはプラスチ
ック材料のバンドに適用した金属被覆でもよい。バンド
の形は、バンドの長手方向に延在する２つの縁部１およ
び２と、２つの縁部の間にあって、これらに連結してい
る指形部３および４と、この指形部３の自由端で囲まれ
た直方形部５とを有し、この直方形部５が連結ストリッ
プ６および７によってそれぞれ縁部１および２に連結し
ている。これらのうち部分３〜７が基本製品を形成し、
縁部１および２が多数の同様な基本製品を相互に連結し
てバンドを形成する。このバンドはさらに１つ以上の工
程で処理する。たとえば後に記載する装置を通過させ
て、バンドの上に点状被覆を適用する。一般に、この点
状被覆は、図２のハッチングされた領域Ａで示される各
基本製品の部分に適用する。
【００１４】本発明の装置によって処理する製品の他の
例を図３に示す。図示のように接触ピン８で形成される
基本製品は、バンド形手段８Ａによって相互に連結して
長いバンドを形成する。このバンドを本発明の装置に通
過させて、基本製品８の一点鎖線で示す領域Ｂに点状被
覆を適用する。このような点状被覆を電解法によって適
用することが原理的に知られている、たとえば前述の欧
州特許０，０６０，５９１またはオランダ特許１５０，
８６０を参照。
例を図３に示す。図示のように接触ピン８で形成される
基本製品は、バンド形手段８Ａによって相互に連結して
長いバンドを形成する。このバンドを本発明の装置に通
過させて、基本製品８の一点鎖線で示す領域Ｂに点状被
覆を適用する。このような点状被覆を電解法によって適
用することが原理的に知られている、たとえば前述の欧
州特許０，０６０，５９１またはオランダ特許１５０，
８６０を参照。
【００１５】図１および４〜７に示す本発明の装置は、
ホイール形手段９を有し、これは動作中に回転軸１０の
周りを自由に回転することができる。ホイール形手段９
は２つの隔設されたホイールリング１１および１２を有
し、これらのホイール・リング１１および１２は、３つ
の規則的に隔設された支持ローラ１３（図４）によっ
て、図示しないフレームに取付けられ、支持ローラはホ
イール形手段９の回転軸１０の周りに配置して、フレー
ムにジャーナル軸受けされている。簡単のため、図１に
は、支持ローラ１３を示していない。
ホイール形手段９を有し、これは動作中に回転軸１０の
周りを自由に回転することができる。ホイール形手段９
は２つの隔設されたホイールリング１１および１２を有
し、これらのホイール・リング１１および１２は、３つ
の規則的に隔設された支持ローラ１３（図４）によっ
て、図示しないフレームに取付けられ、支持ローラはホ
イール形手段９の回転軸１０の周りに配置して、フレー
ムにジャーナル軸受けされている。簡単のため、図１に
は、支持ローラ１３を示していない。
【００１６】図４に示すように、支持ローラ１３は突出
するカラー１４を有し、これはホイール・リング１１お
よび１２の円周に設けた溝の内を走る。ホイール・リン
グ１１はホイール・リング１２に対面する側に円周状凹
部を設け、この円周状凹部は、回転軸１０に直角に延在
する界面１５と、回転軸１０の周りに同心的に延在する
界面１６とによって限られている。
するカラー１４を有し、これはホイール・リング１１お
よび１２の円周に設けた溝の内を走る。ホイール・リン
グ１１はホイール・リング１２に対面する側に円周状凹
部を設け、この円周状凹部は、回転軸１０に直角に延在
する界面１５と、回転軸１０の周りに同心的に延在する
界面１６とによって限られている。
【００１７】ホイールの上方をエンドレスマスク手段１
７が通過し、これは相互に連結された多数のマスク・セ
グメント１８から作製されている。連続するマスク・セ
グメント１８は連結プレート１９で相互に連結され、こ
れは回転軸１０に平行して延在するピン２０によって、
マスク・セグメントにピボット結合している（図５〜７
参照）。マスク・セグメント１８は、内方界面２１を有
し、これはホイール・リング１１および１２の界面１６
の曲率半径に等しい曲率半径を有する。この内方界面２
１はマスク・セグメント１８の支持面を形成する。
７が通過し、これは相互に連結された多数のマスク・セ
グメント１８から作製されている。連続するマスク・セ
グメント１８は連結プレート１９で相互に連結され、こ
れは回転軸１０に平行して延在するピン２０によって、
マスク・セグメントにピボット結合している（図５〜７
参照）。マスク・セグメント１８は、内方界面２１を有
し、これはホイール・リング１１および１２の界面１６
の曲率半径に等しい曲率半径を有する。この内方界面２
１はマスク・セグメント１８の支持面を形成する。
【００１８】エンドレスマスク手段１７の部分を形成す
るマスク・セグメント１８の内方界面２１の円周方向で
測定した全長は、円周方向で測定した支持面１６の全長
より大きい。従って、特に図１から明らかなように、マ
スク・セグメント１８の部分の内方界面２１は、２つの
ホイール・リング１１および１２の対応する支持面１６
から隔設され、図１から見て、エンドレスマスク手段１
７の下方部分である各マスク・セグメント１８は、バン
ドの長手方向に相互に自由に運動することができる。マ
スク・セグメントが相互に自由に運動できることは、図
５および６に示すように、ピン２０が貫通する連結プレ
ート１９に設けた孔２２の１つがスロット孔であるため
である。
るマスク・セグメント１８の内方界面２１の円周方向で
測定した全長は、円周方向で測定した支持面１６の全長
より大きい。従って、特に図１から明らかなように、マ
スク・セグメント１８の部分の内方界面２１は、２つの
ホイール・リング１１および１２の対応する支持面１６
から隔設され、図１から見て、エンドレスマスク手段１
７の下方部分である各マスク・セグメント１８は、バン
ドの長手方向に相互に自由に運動することができる。マ
スク・セグメントが相互に自由に運動できることは、図
５および６に示すように、ピン２０が貫通する連結プレ
ート１９に設けた孔２２の１つがスロット孔であるため
である。
【００１９】さらに図５および６からも明らかなよう
に、各マスク・セグメントは、半径方向に延在するピン
２３を有し、これはマスク・セグメントの外方界面２４
から突出しており、外側に向けてテーパ状となってい
る。各マスク手段は流路２５を有し、この流路は外方界
面２４の近くで、軟質の弾発性材料からなるインサート
２６で囲まれている。このインサート２６は外方界面２
４に設けた対応する形の凹部に嵌入し、またインサート
２６は突出部２７を有し、これはマスク・セグメントに
設けた孔に挿入して、インサート２６を固定する。
に、各マスク・セグメントは、半径方向に延在するピン
２３を有し、これはマスク・セグメントの外方界面２４
から突出しており、外側に向けてテーパ状となってい
る。各マスク手段は流路２５を有し、この流路は外方界
面２４の近くで、軟質の弾発性材料からなるインサート
２６で囲まれている。このインサート２６は外方界面２
４に設けた対応する形の凹部に嵌入し、またインサート
２６は突出部２７を有し、これはマスク・セグメントに
設けた孔に挿入して、インサート２６を固定する。
【００２０】ハウジング２８が２つのホイール・リング
１１および１２の間に配置され、チャンバ２９を規定す
る。装置の動作中に、加圧された電解液をチャンバ２９
に送る。チャンバ２９を規定するハウジング２８の周壁
の、上側の近くに多数の長手方向のスリット３０を設
け、これは回転軸１０に平行して延在し、加圧された電
解液を、ホイール形手段９の上方部分に載置したマスク
・セグメント１８の方向に放出する。
１１および１２の間に配置され、チャンバ２９を規定す
る。装置の動作中に、加圧された電解液をチャンバ２９
に送る。チャンバ２９を規定するハウジング２８の周壁
の、上側の近くに多数の長手方向のスリット３０を設
け、これは回転軸１０に平行して延在し、加圧された電
解液を、ホイール形手段９の上方部分に載置したマスク
・セグメント１８の方向に放出する。
【００２１】ホイール形手段９の上方部分に載置したマ
スク・セグメント１８は、エンドレスの押付けバンドま
たはマスク・バンド３１と協動し、このバンド３１は図
１に示すように、３つのガイド・ホイール３２を回って
通り、このバンド３１は、ホイール形手段９の上方部分
に載置したマスク・セグメント１８の外側に、たとえば
１５０〜１６０°の円周角に沿って、当接する。
スク・セグメント１８は、エンドレスの押付けバンドま
たはマスク・バンド３１と協動し、このバンド３１は図
１に示すように、３つのガイド・ホイール３２を回って
通り、このバンド３１は、ホイール形手段９の上方部分
に載置したマスク・セグメント１８の外側に、たとえば
１５０〜１６０°の円周角に沿って、当接する。
【００２２】さらに図４に示すように、ホイール・リン
グ１１で支持されたＬ字形リング３３をホイール・リン
グ１１の内側に設け、マスク・セグメント１８の内方円
周に形成された対応する形の凹部に嵌入する。このリン
グ３３は、マスク・セグメント１８の位置を良好に保持
するとともに、望ましくない傾きが生ずることを防ぐ。
グ１１で支持されたＬ字形リング３３をホイール・リン
グ１１の内側に設け、マスク・セグメント１８の内方円
周に形成された対応する形の凹部に嵌入する。このリン
グ３３は、マスク・セグメント１８の位置を良好に保持
するとともに、望ましくない傾きが生ずることを防ぐ。
【００２３】たとえば図２および３に示す前述の基本要
素を含むバンド３４は、動作中に図１および４〜６に示
すように、エンドレスバンド３１と、マスク・セグメン
ト１８の外方界面２４との間を通過する。一般に、バン
ド３４は、図示しない駆動手段によって、長手方向に運
動する。
素を含むバンド３４は、動作中に図１および４〜６に示
すように、エンドレスバンド３１と、マスク・セグメン
ト１８の外方界面２４との間を通過する。一般に、バン
ド３４は、図示しない駆動手段によって、長手方向に運
動する。
【００２４】バンド３４がホイール形手段と接触すると
き、図５および６に示すように、ピン２３の円錐端がバ
ンド３４に設けられた挿入用凹部３５に徐々に嵌入す
る。従って凹部３５は、所定のピッチ距離でバンド３４
に設け、処理すべき基本要素の寸法および点状被覆を適
用する場所の寸法に適するピッチを有するようにする。
図５および６に示すように、ピン２３の端が、バンド３
４の運動方向から見て、凹部３５の後端に係合するの
で、バンド３４がマスク・セグメント１８を捕捉する。
き、図５および６に示すように、ピン２３の円錐端がバ
ンド３４に設けられた挿入用凹部３５に徐々に嵌入す
る。従って凹部３５は、所定のピッチ距離でバンド３４
に設け、処理すべき基本要素の寸法および点状被覆を適
用する場所の寸法に適するピッチを有するようにする。
図５および６に示すように、ピン２３の端が、バンド３
４の運動方向から見て、凹部３５の後端に係合するの
で、バンド３４がマスク・セグメント１８を捕捉する。
【００２５】バンド３４が捕捉したマスク・セグメント
１８は、先行するマスク・セグメント１８に対して、マ
スク・セグメントからなるマスク手段の長手方向に一定
の限度で運動することができる。この運動はこのセグメ
ントに自由に連結された後から来るマスク・セグメント
によって妨げられない。バンドが捕捉したマスク・セグ
メント１８は、バンドに望ましくない力を及ぼさずに、
自分自身をバンドに対して自由に調節することができ
る。その結果、マスク・セグメントに設けた流路２５の
孔は、点状被覆を適用すべきバンド３４の位置に対して
正確に位置することとなる。
１８は、先行するマスク・セグメント１８に対して、マ
スク・セグメントからなるマスク手段の長手方向に一定
の限度で運動することができる。この運動はこのセグメ
ントに自由に連結された後から来るマスク・セグメント
によって妨げられない。バンドが捕捉したマスク・セグ
メント１８は、バンドに望ましくない力を及ぼさずに、
自分自身をバンドに対して自由に調節することができ
る。その結果、マスク・セグメントに設けた流路２５の
孔は、点状被覆を適用すべきバンド３４の位置に対して
正確に位置することとなる。
【００２６】電解液は、回転軸１０に平行して延在する
スリット３０を通してチャンバから放出されるので、あ
たかも脈動するように流路２５に注入する。これは流路
２５が、固定して配置されたチャンバ２８のスリット３
０に対して、動作中に運動するためである。その結果、
流路２５は、ハウジング２８のスリット３０に沿って運
動する間に、新鮮な電解液で一杯になる。これは、所期
の点状被覆の有効な適用に寄与する。流路２５を囲むイ
ンサート２６と、バンド３４の外側に当接するエンドレ
スマスク・バンド３１とは、これによってバンドの部分
に沿って電解液が望ましくなく流れることを防止する。
スリット３０を通してチャンバから放出されるので、あ
たかも脈動するように流路２５に注入する。これは流路
２５が、固定して配置されたチャンバ２８のスリット３
０に対して、動作中に運動するためである。その結果、
流路２５は、ハウジング２８のスリット３０に沿って運
動する間に、新鮮な電解液で一杯になる。これは、所期
の点状被覆の有効な適用に寄与する。流路２５を囲むイ
ンサート２６と、バンド３４の外側に当接するエンドレ
スマスク・バンド３１とは、これによってバンドの部分
に沿って電解液が望ましくなく流れることを防止する。
【００２７】通常、バンド３４は陰極として作用し、ハ
ウジング２８は陽極を含む。勿論、連続して配置された
マスク・セグメントの間にシール手段が必要である、こ
れは前述の欧州特許０，０６０，５９１にも記載されて
いる。このようなシール手段３６は、たとえば図１０に
示すように、Ｉ字形断面を有し、厚い端部は、これに対
応する形の凹部３７に幾らかの遊びをもって嵌入してい
る。この凹部３７は、図１０に略示する連続して配置さ
れた２つのマスク・セグメント１８の相互に対面する側
に設けてある。
ウジング２８は陽極を含む。勿論、連続して配置された
マスク・セグメントの間にシール手段が必要である、こ
れは前述の欧州特許０，０６０，５９１にも記載されて
いる。このようなシール手段３６は、たとえば図１０に
示すように、Ｉ字形断面を有し、厚い端部は、これに対
応する形の凹部３７に幾らかの遊びをもって嵌入してい
る。この凹部３７は、図１０に略示する連続して配置さ
れた２つのマスク・セグメント１８の相互に対面する側
に設けてある。
【００２８】勿論、本発明の精神および範囲のなかで、
さらに変更および／または追加を思付くことができる。
図８に略示したように、連結プレートに設けた２つの孔
２２は断面が円形でなくともよい。これによって２つの
ピン２０を、対応する孔２２に幾らかの遊びをもって係
合させることができる。
さらに変更および／または追加を思付くことができる。
図８に略示したように、連結プレートに設けた２つの孔
２２は断面が円形でなくともよい。これによって２つの
ピン２０を、対応する孔２２に幾らかの遊びをもって係
合させることができる。
【００２９】図９に示す態様において、ピン２０′が連
結プレート１９′に固定されており、対応するセグメン
ト１８′に設けた孔２２′がピン２０′を受入れてい
る。この孔の少なくとも１つはスロットまたはこれに似
た形を有する。
結プレート１９′に固定されており、対応するセグメン
ト１８′に設けた孔２２′がピン２０′を受入れてい
る。この孔の少なくとも１つはスロットまたはこれに似
た形を有する。
【００３０】図１１は、連続して配置された２つのマス
ク・セグメント１８の間に設けるシール手段３８の他の
態様を示す。このシール手段はＵ字形脚部３９を有し、
その両脚は相互に平行して延在し、２つのセグメント１
８の相互に対面する側に設けた凹部４０に嵌入する。Ｕ
字形脚部３９の自由端はチャンバ２８に指向するように
配置してあるので、チャンバ２８から放出されて、２つ
のセグメント１８の対面する端の間を、矢印Ａの方向に
流れると、Ｕ字形脚部の２つの脚を、点線で示すよう
に、外方に押圧して有効にシールすることができる。
ク・セグメント１８の間に設けるシール手段３８の他の
態様を示す。このシール手段はＵ字形脚部３９を有し、
その両脚は相互に平行して延在し、２つのセグメント１
８の相互に対面する側に設けた凹部４０に嵌入する。Ｕ
字形脚部３９の自由端はチャンバ２８に指向するように
配置してあるので、チャンバ２８から放出されて、２つ
のセグメント１８の対面する端の間を、矢印Ａの方向に
流れると、Ｕ字形脚部の２つの脚を、点線で示すよう
に、外方に押圧して有効にシールすることができる。
【００３１】図１２は、同様なシール手段４４の構成を
示し、Ｕ字形脚部４５と、これを結合するウェブ４６と
からなる。このシール手段４４は、図１２に示すよう
に、２つのマスク・セグメント１８の相互に対面する側
に設けた凹部４７に嵌合する。このシール手段の動作
は、図１１に示すシール手段３８の動作に対応する。
示し、Ｕ字形脚部４５と、これを結合するウェブ４６と
からなる。このシール手段４４は、図１２に示すよう
に、２つのマスク・セグメント１８の相互に対面する側
に設けた凹部４７に嵌合する。このシール手段の動作
は、図１１に示すシール手段３８の動作に対応する。
【００３２】図１３および１４に示す態様は、略示した
２つのマスク・セグメント１８の相互に対面する側にス
ロット孔４８を設け、プレート状シール手段４９は、そ
の端がスロット孔４８の内部に位置して、２つのマスク
・セグメント４８の対面する側の間隙を跨いでシールす
る。さらにスロット４８に対して直角に延在する孔５０
をマスク・セグメント１８に設けて、シール手段４９の
内部に設けた孔５２を通して延在するピン５１を嵌入さ
せる。この孔５２の少なくとも幾つかは、対応するピン
５１の直径より大きい直径を有する。
２つのマスク・セグメント１８の相互に対面する側にス
ロット孔４８を設け、プレート状シール手段４９は、そ
の端がスロット孔４８の内部に位置して、２つのマスク
・セグメント４８の対面する側の間隙を跨いでシールす
る。さらにスロット４８に対して直角に延在する孔５０
をマスク・セグメント１８に設けて、シール手段４９の
内部に設けた孔５２を通して延在するピン５１を嵌入さ
せる。この孔５２の少なくとも幾つかは、対応するピン
５１の直径より大きい直径を有する。
【００３３】シール手段４９は、２つの連続して配置さ
れたマスク・セグメント１８の間隙をシールする作用を
するのみならず、これらのマスク・セグメント１８を運
動可能に結合するので、前述の連結プレート１９の代り
となる。
れたマスク・セグメント１８の間隙をシールする作用を
するのみならず、これらのマスク・セグメント１８を運
動可能に結合するので、前述の連結プレート１９の代り
となる。
【００３４】図１５および１６は、他の態様を示し、連
続して配置されたマスク・セグメントの間のシール手段
が、マスク・セグメントを運動可能に結合する。図１５
および１６に示すように、２つのマスク・セグメント１
８の対面する端の近くの内側に凹部を設け、これに可撓
性材料から作製した連結プレート５３の端部を嵌入して
固定する。図１５および１６から明らかなように、この
連結プレートは隣接する２つのマスク・セグメント１８
の対面する端の間の流路をシールし、同時に２つのマス
ク・セグメント１８を相互に連結して、マスク・セグメ
ントからなるマスク手段の長手方向にマスク・セグメン
トが相互に運動できるようにする。
続して配置されたマスク・セグメントの間のシール手段
が、マスク・セグメントを運動可能に結合する。図１５
および１６に示すように、２つのマスク・セグメント１
８の対面する端の近くの内側に凹部を設け、これに可撓
性材料から作製した連結プレート５３の端部を嵌入して
固定する。図１５および１６から明らかなように、この
連結プレートは隣接する２つのマスク・セグメント１８
の対面する端の間の流路をシールし、同時に２つのマス
ク・セグメント１８を相互に連結して、マスク・セグメ
ントからなるマスク手段の長手方向にマスク・セグメン
トが相互に運動できるようにする。
【００３５】図１７に示す態様は、マスク・セグメント
が、その一端に、少なくとも実質的に円形な断面を有す
る結合ロッド５４を有し、このロッド５４より直径が小
さい連結ネック５５によって、マスク・セグメント１８
の本体部分にロッド５４を連結する。結合ロッド５４と
連結ネック５５とは、マスク・セグメント１８の全幅に
わたって延在する。結合ロッド５４は、隣接するマスク
・セグメントの対面する端に設けた凹部５６に嵌入す
る。この凹部の直径は、結合ロッドが凹部の内部で幾ら
かの遊びをもつことができるようにする。明らかなよう
に、結合ロッド５４は、連結ネック５５と協働し、連続
して配置された２つのマスク・セグメント１８の間の間
隙をシールし、また結合ロッド５４は、これを嵌入させ
る凹部５６と協働して、マスク・セグメントからなるマ
スク手段の長手方向に一定の距離に沿って、相互に運動
可能に連結する。
が、その一端に、少なくとも実質的に円形な断面を有す
る結合ロッド５４を有し、このロッド５４より直径が小
さい連結ネック５５によって、マスク・セグメント１８
の本体部分にロッド５４を連結する。結合ロッド５４と
連結ネック５５とは、マスク・セグメント１８の全幅に
わたって延在する。結合ロッド５４は、隣接するマスク
・セグメントの対面する端に設けた凹部５６に嵌入す
る。この凹部の直径は、結合ロッドが凹部の内部で幾ら
かの遊びをもつことができるようにする。明らかなよう
に、結合ロッド５４は、連結ネック５５と協働し、連続
して配置された２つのマスク・セグメント１８の間の間
隙をシールし、また結合ロッド５４は、これを嵌入させ
る凹部５６と協働して、マスク・セグメントからなるマ
スク手段の長手方向に一定の距離に沿って、相互に運動
可能に連結する。
【００３６】図１８および１９は、マスク・セグメント
１８の外側に設けたインサート５７の態様を詳細に示
す。インサート５７は軟質材料、たとえばショーア硬度
が４０〜８０°、好ましくは６０°のシリコンゴムから
作製することが好ましい。図示の態様では、インサート
は少なくとも実質的に四角体５８であり、その中央に流
路５９を有し、この流路が形成すべき点状被覆の寸法を
規定する。幾つかの突出ピン６０を四角体５８に取付け
て、ピンに対応する形を有するマスク・セグメントの孔
に嵌入して、インサートを固定する。
１８の外側に設けたインサート５７の態様を詳細に示
す。インサート５７は軟質材料、たとえばショーア硬度
が４０〜８０°、好ましくは６０°のシリコンゴムから
作製することが好ましい。図示の態様では、インサート
は少なくとも実質的に四角体５８であり、その中央に流
路５９を有し、この流路が形成すべき点状被覆の寸法を
規定する。幾つかの突出ピン６０を四角体５８に取付け
て、ピンに対応する形を有するマスク・セグメントの孔
に嵌入して、インサートを固定する。
【００３７】さらに図１８および１９に示すように、処
理すべきバンドに接触するインサート５７の上側に突出
するスタッド６１を設け、このスタッドが基本要素の構
成部分の間で変形して、この要素の空隙を埋める。処理
すべきバンドと、マスク・セグメント１８に設けたイン
サートとを、マスク・セグメント１８の上で極めて正確
に位置決めして、スタッド６１が要素の空隙に対して正
確な位置に来るようにする。
理すべきバンドに接触するインサート５７の上側に突出
するスタッド６１を設け、このスタッドが基本要素の構
成部分の間で変形して、この要素の空隙を埋める。処理
すべきバンドと、マスク・セグメント１８に設けたイン
サートとを、マスク・セグメント１８の上で極めて正確
に位置決めして、スタッド６１が要素の空隙に対して正
確な位置に来るようにする。
【００３８】図２０に示すインサート６２の態様は、処
理すべきバンドと接触する側から離れた側に、円周状に
突出するカラー６３を有し、これは、図２０に略示する
マスク・セグメントの部分の下に延在し、このインサー
ト６２が自身でマスク・セグメントに固定するように設
けることができる。
理すべきバンドと接触する側から離れた側に、円周状に
突出するカラー６３を有し、これは、図２０に略示する
マスク・セグメントの部分の下に延在し、このインサー
ト６２が自身でマスク・セグメントに固定するように設
けることができる。
【００３９】図２１に示す態様は、インサート６４の底
側に円周状の溝を設け、この溝が対応するマスク・セグ
メント１８の突出縁部６５に係合する。インサート６４
は突出縁部６５の近くでマスク・セグメント１８に接着
する。
側に円周状の溝を設け、この溝が対応するマスク・セグ
メント１８の突出縁部６５に係合する。インサート６４
は突出縁部６５の近くでマスク・セグメント１８に接着
する。
【図１】本発明の装置のホイール形手段の説明図であ
り、ホイール形手段の周りにエンドレスマスク手段を有
する。
り、ホイール形手段の周りにエンドレスマスク手段を有
する。
【図２】多数の基本要素を含むバンドの部分を示す平面
図であり、本発明の装置によって、一点鎖線で囲まれた
領域に被覆を適用することができる。
図であり、本発明の装置によって、一点鎖線で囲まれた
領域に被覆を適用することができる。
【図３】第２の態様のバンドの部分を示す平面図であ
り、これは本発明の装置によって処理することができ
る。
り、これは本発明の装置によって処理することができ
る。
【図４】図１のホイール形手段の部分と、これを支持す
るローラとの拡大断面図である。
るローラとの拡大断面図である。
【図５】ホイール形手段の部分と、これに接触するバン
ドとの、部分破断断面図である。
ドとの、部分破断断面図である。
【図６】図５に示す位置から僅かに回転させたホイール
形手段を示す、図５に対応する部分破断断面図である。
形手段を示す、図５に対応する部分破断断面図である。
【図７】図６の線 VII−VII に沿う断面図である。
【図８】連続する２つのマスク手段の結合手段の他の態
様を示す説明図である。
様を示す説明図である。
【図９】２つのマスク手段の係合手段の他の態様を示す
断面図である。
断面図である。
【図１０】連続するマスク・セグメントの間に設けたシ
ール手段の多様な態様を示す断面図である。
ール手段の多様な態様を示す断面図である。
【図１１】連続するマスク・セグメントの間に設けたシ
ール手段の多様な態様を示す断面図である。
ール手段の多様な態様を示す断面図である。
【図１２】連続するマスク・セグメントの間に設けたシ
ール手段の多様な態様を示す断面図である。
ール手段の多様な態様を示す断面図である。
【図１３】連続する２つのマスク・セグメントの間に設
けて、これらを結合するシール手段の態様を示す断面図
である。
けて、これらを結合するシール手段の態様を示す断面図
である。
【図１４】図１３のシール手段の平面図である。
【図１５】連続するマスク・セグメントの間に設けて、
これらを結合するシール手段の他の態様を示す説明図で
ある。
これらを結合するシール手段の他の態様を示す説明図で
ある。
【図１６】連続するマスク・セグメントの間に設けて、
これらを結合するシール手段の他の態様を示す説明図で
ある。
これらを結合するシール手段の他の態様を示す説明図で
ある。
【図１７】連続するマスク・セグメントの間に設けて、
これらを結合するシール手段の他の態様を示す説明図で
ある。
これらを結合するシール手段の他の態様を示す説明図で
ある。
【図１８】インサートを内部に有するマスク・セグメン
トの部分を示す断面図である。
トの部分を示す断面図である。
【図１９】図１８に示すインサートの平面図である。
【図２０】インサートの他の態様を示す断面図である。
【図２１】インサートの他の態様を示す断面図である。
１，２…バンドの縁部 ３，４…指形部 ５…直方形部 ６，７…連結ストリップ ８…接触ピン ８Ａ…バンド形手段 ９…ホイール形手段 １０…回転軸 １１，１２…ホイール・リング １３…支持ローラ １４，６３…突出カラー １５，１６…界面 １７…エンドレスマスク手段 １８…マスク・セグメント １９，５３…連結プレート ２０，２３，５１，６０…ピン ２１…内方界面 ２２，５０，５２…孔 ２４…外方界面 ２５，５９…流路 ２６，５７，６２，６４…インサート ２７…突出部 ２８…ハウジング ２９…チャンバ ３０…スリット ３１…エンドレス押えマスク・バンド ３２…ガイド・ホイール ３３…Ｌ字形リング ３４…基本要素を含むバンド ３５，３７，４０，４３，４７，５６…凹部 ３６，３８，４４，４９…シール手段 ３９，４５…脚部 ４１…リブ ４２，４６…ウェブ ４８…スロット孔 ５４…結合ロッド ５５…連結ネック ５８…四角体 ６１…スタッド ６５…突出縁部
Claims (10)
- 【請求項１】 金属バンドまたはメタライズドバンド
に、点状被覆を電解または無電解金属メッキによって形
成する装置であり、この装置が金属バンドまたはメタラ
イズドバンドを通過させることができるホイール形ガイ
ド手段と、動作中に通過するバンドと協働して、所望の
点状被覆を形成するのに適する形状の流路を設けたエン
ドレスマスク手段とを有し、このマスク手段が相互に独
立したマスク・セグメントからなり、各マスク・セグメ
ントが、マスク手段の長手方向に相互に運動可能に結合
されており、かつ、少なくとも１つの前記流路と、ピン
と、マスク・セグメントの内方界面とを有し、このピン
が、動作中にバンドに設けた凹部に係合するように設け
てあり、マスク・セグメントの内方界面が、バンドを支
持するマスク・セグメントの外方界面から隔たった側に
あって、動作中に、ホイール形手段の円周状支持面と協
働するように設けてある装置であって、 マスク手段の長手方向で測定して、ホイール形手段の円
周状支持面と協働するマスク手段を形成するマスク・セ
グメントの内方界面の全長が、ホイール形手段の円周状
支持面の長さより大きいことを特徴とする装置。 - 【請求項２】 マスク・セグメントが、ホイール形手段
の部分を形成する２つのホイール・リングの間に保持さ
れている請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】 ホイール形手段の内部に、動作中に加圧
電解液を内部に供給できるチャンバを固定してあり、こ
のチャンバが、チャンバから電解液を放出するスリット
をチャンバの周辺に沿って有し、このスリットが、ホイ
ール形手段の回転軸に少なくとも実質的に平行して延在
する請求項１または２に記載の装置。 - 【請求項４】 マスク手段の内部に設けた流路が、処理
すべきバンドと接触する外方界面の近くで、軟質材料か
らなるインサートによって囲まれている請求項１〜３の
いずれかに記載の装置。 - 【請求項５】 インサートが、突出するスタッドを有す
る請求項４に記載の装置。 - 【請求項６】 連続するマスク・セグメントが結合プレ
ートによって結合され、この結合プレートがピンによっ
て２つのマスク・セグメントにピボット結合されてあ
り、これによって少なくとも１つのピンが、このピンの
直径より大きい直径を有する凹部の内に、ピンの長手方
向に沿って位置する請求項１〜５のいずれかに記載の装
置。 - 【請求項７】 可撓性材料からなるシール手段が連続す
る２つのマスク・セグメントの間に設けてある請求項１
〜６のいずれかに記載の装置。 - 【請求項８】 シール手段が、少なくとも実質的に相互
に平行する２つの脚部を有し、この脚部が２つのマスク
・セグメントの相対する面にそれぞれ形成された凹部に
嵌入して、脚部の自由端が、ホイール形手段の回転軸に
向って指向する請求項７に記載の装置。 - 【請求項９】 ２つの連続するマスク・セグメントの間
に設けて、これらのマスク・セグメントの間の間隙をシ
ールするシール手段が、これらのマスク・セグメントを
マスク手段の長手方向に相互に運動可能なように連結す
る作用も行う請求項１〜８のいずれかに記載の装置。 - 【請求項１０】 請求項１〜９のいずれかに記載された
装置を使用して、１つ以上の点状被覆を設けたバンド、
またはこれを設けたバンドを分断することによって得ら
れたバンドの一部としての部材。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL9100640A NL9100640A (nl) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | Inrichting voor het aanbrengen van vlekvormige bedekkingen. |
| NL9100640 | 1991-04-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05117893A JPH05117893A (ja) | 1993-05-14 |
| JP2645201B2 true JP2645201B2 (ja) | 1997-08-25 |
Family
ID=19859126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4080656A Expired - Fee Related JP2645201B2 (ja) | 1991-04-12 | 1992-04-02 | 点状被覆形成装置および被覆された部材 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5282945A (ja) |
| EP (1) | EP0508504B1 (ja) |
| JP (1) | JP2645201B2 (ja) |
| KR (1) | KR100217342B1 (ja) |
| AT (1) | ATE140044T1 (ja) |
| DE (1) | DE69211886T2 (ja) |
| HK (1) | HK9597A (ja) |
| MY (1) | MY110449A (ja) |
| NL (1) | NL9100640A (ja) |
| SG (1) | SG69974A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE112007001818T5 (de) | 2006-08-07 | 2009-06-10 | AUTONETWORKS Technologies, LTD., Yokkaichi | Verfahren zum teilweisen Plattieren, Laserplattiervorrichtung und plattiertes Material |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3845343B2 (ja) * | 2002-07-18 | 2006-11-15 | 矢崎総業株式会社 | 鍍金装置 |
| EP2055246B1 (en) * | 2002-10-04 | 2012-04-18 | Tyco Healthcare Group LP | Surgical stapling device |
| US7744732B2 (en) * | 2005-04-06 | 2010-06-29 | Leviton Manufacturing Company, Inc. | Continuous plating system and method with mask registration |
| US7655117B2 (en) * | 2005-04-06 | 2010-02-02 | Leviton Manufacturing Co., Inc. | Continuous plating system and method with mask registration |
| CN106087016A (zh) * | 2016-08-11 | 2016-11-09 | 太仓市凯福士机械有限公司 | 一种高精度零部件精加工电镀用连接机构 |
| JP2023121244A (ja) * | 2022-02-21 | 2023-08-31 | Ｄｏｗａメタルテック株式会社 | 部分めっき用マスク部材及び部分めっき方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3894918A (en) * | 1973-12-20 | 1975-07-15 | Western Electric Co | Methods of treating portions of articles |
| DE3028635A1 (de) * | 1980-07-29 | 1982-03-04 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Vorrichtung zum partiellen galvanischen beschichten |
| EP0055130B1 (en) * | 1980-12-23 | 1984-07-25 | S.G. Owen Limited | Improvements in or relating to selective plating |
| NL8101106A (nl) * | 1981-03-07 | 1982-10-01 | Galentan Ag | Inrichting voor het galvanisch aanbrengen van vlekvormige bedekkingen. |
| GB2117404B (en) * | 1982-03-29 | 1985-07-17 | Galentan Ag | Device for applying blot-shaped coverings by electro-plating |
-
1991
- 1991-04-12 NL NL9100640A patent/NL9100640A/nl not_active Application Discontinuation
-
1992
- 1992-02-28 SG SG1996007054A patent/SG69974A1/en unknown
- 1992-02-28 AT AT92200578T patent/ATE140044T1/de not_active IP Right Cessation
- 1992-02-28 DE DE69211886T patent/DE69211886T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-02-28 EP EP92200578A patent/EP0508504B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-03-20 US US07/855,548 patent/US5282945A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-04-02 JP JP4080656A patent/JP2645201B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-04-07 KR KR1019920005766A patent/KR100217342B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1992-04-09 MY MYPI92000601A patent/MY110449A/en unknown
-
1997
- 1997-01-23 HK HK9597A patent/HK9597A/xx not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE112007001818T5 (de) | 2006-08-07 | 2009-06-10 | AUTONETWORKS Technologies, LTD., Yokkaichi | Verfahren zum teilweisen Plattieren, Laserplattiervorrichtung und plattiertes Material |
| US8444841B2 (en) | 2006-08-07 | 2013-05-21 | Autonetworks Technologies, Ltd. | Partial plating method, a laser plating device, and a plated material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05117893A (ja) | 1993-05-14 |
| ATE140044T1 (de) | 1996-07-15 |
| US5282945A (en) | 1994-02-01 |
| SG69974A1 (en) | 2000-01-25 |
| NL9100640A (nl) | 1992-11-02 |
| DE69211886D1 (de) | 1996-08-08 |
| KR100217342B1 (ko) | 1999-09-01 |
| EP0508504A1 (en) | 1992-10-14 |
| HK9597A (en) | 1997-01-31 |
| KR920019972A (ko) | 1992-11-20 |
| DE69211886T2 (de) | 1996-12-12 |
| EP0508504B1 (en) | 1996-07-03 |
| MY110449A (en) | 1998-05-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2645201B2 (ja) | 点状被覆形成装置および被覆された部材 | |
| US4493757A (en) | Device for applying blot-shaped coverings by electro-plating | |
| JPS6020476B2 (ja) | 導電性ストリツプ部材上に所定形状の貴金属被覆層を連続的に形成する方法及び装置 | |
| US4286860A (en) | Apparatus for making carrier tape | |
| GB1570553A (en) | Tractor belts | |
| US4514264A (en) | Method and device for galvanically applying a metal coating on metal objects | |
| JP3937330B2 (ja) | 部分メッキ装置 | |
| US4339296A (en) | Apparatus for adjustably forming pattern in a strip | |
| JP2939360B2 (ja) | 部分メッキ方法とそのメッキ装置 | |
| GB2117404A (en) | Device for applying blot-shaped coverings by electro-plating | |
| JPS61124594A (ja) | 帯状メツキ物の部分メツキ装置 | |
| EP2000325A2 (en) | Minute metallic pattern and manufacturing method therefor | |
| JP3425659B2 (ja) | 部分メッキ装置用同調装置 | |
| KR100259558B1 (ko) | 반도체 실장 부품 및 그 제조 방법 | |
| KR20030007464A (ko) | 전기 도금 장치 및 전기 도금 방법 | |
| JPH04318187A (ja) | リードフレームの異種金属部分めっき方法 | |
| EP0328186A1 (en) | Device for providing a stripe shaped coating on an elongated conductive strip by an electrolytic process | |
| JP3129519B2 (ja) | リード成形方法 | |
| JPH04263091A (ja) | 部分メッキ方法とメッキ装置 | |
| JPH0846113A (ja) | 部分メッキされた半導体用リードフレームの形成方法 | |
| JPH11131284A (ja) | 回転ドラム式部分めっき装置 | |
| JPS60187697A (ja) | 長い金属性テープ等に金属被覆を部分的に施こす電気めつき装置 | |
| JP3845343B2 (ja) | 鍍金装置 | |
| US4320192A (en) | Adjusting successive steps for making carrier tape | |
| JP2000277673A (ja) | メッキステージと剥離ステージとを備えた位置決め装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090502 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100502 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110502 Year of fee payment: 14 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |