JP2631027C - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は長尺の基体上に真空蒸着法を用いて磁性層を形成する磁気記録媒体の
製造方法及び装置に関し、詳しくは上記基体上に形成された磁性層の膜厚をコン
トロールする方法及び装置に関するものである。 （従来の技術） 近年の高密度記録化に対応して薄膜型磁気テープが注目されており、このよう
な薄膜型磁気テープを真空蒸着法を用いて製造する技術が知られている。この技
術は長尺の基体を回転している冷却用のメインドラムに巻きかけ、これとともに
このメインドラムの下方に配した、磁性材料を容れたルツボ内に電子ビームを照
射し、この電子ビームを上記巻きかけられている基体の幅方向に往復走査して上
記基体上に、所定厚さの磁性材料蒸着膜を形成するようにしたものである。 ところで上記基体上の磁性層の厚さはこの基体全面に亘って均一とする必要が
ある。そこで従来、磁性材料蒸着後の基体搬送経路に例えば光学式濃度計等の膜
厚モニタを配設し、この基体上の磁性層の膜厚をモニタし、このモニタ結果に基
づき、オペレータが、ルツボ内への電子ビームの照射量等を変化させていた。 （発明が解決しようとする課題） しかしながら、上記従来技術によっては、時間の経過とともにルツボ内の電子
ビーム照射位置における蒸発面が徐々に下降しその磁性材料の蒸発量が刻々と変
化する。また、上記基体の長尺度が大である場合は磁性材料供給方式のルツボを
用いるが、この場合このルツボ内に新たな磁性材料が供給された直後は蒸発面の
ビーム走査方向に温度差が生じ、上記基体の幅方向に蒸発量が均一とならなかっ
た。 したがって、このような場合において、上述した従来技術によって基体上の磁
性層の膜厚を一定に保つことは困難であった。 本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、ルツボ内への新たな磁性材料
供給に伴なう蒸発面の温度分布の不均一性によっても基体上の磁性層の膜厚を均 一かつ所定厚さとすることができる磁気記録媒体の製造方法及び装置を提供する
ことを目的とするものである。 （課題を解決するための手段） 本発明の磁気記録媒体の製造方法は、長尺の基体をその長さ方向に搬送すると
ともに、該基体の搬送経路に近接して配されたルツボ内に磁性材料を容れて、こ
の磁性材料上に電子ビームを照射し、該電子ビームを所定の周期波形信号に基づ
き、前記搬送されている基体の幅方向に走査してこの基体上に所定厚さの磁性層
を形成する磁気記録媒体の製造方法において、上記基体上に形成された磁性層の
この基体幅方向の膜厚分布を測定して前記磁性層の基体幅方向の左右両領域それ
ぞれの平均膜圧を求め、この平均膜厚に基づき、前記ルツボ内に新たな磁性材料
が供給された直後に、前記磁性層の厚さが前記基体の幅方向に均一かつ所定厚さ
となるように前記周期波形信号の正の波形と負の波形（正負の波形の内一方は基
体幅方向の左側部分の蒸着を制御し、他方は右側部分の蒸着を制御する）のデュ
ーティを変化せしめることを特徴とするものである。 また、本発明の磁気記録媒体の製造装置は、長尺の基体を所定の速度で搬送す
る基体搬送手段と、この基体の搬送経路に近接して配された、磁性材料を容れた
ルツボと、任意の波形の周期波形信号を発生する信号発生手段と、磁性材料蒸発
用の電子ビームを発生する電子ビーム発生手段と、上記信号発生手段からの周期
波形信号に基づき、上記基体上に所定厚さの磁性層を形成すべく、上記電子ビー
ムを上記ルツボ内の磁性材料上で上記搬送される基体の幅方向に走査する電子ビ
ーム走査手段とからなる磁気記録媒体の製造装置において、上記基体上に形成さ
れた磁性層の該基体幅方向の膜厚分布を測定して前記磁性層の基体幅方向の左右
両領域それぞれの平均膜圧を求める膜厚測定手段と、この平均膜厚に基づき、前
記ルツボ内に新たな磁性材料が供給された直後に、前記磁性層の膜厚が前記基体
幅方向に均一かつ所定厚さとなるよう前記信号発生手段で発生する周期波形信号
の正の波形と負の波形（正負の波形の内一方は基体幅方向の左側部分の蒸着を制
御し、他方は右側部分の蒸着を制御する）のデューティをコントロールする信号
波形コントロール手段とを備えたことを特徴とするものである。 （作用） 上記構成によれば、基体幅方向の磁性層膜厚分布を測定して前記磁性層の基体
幅方向の左右両領域それぞれの平均膜圧を求め、この平均膜厚に基づき、前記ル
ツボ内に新たな磁性材料が供給された直後に、蒸着用の電子ビームの走査に係る
周期波形信号の正の波形と負の波形のデューティを変化させ、この電子ビームの
パワーおよび走査速度等をコントロールして基体上に形成される磁性層の膜厚が
均一となるようにしている。 したがって、ルツボ内に新たな磁性材料が供給されて蒸発面の温度分布が変化
した場合においても、常に蒸発量を一定にすることができ、特に基体幅方向の磁
性層の膜厚を均一かつ所定厚さにすることが可能となる。 （実施例） 以下、本発明の実施例について図面を用いて説明する。 第２図は本発明の実施例に係る磁気記録媒体の製造装置を示す概略図であり、
第１図は本実施例装置の要部を示すブロック図である。この装置は、原反から長
尺の高分子基体１を送出する送出しロール２と、この送出された基体１を周面に
巻きかけられ、この基体１を冷却しつつ搬送する冷却用メインドラム３と、この
メインドラム３に巻きかけられた上記基体１に磁性材料を蒸着せしめる蒸着手段
４と、上記メインドラム３に巻きかけられる上記基体１をこのメインドラム３の
入口側で支持する入口側ロール５と、この基体１をこのメインドラム３の出口側
で支持する出口側ロール６と、上記蒸着により磁性層を形成された上記基体１を
巻き取る巻取ロール７と、この基体１上に形成された磁性層の膜厚を光学濃度方
式により測定するため、蒸着処理後の上記基体１に対面する位置に配された膜厚
測定器８と、この膜厚測定器８により測定された測定値に応じ、所定のプログラ
ムに基づいて、磁性層の膜厚を均一にするために最適な周期波形信号を演算し出
力するコンピュータ９と、このコンピュータ９からの出力値に応じて所定の周期
波形信号を発生するファンクションジェネレータ10と、このファンクションジェ
ネレータ10から出力された周期波形信号を増幅するスキャンニングアンプユニッ
ト11と、このユニット11からの増幅信号を印加され、その信号波形に応じて、電
子ビーム発生手段12からの電子ビーム13を偏向する偏向コイル14とからなってい
る。上記スキャンニングアンプユニット11にはオシロスコープ15が 接続されており、上記ファンクションジェネレータ10から発生された周期波形信
号の信号波形をオペレータが確認できるようになっている。さらに、上記膜厚測
定器８によって測定された基体幅方向の膜厚分布をオペレータが確認できるよう
に図示されないＣＲＴが設けられている。また、上記メインドラム３の下方には
、上記蒸着手段４からの蒸気流16の、上記基体１への入射角を規制する遮蔽板17
が配されている。 このファンクションジェネレータ10から発生される周期波形信号は例えば第３
図(a)に示すようなやや角型をした正弦波状の波形をしており、この周期波形信
号に基づいて走査される電子ビームの蒸発面上各位置の滞在時間は第３図(b)に
示すように２位置において長時間となっている。この２位置は、この第３図(b)
のグラフと第３図(c)に示すルツボ4aとの相対位置から明らかなように、各々こ
のルツボ4aの左右両端付近における磁性材料4bの蒸発面上の位置となっている。 また、上記基体１の幅Ｗは500mm、厚みｔは10μmであり、該基体１の搬送速度
は100m／min、該基体１が上記メインドラム３に巻きかけられる際の該基体１の
長さ方向の張力は８Ｋg／500mm幅に設定されている。なお、上記蒸着手段４によ
り該基体１上に形成される磁性層の厚みは2000Å程度にコントロールされる。 ところで、上記蒸着処理の時間の経過とともに上記ルツボ4a内の電子ビーム照
射位置における蒸発面が徐々に下降し、その磁性材料4bの蒸発量が刻々と変化す
る。また、上記ルツボ4aは磁性材料4bが所定量以上減少すると新たな磁性材料が
供給されるが、この新たな磁性材料が供給された直後においては蒸発面のビーム
走査方向に温度差が生じ、上記基体の幅方向の蒸発量を均一とすることができな
い。このように種々の要因から、一定の波形の周期波形信号によって電子ビーム
を走査していると、上記基体１の膜厚は例えば第４図に示すようにその幅方向に
不均一な形状となってしまう。そこで本実施例においては、上記膜厚測定器８に
より得られた膜厚分布情報からコンピュータ９により平均膜厚、最大膜厚とその
位置、最小膜厚とその位置、上記基体１の幅方向中央位置の左右両領域における
平均膜厚の差等を演算し、その演算値に基づき、上記ファンクションジェ ネレータ10に所定の指令信号を送出し、このファンクションジェネレータ10から
最適な波形の周期波形信号が発生されるようにしている。すなわち、このファン
クションジェネレータ10から出力される周期波形信号は、2048点のアドレスに対
応して所定の値を出力することにより形成され、膜厚分布が均一である場合には
第５図の曲線ａ（実線で示す）のような波形となる。膜厚が全体的に小さければ
この波形のレベルを大きくする。この信号レベルは電子ビームのパワーに対応し
ており、これにより電子ビーム出力が大となり、蒸発量が増大する。また、例え
ば基体１の走行位置が、本来の位置に比して幅方向いずれかの方向にシフトして
いる場合にはこの信号波形を第５図の曲線ｂ（１点鎖線で示す）のようにオフセ
ットさせる。この曲線ｂは正の方向に所定量オフセットさせた信号波形となって
おり、上記基体１が本来の走行位置よりも左側にシフトした場合に対応した信号
波形となっている。また、例えば基体幅方向の左右両領域のうち相方の領域の平
均膜厚が互いに異なるときは第５図の曲線ｃ（２点鎖線で示す）のように正の波
形と負の波形のデューティを１：１から変化させる。この曲線ｃはアドレス０〜
1280の出力により形成される波形部分が正の波形となっており、基体１の左側領
域の平均膜厚が小さい場合に電子ビームの左側領域の照射時間を長くするための
信号波形となっている。実際には上記レベルの変更、デューティの変更およびオ
フセット量の変更を組み合わせて所望の周期波形信号を生成している。 なお、本発明の磁気記録媒体の製造方法及び装置としては上述した実施例のもの
に限られるものではなくその他種々の変更が可能である。例えば周期波形信号の
形状としては上述した実施例に示すものの他、矩形波，正弦波等を用いることも
可能である。 （発明の効果） 以上説明したように本発明の磁気記録媒体の製造方法及び装置によれば、基体
上に形成された磁性層の基体幅方向の膜厚分布を測定して前記磁性層の基体幅方
向の左右両領域それぞれの平均膜圧を求め、その平均膜厚に基づいて、前記ルツ
ボ内に新たな磁性材料が供給された直後に、蒸着用の電子ビームの走査に係る周
期波形信号の正の波形と負の波形のデューティを変化させているので、ルツボ内
に新たな磁性材料が供給された場合においても、常に基体幅方向の蒸発量を一定 かつ所定量とすることができ、基体上の磁性層の膜厚を均一かつ所定厚さにコン
トロールすることが可能となる。特に、従来コントロールが難しかった基体幅方
向の膜厚分布を均一とすることができる。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium for forming a magnetic layer on a long substrate by using a vacuum evaporation method, and more particularly, to a method for manufacturing a magnetic recording medium. The present invention relates to a method and an apparatus for controlling the thickness of a formed magnetic layer. (Prior Art) In recent years, a thin film magnetic tape has attracted attention in response to high-density recording, and a technique for manufacturing such a thin film magnetic tape by using a vacuum evaporation method is known. In this technique, a long base is wound around a rotating main drum for cooling, and at the same time, an electron beam is irradiated into a crucible containing magnetic material disposed below the main drum. A reciprocating scan is performed in the width direction of the wound base to form a magnetic material vapor-deposited film having a predetermined thickness on the base. Incidentally, the thickness of the magnetic layer on the substrate needs to be uniform over the entire surface of the substrate. Therefore, conventionally, a film thickness monitor such as an optical densitometer is provided in the substrate transport path after the deposition of the magnetic material, and the film thickness of the magnetic layer on the substrate is monitored. The irradiation amount of the electron beam into the inside was changed. (Problems to be Solved by the Invention) However, according to the above-mentioned conventional technology, the evaporation surface at the electron beam irradiation position in the crucible gradually descends with the elapse of time, and the evaporation amount of the magnetic material changes every moment. When the length scale of the substrate is large, a crucible of a magnetic material supply system is used. In this case, immediately after a new magnetic material is supplied into the crucible, a temperature difference occurs in the beam scanning direction of the evaporation surface. The evaporation amount was not uniform in the width direction of the substrate. Therefore, in such a case, it has been difficult to keep the film thickness of the magnetic layer on the substrate constant by the above-described conventional technology. The present invention has been made in view of such circumstances, and the thickness of the magnetic layer on the substrate is made uniform and predetermined even by the non-uniformity of the temperature distribution on the evaporation surface due to the supply of new magnetic material into the crucible. It is an object of the present invention to provide a method and apparatus for manufacturing a magnetic recording medium having a thickness. (Means for Solving the Problems) According to a method of manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, a long substrate is conveyed in the longitudinal direction thereof, and a magnetic substance is placed in a crucible arranged close to a conveyance path of the substrate. The magnetic material is irradiated with an electron beam on the magnetic material, and the electron beam is scanned in the width direction of the conveyed substrate based on a predetermined periodic waveform signal, and a magnetic material having a predetermined thickness is formed on the magnetic substrate. In the method of manufacturing a magnetic recording medium for forming a layer, the thickness distribution of the magnetic layer formed on the substrate in the width direction of the substrate is measured to determine the average film thickness of each of the left and right regions of the magnetic layer in the width direction of the substrate. And based on this average film thickness, immediately after a new magnetic material is supplied into the crucible, the periodic waveform signal such that the thickness of the magnetic layer is uniform and predetermined in the width direction of the base. Positive and negative waveforms ( One is to control the vapor deposition in the left part in the width direction of the substrate, and the other is to control the vapor deposition in the right part). Further, the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention includes a substrate transporting unit that transports a long substrate at a predetermined speed, and a crucible that contains a magnetic material and is disposed in proximity to a transport path of the substrate. A signal generating means for generating a periodic waveform signal having an arbitrary waveform; an electron beam generating means for generating an electron beam for evaporating a magnetic material; and a predetermined thickness on the substrate based on the periodic waveform signal from the signal generating means. An electron beam scanning means for scanning the electron beam on the magnetic material in the crucible in the width direction of the conveyed substrate to form a magnetic layer of the magnetic recording medium. A film thickness measuring means for measuring the thickness distribution of the formed magnetic layer in the width direction of the substrate to obtain an average film pressure in each of the left and right regions in the width direction of the substrate of the magnetic layer; New magnet in crucible Immediately after the material is supplied, a positive waveform and a negative waveform (a positive waveform and a negative waveform) of the periodic waveform signal generated by the signal generating means so that the film thickness of the magnetic layer becomes uniform and a predetermined thickness in the substrate width direction. One of which controls deposition on the left side in the substrate width direction and the other controls deposition on the right side of the substrate. (Function) According to the above configuration, the thickness of the magnetic layer in the width direction of the substrate is measured to determine the average film thickness of each of the left and right regions of the magnetic layer in the width direction of the substrate. Immediately after a new magnetic material is supplied, the duty of the positive waveform and the negative waveform of the periodic waveform signal related to the scanning of the electron beam for vapor deposition is changed, and the power and scanning speed of this electron beam are controlled. Thus, the thickness of the magnetic layer formed on the base is made uniform. Therefore, even when a new magnetic material is supplied into the crucible and the temperature distribution on the evaporation surface changes, the amount of evaporation can always be kept constant. It can be made thicker. (Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic diagram showing an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention,
FIG. 1 is a block diagram showing a main part of the apparatus of this embodiment. The apparatus comprises a delivery roll 2 for delivering a long polymer substrate 1 from a raw material, and a cooling main drum which is wound around the delivered substrate 1 and transports the substrate 1 while cooling the substrate 1. 3, vapor deposition means 4 for vapor-depositing a magnetic material on the substrate 1 wound on the main drum 3, and an inlet side for supporting the substrate 1 wound on the main drum 3 at the inlet side of the main drum 3. A roll 5, an exit roll 6 for supporting the substrate 1 on the exit side of the main drum 3, a winding roll 7 for winding the substrate 1 on which the magnetic layer is formed by the vapor deposition, and In order to measure the film thickness of the formed magnetic layer by an optical density method, a film thickness measuring device 8 disposed at a position facing the substrate 1 after the vapor deposition treatment, and a measurement measured by the film thickness measuring device 8 Depending on the value, a predetermined professional A computer 9 for calculating and outputting an optimum periodic waveform signal based on the RAM to make the thickness of the magnetic layer uniform, and a function generator for generating a predetermined periodic waveform signal in accordance with an output value from the computer 9 10, a scanning amplifier unit 11 for amplifying the periodic waveform signal output from the function generator 10, an amplified signal from the unit 11 is applied, and an electron beam from the electron beam generating means 12 is applied in accordance with the signal waveform. A deflection coil 14 deflects the beam 13. An oscilloscope 15 is connected to the scanning amplifier unit 11, so that an operator can check the signal waveform of the periodic waveform signal generated from the function generator 10. Further, a CRT (not shown) is provided so that an operator can confirm the film thickness distribution in the substrate width direction measured by the film thickness measuring device 8. Further, below the main drum 3, a shielding plate 17 for regulating an incident angle of the vapor flow 16 from the vapor deposition means 4 to the base 1 is provided.
Is arranged. The periodic waveform signal generated from the function generator 10 is, for example, a third
It has a slightly square sinusoidal waveform as shown in FIG. (A), and the residence time of each position on the evaporation surface of the electron beam scanned based on this periodic waveform signal is shown in FIG. 3 (b). As shown in the figure, the time is long at two positions. These two positions are shown in FIG. 3 (b)
And the relative positions of the crucible 4a shown in FIG. 3 (c) and FIG. 3 (c), the positions are on the evaporation surface of the magnetic material 4b near the left and right ends of the crucible 4a. The width W of the substrate 1 is 500 mm, the thickness t is 10 μm, the transport speed of the substrate 1 is 100 m / min, and the length direction of the substrate 1 when the substrate 1 is wound around the main drum 3. Is set to 8 kg / 500 mm width. The thickness of the magnetic layer formed on the substrate 1 by the vapor deposition means 4 is controlled to about 2000 °. By the way, the evaporating surface at the electron beam irradiation position in the crucible 4a gradually descends as the time of the vapor deposition process elapses, and the amount of evaporation of the magnetic material 4b changes every moment. Further, the crucible 4a is supplied with a new magnetic material when the magnetic material 4b is reduced by a predetermined amount or more, but immediately after this new magnetic material is supplied, a temperature difference occurs in the beam scanning direction of the evaporation surface, and The evaporation amount in the width direction of the substrate cannot be made uniform. As described above, when the electron beam is scanned by the periodic waveform signal having a constant waveform due to various factors, the film thickness of the substrate 1 becomes non-uniform in the width direction, for example, as shown in FIG. Would. Therefore, in the present embodiment, the computer 9 calculates the average film thickness, the maximum film thickness and its position, the minimum film thickness and its position, the center of the substrate 1 in the width direction from the film thickness distribution information obtained by the film thickness measuring device 8. A difference between the average film thickness in the left and right regions of the position is calculated, and a predetermined command signal is sent to the function generator 10 based on the calculated value, and the function generator 10 generates an optimal periodic waveform signal. I am trying to. That is, the periodic waveform signal output from the function generator 10 is formed by outputting a predetermined value corresponding to the address of 2048 points, and when the film thickness distribution is uniform, the curve a in FIG. (Shown by a solid line). If the film thickness is small overall, the level of this waveform is increased. This signal level corresponds to the power of the electron beam, which increases the output of the electron beam and increases the amount of evaporation. Further, for example, when the running position of the base body 1 is shifted in any direction in the width direction as compared with the original position, this signal waveform is represented by a curve b (shown by a one-dot chain line) in FIG. Offset. This curve b is a signal waveform offset by a predetermined amount in the positive direction, and is a signal waveform corresponding to the case where the base 1 is shifted to the left from the original traveling position. Further, for example, when the average film thicknesses of the left and right regions in the width direction of the base are different from each other, the duty of the positive waveform and the duty of the negative waveform are changed as shown by a curve c (shown by a two-dot chain line) in FIG. Change from 1: 1. This curve c has addresses 0 to
The waveform portion formed by the output of 1280 is a positive waveform, and is a signal waveform for extending the irradiation time of the electron beam in the left region when the average film thickness in the left region of the base 1 is small. . Actually, a desired periodic waveform signal is generated by combining the above-described change in level, change in duty, and change in offset amount. The method and apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention are not limited to those of the above-described embodiment, and various other modifications are possible. For example, as the shape of the periodic waveform signal, a rectangular wave, a sine wave, or the like can be used in addition to those shown in the above-described embodiment. (Effects of the Invention) As described above, according to the method and the apparatus for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, the thickness distribution of the magnetic layer formed on the substrate in the substrate width direction is measured. The average film pressure of each of the left and right regions in the width direction is obtained, and based on the average film thickness, immediately after a new magnetic material is supplied into the crucible, the periodic waveform signal of the electron beam scanning for vapor deposition is scanned. Since the duty of the positive waveform and the duty of the negative waveform are changed, even when a new magnetic material is supplied into the crucible, the evaporation amount in the width direction of the substrate can always be kept constant and a predetermined amount. The thickness of the upper magnetic layer can be controlled to be uniform and a predetermined thickness. In particular, the film thickness distribution in the substrate width direction, which has been difficult to control conventionally, can be made uniform.

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の実施例に係る磁気記録媒体の製造装置の要部を示すブロック
図、第２図はその装置の全体を示す概略図、第３図は周期波形信号、電子ビーム
の滞在時間およびこの電子ビームの照射位置とルツボとの相対位置を説明するた
めの概略図、第４図は偏りがある膜厚分布の一例を示すグラフ、第５図は本実施
例により生成される周期波形信号の波形生成を説明するためのグラフである。 １…高分子基体 ２…送出しロール ３…冷却用メインドラム ４…蒸着手段 ５…入口側ロール ６…出口側ロール ７…巻取ロール ８…膜厚測定器 ９…コンピュータ 10…ファンクションジェネレータ 11…スキャンニングアンプユニット 12…電子ビーム発生手段 13…電子ビーム 14…偏向コイルBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing a main part of an apparatus for manufacturing a magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic view showing the entire apparatus, and FIG. FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the waveform signal, the staying time of the electron beam, and the relative position between the irradiation position of the electron beam and the crucible, FIG. 4 is a graph showing an example of a biased film thickness distribution, and FIG. 6 is a graph for explaining waveform generation of a periodic waveform signal generated according to an embodiment. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Polymer base material 2 ... Delivery roll 3 ... Cooling main drum 4 ... Evaporation means 5 ... Inlet roll 6 ... Outlet roll 7 ... Winding roll 8 ... Film thickness measuring device 9 ... Computer 10 ... Function generator 11 ... Scanning amplifier unit 12 ... Electron beam generating means 13 ... Electron beam 14 ... Deflection coil

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1) 長尺の基体をその長さ方向に搬送するとともに、 該基体の搬送経路に近接して配されたルツボ内に磁性材料を容れて、この磁性
材料上に電子ビームを照射し、 該電子ビームを所定の周期波形信号に基づき、前記搬送されている基体の幅方
向に走査してこの基体上に所定厚さの磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方法
において、 前記基体上に形成された磁性層のこの基体幅方向の膜厚分布を測定して前記磁
性層の基体幅方向の左右両領域それぞれの平均膜圧を求め、 この平均膜厚に基づき、前記ルツボ内に新たな磁性材料が供給された直後に、
前記磁性層の厚さが前記基体の幅方向に均一かつ所定厚さとなるように前記周期
波形信号の正の波形と負の波形のデューティを変化せしめることを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。 (2) 長尺の基体を所定速度で搬送する基体搬送手段と、 この基体の搬送経路に近接して配された、磁性材料を容れたルツボと、 任意の波形の周期波形信号を発生する信号発生手段と、 磁性材料蒸着用の電子ビームを発生する電子ビーム発生手段と、 前記信号発生手段からの周期波形信号に基づき、前記基体上に所定厚さの磁性
層を形成すべく、前記電子ビームを前記ルツボ内の磁性材料上で前記搬送される
基体の幅方向に走査する電子ビーム走査手段とからなる磁気記録媒体の製造装置
において、 前記基体上に形成された磁性層の該基体幅方向の膜厚分布を測定して前記磁性
層の基体幅方向の左右両領域それぞれの平均膜圧を求める膜厚測定手段と、 この平均膜厚に基づき、前記ルツボ内に新たな磁性材料が供給された直後に、
前記磁性層の膜厚が前記基体幅方向に均一かつ所定厚さとなるよう前記信号発生
手段で発生する周期波形信号の正の波形と負の波形のデューティをコント ロールする信号波形コントロール手段とを備えたことを特徴とする磁気記録媒体
の製造装置。Claims: (1) A long substrate is transported in the longitudinal direction, and a magnetic material is contained in a crucible arranged close to a transport path of the substrate, and electrons are placed on the magnetic material. A method of manufacturing a magnetic recording medium, comprising: irradiating a beam on a substrate and scanning the electron beam in a width direction of the substrate based on a predetermined periodic waveform signal to form a magnetic layer having a predetermined thickness on the substrate. Measuring the thickness distribution of the magnetic layer formed on the substrate in the width direction of the substrate to obtain an average film pressure in each of the left and right regions of the magnetic layer in the width direction of the substrate; Immediately after a new magnetic material is supplied into the crucible,
A method for manufacturing a magnetic recording medium, wherein the duty of a positive waveform and a negative waveform of the periodic waveform signal is changed so that the thickness of the magnetic layer becomes uniform and a predetermined thickness in the width direction of the substrate. (2) substrate transport means for transporting a long substrate at a predetermined speed, a crucible containing a magnetic material disposed close to the transport path of the substrate, and a signal for generating a periodic waveform signal of an arbitrary waveform Generating means, an electron beam generating means for generating an electron beam for depositing a magnetic material, and the electron beam for forming a magnetic layer having a predetermined thickness on the substrate based on a periodic waveform signal from the signal generating means. An electron beam scanning means for scanning the magnetic material in the crucible in the width direction of the substrate to be conveyed, wherein the magnetic layer formed on the substrate has a magnetic layer in the width direction of the substrate. A film thickness measuring means for measuring a film thickness distribution to obtain an average film pressure in each of the left and right regions of the magnetic layer in the width direction of the base; and a new magnetic material is supplied into the crucible based on the average film thickness. Immediately after,
Signal waveform control means for controlling the duty of a positive waveform and a negative waveform of a periodic waveform signal generated by the signal generation means so that the film thickness of the magnetic layer is uniform and has a predetermined thickness in the substrate width direction. An apparatus for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: