JP2627565B2 - 感光性平版印刷版 - Google Patents

感光性平版印刷版

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JP2627565B2
JP2627565B2 JP2037786A JP3778690A JP2627565B2 JP 2627565 B2 JP2627565 B2 JP 2627565B2 JP 2037786 A JP2037786 A JP 2037786A JP 3778690 A JP3778690 A JP 3778690A JP 2627565 B2 JP2627565 B2 JP 2627565B2
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acid
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photosensitive
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diazodiphenylamine
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昌則 今井
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性平版印刷版に関し、詳しく述べれ
ば、親水性表面を有する支持体との接着性を改良した、
アルカリ水可溶性又は膨潤性の光架橋性ポリマーを有す
る感光層を設けた感光性平版印刷版に関する。
〔従来の技術及びその解決すべき課題〕
環化付加反応によって架橋する光架橋性材料はよく知
られており、これらは、感光性平版印刷版等の製造に用
いる感光性組成物の主要成分として数多く用いられてい
る。このような光架橋性ポリマーとして、マレイミド基
を側鎖に有するポリマー、芳香核に隣接した光二重化可
能な不飽和二重結合を有するシンナミル基、シンナモイ
ル基、シンナミリデン基、シンナミリデンアセチル基や
カルコン基等を側鎖又は主鎖に有するポリマーは有用
で、一部実用化されているものもある。特に、マレイミ
ド基を側鎖に有するポリマー及びフェニレンジアクリル
酸もしくはそのアルキルエステルとグリコールとの縮合
により製造された分子鎖中にケイ皮酸骨格を有するポリ
エステル樹脂は比較的高い感度を有している。そして、
作業環境の安全面より、現像液は、有機溶剤を用いない
方が好ましく、これらのポリマーをアルカリ水可溶化す
るための試みも行なわれている。このようなポリマーと
しては、ディー・アンゲバンドゥテ・マクロモレクラー
レ・クミー(Die Angewandte Makromolekulare Chemi
e)128(1984)に記載されているようなN−〔2−(メ
タクリロイルオキシ)エチル〕−2,3−ジメチルマレイ
ミドとメタクリル酸あるいはアクリル酸の共重合体、特
開昭62−175729号、特開昭62−175730号、特開昭63−21
8944号、特開昭63−218945号の各明細書に記載される、
側鎖に光二量化可能な官能基と側鎖にカルボキシル基と
を有するポリマー等が挙げられる。
しかしながら、これらの感光性ポリマーを感光層とし
て使用した場合、アルミニウム支持体との接着力が十分
でないため、印刷版用の感光層としては、一般的でな
く、一部の用途にしか用いられていない。支持体との接
着性が悪いと、現像中ブラシなどでこすったりした場合
に画像が剥離したり、印刷時に画像部が剥離し易いた
め、十分な耐刷力を得ることが出来ないなど問題となっ
ていた。特に、低露光時では、この傾向が顕著なため、
結果的に感度が低くなるなど問題となっていた。
このような接着性の不良を改良しようという試みがい
くつかなされており、例えば、特公昭46−26521号公報
に記載されるように、アルミニウム支持体上に設けた陽
極酸化皮膜をリン酸電解した支持体や、特開昭49−8428
号、特開昭49−12903号及び特開昭50−138903号公報に
記載されているように、硫酸電解後にリン酸やポリリン
酸を用いてエッチング処理したアルミニウム支持体、特
開昭49−93101号公報に記載されているように、硫酸電
解した後、アルカリ液を用いてエッチング処理したアル
ミニウム支持体等を用いる技術がある。また、特公昭50
−7481号、特開昭62−78544号の各公報にネガ作用ジア
ゾ樹脂を下塗りしたり、感光層に加えるなどの技術が記
載されている。
しかしながら、支持体上の酸化皮膜との接着力を各種
処理方法によって高める技術では、感光層との接着力が
アンカー効果により高まる一方で、印刷時に、非画像部
がインキを受けつけ易くなり、印刷汚れを起こし易いな
ど問題となっていた。また、ネガ作用ジアゾ樹脂を感光
層中に添加したり、下塗りとして用いる技術では、ジア
ゾ樹脂が実質的に、アルカリ水からなる現像液に溶解し
にくいので、ジアゾ樹脂が現像後、非画像部に残存し、
印刷時の汚れとなるなどの欠点があった。
〔発明の目的〕
従って、本発明は、感光層の持つすぐれた感度及び性
能を保ちつつ、支持体と感光層との接着性にすぐれ、し
かもアルカリ水で現像可能で、印刷性能にすぐれた感光
性平版印刷版を提供することを目的とする。
更に、本発明は、ポジ型感光性平版印刷版用現像液に
よって現像出来る、ネガ型感光性平版印刷版を提供する
ことを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者は、親水性表面を有する支持体上に、アルカ
リ水可溶性又は膨潤性の光二重化可能な不飽和結合を有
する光架橋性ポリマーを有する感光層と、必要により中
間層とを有する感光性平版印刷版において、特定の繰り
返し単位を有するジアゾ樹脂を、感光層もしくは中間層
中に含有させることによって、上記目的が解決出来るこ
とを見い出し、本発明に到達したものである。
即ち、本発明は、親水性表面を有する支持体上に、ア
ルカリ水可溶性又は膨潤性の光二量化可能な不飽和結合
を有する光架橋性ポリマーを有する感光層と、必要によ
り中間層とを有する感光性平版印刷版において、少なく
とも1個のカルボキシル基を有する芳香族化合物と、下
記一般式(I)で示される芳香族ジアゾニウム化合物と
を構成単位として含む共縮合ジアゾ樹脂をその感光層又
は中間層中に含有させることを特徴とする感光性平版印
刷版に関する。
式中、R1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシル基、カルボキシエステル基又はカルボキシル
基を示し、R2は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基
を示し、R3は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を
示し、X-はアニオンを示し、Yは−NH−,−O−又は−
S−を示す。
以下、本発明について詳述する。
本発明に用いる光架橋性ポリマーとしては、マレイミ
ド基やシンナミル基、シンナモイル基、シンナミリデン
基、シンナミリデンアセチル基やカルコン基等を側鎖又
は主鎖に有するポリマーが挙げられる。
マレイミド基を側鎖に有するポリマーとして、特開昭
52−988号(対応米国特許4,079,041号)明細書や、独国
特許2,626,769号明細書、ヨーロッパ特許21,019号明細
書、ヨーロッパ特許3,552号明細書やディー・アンゲバ
ンドゥテ・マクロモレクラーレ・ケミー(Die Angewand
te Makromolekulare Chemie)115(1983)の163〜181ペ
ージに記載されている下記一般式(A): (式中、R及びR1はそれぞれ独立して、最高4個の炭素
原子を有するアルキル基を表わすか、又はRとR1が一緒
になって5員又は6員の炭素環を形成してもよい。) で表わされるマレイミド基を側鎖に有するポリマーや、
特開昭49−128991号、同49−128992号、同49−128993
号、同50−5376号、同50−5377号、同50−5379号、同50
−5378号、同50−5380号、同53−5298号、同53−5299
号、同53−5300号、同50−50107号、同51−47940号、同
52−13907号、同50−45076号、同52−121700号、同50−
10884号、同50−45087号、独国特許第2,349,948号、同
第2,616,276号各公報に記載されている下記一般式
(B) (式中、R2は芳香族基を表わし、R3は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基又はシアノ基を表わす) で表わされるマレイミド基を側鎖に有するポリマー等を
挙げることが出来る。これらのポリマーの平均分子量は
1000以上、好ましくは1〜20万である。また、これらの
ポリマーは1分子当り平均2個以上のマレイミド基を側
鎖に有する。
これらのマレイミド基を側鎖に有するポリマーを、ア
ルカリ水に可溶性又は膨潤性とするためには、酸基をポ
リマー中に含めることにより達成できる。
酸基の具体例としては、カルボン酸、スルホン酸、リ
ン酸、ホスホン酸及びこれらのアルカリ金属塩やアンモ
ニウム塩、及びアルカリ水に対し解離するpkaが6〜12
の酸塩で、具体的には、−SO2NHCO−、−CONHCO−、−S
O2NHCOO−、 が挙げられる。これらの酸基を有するモノマーと、マレ
イミド基を有するモノマーとを、例えば10/90〜50/50、
好ましくは、20/80〜40/60(モル比)の割合で共重合さ
れることによって本発明の光架橋性ポリマーが容易に得
られる。
酸基を有するマレイミドポリマーの酸価は30〜300の
範囲が好ましく、更に好ましくは、50〜250である。な
お、上記共重合しうる酸基を有するモノマーとして好ま
しいものは、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシ
ル基を有するビニルモノマー、マレイン酸無水物、イタ
コン酸無水物等が例示される。
これらの酸価を有するポリマーの中でも、ディー・ア
ンゲバンドゥテ・マクロモレクラーレ・ケミー(Die An
gewandte Makromolekulare Chemie)128(1984)の71〜
91ページに記載されているようなN−〔2−メタクリロ
イルオキシ)エチル〕−2,3−ジメチルマレイミドとメ
タクリル酸あるいはアクリル酸との共重合体が有用であ
る。更にこの共重合体の合成に際して第3成分のビニル
モノマーを共重合することによって目的に応じた多元共
重合体を容易に合成することができる。例えば、第3成
分のビニルモノマーとして、そのホモポリマーのガラス
転移点が室温以下のアルキルメタアクリレートやアルキ
ルアクリレートを用いることによって共重合体に柔軟性
を与えることが出来る。
シンナミル基、シンナモイル基、シンナミリデン基、
シンナミリデンアセチル基、カルコン基等を側鎖又は主
鎖に有する本発明の他の光架橋性ポリマーの内、主鎖に
感光性の を有するものとしては、例えば米国特許第3030208号、
米国特許出願709496号、同828455号の各明細書に記載さ
れている感光性ポリエステルがある。上記のポリエステ
ルな適当なポリカルボン酸、又は適当なポリカルボン酸
の低級アルキルエステル、又はクロライドと適当な多価
アルコールをエステル化触媒の存在下に縮合せしめるこ
とにより作られる。
これらの光架橋性ポリマーをアルカリ水可溶化した物
としては、次のようなものが挙げられる。
即ち、特開昭60−191244号明細書中に記載されている
ような主鎖には、芳香核に隣接した光二重化可能な不飽
和二重結合、側鎖にはカルボキシル基及び末端には水酸
基を有するポリエステルプレポリマーに、水酸基と反応
し得る官能基を分子中に2個以上有する鎖延長剤、例え
ばジイソシアネート化合物、ジフェニルテレフタレー
ト,ジフェニルカーボネートやテレフタロイルビス(N
−カプロラクタム)等を反応させて得られる感光性ポリ
マーや、主鎖には、芳香核に隣接した光二重化可能な不
飽和二重結合と、末端には水酸基とを有するポリエステ
ルプレポリマーやポリウレタンプレポリマーに、鎖延長
剤としてピロメリット酸二無水物やシクロペンタンテト
ラカルボン酸二無水物を反応させ、側鎖にカルボキシル
基を導入した感光性ポリマー等を挙げることが出来る。
更に、側鎖に、光二量化可能な官能基と、側鎖にカル
ボキシル基とを有する酸価20〜200のアルカリ水可溶又
は膨潤可能な感光性ポリマー等を挙げることが出来る。
これらの感光性ポリマーは特開昭62−175729号、特開昭
62−175730号、特開昭63−218944号、特開昭63−218945
号の各明細書に記載されている。
なお、本発明で用いる光架橋性ポリマーとしては、分
子量1000以上、好ましくは1万〜50万、特に好ましくは
2万〜30万のものを用いるのが望ましい。
上記光架橋性ポリマーの感光層に対する添加量は10〜
99重量%(以下、%と略称する)、好ましくは、50〜99
%である。
本発明で用いる共縮合ジアゾ樹脂は、少なくとも1個
のカルボキシル基を有する芳香族化合物と、前記一般式
(I)で示される芳香族ジアゾニウム化合物とを構成単
位として含む。
このようなジアゾ樹脂は、一部、特開平1−102457号
および特開平1−254949号の各明細書に開示されてい
る。しかしながら、これらの発明は、ある種のジアゾ樹
脂とバインダーを組み合わせた発明であり、更にこれら
の発明では有機溶剤を含まない現像液では現像できな
い。
本発明に係る前記のカルボキシル基を少なくとも一つ
有する芳香族化合物は、少なくとも1つのカルボキシル
基を有する芳香族環を分子中に含むものである。この場
合、上記カルボキシル基の一部は芳香族環に置換されて
いてもよい。
上記の芳香族環としては、好ましくはアリール基、例
えばフェニル基、ナフチル基を挙げることができる。
また前記のカルボキシル基は芳香族環に直接結合して
もよく、連結基を介して結合していてもよい。
本発明において1つの芳香族環に結合するカルボキシ
ル基の数としては1〜3が好ましい。
さらに連結基としては例えば炭素数1〜4のアルキレ
ン基を挙げることができる。
前記の芳香族化合物はアルデヒド類又はケトン類と縮
合するためには、1つ以上のアリール基の芳香族環上に
少なくとも2つの非置換部位を有することが必要であ
る。
本発明に利用される分子中にカルボキシル基を有する
芳香族化合物の具体例としては、サリチル酸、4−メチ
ルサリチル酸、6−メチルサリチル酸、4−エチルサリ
チル酸、6−プロピルサリチル酸、6−ラウリルサリチ
ル酸、6−ステアリルサリチル酸、4,6−ジメチルサリ
チル酸、p−ヒドロキシ安息香酸、2−メチル−4−ヒ
ドロキシ安息香酸、6−メチル−4−ヒドロキシ安息香
酸、2,6−ジメチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,4−ジ
ヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ−6−メチル
安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒドロ
キシ−4−安息香酸、4−クロロ−2,6−ジヒドロキシ
安息香酸、4−メトキシ−2,6−ジオキシ安息香酸、没
食子酸、フロログルシンカルボン酸、2,4,5−トリヒド
ロキシ安息香酸、m−ガロイル没食子酸、タンニン酸、
m−ベンゾイル没食子酸、m−(p−トルイル)没食子
酸、プロトカテクオイル−没食子酸、4,6−ジヒドロキ
シフタル酸、(2,4−ジヒドロキシフェニル)酢酸、
(2,6−ジヒドロキシフェニル)酢酸、(3,4,5−トリヒ
ドロキシフェニル)酢酸、p−ヒドロキシメチル安息香
酸、p−ヒドロキシエチル安息香酸、4−(p−ヒドロ
キシフェニル)メチル安息香酸、4−(o−ヒドロキシ
ベンゾイル)安息香酸、4−(2,4−ジヒドロキシベン
ゾイル)安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェノキシ)
安息香酸、4−(p−ヒドロキシアニリノ)安息香酸、
ビス(3−カルボキシ−4−ヒドロキシフェニル)アミ
ン、4−(p−ヒドロキシフェニルスルホニル)安息香
酸、4−(p−ヒドロキシフェニルチオ)安息香酸、p
−メトキシ安息香酸、2,4−ジメトキシ安息香酸、2,4−
ジメチル安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、p−メト
キシフェニル酢酸、4−アニリノ安息香酸、4−(m−
メトキシアニリノ)安息香酸、4−(p−メトキシベン
ゾイル)安息香酸、4−(p−メチルアニリノ)安息香
酸、4−フェニルスルホニル安息香酸等を挙げることが
できる。これらのうち特に好ましいのは、2,4−ジメト
キシ安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ
安息香酸、4−(m−メトキシアニリノ)安息香酸、4
−(p−メチルアニリノ)安息香酸、サリチル酸、p−
ヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、没
食子酸、フロログルシンカルボン酸、フェノキシ酢酸及
び4−(p−ヒドロキシアニリノ)安息香酸である。
他方、本発明に係わる芳香族ジアゾニウム化合物は下
記一般式(I)で示される芳香族ジアゾニウム化合物で
ある。
式中、R1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシル基、カルボキシエステル基又はカルボキシル
基を示し、好ましくは水素原子、炭素数1〜5個のアル
キル基又はヒドロキシル基を示す。R2は水素原子、アル
キル基又はアルコキシ基を示し、好ましくは水素原子を
示す。R3は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を示
し、好ましくは水素原子を示す。
X-はアニオンを示し、好ましくはpkaが4以下の無機
酸又は有機酸のアニオンを示す。具体的には、ハロゲン
化水素酸、例えば弗化水素酸、塩化水素酸、塩化水素酸
−塩化亜鉛コンプレックス、臭化水素酸、硫酸、硝酸、
リン酸(5価のリン)、特にオルトリイン酸、無機イソ
−及びヘテロ多酸、例えばリンタングステン酸、リンモ
リブデン酸、脂肪族又は芳香族ホスホン酸あるいはその
半エステル、アルソン酸、ホスフィン酸、トリフルオロ
酢酸などのフルオロカルボン酸、アミドスルホン酸、セ
レン酸、弗硼化水素酸、ヘキサフルオロリン酸、過塩素
酸、更に脂肪族及び芳香族スルホン酸、例えばメタンス
ルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのフルオ
ロアルカンスルホン酸、ラウリルスルホン酸、ジオクチ
ルスルホコハク酸、ジシクロヘキシルスルホコハク酸、
カンファースルホン酸、トリルオキシ−3−プロパンス
ルホン酸、ノニルフェノキシ−3−プロパンスルホン
酸、ノニルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジブチ
ルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジアミルフェ
ノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジノニルフェノキシ
−3−プロパンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−4−
ブタンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−4−ブタンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、p−クロロベンゼンスルホン
酸、2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸、スルホサリチ
ル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、p−アセチ
ルベンゼンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスル
ホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベ
ンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2
−クロロ−5−ニトロベンゼンスルホン酸、ブチルベン
ゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸、ブトキシベンゼンスルホン酸、
ドデシルオキシベンゼンスルホン酸、2−メトキシ−4
−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸、イ
ソプロピルナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンス
ルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、オクチルナ
フタレンスルホン酸、ブトキシナフタレンスルホン酸、
ドデシルオキシナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタ
レンスルホン酸、ジオクチルナフタレンスルホン酸、ト
リイソプロピルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフ
タレンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、
ナフタリン−1−スルホン酸、ナフタリン−2−スルホ
ン酸、1,8−ジニトロ−ナフタリン−3,6−ジスルホン
酸、4,4′−ジアジド−スチルベン−3,3′−ジスルホン
酸、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン
酸、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン
酸及び1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホ
ン酸のアニオン又はこれらのアニオンの混合物が含まれ
る。
Yは−NH−,−O−,又は−S−を示し、好ましくは
−NH−を示す。
上記一般式(I)で示される芳香族ジアゾニウム化合
物の具体例としては、例えば4−ジアゾジフェニルアミ
ン、4′−ヒドロキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、
4′−メチル−4−ジアソジフェニルアミン、4′−エ
チル−4−ジアゾジフェニルアミン、4′−n−プロピ
ル−4−ジアゾジフェニルアミン、4′−i−プロピル
−4−ジアゾジフェニルアミン、4′−n−ブチル−4
−ジアゾジフェニルアミン、4′−ヒドロキシメチル−
4−ジアゾジフェニルアミン、4′−β−ヒドロキシエ
チル−4−ジアゾジフェニルアミン、4′−γ−ヒドロ
キシプロピル−4−ジアゾジフェニルアミン、4′−メ
トキシメチル−4−ジアゾジフェニルアミン、4′−エ
トキシメチル−4−ジアゾジフェニルアミン、4′−β
−メトキシエチル−4−ジアゾジフェニルアミン、4′
−β−エトキシエチル−4−ジアゾジフェニルアミン、
4′−カルボキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3−
メチル−4−ジアゾジフェニルアミン、3−エチル−4
−ジアゾジフェニルアミン、3′−メチル−4−ジアゾ
ジフェニルアミン、3,3′−ジメチル−4−ジアゾジフ
ェニルアミン、2′−カルボキシ−4−ジアゾジフェニ
ルアミン、4−ジアゾジフェニルエーテル、4′−メチ
ル−4−ジアゾジフェニルエーテル、3,4′−ジメチル
−4−ジアゾジフェニルエーテル、4′−カルボキシ−
4−ジアゾジフェニルエーテル、3,3′−ジメチル−4
−ジアゾジフェニルエーテル、4−ジアゾジフェニルス
ルフィド、4′−メチル−4−ジアゾジフェニルスルフ
ィドなどの塩が挙げられる。
このうち、特に好ましい芳香族ジアゾニウム化合物
は、4−ジアゾジフェニルアミン塩である。
本発明におけるカルボキシル基を少くとも1つ有する
芳香族化合物と芳香族ジアゾニウム化合物とを構成単位
として含む共縮合ジアゾ樹脂は、公知の方法、例えば、
フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジニア
リング(photo,Sci.,Eng.)第17巻、第33頁(1973)、
米国特許第2,063,631号、同第2,679,498号各明細書に記
載の方法に従い、硫酸や、リン酸、塩酸中で芳香族ジア
ゾニウム化合物と、カルボキシル基を有する芳香族化合
物と、アルデヒド類、例えばパラホルムアルデヒド、ア
セトアルデヒド、ベンズアルデヒドあるいはケトン類、
例えばアセトン、アセトフェノンと、を重縮合させるこ
とによって得られる。
また、これらの分子中にカルボキシル基を有する芳香
族化合物、芳香族ジアゾニウム化合物及びアルデヒド類
又はケトン類は相互に組合せ自由であり、さらに各々2
種以上を混ぜて共縮合することも可能である。さらにカ
ルボキシル基を有しない共縮合可能なフェノール類を添
加して共縮合させることもできる。
その際、カルボキシル基を有する芳香族化合物と芳香
族ジアゾニウム化合物の仕込みモル比は、1:0.1〜0.1:
1;好ましくは1:0.2〜0.2:1、より好ましくは1:0.5〜0.
2:1である。また、この場合カルボキシル基を有する芳
香族化合物及び芳香族ジアゾニウム化合物の合計とアル
デヒド類又はケトン類とをモル比で通常1:0.6〜1.2、好
ましくは1:0.7〜1.5で仕込み、低温で短時間、例えば3
時間程度反応させることにより共縮合ジアゾ樹脂が得ら
れる。
本発明において使用される共縮合ジアゾ樹脂の対アニ
オンは、該共縮合ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ
該共縮合ジアゾ樹脂を有機溶媒に可溶性となすアニオン
を含む。これらは、デカン酸及び安息香酸等の有機カル
ボン酸、フェニルリン酸等の有機リン酸及びスルホン酸
を含み、典型的な例としては、ハロゲン化水素酸、例え
ば弗化水素酸、塩化水素酸、臭化水素酸;硫酸、硝酸、
リン酸(5価のリン)、特にオルトリン酸、無機イソ−
及びヘテロ多酸、例えばリンタングステン酸、リンモリ
ブデン酸、脂肪族又は芳香族ホスホン酸あるいはその半
エステル、アルソン酸、ホスフィン酸、トリフルオロ酢
酸などのフルオロカルボン酸、アミドスルホン酸、セレ
ン酸、弗硼化水素酸、ヘキサフルオロリン酸、過塩素
酸、更に脂肪族及び芳香族スルホン酸、例えばメタンス
ルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのフルオ
ロアルカンスルホン酸、ラウリルスルホン酸、ジオクチ
ルスルホコハク酸、ジシクロヘキシルスルホコハク酸、
カンファースルホン酸、トリルオキシ−3−プロパンス
ルホン酸、ノニルフェノキシ−3−プロパンスルホン
酸、ノニルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジブチ
ルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジアミルフェ
ノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジノニルフェノキシ
−3−プロパンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−4−
ブタンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−4−ブタンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、p−クロロベンゼンスルホン
酸、2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸、スルホサリチ
ル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、p−アセチ
ルベンゼンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスル
ホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベ
ンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2
−クロロ−5−ニトロベンゼンスルホン酸、ブチルベン
ゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸、ブトキシベンゼンスルホン酸、
ドデシルオキシベンゼンスルホン酸、2−メトキシ−4
−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸、イ
ソプロピルナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンス
ルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、オクチルナ
フタレンスルホン酸、ブトキシナフタレンスルホン酸、
ドデシルオキシナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタ
レンスルホン酸、ジオクチルナフタレンスルホン酸、ト
リイソプロピルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフ
タレンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、
ナフタリン−1−スルホン酸、ナフタリン−2−スルホ
ン酸、1,8−ジニトロ−ナフタリン−3,6−ジスルホン
酸、4,4′−ジアジド−スチルベン−3,3′−ジスルホン
酸、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン
酸、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン
酸及び1,2−ナフトキノン−1−ジアジド−4−スルホ
ン酸のアニオンもしくは、これらのアニオンの混合物が
含まれる。これらのアニオンの中で特に好ましいもの
は、ヘキサフルオロリン酸、メタンスルホン酸、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸
又は2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベ
ンゼンスルホン酸のアニオンである。
本発明における共縮合ジアゾ樹脂の具体例としては、
サリチル酸−4−ジアゾジフェニルアミン・六フッ化リ
ン酸塩−ホルムアルデヒド樹脂、4−メチルサリチル酸
−4−ジアゾ−4′−メチルジフェニルアミン六フッ化
リン酸塩−ホルムアルデヒド樹脂、p−ヒドロキシ安息
香酸−4−ジアゾジフェニルアミン・六フッ化リン酸塩
−ホルムアルデヒド樹脂、p−ヒドロキシ安息香酸−4
−ジアゾ−3−メチルジフェニルアミン・六フッ化リン
酸塩−ホルムアルデヒド樹脂、没食子酸−4−ジアゾ−
4′−エチルジフェニルアミン・2−ヒドロキシ−4−
メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸塩−ホルムア
ルデヒド樹脂、2,4−ジヒドロキシ安息香酸−4−ジア
ゾジフェニルアミン六フッ化リン酸塩−ホルムアルデヒ
ド樹脂、4−(p−ヒドロキシアニリノ)安息香酸−4
−ジアゾジフェニルアミン・六フッ化リン酸塩−ホルム
アルデヒド樹脂、3−メトキシ−1,2−ベンゼンジカル
ボン酸−4−ジアゾ−3−メチルジフェニルアミン・六
フッ化リン酸塩−ベンズアルデヒド樹脂、p−メトキシ
安息香酸−4−ジアゾジフェニルアミン・六フッ化リン
酸塩−ホルムアルデヒド樹脂、2−メチル安息香酸−4
−ジアゾジフェニルアミン・六フッ化リン酸塩−ホルム
アルデヒド樹脂、p−フェノキシ安息香酸−4−ジアゾ
ジフェニルアミン・2−ヒドロキシ−4−メトキシベン
ゾフェノン−5−スルホン酸塩−ホルムアルデヒド樹
脂、2,4−ジアミノ安息香酸−4−ジアゾジフェニルア
ミン・六フッ化リン酸塩−ホルムアルデヒド樹脂、2,4
−ジメトキシ安息香酸−4−ジアゾ−4′−メチルジフ
ェニルアミン・六フッ化リン酸塩−ホルムアルデヒド樹
脂、4−カルボキシジフェニルアミン−4−ジアゾ−
4′−エチルジフェニルアミン・六フッ化リン酸塩−ホ
ルムアルデヒド樹脂、2,4−ジメトキシ安息香酸−4−
ジアゾジフェニルアミン・六フッ化リン酸塩−ホルムア
ルデヒド樹脂、4−アニリノ安息香酸−4−ジアゾ−
4′−メチルジフェニルアミン・六フッ化リン酸塩−ホ
ルムアルデヒド樹脂、p−フェノキシ安息香酸−4−ジ
アゾジフェニルアミン・六フッ化リン酸塩−ホルムアル
デヒド樹脂があり、このような化合物のうち特に好まし
いのは、サリチル酸−4−ジアゾジフェニルアミン・2
−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スル
ホン酸塩−ホルムアルデヒド樹脂、p−メトキシ安息香
酸−4−ジアゾジフェニルアミン六フッ化リン酸塩−ホ
ルムアルデヒド樹脂、2,4−ジメトキシ安息香酸−4−
ジアゾジフェニルアミン・2−ヒドロキシ−4−メトキ
シベンゾフェノン−5−スルホン酸塩−ホルムアルデヒ
ド樹脂、4−アニリノ安息香酸−4−ジアゾジフェニル
アミン・メタンスルホン酸塩−ホルムアルデヒド樹脂、
p−フェノキシ安息香酸−4−ジアゾ−4′−メチルジ
フェイルアミン・六フッ化リン酸塩−ホルムアルデヒド
樹脂、2,4−ジヒドロキシ安息香酸−4−ジアゾジフェ
ニルアミン・ジブチルナフタレンスルホン酸塩−ホルム
アルデヒド樹脂、4−カルボキシジフェニルアミン−4
−ジアゾジフェニルアミン・メタンスルホン酸塩−ホル
ムアルデヒド樹脂、4−カルボキシ−4′−メトキシジ
フェニルアミン−4−ジアゾジフェニルアミン・2−ヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン
酸塩−ホルムアルデヒド樹脂である。
本発明の共縮合ジアゾ樹脂は、各単量体のモル比及び
縮合条件を種々変えることにより、その分子量は任意の
値として得ることができるが、本発明の目的とする使途
に有効に供するためには分子量が約400乃至100,000のも
のが使用可能である。好ましくは、約800乃至5,000のも
のが適当である。
この共縮合ジアゾ樹脂を感光層中に含有させる場合の
含有量は、0.1〜30重量%、好ましくは1〜10重量%で
ある。
なお、本発明で使用される共縮合ジアゾ樹脂の他に、
特公昭47−1167号、特開昭50−118802号、特公昭52−73
64号及び特開昭59−222834号の各公報などに記載されて
いるようなジアゾ樹脂を、本発明の共縮合ジアゾ樹脂に
対して50重量%以下の量で併用してもよい。
本発明で使用する感光層には増感剤を使用することが
できる。そのような増感剤としては、300nm以上の範囲
で実際に充分な光吸収を可能にするような極大吸収を有
する三重項増感剤が好ましい。
そのような増感剤としてはベンゾフェノン誘導体、ベ
ンズアンスロン誘導体、キノン類、芳香族ニトロ化合
物、ナフトチアゾリン誘導体、ベンゾチアゾリン誘導
体、チオキサントン類、ナフトチアゾール誘導体、ケト
クマリン化合物、ベンゾチアゾール誘導体、ナフトフラ
ノン化合物、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等を挙げ
ることが出来る。具体的にはミヒラーケトン、N,N′−
ジエチルアミノベンゾフェノン、ベンズアンスロン、
(3−メチル−1,3−ジアザ−1,9−ベンズ)アンスロン
ピクラミド、5−ニトロアセナフテン、2−クロロチオ
キサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジメチ
ルチオキサントン、メチルチオキサントン−1−エチル
カルボキシレート、2−ニトロフルオレン、2−ジベン
ゾイルメチレン−3−メチルナフトチアゾリン、3,3−
カルボニル−ビス(7−ジエチルアミノクマリン)、2,
4,6−トリフェニルチアピリリウムパークロレート、2
−(p−クロルベンゾイル)ナフトチアゾール、などを
挙げることが出来る。これらの増感剤の添加量は感光量
の約1〜約20重量%、より好ましくは3〜10重量%が適
当である。
本発明の感光層には必要により更に結合剤を含有させ
ることができ、通常綿状有機ポリマーより適宜選択され
る。結合の具体例としては、塩素化ポリエチレン、塩素
化ポリプロピレン、ポリアクリル酸アルキルエステル、
アクリル酸アルキルエステル、アクリロニトリル塩化ビ
ニル、スチレン、ブタジエンなどのモノマーの少くとも
一種との共重合体、ポリアミド、メチルセルロース、ポ
リビニルホルマール、ポリビニルブチラール、メタクリ
ル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体などがある。場合によっては感光層の着色を目的とし
て、染料もしくは顔料や焼出し剤としてpH指示薬等を添
加することもできる。
また、本発明の感光層は可塑剤などを含んでもよい。
可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタ
レートなどフタル酸ジアルキルエステル、オリゴエチレ
ングリコールアルキルエステル、リン酸エステル系の可
塑剤などを使用することができる。
更に、感光層中には、熱重合防止剤、酸化防止剤を配
合することが好ましく、例えばハイドロキノン、p−メ
トキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、
ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、
4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノ
ール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−
ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾー
ル等が有用なものとして挙げられる。
上述の感光層は、上記各成分からなる感光性組成物
を、例えば、2−メトキシエタノール、2−メトキシエ
チルアセテート、メチルセロソルブ、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、3−メトキシプロパノール、
3−メトキシプロピルアセテート、アセトン、メチルエ
チルケトン、エチレンジクロライド、乳酸メチル、乳酸
エチル、メタノール、ジメチルホルムアミド、エタノー
ル、メチルセロソルブアセテートなどの適当な溶剤の単
独又はこれらを適当に組合せた混合溶媒に溶解して支持
体上に塗設することにより形成される。その被覆量は乾
燥後の重量で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲が適当であ
り、好ましくは0.5〜5g/m2である。
本発明において、支持体と感光層との密着性を高める
ためや、現像後に感光層が残らないようにするため、又
はハレーションを防止する等の目的で、必要に応じて中
間を設けてもよい。密着性の向上のためには、一般に中
間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミニウムに吸着する
リン酸化合物等からなっている。また、現像後に感光層
が残存しないように溶解性の高い物質からなる中間層
は、一般に溶解性の良好なポリマーや、水溶性ポリマー
からなっている、更に、ハレーション防止のためには、
中間層は一般に染料やUV吸収剤を含む。中間層の厚さは
任意であり、露光した時に、上層の感光層と均一な結合
形成反応を行い得る厚みでなければならない。通常、乾
燥固体で約1〜100mg/m2の塗布割合がよく、5〜40mg/m
2が特に良好である。
中間層中における本発明の共縮合ジアゾ樹脂の使用割
合は、30〜100重量%、好ましくは60〜100重量%であ
る。
中間層には、必要に応じて、増感剤、ジアゾ安定化
剤、高分子結合剤、ハレーション防止剤、界面活性剤の
他、各種添加剤を入れてもよい。
中間層を設けるには、上記化合物を、任意の溶剤に所
望の濃度で溶解し、それを塗布又は浸漬し、次いで乾燥
するによって得られる。
本発明に用いる親水性を有する表面を有する支持体
は、寸度的に安定な板状物であることが望ましい。かか
る寸度的に安定な板状物としては、従来印刷物の支持体
として使用されたものが含まれ、それらは本発明に好適
に使用することができる。かかる支持体としては、紙、
プラスチックス(例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、アルミ
ニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などの
ような金属板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酢酸セルロース、酢酸酪酸セ
ルロース、硝酸セルロース、ポリエチレテレフタレー
ト、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプ
ラスチックフィルム、上記の如き金属がラミネートもし
くは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルムなどが
含まれる。これらの支持体のうち、アルミニウム板は寸
度的に著しく安定であり、しかも安価であるうえ、本発
明の感光層等との接着性が特に良好なので好ましい。更
に、特公昭48−18327号公報に記載されているようなポ
リエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシ
ートが結合された複合体シートも好ましい。
金属、特にアルミニウム支持体の場合には、砂目立て
処理、陽極酸化処理などの表面処理がなされていること
が好ましい。
表面の親水性を高めるために、珪酸ソーダ、弗化ジル
コニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸漬処理
が行なわれることが好ましい。米国特許第2,714,066号
明細書に記載されているように、砂目立てした後に珪酸
ナトリウム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板、特
公昭47−5125号公報に記載されているようにアルミニウ
ム板を陽極酸化処理した後に、アルカリ金属珪酸塩の水
溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。
また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されてい
るようなシリケート電着も有効である。
また、特公昭46−27481号公報、特開昭52−58602号公
報、特開昭52−30503号公報に開示されているような電
解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び珪
酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である。
また、特開昭56−28893号公報に開示されているよう
な、ブラシグレイン、電解グレイン、陽極酸化処理、更
に珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適である。ま
た、これらの処理を行った後に、水溶液の樹脂、例えば
ポリビニルフォスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する
重合体及び共重合体、ポリアクリル酸等を下塗りしたも
のも好適である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする
ために施される以外に、その上に設けられる感光性組成
物との有害な反応を防ぐため、また感光層との密着性の
向上等のために施される。
本発明の感光性平版印刷版をメタルハライドランプ、
高圧水銀灯などのような紫外線に富んだ光源を用いて画
像露光し、現像液で処理して感光層の未露光部を除去
し、最後にガム液を塗布することにより平版印刷版とす
る。
本発明の感光性組成物に対する現像液としては、珪酸
ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第
二リン酸ナトリルム、第三リン酸アンモニウム、第二リ
ン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水溶
液が適当であり、それらの濃度が0.1〜10重量%、好ま
しくは0.5〜5重量%になるように添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性
剤やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもで
きる。有機溶剤として好ましいものは、ベンジルアルコ
ール、2−フェノキシエタノール、2−ブトキシエタノ
ール、n−プロピルアルコール等が挙げられる。この
他、ジアゾ溶解剤、例えば、亜鉛酸塩、メチルレゾルシ
ン、ピラゾロン化合物、等の還元性物質を入れることも
好ましい。また、米国特許第3,475,171号及び同第3,61
5,480号の各明細書に記載されているものを挙げること
ができる。更に、特開昭50−26601号、特公昭56−39464
号及び同56−42860号の各公報に記載されている現像液
も本発明の感光性平版印刷版の現像液として優れてい
る。
〔実施例〕
以下、本発明について、合成例及び実施例により更に
詳細に説明する。なお、「%」は他に指定がない限り、
重量%を示す。
合成例1 p−メトキシ安息香酸3.8g(0.025モル)及び4−ジ
アゾジフェニルアミン硫酸塩21g(0.075モル)を水冷下
で90gの濃硫酸に溶解した。次に、2.7gのパラホルムア
ルデヒド(0.09モル)をゆっくり添加した。この際、反
応温度は10℃を超えないように添加していった。その
後、2時間氷冷下撹拌を続けた。この反応混合物を氷冷
下、1のエタノールに注入し、生じた沈殿を濾過し
た。エタノールで洗浄後、この沈殿物200mlの純水に溶
解し、この液に10.5gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶
液を加えた。生じた沈殿を濾過した後、エタノールで洗
浄し、これを300mlの純水に溶解した。この液に13.7gの
ヘキサフルオロリン酸アンモニウムを溶解した冷濃厚水
溶液を加えた。生じた沈殿を濾別し水洗した後、30℃、
1昼夜乾燥して共縮合ジアゾ樹脂−Iを得た。
この共縮合ジアゾ樹脂−IをGPCにより分子量を測定
したところ、重量平均分子量で約2,400であった。
その他の本発明の共縮合ジアゾ樹脂についても、合成
例1と同様の方法によって合成することができる。
実施例1 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400
メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂目
立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウム
に70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗
後20%NHO3で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの
条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液
中で160クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理
を行った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra
表示)であった。引き続いて30%のH2SO4水溶液中に浸
漬し、55℃で2分間デスマット処理した後、20%H2SO4
水溶液中、電流密度2A/dm2において厚さが2.7g/m2とな
るように2分間陽極酸化処理した。その後70℃の珪酸ソ
ーダの2.5%水溶液に1分間浸折し、水洗し、乾燥せさ
た。
次に、下記感光性組成物Iを調製した。
感光性組成物I ・メチルメタクリレート/N−〔2−(メタクリロイルオ
キシ)エチル〕−2,3−ジメチルマレイミド/メタクリ
ル酸=10/60/30(モル比)共重合体 5g ・下記構造式で表わされる増感剤 ・共縮合ジアゾ樹脂−I(合成例1) 0.10g ・プロピレングリコールモノメチルエーテル 50 g ・メチルエチルケトン 50 g ・メガファックF−177(大日本インキ(株)製、フッ
素系ノニオン系界面活性剤) 0.03g ・銅フタロシアニン顔料(CI Pigment Blue 15)の可塑
剤10%分散液 1.0 g この感光性組成物を先のアルミニウム支持体の上に回
転塗布機を用いて、乾燥後に重量にして、1.2g/m2とな
るように塗布し、80℃で2分間乾燥して、感光性平版印
刷版〔A〕を得た。
比較例1 感光性組成物Iにおいて共縮合ジアゾ樹脂−Iを使用
しないことを除いて実施例1と同様にして、感光性平版
印刷版〔B〕を得た。
比較例2 感光性組成物Iの共縮合ジアゾ樹脂−Iに代えて、従
来から知らているジアゾ樹脂(a)を用いたことを除い
て、実施例1と同様にして、感光性平版印刷版〔C〕を
得た。
−ジアゾ樹脂(a)− p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの
縮合物のPF6塩 真空焼枠装置を用いて、上記感光性平版印刷版〔A〕
〜〔C〕上にステップウェッジ(濃度段差0.15、濃度段
数15)及び網点ネガ原画を密着させ、2Kwの超高圧水銀
灯を60秒間照射することにより露光した後、珪酸ナトリ
ウム5重量%水溶液に約1分間浸漬して現像した。
水洗、乾燥した後、得られた平版印刷版〔A〕、
〔B〕及び〔C〕をハイデルベルグ社製KOR−D型印刷
機で印刷した。
印刷版の感度及び印刷性能は以下の第1表に示す通り
であった。
表1から、本発明の平版印刷版〔A〕は感度も高く、
印刷時の性能もすぐれていることが分る。
実施例2 実施例1と同様にしてアルミニウム支持体に、下記感
光性組成物IIを塗布し、乾燥して感光性平板印刷版
〔D〕を得た。
感光性組成物II ・N−〔2−(メタクリロイルオキシ)エチル〕−2,3
−ジメチルマレイミド/メタクリル酸=65/35(モル
比)共重合体 5 g ・下記増感剤 0.3g ・4−ジアゾジフェニルアミンとフェノキシ酢酸のホル
ムアルデヒド共縮合物のドデシルベンゼンゼンスルホン
酸塩(共縮合ジアゾ樹脂−II)(合成例1と同様に合成
したもの。重量平均分子量2100) 0.10g ・ジピコリン酸 0.05g ・プロピレングリコールモノメチルエーテル 50 g ・メチルエチルケトン 50 g ・メガファックF−117 0.03g ・オイルブルー#603(オリエント化学工業K.K.)0.15g 比較例3 感光性組成物IIに共縮合ジアゾ樹脂−IIを配合しない
ことを除いて、実施例2と同様にして感光性平版印刷版
〔E〕を得た。
実施例1と同様にして、得られた感光性平版印刷版
〔D〕及び〔E〕ついて露光・現像・印刷を行った結果
以下の表2に示す。
実施例3 実施例1と同様にして、アルミニウム支持体を処理し
た後、下記の共縮合ジアゾ樹脂の液を調整した。
この液を回転塗布機を用いて、乾燥後の重量にして、
10mg/m2となるようにアルミニウム支持体上に塗布し、8
0℃で1分間乾燥して中間層とした。
次に下記感光性組成物IIIを調製した。
感光性組成物III ・β−シンナモイロキシエチルメタクリレート/メタク
リル酸=70/30(モル比)共重合体 5.0g ・下記構造式の増感剤 0.4g ・ジエチルフタレート 0.5 g ・銅フタロシアニン顔料(CI Pigment Blue 15)の可塑
剤10%分散液 1.0 g ・F−177(大日本インキK.K.(株)フッ素系界面活性
剤) 0.02g ・メチルエチルケトン 20 g ・メタノール 2 g ・プロピレングリコールモノメチルエーテル 28 g この感光性組成物IIIを、中間層を有する支持体上に
回転塗布機を用いて、乾燥後の重量にて1.0g/m2となる
ように塗布し、次いで80℃で2分間乾燥して、感光性平
版印刷版〔F〕を得た。
比較例4 実施例3における共縮合ジアゾ樹脂の液中の共縮合ジ
アゾ樹脂−IIに代えて、4−ジアゾジフェニルアミンと
ホルムアルデヒドとの縮合物のドデシルベンゼンスルホ
ン酸塩を用いたことを除いては実施例3と同様にして感
光性平版印刷版〔G〕を得た。又、共縮合ジアゾ樹脂を
用いないことを除いて、実施例3をくり返して、感光性
平版印刷版〔H〕を得た。
得られた感光性平版印刷版〔F〕〜〔H〕について実
施例1と同様に露光・現像・印刷を行なって得られた結
果を表3に示す。
表3より、本発明の平版印刷版〔F〕は、感度も高
く、印刷時も汚れず、十分な耐刷力を有していた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−78544(JP,A) 特開 昭62−175729(JP,A) 特開 昭59−53836(JP,A) 特開 平2−66(JP,A) 特開 平1−254949(JP,A) 特開 平1−102457(JP,A)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】親水性表面を有する支持体上に、アルカリ
    水可溶性又は膨潤性の光二重化可能な不飽和結合を有す
    る光架橋型ポリマーを有する感光層と、必要により中間
    層とを有する感光性平版印刷版において、少なくとも1
    個のカルボキシ基を有する芳香族化合物と、下記一般式
    (I)で示される芳香族ジアゾニウム化合物とを構成単
    位として含む共縮合ジアゾ樹脂を、前記感光層又は中間
    層中に含有させることを特徴とする感光性平版印刷版。 式中、R1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒド
    ロキシル基、カルボキシエステル基又はカルボキシル基
    を示し、R2は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を
    示し、R3は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を示
    し、X-はアニオンを示し、Yは−NH−,−O−又は−S
    −を示す。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5250393A (en) * 1990-12-20 1993-10-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for developing presensitized plate for use in making lithographic printing plate
JP3278286B2 (ja) * 1994-04-25 2002-04-30 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
DE69819584T2 (de) * 1997-04-08 2004-09-16 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Positiv arbeitende lithographische Druckplatte
JP3978255B2 (ja) * 1997-06-24 2007-09-19 Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 リソグラフィー用洗浄剤
US6014929A (en) * 1998-03-09 2000-01-18 Teng; Gary Ganghui Lithographic printing plates having a thin releasable interlayer overlying a rough substrate
JP3635203B2 (ja) * 1998-10-06 2005-04-06 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用原版
US6558873B1 (en) 1999-10-05 2003-05-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
JP4152559B2 (ja) 2000-03-06 2008-09-17 富士フイルム株式会社 ネガ型感光性平版印刷版
US6887642B2 (en) * 2002-04-05 2005-05-03 Kodak Polychrome Graphies Llc Multi-layer negative working imageable element

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2679498A (en) * 1954-05-25 Atent office
DE596731C (de) * 1932-05-23 1934-05-09 Kalle & Co Akt Ges Verfahren zur Darstellung von hoehermolekularen Diazoverbindungen
US3867147A (en) * 1969-05-20 1975-02-18 Hoechst Co American Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same
JPS56444B2 (ja) * 1972-05-16 1981-01-08
DE2626795A1 (de) * 1975-06-18 1976-12-30 Ciba Geigy Ag Imidylverbindungen
US4079041A (en) * 1975-06-18 1978-03-14 Ciba-Geigy Corporation Crosslinkable polymeric compounds
LU75749A1 (ja) * 1976-09-08 1978-04-27
JPS5953836A (ja) * 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
DE3311435A1 (de) * 1983-03-29 1984-10-04 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches, diazoniumgruppen enthaltendes polykondensationsprodukt, verfahren zu seiner herstellung und lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial, das dieses polykondensationsprodukt enthaelt
JPS6278544A (ja) * 1985-10-01 1987-04-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH061380B2 (ja) * 1986-01-30 1994-01-05 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPS62175729A (ja) * 1986-01-30 1987-08-01 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
DE3644160A1 (de) * 1986-12-23 1988-07-14 Hoechst Ag Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial mit einer lichtempfindlichen zwischenschicht
JPH01102457A (ja) * 1987-10-15 1989-04-20 Konica Corp 感光性組成物
JP2810998B2 (ja) * 1987-10-15 1998-10-15 コニカ 株式会社 感光性組成物
JP2657516B2 (ja) * 1988-04-05 1997-09-24 コニカ株式会社 感光性組成物

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