JP2620771B2 - 酸素濃度制御装置を備えた微粉砕装置 - Google Patents
酸素濃度制御装置を備えた微粉砕装置Info
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- JP2620771B2 JP2620771B2 JP6092993A JP6092993A JP2620771B2 JP 2620771 B2 JP2620771 B2 JP 2620771B2 JP 6092993 A JP6092993 A JP 6092993A JP 6092993 A JP6092993 A JP 6092993A JP 2620771 B2 JP2620771 B2 JP 2620771B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、反応性の高い金属系材
料等を低酸素雰囲気にて微粉砕するための酸素濃度制御
装置を備えた微粉砕装置に関する。
料等を低酸素雰囲気にて微粉砕するための酸素濃度制御
装置を備えた微粉砕装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】反応性を有する材料、例えば石炭を安全
に微粉砕するために、一酸化炭素または酸素濃度の制御
装置もしくは警報器を備えた微粉砕装置が用いられてい
る。例えば、空気雰囲気での石炭の微粉砕にあたり、雰
囲気の酸素濃度が設定値、例えば１５％以上となり、ま
た一酸化炭素濃度が設定値、例えば２００ppm 以上とな
ると蒸気，ＣＯ2 等の不活性ガスの流量制御を行って、
雰囲気の活性を低減させることにより、微粉砕装置が火
災や爆発を発生させることを防止している（特公平１−
２８６１３号）。
に微粉砕するために、一酸化炭素または酸素濃度の制御
装置もしくは警報器を備えた微粉砕装置が用いられてい
る。例えば、空気雰囲気での石炭の微粉砕にあたり、雰
囲気の酸素濃度が設定値、例えば１５％以上となり、ま
た一酸化炭素濃度が設定値、例えば２００ppm 以上とな
ると蒸気，ＣＯ2 等の不活性ガスの流量制御を行って、
雰囲気の活性を低減させることにより、微粉砕装置が火
災や爆発を発生させることを防止している（特公平１−
２８６１３号）。
【０００３】また、金属系材料の微粉砕にあたり、好ま
しくない過大な表面酸化を回避するために、低酸素雰囲
気にて微粉砕するようにされている。
しくない過大な表面酸化を回避するために、低酸素雰囲
気にて微粉砕するようにされている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、空気雰囲気
での材料の微粉砕にあたり、雰囲気の活性を低減させて
微粉砕する方式では、石炭等の反応性を有する材料を微
粉砕するには有効であるものの、不活性ガスとしても酸
素原子からなるガスを用いていることもあって反応性の
高い金属系材料を微粉砕するためには、充分な低酸素雰
囲気が形成できないので、砕製品の過大な表面酸化を発
生させ、所望の性状を発揮できなくなる虞れがある。
での材料の微粉砕にあたり、雰囲気の活性を低減させて
微粉砕する方式では、石炭等の反応性を有する材料を微
粉砕するには有効であるものの、不活性ガスとしても酸
素原子からなるガスを用いていることもあって反応性の
高い金属系材料を微粉砕するためには、充分な低酸素雰
囲気が形成できないので、砕製品の過大な表面酸化を発
生させ、所望の性状を発揮できなくなる虞れがある。
【０００５】本発明は、上述した従来技術の問題点を解
決するためになされたものであり、反応性の高い金属系
材料等を低酸素雰囲気にて微粉砕するために、不活性ガ
スとして希ガス、例えばアルゴン等を用いた不活性ガス
雰囲気にて微粉砕し、しかも微粉砕系統内酸素濃度を材
料の表面酸化を抑制するように制御した酸素濃度制御装
置を備えた微粉砕装置を提供することを目的とする。
決するためになされたものであり、反応性の高い金属系
材料等を低酸素雰囲気にて微粉砕するために、不活性ガ
スとして希ガス、例えばアルゴン等を用いた不活性ガス
雰囲気にて微粉砕し、しかも微粉砕系統内酸素濃度を材
料の表面酸化を抑制するように制御した酸素濃度制御装
置を備えた微粉砕装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明では、微粉砕系統を通して不活性ガス雰囲
気にて材料を微粉砕させるための微粉砕装置と、微粉砕
装置入口側に接続された不活性ガス導入路に設けられた
不活性ガス流量制御弁と、微粉砕装置に後置され系統内
ガスを流動させるための送風機と、送風機入口側に設け
られた圧力制御弁と、を備えてなる微粉砕装置におい
て、前記微粉砕装置上流の系統内ガスの酸素濃度を検出
する酸素濃度検出器と、酸素濃度検出器の検出酸素濃度
を設定濃度と比較しその偏差により前記酸素濃度が規定
濃度となるように前記不活性ガス流量制御弁を制御する
酸素制御器と、前記送風機入口の系統内ガスの圧力を検
出する圧力検出器と、圧力検出器の検出圧力を設定圧力
と比較しその偏差により前記圧力が規定圧力となるよう
に前記圧力制御弁を制御する圧力制御器と、を具備して
なることを特徴とするものである。
めに、本発明では、微粉砕系統を通して不活性ガス雰囲
気にて材料を微粉砕させるための微粉砕装置と、微粉砕
装置入口側に接続された不活性ガス導入路に設けられた
不活性ガス流量制御弁と、微粉砕装置に後置され系統内
ガスを流動させるための送風機と、送風機入口側に設け
られた圧力制御弁と、を備えてなる微粉砕装置におい
て、前記微粉砕装置上流の系統内ガスの酸素濃度を検出
する酸素濃度検出器と、酸素濃度検出器の検出酸素濃度
を設定濃度と比較しその偏差により前記酸素濃度が規定
濃度となるように前記不活性ガス流量制御弁を制御する
酸素制御器と、前記送風機入口の系統内ガスの圧力を検
出する圧力検出器と、圧力検出器の検出圧力を設定圧力
と比較しその偏差により前記圧力が規定圧力となるよう
に前記圧力制御弁を制御する圧力制御器と、を具備して
なることを特徴とするものである。
【０００７】
【作用】このようにすれば、外気が系統内に浸入される
ことが抑制されるとともに系統内酸素濃度を希ガスを用
いた不活性ガスの導入により材料の表面酸化を抑制する
ように自動的に制御し、反応性の高い金属系材料等の性
状を低下させることなく効率よく微粉砕させることがで
きる。
ことが抑制されるとともに系統内酸素濃度を希ガスを用
いた不活性ガスの導入により材料の表面酸化を抑制する
ように自動的に制御し、反応性の高い金属系材料等の性
状を低下させることなく効率よく微粉砕させることがで
きる。
【０００８】
【実施例】以下、図面を参照にして本発明の実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
【０００９】図１は、本発明の一実施例を示す酸素濃度
制御装置を備えた微粉砕装置の全体構成図である。
制御装置を備えた微粉砕装置の全体構成図である。
【００１０】図１において、閉回路運転を行う微粉砕装
置の例を示し、１０は酸素制御装置であり、圧力制御装
置を含めて示している。１２は微粉砕装置であり、材料
供給機１４から供給される材料は微粉砕系統３０内に分
散導入され、微粉砕装置１２内にて微粉砕される。微粉
砕装置１２出口側には分級機１６、分離器１８ならびに
圧力制御弁３２、送風機２０が直列して配設されてい
る。分級機１６は微粉砕品を粗粒と細粉とに分級して、
粗粒は微粉砕装置１２に戻されて繰返し粉砕されるとと
もに、細粉は分離器１８において固・気分離がなされ砕
製品１９の分離回収が行われる。そして、分離器１８か
らの系統３０内ガスは圧力制御弁３２を介し送風機２０
により流動されている。この微粉砕系統３０内ガスは循
環流動されて、送風機２０より再び微粉砕装置１２内に
導入されるとともに、一部は外気に放出される。
置の例を示し、１０は酸素制御装置であり、圧力制御装
置を含めて示している。１２は微粉砕装置であり、材料
供給機１４から供給される材料は微粉砕系統３０内に分
散導入され、微粉砕装置１２内にて微粉砕される。微粉
砕装置１２出口側には分級機１６、分離器１８ならびに
圧力制御弁３２、送風機２０が直列して配設されてい
る。分級機１６は微粉砕品を粗粒と細粉とに分級して、
粗粒は微粉砕装置１２に戻されて繰返し粉砕されるとと
もに、細粉は分離器１８において固・気分離がなされ砕
製品１９の分離回収が行われる。そして、分離器１８か
らの系統３０内ガスは圧力制御弁３２を介し送風機２０
により流動されている。この微粉砕系統３０内ガスは循
環流動されて、送風機２０より再び微粉砕装置１２内に
導入されるとともに、一部は外気に放出される。
【００１１】微粉砕系統３０における微粉砕装置１２入
口側には不活性ガス導入路２８が接続され、２６は不活
性ガス流量制御弁である。この不活性ガスとしては、希
ガス、例えば一原子気体であるアルゴン等が用いられ、
従来例の不活性ガスである水素化合物からなる水蒸気，
酸素化合物からなる二酸化炭素等の三原子分子と異な
り、反応性が極めて低い化学的不活性を呈するものであ
る。
口側には不活性ガス導入路２８が接続され、２６は不活
性ガス流量制御弁である。この不活性ガスとしては、希
ガス、例えば一原子気体であるアルゴン等が用いられ、
従来例の不活性ガスである水素化合物からなる水蒸気，
酸素化合物からなる二酸化炭素等の三原子分子と異な
り、反応性が極めて低い化学的不活性を呈するものであ
る。
【００１２】２２は前記系統３０内ガスの酸素濃度を検
出する酸素濃度検出器を示し、例えばジルコニア固体電
解質型の酸素センサが好適であり、微粉砕装置１２の上
流側に、詳細に述べれば、材料供給機１４の上流側位置
に設置され、酸素濃度検出時に粉じん等が作用すること
を防止している。酸素濃度検出器２２からの電気量に変
換された出力信号２３は、Ａ／Ｄ変換器を介したディジ
タル処理とすることができるが、実施例ではアナログ処
理による場合を示す。出力信号２３は酸素制御器２４に
入力され、また、２５は酸素制御器２４の酸素濃度設定
器である。
出する酸素濃度検出器を示し、例えばジルコニア固体電
解質型の酸素センサが好適であり、微粉砕装置１２の上
流側に、詳細に述べれば、材料供給機１４の上流側位置
に設置され、酸素濃度検出時に粉じん等が作用すること
を防止している。酸素濃度検出器２２からの電気量に変
換された出力信号２３は、Ａ／Ｄ変換器を介したディジ
タル処理とすることができるが、実施例ではアナログ処
理による場合を示す。出力信号２３は酸素制御器２４に
入力され、また、２５は酸素制御器２４の酸素濃度設定
器である。
【００１３】酸素制御器２４は所要の制御回路を備えて
おり、酸素濃度検出器２２の検出酸素濃度条件に応じ
て、酸素濃度設定器２５の設定濃度と比較してその偏差
信号により制御動作がなされ、酸素濃度が規定濃度とな
るように不活性ガス流量制御弁２６を制御する操作信号
２７が出力される。この設定器２５の設定濃度は可変と
することができる。そして、操作信号２７は図示しない
電／空変換器に入力し、空気信号として不活性ガス流量
を制御する不活性ガス流量制御弁２６に与えられ、系統
３０内ガスの酸素濃度が規定濃度となるように制御され
ている。
おり、酸素濃度検出器２２の検出酸素濃度条件に応じ
て、酸素濃度設定器２５の設定濃度と比較してその偏差
信号により制御動作がなされ、酸素濃度が規定濃度とな
るように不活性ガス流量制御弁２６を制御する操作信号
２７が出力される。この設定器２５の設定濃度は可変と
することができる。そして、操作信号２７は図示しない
電／空変換器に入力し、空気信号として不活性ガス流量
を制御する不活性ガス流量制御弁２６に与えられ、系統
３０内ガスの酸素濃度が規定濃度となるように制御され
ている。
【００１４】なお、酸素制御器２４の制御動作として多
位置制御、例えば３位置制御動作とすることができて、
不活性ガス流量制御弁２６の動作を３位置にて行わせ
て、制御系の構成を簡易にさせることができる。
位置制御、例えば３位置制御動作とすることができて、
不活性ガス流量制御弁２６の動作を３位置にて行わせ
て、制御系の構成を簡易にさせることができる。
【００１５】反応性の高い金属系材料、例えばアルミニ
ウムを微粉砕装置１２において微粉砕する場合には微粉
砕系統３０内ガスの酸素濃度を規定濃度、例えば０．１
７〜１．２％にしてアルミニウムの表面酸化が抑制でき
るようにされる。
ウムを微粉砕装置１２において微粉砕する場合には微粉
砕系統３０内ガスの酸素濃度を規定濃度、例えば０．１
７〜１．２％にしてアルミニウムの表面酸化が抑制でき
るようにされる。
【００１６】３３は前記系統３０内ガスの圧力を検出す
る圧力検出器であり、送風機２０入口に設置され、圧力
検出器３３からの電気量に変換された出力信号３５は圧
力制御器３４に入力され、また３６は圧力制御器３４の
圧力設定器３６である。
る圧力検出器であり、送風機２０入口に設置され、圧力
検出器３３からの電気量に変換された出力信号３５は圧
力制御器３４に入力され、また３６は圧力制御器３４の
圧力設定器３６である。
【００１７】圧力制御器３４は所要の制御回路を備えて
おり、圧力検出器３３の検出圧力条件に応じて、圧力設
定器３６の設定圧力と比較してその偏差信号により制御
動作がなされ、圧力が規定圧力となるように圧力制御弁
３２を制御する操作信号３７が出力される。この設定器
３６の設定圧力は可変とすることができる。そして、操
作信号３７は図示しない電／空変換器に入力し、空気信
号としてガス圧力を制御する圧力制御弁３２に与えら
れ、系統３０内ガスの圧力が規定圧力となるように制御
されている。微粉砕系統３０内のガス圧力は規定圧力、
例えば０〜１００MPa となるように制御されるので、外
気が系統３０内に侵入されることが抑制され系統３０内
ガスの酸素濃度が増加することを回避している。
おり、圧力検出器３３の検出圧力条件に応じて、圧力設
定器３６の設定圧力と比較してその偏差信号により制御
動作がなされ、圧力が規定圧力となるように圧力制御弁
３２を制御する操作信号３７が出力される。この設定器
３６の設定圧力は可変とすることができる。そして、操
作信号３７は図示しない電／空変換器に入力し、空気信
号としてガス圧力を制御する圧力制御弁３２に与えら
れ、系統３０内ガスの圧力が規定圧力となるように制御
されている。微粉砕系統３０内のガス圧力は規定圧力、
例えば０〜１００MPa となるように制御されるので、外
気が系統３０内に侵入されることが抑制され系統３０内
ガスの酸素濃度が増加することを回避している。
【００１８】かかる構成によって、反応性の高い金属系
材料を微粉砕装置１２において微粉砕するにあたり、希
ガスを用いた不活性ガスの導入により、材料に随伴され
て微粉砕系統３０内に導入される酸素による雰囲気濃度
も規定濃度となるようにされ、しかも外気が系統３０内
に侵入されることが抑制され、系統３０内酸素濃度を材
料の表面酸化を抑制するように自動的に制御できて、前
記材料等の性状を低下させることなく効率よく微粉砕す
ることができる。
材料を微粉砕装置１２において微粉砕するにあたり、希
ガスを用いた不活性ガスの導入により、材料に随伴され
て微粉砕系統３０内に導入される酸素による雰囲気濃度
も規定濃度となるようにされ、しかも外気が系統３０内
に侵入されることが抑制され、系統３０内酸素濃度を材
料の表面酸化を抑制するように自動的に制御できて、前
記材料等の性状を低下させることなく効率よく微粉砕す
ることができる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、反
応性の高い金属材料を微粉砕するにあたり、外気が微粉
砕系統内に浸入されることが抑制されるとともに、系統
内酸素濃度を希ガスを用いた不活性ガスの導入により低
酸素雰囲気のもとで材料の表面酸化を抑制するように自
動的に制御し、反応性の高い金属系材料等の性状を低下
させることなく微粉砕することができる等、多大な効果
が奏せられる。
応性の高い金属材料を微粉砕するにあたり、外気が微粉
砕系統内に浸入されることが抑制されるとともに、系統
内酸素濃度を希ガスを用いた不活性ガスの導入により低
酸素雰囲気のもとで材料の表面酸化を抑制するように自
動的に制御し、反応性の高い金属系材料等の性状を低下
させることなく微粉砕することができる等、多大な効果
が奏せられる。
【図１】本発明の一実施例を示す酸素濃度制御装置を備
えた微粉砕装置の全体構成図。
えた微粉砕装置の全体構成図。
１０ 酸素濃度制御装置 １２ 微粉砕装置 ２０ 送風機 ２２ 酸素濃度検出器 ２４ 酸素制御器 ２６ 不活性ガス流量制御弁 ２８ 不活性ガス導入路 ３０ 微粉砕系統 ３２ 圧力制御弁 ３４ 圧力制御器
Claims (1)
- 【請求項１】 微粉砕系統を通して不活性ガス雰囲気に
て材料を微粉砕させるための微粉砕装置と、微粉砕装置
入口側に接続された不活性ガス導入路に設けられた不活
性ガス流量制御弁と、微粉砕装置に後置され系統内ガス
を流動させるための送風機と、送風機入口側に設けられ
た圧力制御弁と、を備えてなる微粉砕装置において、前
記微粉砕装置上流の系統内ガスの酸素濃度を検出する酸
素濃度検出器と、酸素濃度検出器の検出酸素濃度を設定
濃度と比較しその偏差により前記酸素濃度が規定濃度と
なるように前記不活性ガス流量制御弁を制御する酸素制
御器と、前記送風機入口の系統内ガスの圧力を検出する
圧力検出器と、圧力検出器の検出圧力を設定圧力と比較
しその偏差により前記圧力が規定圧力となるように前記
圧力制御弁を制御する圧力制御器と、を具備してなるこ
とを特徴とする酸素濃度制御装置を備えた微粉砕装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6092993A JP2620771B2 (ja) | 1993-02-25 | 1993-02-25 | 酸素濃度制御装置を備えた微粉砕装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6092993A JP2620771B2 (ja) | 1993-02-25 | 1993-02-25 | 酸素濃度制御装置を備えた微粉砕装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06246182A JPH06246182A (ja) | 1994-09-06 |
| JP2620771B2 true JP2620771B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=13156571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6092993A Expired - Lifetime JP2620771B2 (ja) | 1993-02-25 | 1993-02-25 | 酸素濃度制御装置を備えた微粉砕装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2620771B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102836773A (zh) * | 2011-10-28 | 2012-12-26 | 南通天华和睿科技创业有限公司 | 矿物粉碎机用喷水装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3016064B2 (ja) * | 1995-09-27 | 2000-03-06 | 古河電池株式会社 | 電池用水素吸蔵合金粉末の製造方法 |
| JP6011933B2 (ja) * | 2012-11-26 | 2016-10-25 | 株式会社日向製錬所 | 微粉炭ミル系設備の炭塵発火防止システム及び炭塵発火防止方法 |
-
1993
- 1993-02-25 JP JP6092993A patent/JP2620771B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102836773A (zh) * | 2011-10-28 | 2012-12-26 | 南通天华和睿科技创业有限公司 | 矿物粉碎机用喷水装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06246182A (ja) | 1994-09-06 |
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