JP4632569B2 - ステージ装置 - Google Patents
ステージ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4632569B2 JP4632569B2 JP2001129800A JP2001129800A JP4632569B2 JP 4632569 B2 JP4632569 B2 JP 4632569B2 JP 2001129800 A JP2001129800 A JP 2001129800A JP 2001129800 A JP2001129800 A JP 2001129800A JP 4632569 B2 JP4632569 B2 JP 4632569B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- vibration
- ultrasonic motor
- driven
- vibration absorber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 28
- 238000013016 damping Methods 0.000 claims description 28
- 239000002783 friction material Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明はステージ装置に関し、更に詳しくは高速移動と高位置決め精度を必要とする、例えば荷電ビーム描画装置や荷電ビーム検査装置等の精密機器に好適なステージ装置に関するものである。
【0002】
【従来技術】
従来、精密位置決め装置、例えば真空中で使用される荷電ビーム描画装置や荷電ビーム検査装置で使用されるXYステージ装置では、高精度の位置決めを行うために剛性が高く且つ非磁性材料であるセラミックスをステージ構成部材として用い、ステージの高速移動と高分解能位置決めを行うために超音波モータが使用されている(特開2000−58629号公報参照)。
【0003】
上記超音波モータ駆動方式のステージ装置では、小型の超音波モータを使用することにより、外部駆動部を持つネジ送り機構を用いたステージ装置に比べて小型のステージ装置を実現することができる。
【0004】
図4は、このようなステージ装置を示すもので、符号2は平板状をした基盤を示している。この基盤2上には第1ステージ3と第2ステージ4とが順次配置されており、図示されていないが、上記第2ステージ4上には半導体ウエハ等の試料を載置するための試料ステージが設置される。
【0005】
第1ステージ3の下方には、図5に示すようなV溝を有し対向する一対のガイドレール20と、該ガイドレールのV溝間に複数のコロ21をクロス状に介装して構成される一対のクロスローラガイド5が、所定間隔を置いて平行に配置されており、これにより第1ステージ3がx方向に移動可能とされている。同様に、第2ステージ4の下方には、第1ステージ3との間にクロスローラガイド6が所定間隔を置いて平行に配置されており、これにより第2ステージ4がy方向に移動可能とされている。
【0006】
上記第1ステージ3および第2ステージ4の駆動手段には超音波モータが使用されている。即ち、図2(a)に示すように、第1ステージ3を駆動する超音波モータ7が、基盤2上に配置されており、第1ステージ3の下面に取り付けられた第1被駆動部材9の圧接面9aに対して超音波モータ7の摩擦材10を当接させ、この状態で超音波モータ7を駆動させると、摩擦材10が第1ステージ3と平行な平面内で楕円運動し、第1被駆動部材9との摩擦駆動によって、第1ステージ3がクロスローラガイド5に沿って(x方向に)移動するようになっている。
【0007】
また、図2(b)に示すように、第2ステージ4を駆動する超音波モータ8は、第1ステージ3上に配置されており、第2ステージ4の下面に取り付けられた第2被駆動部材11の圧接面11aに対して超音波モータ8の摩擦材12を当接させ、この状態で超音波モータ8を駆動させると、摩擦材12が第2ステージ4と平行な平面内で楕円運動し、第2被駆動部材11との摩擦駆動によって、第2ステージ4がクロスローラガイド6に沿って(y方向に)移動するようになっている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、図4に示した上記超音波モータ駆動方式のステージ装置では、定速駆動の後、次の描画過程や検査過程に移るためにステージを減速停止させる際、ステージ装置に残留した低周波数のステージ進行方向への振動を短時間で減衰させることができないために、残留振動が十分小さくなるまで描画過程や検査過程を中断させる必要があった。
【0009】
即ち、従来では描画されるパターンにそれほど微細化が要求されていなかったため問題は生じなかったが、近年において描画されるパターンが急激に微細化されており、このような微細なパターンを描画したり、微細なパターンを検査する際には、従来のステージ装置を使用する限り残留振動の影響が大きく、また、このような従来のステージ装置を使用する場合には、残留振動が十分に小さくなるまで作業を中断する必要があった。
【0010】
具体的に説明すると、超音波モータは動作を安定させるために、摩擦材に作用する外力に対して、一定の弾性係数を有する構造となっている。特に、摩擦材の圧接方向と垂直な方向(ステージを移動させる方向)に対しては、滑らかな駆動を実現するために比較的小さな弾性係数が設定されている。このため、図4に示す従来のステージ装置では、ステージの進行方向に対して、重いステージを弱いばね(超音波モータ)で支える構造となってしまうため、ステージ停止時に、ステージの進行方向と同方向に低周波数の残留振動が生じていた。
【0011】
更に図2(a)に基づいて詳しく説明すると、第1の超音波モータ7のx方向(紙面に対して垂直方向)の等価バネ定数をK[N/m]とし、第1ステージ3および第2ステージ4を合わせたステージ全体の質量をM[kg]とすると、ステージ停止時には図4の白矢印で示す方向に角振動数Ω=√(M/K)[rad/sec]の残留振動が生じていた。ここで、ステージ全体の固有振動数は、上記角振動数Ωを2πで割ったΩ/2π(Hz)で与えられる。
【0012】
また、図4の白矢印で示す振動モードから明らかなように、上記角振動数Ωの振動はx方向へのステージ定速駆動時にも現れるため、ステージを移動させながら描画/検査を行う走査過程の真直精度を悪化させる要因となっていた。
【0013】
上記残留振動を抑制する手段として、例えばステージにブレーキ機構を付加し上記残留振動を強制的に制振させる方法が考えられるが、ステージ装置全体が大型化してしまい、更にステージ装置全体の制御機構が複雑になってしまうという問題があった。
【0014】
本発明は、超音波モータによるステージの進行方向への振動を迅速に減衰することができるステージ装置を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】
本発明のステージ装置は、基盤と、該基盤上に設けられたステージと、該ステージを駆動する超音波モータとを具備するステージ装置において、前記ステージに、該ステージの固有振動数と同一の固有振動数を有し、かつ前記超音波モータにより前記ステージが駆動される方向と同一方向の振動を減衰させる吸振装置を設けるとともに、該吸振装置が、制振板と、該制振板に取り付けられた、前記ステージが駆動される方向と同一方向に振動する錘と、前記制振板が固定される筐体とからなることを特徴とする。
【0016】
超音波モータにより駆動されるステージは、停止時や駆動中においてステージの進行方向にステージの固有振動数で振動する残留振動が生じるが、本発明のステージ装置では、ステージに、該ステージの固有振動数と同一の固有振動数を有し、かつ超音波モータによりステージが駆動される方向と同方向の振動を減衰させる吸振装置を設けたので、この吸振装置によりステージの残留振動を効果的に減衰することができる。
【0017】
即ち、ステージの超音波モータによる振動がサブマイクロメートルオーダーの微小振動であること、また、問題となる振動の振動モードが特定できていることに鑑み、前述したステージの固有振動数と同じ固有振動数を有し、例えば、振動吸収性能の高い材料を制振材として用いた小型軽量の吸振装置(ダイナミックダンパ)をステージ装置に設けることにより、ステージ装置を大型化することなく上記残留振動を効果的に制振することができる。
【0018】
従って、ステージ停止時の残留振動を短時間で減衰させ、同時にステージの定速駆動時に生じる角振動数Ωの振動をも抑制することができ、描画装置あるいは検査装置のウエハ処理性能を向上させることができる。
【0019】
また、本発明のステージ装置では、ステージに空洞部を設けるとともに、該空洞部に吸振装置を設けることが望ましい。このような構造を採用することにより、ステージの軽量化と軽量化による吸振装置の制振効果を向上させることができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のステージ装置を図1〜3に基づいて説明する。図1は本発明のステージ装置を示すもので、(a)は斜視図、(b)は吸振装置内部の構造を示す斜視図、図2(a)及び(b)は図1のx方向の側面図及びy方向の側面図である。
【0021】
図1(a)のステージ装置において、2は平板状をした基盤であり、該基盤2上には第1ステージ3と第2ステージ4とが順次積層されており、図示されていないが、上記第2ステージ4上には半導体ウエハ等の試料を載置するための試料ステージが配置される。
【0022】
第1ステージ3と基盤2との間には、V溝を有し対向する一対のガイドレールと該ガイドレールのV溝間に複数のコロをクロス状に介装して構成される一対のクロスローラガイド5が、y方向に所定間隔を置いて平行に配置されており、これにより第1ステージ3がx方向に移動可能とされている。
【0023】
また、同様に、第2ステージ4と第1ステージ3との間には、一対のクロスローラガイド6がx方向に所定間隔を置いて平行に配置されており、これにより第2ステージ4が、第1ステージ3に対してy方向に移動可能とされている。
【0024】
基盤2上には、図2(a)に示すように超音波モータ7が配置されており、この超音波モータ7は、第1ステージ3と平行な平面(xy平面)内で楕円運動する摩擦材10を有しており、この摩擦材10がy軸正方向に最も突出したときに、第1ステージ3の下面に取り付けられた第1被駆動部材9の圧接面9aに当接して第1ステージ3をx方向に押し出すことになる。
【0025】
具体的には、図2(a)に示す第1ステージ3をx方向(紙面に対して垂直方向)に移動させる場合、クロスローラガイド5と平行に第1ステージ3の下面に取り付けられた第1被駆動部材9の圧接面9aに対して第1の超音波モータ7の摩擦材10を当接させ、この状態で第1の超音波モータ7を駆動させて摩擦材10を楕円運動させ、第1被駆動部材9との摩擦駆動によって第1ステージ3が第1クロスローラガイド5に沿って移動するようになっている。
【0026】
また、第1ステージ3上には、図2(b)に示すように超音波モータ8が配置されており、この超音波モータ8は、第2ステージ4と平行な平面(xy平面)内で楕円運動する摩擦材12を有しており、この摩擦材12がx軸負方向に最も突出したときに、第2ステージ4の下面に取り付けられた第2被駆動部材11の圧接面11aに当接して第2ステージ4をy方向に押し出すことになる。
【0027】
具体的には、第2ステージ4をy方向に移動させる場合、クロスローラガイド6と平行に第2ステージ4の下面に取り付けられた第2被駆動部材11の圧接面11aに対して第2の超音波モータ8の摩擦材12を当接させ、この状態で第2の超音波モータ8を駆動させて摩擦材12を楕円運動させ、第2被駆動部材11との摩擦駆動によって第2ステージ4が第2クロスローラガイド6に沿って移動するようになっている。
【0028】
そして、図1に示す本発明のステージ装置では、第2ステージ4に、第1ステージ3および該第1ステージ3上に設置された第2ステージ4からなるステージ全体の固有振動数と同一の固有振動数を有し、かつ第1超音波モータ7により第1ステージ3が駆動されるx方向と同方向の振動を減衰させるように、x方向に最大の制振作用を有する吸振装置14が設けられている。即ち、図1(b)に示した吸振装置14が、第2ステージ4に穿設された空洞部13内に、その制振作用が最大になる方向に設置されている。
【0029】
吸振装置14は、制振材料からなる制振板15と、該制振板15中央部に取り付けられた錘16と、制振板15と錘16からなる振動吸収部を固定する有底筐体17とから構成され、制振板15のx方向の等価バネ定数をk[N/mm]、錘16の質量をm[kg]としたときの固有角振動数ω=√(k/m)[rad/sec]が、第1ステージ3および該第1ステージ3上に設置された第2ステージ4からなるステージ全体の固有角振動数Ωと同一とされている。
【0030】
吸振装置14の錘16はx方向に振動する、即ち制振板15が図1(b)に一点鎖線で示すように振動する構造であるため、該吸振装置14の固有角振動数ωをステージ全体の固有角振動数Ωと等しくするだけではなく、図1(a)に示したように、第1ステージ3および該第1ステージ3上に設置された第2ステージ4からなるステージ全体の振動方向(x方向)と吸振装置14の錘16の振動方向とを一致させることにより最大の制振効果を得ることができる。
【0031】
筐体17は空洞部13を設けることによる第2ステージ4の剛性低下を補償するため、セラミックスなどの軽量かつ剛性の高い材料で作製されることが望ましい。
【0032】
なお、空洞部13はステージ全体を軽量化し同時に吸振装置14を埋設するために設けているが、本発明の小型軽量吸振装置14をメンテナンス用開口部19などの既存の空洞部に設置することにより容易にステージの振動特性向上を図ることができる。
【0033】
また、図1(a)に示したステージ装置では、吸振装置14を第2ステージ4のみに埋設しているが、第1ステージ3に第2ステージ4の空洞部13と同様の空洞部を設け、第1ステージ3及び第2ステージ4の両方に吸振装置14を設けることにより、ステージ全体の軽量化と制振効果の更なる向上を図ることができる。
【0034】
以上のように構成されたステージ装置は、例えば、第2ステージ4上に、パターンが形成された半導体ウエハ等の試料を載置し、超音波モータ7を駆動して第1ステージ3を移動させるとともに、超音波モータ8を駆動して第2ステージ4を移動させ、第2ステージ4の高速移動と高分解能位置決めが行なわれる。
【0035】
そして、第2ステージ4に設けられた空洞部13には、x方向に振動する錘16を有する吸振装置14を収納し、吸振装置14の固有振動数をステージ全体の固有振動数と同じとしたので、第1ステージ3の停止時に生じる残留振動を短時間で減衰させ、同時にステージの定速駆動時に生じる角振動数Ωの振動を抑制することができ、描画装置あるいは検査装置のウエハ処理性能を向上させることができる。
【0036】
また、本発明のステージ装置では、第2ステージ4に空洞部13を設けるとともに、該空洞部13に吸振装置14を設けたので、第2ステージ4の軽量化と軽量化による吸振装置14の制振効果を向上させることができる。
【0037】
尚、図1及び図2に示したステージ装置は鉛直方向(z方向)にV溝を対向させ、ステージの自重で予圧をかける方法で設置したクロスローラガイド5、6を用いているが、使用目的に応じて、水平方向(x方向あるいはy方向)にV溝を対向させ、外部から予圧をかける方法で設置したクロスローラガイドを使用したステージ装置、また、第1ステージ、第2ステージのいずれかのみ有するステージ装置であってもよい。第1ステージ、第2ステージのいずれかのみ有するステージ装置の場合、吸振装置14の固有振動数は、第1ステージまたは第2ステージの固有振動数に合わせる必要がある。
【0038】
また、図1に示したように第1、第2ステージ3、4を有するステージ装置において、第1ステージにのみ吸振装置を設けることも可能であるが、この場合には、吸振装置の固有振動数は、第1、第2ステージ3、4からなるステージ全体の固有振動数に合わせる必要がある。
【0039】
また、上記例では、クロスローラガイド5、6を用いた例について説明したが、本発明では、静圧軸受けなどの他の移動案内機構を用いたステージ装置であっても良いことは勿論である。
【0040】
さらに、図1(b)に示した制振板15の形状は単純な板バネであるが、制振効果を高めるため、或いは、制振板15の等価バネ定数を調節し吸振装置14の固有角振動数ωを調整するために、図3(a)に示すような穴空き構造の制振板18を用いてもよい。また、制振板15、18は薄い板状の構造を持たせるため加工性に優れかつ振動減衰能が高く真空中で不要なガスを発生させない材料として、セラミックスや制振合金を用いることが望ましい。
【0041】
また、図3(b)に示すように、吸振装置14の有底筐体17内部に制振板15と錘16とからなる振動吸収部を複数設けることにより、制振効果を一層向上させることができる。
【0042】
【発明の効果】
以上のように、超音波モータによる駆動されるステージは、停止時や駆動中においてステージの進行方向にステージの固有振動数で振動する残留振動が生じるが、本発明のステージ装置では、ステージに、該ステージの固有振動数と同一の固有振動数を有し、かつ超音波モータによりステージが駆動される方向の振動を減衰させる吸振装置を設けたので、この吸振装置によりステージの低周波数の残留振動を効果的に減衰することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のステージ装置を示すもので、(a)はステージ装置の斜視図、(b)は吸振装置の内部を示す斜視図である。
【図2】図1のステージ装置の側面図であり、(a)はx方向から見た側面図、(b)はy方向から見た側面図である。
【図3】本発明のステージ装置に使用する吸振装置の他の例を示す斜視図である。
【図4】従来のステージ装置を示す斜視図である。
【図5】クロスローラガイドを示す分解斜視図である。
【符号の説明】
2・・・基盤
3・・・第1ステージ
4・・・第2ステージ
7、8・・・超音波モータ
13・・・空洞部
14・・・吸振装置
Claims (2)
- 基盤と、該基盤上に設けられたステージと、該ステージを駆動する超音波モータとを具備するステージ装置において、前記ステージに、該ステージの固有振動数と同一の固有振動数を有し、かつ前記超音波モータにより前記ステージが駆動される方向と同一方向の振動を減衰させる吸振装置を設けるとともに、該吸振装置が、制振板と、該制振板に取り付けられた、前記ステージが駆動される方向と同一方向に振動する錘と、前記制振板が固定される筐体とからなることを特徴とするステージ装置。
- 前記ステージに空洞部を設けるとともに、該空洞部に前記吸振装置を設けたことを特徴とする請求項1記載のステージ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001129800A JP4632569B2 (ja) | 2001-04-26 | 2001-04-26 | ステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001129800A JP4632569B2 (ja) | 2001-04-26 | 2001-04-26 | ステージ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002329771A JP2002329771A (ja) | 2002-11-15 |
JP4632569B2 true JP4632569B2 (ja) | 2011-02-16 |
Family
ID=18978278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001129800A Expired - Fee Related JP4632569B2 (ja) | 2001-04-26 | 2001-04-26 | ステージ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4632569B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1036192A1 (nl) * | 2007-12-06 | 2009-06-09 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus having acoustic resonator. |
JP6665639B2 (ja) * | 2016-03-31 | 2020-03-13 | ウシオ電機株式会社 | ワーク搬送装置、光照射装置、ワーク搬送方法及び光照射方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0184438U (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-05 | ||
JPH04171715A (ja) * | 1990-11-05 | 1992-06-18 | Hitachi Ltd | 電子ビーム描画装置 |
JPH11142555A (ja) * | 1997-11-11 | 1999-05-28 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JPH11154698A (ja) * | 1997-11-21 | 1999-06-08 | Nikon Corp | テーブル支持装置 |
JPH11317440A (ja) * | 1998-05-06 | 1999-11-16 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
-
2001
- 2001-04-26 JP JP2001129800A patent/JP4632569B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0184438U (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-05 | ||
JPH04171715A (ja) * | 1990-11-05 | 1992-06-18 | Hitachi Ltd | 電子ビーム描画装置 |
JPH11142555A (ja) * | 1997-11-11 | 1999-05-28 | Canon Inc | 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
JPH11154698A (ja) * | 1997-11-21 | 1999-06-08 | Nikon Corp | テーブル支持装置 |
JPH11317440A (ja) * | 1998-05-06 | 1999-11-16 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002329771A (ja) | 2002-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100436323B1 (ko) | 스테이지장치및그스테이지장치를갖춘노광장치 | |
JP2004223647A (ja) | 位置決め装置 | |
KR102357171B1 (ko) | 가진 장치 | |
TW201513956A (zh) | 解耦、多級的定位系統 | |
CN104614137A (zh) | 基于静压气浮解耦装置的三分量标准振动台 | |
JPH11154698A (ja) | テーブル支持装置 | |
TW200925815A (en) | Reactive force processing device | |
EP1507628B1 (en) | Reaction force transfer system | |
JP4632569B2 (ja) | ステージ装置 | |
KR20210075856A (ko) | 변위 억제 기구 및 제진 장치 | |
JP4223714B2 (ja) | ステージ装置 | |
JP5267470B2 (ja) | アクチュエータ | |
JP2009038122A (ja) | 反力処理装置 | |
US20040057817A1 (en) | Switchable damping mechanism for use in a stage apparatus | |
JP2000120765A (ja) | アクティブ型除振装置 | |
JPH1119835A (ja) | Xyテーブル | |
JP2007163451A (ja) | ステージ装置 | |
JP2000058629A (ja) | ステージ装置及びこれを用いた電子ビーム描画装置 | |
JPH08111374A (ja) | ステージ装置 | |
JPH03125048A (ja) | 振動緩衝型ステージ装置 | |
KR20050009217A (ko) | 테이블 코터기용 스테이지 장치 | |
JPS6145988A (ja) | 防振構造 | |
JP5974449B2 (ja) | アクチュエータ | |
JPH01181522A (ja) | 半導体素子製造用x線露光装置 | |
JPS62159088A (ja) | 移動ステ−ジ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080218 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100402 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101019 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101116 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131126 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |