JP2610698B2 - 反射型液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
反射型液晶表示装置の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、バックライトを用いない反射型液晶表示装
置に関する。
置に関する。
（従来の技術） 近年、ワードプロセッサ、ラップトップパソコン、ポ
ケットテレビ等への液晶表示装置の応用が急速に進展し
ている。液晶表示装置の中でも、特に、外部から表示装
置に入射した光を反射板で反射させて表示を行う反射型
液晶表示装置は、バックライトを必要としないため、薄
型化、軽量化、低消費電力化に適しており、注目されて
いる。
ケットテレビ等への液晶表示装置の応用が急速に進展し
ている。液晶表示装置の中でも、特に、外部から表示装
置に入射した光を反射板で反射させて表示を行う反射型
液晶表示装置は、バックライトを必要としないため、薄
型化、軽量化、低消費電力化に適しており、注目されて
いる。
従来より、反射型液晶表示装置には、TN（ツイステッ
ドネマティック）モード、及びSTN（スーパーツイステ
ッドネマティック）モードが用いられている。しかし、
これらのモードを用いた反射型液晶表示装置では直線偏
光子が用いられるため、自然光のほぼ２分の１は表示に
は用いられない。従って、自然光の強度に比較して、得
られる表示画面は暗いものとなる。
ドネマティック）モード、及びSTN（スーパーツイステ
ッドネマティック）モードが用いられている。しかし、
これらのモードを用いた反射型液晶表示装置では直線偏
光子が用いられるため、自然光のほぼ２分の１は表示に
は用いられない。従って、自然光の強度に比較して、得
られる表示画面は暗いものとなる。
このような欠点を解消するために、自然光の全ての方
向の偏光を有効に利用する表示モードが提案されてい
る。このようなモードの例として、相転移型ゲスト・ホ
スト方式が挙げられる（D.L.White and G.N.Taylor, J.
Appl.Phys. 45, p.4718 1974）。このモードでは、ホス
ト液晶であるコレステリック液晶の電界によるネマティ
ック相への相転移現象が利用されている。この方式に、
更にマイクロカラーフィルタを組み合わせた反射型マル
チカラーディスプレイも提案されている（Proceedings
of the SID, Vol.29, p.157 1988）。
向の偏光を有効に利用する表示モードが提案されてい
る。このようなモードの例として、相転移型ゲスト・ホ
スト方式が挙げられる（D.L.White and G.N.Taylor, J.
Appl.Phys. 45, p.4718 1974）。このモードでは、ホス
ト液晶であるコレステリック液晶の電界によるネマティ
ック相への相転移現象が利用されている。この方式に、
更にマイクロカラーフィルタを組み合わせた反射型マル
チカラーディスプレイも提案されている（Proceedings
of the SID, Vol.29, p.157 1988）。
このような偏光板を必要としないモードで更に明るい
表示を得るためには、あらゆる角度からの入射光に対
し、表示画面に垂直な方向へ散乱する光の強度を増加さ
せる必要がある。そのためには、反射板上の凹凸の形成
を制御して、最適な反射特性を有する反射板を作製する
ことが必要となる。上記の文献には、ガラス基板の表面
を研磨剤で粗面化し、フッ化水素酸でエッチングする時
間を変えることにより凹凸部の形状を制御し、その上に
Ag金属薄膜を形成した反射板について記載されている。
表示を得るためには、あらゆる角度からの入射光に対
し、表示画面に垂直な方向へ散乱する光の強度を増加さ
せる必要がある。そのためには、反射板上の凹凸の形成
を制御して、最適な反射特性を有する反射板を作製する
ことが必要となる。上記の文献には、ガラス基板の表面
を研磨剤で粗面化し、フッ化水素酸でエッチングする時
間を変えることにより凹凸部の形状を制御し、その上に
Ag金属薄膜を形成した反射板について記載されている。
（発明が解決しようとする課題） しかしながら、上記の文献に記載の反射板には、ガラ
ス基板に研磨剤によって傷をつけることにより凹凸部が
形成されるので、均一な形状の凹凸部が形成されない。
また、凹凸部の形状の再現性が悪いという問題点もあ
る。このようなガラス基板を用いると、良好な反射特性
を有する反射型液晶表示装置を提供することができな
い。
ス基板に研磨剤によって傷をつけることにより凹凸部が
形成されるので、均一な形状の凹凸部が形成されない。
また、凹凸部の形状の再現性が悪いという問題点もあ
る。このようなガラス基板を用いると、良好な反射特性
を有する反射型液晶表示装置を提供することができな
い。
本発明はこのような問題点を解決するものであり、本
発明の目的は、良好な反射特性を有する反射板を備えた
反射型液晶表示装置を提供することである。本発明の他
の目的は上記の反射型液晶表示装置の製造方法を提供す
ることである。
発明の目的は、良好な反射特性を有する反射板を備えた
反射型液晶表示装置を提供することである。本発明の他
の目的は上記の反射型液晶表示装置の製造方法を提供す
ることである。
（課題を解決するための手段） 本発明の反射型液晶表示装置は、電極を形成した透明
基板と、一方の面に酸化物の膜を成長させエッチング処
理して凹凸部を形成したガラス板と該凹凸部上に形成さ
れた金属薄膜とを有する反射板と、該透明基板と該反射
板との間に封入された液晶層と、を備えており、そのこ
とによって上記目的が達成される。
基板と、一方の面に酸化物の膜を成長させエッチング処
理して凹凸部を形成したガラス板と該凹凸部上に形成さ
れた金属薄膜とを有する反射板と、該透明基板と該反射
板との間に封入された液晶層と、を備えており、そのこ
とによって上記目的が達成される。
また、前記凹凸部の凸部が尾根状の形状を有し、該凸
部の平均ピッチが100μｍ以下である構成とすることが
できる。
部の平均ピッチが100μｍ以下である構成とすることが
できる。
また、前記反射板の前記金属薄膜を形成した面が、該
液晶層側に配されている構成とすることができる。
液晶層側に配されている構成とすることができる。
更に、前記金属薄膜が、前記透明基板に形成された電
極に前記液晶層を挟んで対向する電極としても機能して
いる構成とすることができる。
極に前記液晶層を挟んで対向する電極としても機能して
いる構成とすることができる。
本発明の反射型液晶表示装置の製造方法は、ガラス基
板上に金属薄膜を形成した反射板を備えた反射型液晶表
示装置の製造方法であって、該ガラス基板の一方の面に
酸化物の膜を成長させる工程と、該ガラス基板をエッチ
ング処理して該一方の面に凹凸部を形成する工程と、該
凹凸部を形成した面上に該金属薄膜を形成する工程と、
を包含しており、そのことによって上記目的が達成され
る。
板上に金属薄膜を形成した反射板を備えた反射型液晶表
示装置の製造方法であって、該ガラス基板の一方の面に
酸化物の膜を成長させる工程と、該ガラス基板をエッチ
ング処理して該一方の面に凹凸部を形成する工程と、該
凹凸部を形成した面上に該金属薄膜を形成する工程と、
を包含しており、そのことによって上記目的が達成され
る。
本発明の好適な実施態様では、前記凹凸部の凸部は尾
根状の形状を有し、該凸部の平均ピッチは100μｍ以下
である。
根状の形状を有し、該凸部の平均ピッチは100μｍ以下
である。
本発明の好適な実施態様では、さらに、上記反射板の
上記金属薄膜を形成した面側に液晶層を配置する工程を
包含する。
上記金属薄膜を形成した面側に液晶層を配置する工程を
包含する。
本発明の好適な実施態様では、さらに、上記金属薄膜
が電極として機能するように、該金属薄膜を上記液晶層
を挟んで上記透明基板に形成された電極と対向させて配
置する工程を包含する。
が電極として機能するように、該金属薄膜を上記液晶層
を挟んで上記透明基板に形成された電極と対向させて配
置する工程を包含する。
（作用） ガラス基板上に、真空蒸着又はスパッタリング法によ
り酸化物の薄膜を成長させると、酸化物の種類、膜厚、
成膜条件により、基板表面の状態はかなり異なることが
知られている。薄膜の成膜もメカニズムについては、次
のよう説明されている。一般に、蒸着又はスパッタリン
グされて基板に衝突した原子又は分子は核を形成する。
この核は、次々に衝突してくる原子若しくは分子、又は
隣接する核の一部若しくは全部と合体して成長する。合
体が進むと、島状構造の状態（island stage）、島がつ
ながって海峡を残している状態（channel stage）、海
峡が途切れて穴となった状態（hole stage）を経て、連
続膜が形成される。膜の成長の状態は、蒸着とスパッタ
リングとではかなり異なることが知られている。スパッ
タリングによって形成された島状構造の状態では、各島
が小さくその数は多いのに対し、真空蒸着によって形成
された島状構造の状態では、各島が大きいと言われてい
る。本発明では何れの状態の膜でも酸化物の膜として用
いることができる。
り酸化物の薄膜を成長させると、酸化物の種類、膜厚、
成膜条件により、基板表面の状態はかなり異なることが
知られている。薄膜の成膜もメカニズムについては、次
のよう説明されている。一般に、蒸着又はスパッタリン
グされて基板に衝突した原子又は分子は核を形成する。
この核は、次々に衝突してくる原子若しくは分子、又は
隣接する核の一部若しくは全部と合体して成長する。合
体が進むと、島状構造の状態（island stage）、島がつ
ながって海峡を残している状態（channel stage）、海
峡が途切れて穴となった状態（hole stage）を経て、連
続膜が形成される。膜の成長の状態は、蒸着とスパッタ
リングとではかなり異なることが知られている。スパッ
タリングによって形成された島状構造の状態では、各島
が小さくその数は多いのに対し、真空蒸着によって形成
された島状構造の状態では、各島が大きいと言われてい
る。本発明では何れの状態の膜でも酸化物の膜として用
いることができる。
酸化物の膜を成長させたガラス基板は、例えばフッ化
水素酸（HF）と硝酸（HNO3）とを所定の割合に混合した
エッチャントによってエッチング処理される。基板上に
成長した酸化物は多孔質なので、エッチャントは酸化物
の膜に浸透する。酸化物とガラスとではエッチング速度
が異なるので、浸透したエチャントに接したガラス基板
の部分が先にエッチングされて凹凸部が形成されるもの
と考えられる。この状態から更にエッチングが進行し
て、酸化物は除去され、ガラス基板上に凹凸部が形成さ
れる。凹凸部の形状等は、酸化物の種類、ガラス基板の
表面状態、エッチャントの濃度、エッチング時間等を変
えることにより制御することができる。このようにして
凹凸部が形成されたガラス基板上に金属薄膜を形成する
ことにより、反射板の反射特性を制御することができ
る。
水素酸（HF）と硝酸（HNO3）とを所定の割合に混合した
エッチャントによってエッチング処理される。基板上に
成長した酸化物は多孔質なので、エッチャントは酸化物
の膜に浸透する。酸化物とガラスとではエッチング速度
が異なるので、浸透したエチャントに接したガラス基板
の部分が先にエッチングされて凹凸部が形成されるもの
と考えられる。この状態から更にエッチングが進行し
て、酸化物は除去され、ガラス基板上に凹凸部が形成さ
れる。凹凸部の形状等は、酸化物の種類、ガラス基板の
表面状態、エッチャントの濃度、エッチング時間等を変
えることにより制御することができる。このようにして
凹凸部が形成されたガラス基板上に金属薄膜を形成する
ことにより、反射板の反射特性を制御することができ
る。
（実施例） 本発明の実施例について以下に説明する。第１図に本
発明の反射型液晶表示装置の一実施例に用いられる反射
板の製造工程を示す。第１図（ａ）に示すような厚さ1.
1mmのガラス基板（コーニング社製、商品名7059）11の
一方の面に、スパッタリング法により酸化物を成長さ
せ、酸化物膜12を形成した（第１図（ｂ））。用い得る
酸化物としては、SiO2、Al2O3、ZrO2、SiO、TiO2、Sn
O2、ITO（Indium tinoxide）等を挙げることができる。
酸化物の膜厚は0.01〜１μｍの範囲にあることが好まし
い。本実施例では酸化物としてSiO2を用い、0.1μｍの
厚さに成長させた。
発明の反射型液晶表示装置の一実施例に用いられる反射
板の製造工程を示す。第１図（ａ）に示すような厚さ1.
1mmのガラス基板（コーニング社製、商品名7059）11の
一方の面に、スパッタリング法により酸化物を成長さ
せ、酸化物膜12を形成した（第１図（ｂ））。用い得る
酸化物としては、SiO2、Al2O3、ZrO2、SiO、TiO2、Sn
O2、ITO（Indium tinoxide）等を挙げることができる。
酸化物の膜厚は0.01〜１μｍの範囲にあることが好まし
い。本実施例では酸化物としてSiO2を用い、0.1μｍの
厚さに成長させた。
次に、フッ化水素酸（47％溶液）と硝酸（60％溶液）
とを重量比１対100の割合で混合した25℃の溶液に、酸
化物膜12を形成したガラス基板11を10分間浸漬してエッ
チング処理を行った。このエッチング処理により、第１
図（ｃ）に示すように、ガラス基板11の一方の面に凹凸
部13を形成した。
とを重量比１対100の割合で混合した25℃の溶液に、酸
化物膜12を形成したガラス基板11を10分間浸漬してエッ
チング処理を行った。このエッチング処理により、第１
図（ｃ）に示すように、ガラス基板11の一方の面に凹凸
部13を形成した。
このガラス基板11を観察すると、凹凸部13の凸部は連
続した尾根状の形状を有しており、この尾根状の部分
は、高いピークと比較的低いピークとが連なった形状を
有している。凹凸部13の凸部の高さは0.8μｍ、平均ピ
ッチは５μｍであった。尚、ここで凸部の平均ピッチと
は隣接する尾根状の凸部の平均距離である。ガラス基板
11の裏面10は均一にエッチング処理されるので凹凸部は
形成されず、不透明となることはない。従って、レジス
ト等で保護する必要はない。
続した尾根状の形状を有しており、この尾根状の部分
は、高いピークと比較的低いピークとが連なった形状を
有している。凹凸部13の凸部の高さは0.8μｍ、平均ピ
ッチは５μｍであった。尚、ここで凸部の平均ピッチと
は隣接する尾根状の凸部の平均距離である。ガラス基板
11の裏面10は均一にエッチング処理されるので凹凸部は
形成されず、不透明となることはない。従って、レジス
ト等で保護する必要はない。
更に、凹凸部13を形成した基板11上に金属薄膜14を形
成した（第１図（ｄ））。金属薄膜としてはAl、Ni、C
r、Ag等を挙げることができる。金属薄膜の厚さは、0.0
1〜1.0μｍ程度が適している。本実施例ではAgを真空蒸
着することにより、金属薄膜14を形成した。以上によ
り、反射板15が得られる。
成した（第１図（ｄ））。金属薄膜としてはAl、Ni、C
r、Ag等を挙げることができる。金属薄膜の厚さは、0.0
1〜1.0μｍ程度が適している。本実施例ではAgを真空蒸
着することにより、金属薄膜14を形成した。以上によ
り、反射板15が得られる。
反射板15の反射特性の測定方法を第２図に示す。反射
板15を液晶表示装置に用いた場合、反射板15の表面と液
晶層とが接することになる。従って、反射板15の反射特
性は液晶層と接した状態で測定するのが好ましい。しか
し、液晶層とガラス基板11との屈折率は何れも約1.5で
ありほぼ等しいので、反射板15の反射特性を反射板15の
裏面10から測定した結果は、反射板15の表面と液晶層と
の境界に於ける反射特性と同様の結果を与える。従っ
て、本実施例ではガラス基板11の裏面10から反射特性を
測定した。
板15を液晶表示装置に用いた場合、反射板15の表面と液
晶層とが接することになる。従って、反射板15の反射特
性は液晶層と接した状態で測定するのが好ましい。しか
し、液晶層とガラス基板11との屈折率は何れも約1.5で
ありほぼ等しいので、反射板15の反射特性を反射板15の
裏面10から測定した結果は、反射板15の表面と液晶層と
の境界に於ける反射特性と同様の結果を与える。従っ
て、本実施例ではガラス基板11の裏面10から反射特性を
測定した。
第２図に示すように、反射率特性の測定は、反射板15
に入射する光の散乱光を、フォトマルチメータ５で検出
することにより行われる。反射板15の裏面10には、その
法線２に対し角θをもって入射光３が入射する。フォト
マルチメータ５は、金属薄膜14上の入射光３が照射され
る点を通る裏面10の法線の方向に固定されている。入射
光３の入射角θを変えて入射光の金属薄膜14による散乱
光の強度を測定することにより、第３図に示す反射特性
が得られた。
に入射する光の散乱光を、フォトマルチメータ５で検出
することにより行われる。反射板15の裏面10には、その
法線２に対し角θをもって入射光３が入射する。フォト
マルチメータ５は、金属薄膜14上の入射光３が照射され
る点を通る裏面10の法線の方向に固定されている。入射
光３の入射角θを変えて入射光の金属薄膜14による散乱
光の強度を測定することにより、第３図に示す反射特性
が得られた。
第３図では法線２に対して入射角θをもって入射する
光の反射強度が、第３図の０゜の線に対して角θの方向
に、原点Ｏからの距離として表されている。第３図に破
線で示す反射特性曲線32は、標準白色板（酸化マグネシ
ウム）について測定したものである。本実施例の反射板
15の反射特性曲線35は曲線32に近似しており、標準白色
板に近い反射率特性を有していることが分かる。本実施
例の反射板を用いて反射型液晶表示装置を組み立てたと
ころ、明るい表示画面を有する表示装置が得られた。
光の反射強度が、第３図の０゜の線に対して角θの方向
に、原点Ｏからの距離として表されている。第３図に破
線で示す反射特性曲線32は、標準白色板（酸化マグネシ
ウム）について測定したものである。本実施例の反射板
15の反射特性曲線35は曲線32に近似しており、標準白色
板に近い反射率特性を有していることが分かる。本実施
例の反射板を用いて反射型液晶表示装置を組み立てたと
ころ、明るい表示画面を有する表示装置が得られた。
上述の実施例では凸部の平均ピッチが５μｍの場合に
ついて述べたが、該平均ピッチが100μｍ以内であれば
本実施例と同様の効果が得られることが確認された。こ
れよりも大きな平均ピッチの凸部が形成されると、反射
板15へ入射する光をあらゆる方向に散乱させることがで
きなくなるので好ましくない。
ついて述べたが、該平均ピッチが100μｍ以内であれば
本実施例と同様の効果が得られることが確認された。こ
れよりも大きな平均ピッチの凸部が形成されると、反射
板15へ入射する光をあらゆる方向に散乱させることがで
きなくなるので好ましくない。
第４図に本発明の反射型液晶表示装置に用いられる他
の反射板の製造工程を示す。第４図（ａ）に示すよう
に、厚さ1.1mmのガラス基板（コーニング社製、商品名7
059）11の一方の面に、スパッタリング法によりITOを0.
1μｍの厚さに成長させ、酸化物膜42を形成した（第２
図（ｂ））。
の反射板の製造工程を示す。第４図（ａ）に示すよう
に、厚さ1.1mmのガラス基板（コーニング社製、商品名7
059）11の一方の面に、スパッタリング法によりITOを0.
1μｍの厚さに成長させ、酸化物膜42を形成した（第２
図（ｂ））。
次に、フッ化水素酸（47％溶液）と硝酸（60％溶液）
とを重量比１対100の割合で混合した25℃の溶液に、酸
化物膜42を形成したガラス基板11を10分間浸漬してエッ
チング処理を行った。このエッチング処理により、第４
図（ｃ）に示すように、ガラス基板11の一方の面に凹凸
部43を形成した。
とを重量比１対100の割合で混合した25℃の溶液に、酸
化物膜42を形成したガラス基板11を10分間浸漬してエッ
チング処理を行った。このエッチング処理により、第４
図（ｃ）に示すように、ガラス基板11の一方の面に凹凸
部43を形成した。
このガラス基板11を観察すると、凹凸部43の凸部は連
続した尾根状となった部分を有しており、凹凸部43の凸
部の高さは0.5μｍ、平均ピッチは５μｍであった。更
に、凹凸部43を形成した基板11上にAgを真空蒸着するこ
とにより、金属薄膜44を形成した（第４図（ｄ））。以
上により、反射板45が得られる。
続した尾根状となった部分を有しており、凹凸部43の凸
部の高さは0.5μｍ、平均ピッチは５μｍであった。更
に、凹凸部43を形成した基板11上にAgを真空蒸着するこ
とにより、金属薄膜44を形成した（第４図（ｄ））。以
上により、反射板45が得られる。
また、上述の製造工程に於て、エッチング処理時間を
12分として反射板46を作製した。この反射板46の凸部も
連続した尾根状となった部分を有しており、凹凸部43の
凸部の高さは0.8μｍ、平均ピッチは５μｍであった。
12分として反射板46を作製した。この反射板46の凸部も
連続した尾根状となった部分を有しており、凹凸部43の
凸部の高さは0.8μｍ、平均ピッチは５μｍであった。
第５図に反射板45及び46の反射特性曲線55及び56を示
す。反射特性の測定方法は、前述の第２図と同様であ
る。比較のために標準白色板の反射特性曲線32も示して
ある。曲折32及び55の比較から、本実施例の反射板45で
は、入射角θが小さい場合には反射板55の法線方向への
反射率が小さく、入射角θが大きい場合には反射板55の
法線方向への反射率が大きい。これに対して、反射板46
は標準白色板と同様の反射特性を有していることが分か
る。このように、エッチング処理の時間を制御すること
により、反射板45のように法線方向への反射率を大きく
したり、反射板46のように入射光をあらゆる方向へ散乱
させたりすることができる。
す。反射特性の測定方法は、前述の第２図と同様であ
る。比較のために標準白色板の反射特性曲線32も示して
ある。曲折32及び55の比較から、本実施例の反射板45で
は、入射角θが小さい場合には反射板55の法線方向への
反射率が小さく、入射角θが大きい場合には反射板55の
法線方向への反射率が大きい。これに対して、反射板46
は標準白色板と同様の反射特性を有していることが分か
る。このように、エッチング処理の時間を制御すること
により、反射板45のように法線方向への反射率を大きく
したり、反射板46のように入射光をあらゆる方向へ散乱
させたりすることができる。
第６図に反射板45を用いて作製した反射型液晶表示装
置の断面図を示す。本実施例の反射型液晶表示装置は、
アクティブマトリクス基板20と、反射板45とを有する。
アクティブマトリクス基板20は、ガラスからなる透明基
板23と、該基板23上に形成された薄膜トランジスタ（以
下では「TFT」と称する）24と、該TFT24に接続された絵
素電極25とを有する。更に、絵素電極25及びTFT24を覆
って基板23上の全面に、配向膜26が形成されている。反
射板45上にも配向膜27が形成されている。また、反射板
45の金属薄膜44が、透明基板23に形成された絵素電極25
に液晶層21を挟んで対向する対向電極としても機能して
いる。
置の断面図を示す。本実施例の反射型液晶表示装置は、
アクティブマトリクス基板20と、反射板45とを有する。
アクティブマトリクス基板20は、ガラスからなる透明基
板23と、該基板23上に形成された薄膜トランジスタ（以
下では「TFT」と称する）24と、該TFT24に接続された絵
素電極25とを有する。更に、絵素電極25及びTFT24を覆
って基板23上の全面に、配向膜26が形成されている。反
射板45上にも配向膜27が形成されている。また、反射板
45の金属薄膜44が、透明基板23に形成された絵素電極25
に液晶層21を挟んで対向する対向電極としても機能して
いる。
アクティブマトリクス基板20と反射板45との間には、
液晶封止層22が７μｍのスペーサを混入した接着性シー
ル剤をスクリーン印刷することによって形成されてい
る。液晶層21は液晶封止層22を形成した後、真空脱気す
ることにより封入される。液晶層21には、黒色色素を混
入したゲストホスト液晶（メルク社製、商品名ZLI232
7）に光学活性物質（メルク社製、商品名S811）を0.5％
混入したものを用いた。
液晶封止層22が７μｍのスペーサを混入した接着性シー
ル剤をスクリーン印刷することによって形成されてい
る。液晶層21は液晶封止層22を形成した後、真空脱気す
ることにより封入される。液晶層21には、黒色色素を混
入したゲストホスト液晶（メルク社製、商品名ZLI232
7）に光学活性物質（メルク社製、商品名S811）を0.5％
混入したものを用いた。
以上のようにして作製した反射型液晶表示装置の電圧
−反射率特性を第７図に示す。反射率の測定は、前述の
第２図の反射板15の位置に、上記の反射型液晶表示装置
を置いて測定した。縦軸は反射率を表し、横軸は絵素電
極25と対向電極である金属薄膜44との間の印加電圧を表
わす。反射率は、入射角θ＝30゜をもって入射する入射
光について測定され、標準白色板に於ける法線方向への
拡散光の強度に対する、表示装置に於ける法線方向へ拡
散光の強度の比率を求めることにより得られる。第７図
に示すように、電圧印加時の反射率は約50％とかなり明
るく、コントラスト比は27であった。
−反射率特性を第７図に示す。反射率の測定は、前述の
第２図の反射板15の位置に、上記の反射型液晶表示装置
を置いて測定した。縦軸は反射率を表し、横軸は絵素電
極25と対向電極である金属薄膜44との間の印加電圧を表
わす。反射率は、入射角θ＝30゜をもって入射する入射
光について測定され、標準白色板に於ける法線方向への
拡散光の強度に対する、表示装置に於ける法線方向へ拡
散光の強度の比率を求めることにより得られる。第７図
に示すように、電圧印加時の反射率は約50％とかなり明
るく、コントラスト比は27であった。
本実施例の反射型液晶表示装置では、反射板45の金属
薄膜44を形成した面が、液晶層21側に配されているので
視差がなくなり、良好な表示画面が得られる。また、本
実施例では反射板45の金属薄膜44が対向電極としても機
能しているので、表示装置の製造工程が簡略化される。
薄膜44を形成した面が、液晶層21側に配されているので
視差がなくなり、良好な表示画面が得られる。また、本
実施例では反射板45の金属薄膜44が対向電極としても機
能しているので、表示装置の製造工程が簡略化される。
更に、第８図に示すように、各絵素電極25に対応して
カラーフィルタ28を設け、カラーフィルタの間にブラッ
クマスク29を設けた構成とすることにより、反射型カラ
ー液晶表示装置を容易に作製することができる。
カラーフィルタ28を設け、カラーフィルタの間にブラッ
クマスク29を設けた構成とすることにより、反射型カラ
ー液晶表示装置を容易に作製することができる。
本実施例ではガラス基板11に酸化物の膜12又は42を形
成した後に金属薄膜44を形成したが、酸化物の膜を形成
した基板に研磨傷を付けてエッチングした後に金属薄膜
44を形成してもよい。また、ガラス基板11に研磨傷を付
けてから酸化物の膜を形成してもよい。
成した後に金属薄膜44を形成したが、酸化物の膜を形成
した基板に研磨傷を付けてエッチングした後に金属薄膜
44を形成してもよい。また、ガラス基板11に研磨傷を付
けてから酸化物の膜を形成してもよい。
（発明の効果） 本発明の反射型液晶表示装置では、一方の面に酸化物
の膜を成長させたガラス基板を用いることにより、得ら
れる反射板に形成される凹凸部の形状を制御することが
できるので、反射板の反射特性を制御することが可能と
なる。従って、本発明によれば良好な反射特性特性を有
する反射板を備えた反射型液晶表示装置が提供される。
また、本発明の反射型液晶表示装置の製造方法によれ
ば、上記の表示装置を容易に得ることができる。
の膜を成長させたガラス基板を用いることにより、得ら
れる反射板に形成される凹凸部の形状を制御することが
できるので、反射板の反射特性を制御することが可能と
なる。従って、本発明によれば良好な反射特性特性を有
する反射板を備えた反射型液晶表示装置が提供される。
また、本発明の反射型液晶表示装置の製造方法によれ
ば、上記の表示装置を容易に得ることができる。
第１図（ａ）〜（ｄ）は本発明の反射型液晶表示装置の
一実施例を構成する反射板の製造工程を示す図、第２図
は反射板の反射特性の測定方法を示す図、第３図は第１
図の製造工程で製造した反射板の反射特性を示す図、第
４図（ａ）〜（ｄ）は本発明の他の実施例を構成する反
射板の製造工程を示す図、第５図は第４図（ａ）〜
（ｄ）の製造工程で製造された反射板の反射特性を示す
図、第６図は第４図の製造工程で製造された反射板を用
いた反射型液晶表示装置の断面図、第７図は第６図の反
射型液晶表示装置の印加電圧−反射率特性を示す図、第
８図は第６図の表示装置にカラーフィルタを設けた反射
型カラー液晶表示装置の断面図である。 ５……フォトマルチメータ、10……裏面、11……ガラス
基板、12,42……酸化物膜、13,43……凹凸部、14,44…
…金属薄膜、15,45……反射板、20……アクティブマト
リクス基板、21……液晶層、24……TFT、25……絵素電
極、26,27……配向膜。
一実施例を構成する反射板の製造工程を示す図、第２図
は反射板の反射特性の測定方法を示す図、第３図は第１
図の製造工程で製造した反射板の反射特性を示す図、第
４図（ａ）〜（ｄ）は本発明の他の実施例を構成する反
射板の製造工程を示す図、第５図は第４図（ａ）〜
（ｄ）の製造工程で製造された反射板の反射特性を示す
図、第６図は第４図の製造工程で製造された反射板を用
いた反射型液晶表示装置の断面図、第７図は第６図の反
射型液晶表示装置の印加電圧−反射率特性を示す図、第
８図は第６図の表示装置にカラーフィルタを設けた反射
型カラー液晶表示装置の断面図である。 ５……フォトマルチメータ、10……裏面、11……ガラス
基板、12,42……酸化物膜、13,43……凹凸部、14,44…
…金属薄膜、15,45……反射板、20……アクティブマト
リクス基板、21……液晶層、24……TFT、25……絵素電
極、26,27……配向膜。
Claims (4)
- 【請求項１】ガラス基板上に金属薄膜を形成した反射板
を備えた反射型液晶表示装置の製造方法であって、 該ガラス基板の一方の面に酸化物の膜を成長させる工程
と、 該ガラス基板をエッチング処理して該一方の面に凹凸部
を形成する工程と、 該凹凸部を形成した面上に該金属薄膜を形成する工程
と、 を包含する反射型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項２】前記凹凸部の凸部が尾根状の形状を有し、
該凸部の平均ピッチが100μｍ以下である請求項１に記
載の反射型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項３】さらに、前記反射板の前記金属薄膜を形成
した面側に液晶層を配置する工程を包含する、請求項１
または２に記載の反射型液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項４】さらに、前記金属薄膜が電極として機能す
るように、該金属薄膜を前記液晶層を挟んで前記透明基
板に形成された電極と対向させて配置する工程を包含す
る、請求項３に記載の反射型液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2188775A JP2610698B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 反射型液晶表示装置の製造方法 |
| EP91306487A EP0467659B1 (en) | 1990-07-17 | 1991-07-17 | A reflective-type liquid crystal display device and method for producing same |
| US07/731,818 US5220444A (en) | 1990-07-17 | 1991-07-17 | Reflective-type liquid crystal display device with etched oxide layer between substrate and metal film and method for producing same |
| DE69117604T DE69117604T2 (de) | 1990-07-17 | 1991-07-17 | Reflektive Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung und Verfahren zu seiner Herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2188775A JP2610698B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 反射型液晶表示装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0475022A JPH0475022A (ja) | 1992-03-10 |
| JP2610698B2 true JP2610698B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=16229570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2188775A Expired - Lifetime JP2610698B2 (ja) | 1990-07-17 | 1990-07-17 | 反射型液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5220444A (ja) |
| EP (1) | EP0467659B1 (ja) |
| JP (1) | JP2610698B2 (ja) |
| DE (1) | DE69117604T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013529316A (ja) * | 2010-04-30 | 2013-07-18 | コーニング インコーポレイテッド | 防眩表面およびその製造方法 |
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1991
- 1991-07-17 EP EP91306487A patent/EP0467659B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-07-17 US US07/731,818 patent/US5220444A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-07-17 DE DE69117604T patent/DE69117604T2/de not_active Expired - Fee Related
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