JP2607272B2 - X―yテーブル及びそれを用いたプローブ装置 - Google Patents

X―yテーブル及びそれを用いたプローブ装置

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JP2607272B2
JP2607272B2 JP14729088A JP14729088A JP2607272B2 JP 2607272 B2 JP2607272 B2 JP 2607272B2 JP 14729088 A JP14729088 A JP 14729088A JP 14729088 A JP14729088 A JP 14729088A JP 2607272 B2 JP2607272 B2 JP 2607272B2
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博夫 小野
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、X−Yテーブルに関する。
(従来の技術) 物体をX,Y駆動するために用いるX−Yテーブルは種
々の分野に採用されているが、固体されたステージベー
ス上でX−Yステージを移動自在に支持する構成として
は、下記のような構成が採用されている。
すなわち、X−Yステージ自体の下面を研磨して、こ
れを平面軸受として使用するもの、あるいはX−Yステ
ージ下面に広い面積を持つ平面軸受を配置し、これを平
面ガイドとして使用するもの等があった。
また、X−Yステージの下面に複数箇所に分けて平面
軸受を取り付け固定するものもあった。
(発明が解決しようとする問題点) X−Yステージの下面自体を平面軸受とするもの、広
い面積を持つ平面軸受を平面ガイドとして使用するもの
にあっては、平面軸受の加工面精度として広い面積に亘
ってかなりの高精度が要求され、この加工費のために装
置が高価となっていた。また、X−Yステージに反り等
がある場合には、広い面積で平面的に支持しているた
め、この反りを吸収できず、X−Yステージ7平面軸受
に応力が残ってしまったり、支持が安定しないなどの問
題があった。
一方、複数箇所に平面軸受を取り付ける場合にあって
も、X−Yステージの平面軸受取り付け位置を高精度に
面出しする必要があり、さらに、厚さ等がかなりの高精
度で管理された平面軸受を固定する必要があった。この
ため、同一高さを得るように複数の平面軸受を同時に加
工する必要があり、さらには、X−Yステージの組み付
け時にかなりの細かな調整をする必要がある等、加工,
組み立てが煩雑であった。
そこで、本発明の目的とするところは、上述した従来
の問題点を解決し、過度の加工精度が要求されずに、し
かも調整等の必要がなく組み立てを容易に実行すること
ができる安価なX−Yテーブル及びそれを用いたプロー
ブ装置を提供することにある。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明は、ステージベース上でX−Yステージを2次
元にテーブル駆動するX−Yテーブルにおいて、 上記ステージベースとX−Yステージとの間で、一直
線上にない3箇所の位置に平面軸受を配置し、かつ、こ
の平面軸受とX−Yステージとの間に球体を介在配置し
た構成としている。
そして、上記平面軸受としては、静圧空気軸受,焼結
含油軸受あるいは通常の油潤滑による平面軸受等を使用
することができる。このX−Yテーブルは、被検査体を
2次元的に移動させて、その電気的特性を検査するプロ
ーブ装置の被検査体の移動用のX−Yテーブルとして好
適に実施することができる。
また、球体の上よりX−Yステージが離れないように
するために、平面軸受とX−Yステージとを、少なくと
もX−Yステージの傾きが許容されるように、回転方向
で自由度を持って連結することが好ましい。
(作用) X−Yステージは、ステージベースに対して一直線上
にない3箇所に配置された平面軸受によって、X−Yの
2次元平面上を移動自在に支持されている。ここで、X
−Yステージは平面軸受との間に球体を介在しているの
で、この球体を支持する平面軸受のZ方向の高さの精度
は過度に要求されず、万一3つの平面軸受の高さが異な
っていても、球体を介することでX−Yステージが傾く
ように回転可能であるので、3箇所の平面軸受とステー
ジベースとのギャップを適正に維持でき、その間にギャ
ップ変化が生ずることがないので、軸受機能を常時適性
に発揮することができる。
また、この球体によるX−Yステージの支持は、X−
Yステージ側の溝形状にもよるが、点接触,線接触,球
面接触のいずれの場合でも、X−Yステージの回転方向
の自由度を有して支持可能であるので、万一X−Yステ
ージの平面度が悪くても、3箇所での回転可能な接触支
持によってX−Yステージをがたつきなく安定して支持
可能となる。
さらに、X−Yステージが球体と接触する部分の面積
は少ないので、X−Yステージ接触面の面出し精度はさ
ほど要求されることなく、しかも3点の接触による支持
であるので安定して支持できる。
(実施例) 以下、本発明を図示の実施例を参照して具体的に説明
する。
第1図に示すように、ステージベース1上には、3個
の平面軸受3を有するX−Yステージ2が設けられてい
る。
この平面軸受3は、X−Yステージ2の被ガイド面を
決定するために、X−Yステージ2の裏面上で一直線上
にない3点に設置されている。本実施例の場合、X−Y
ステージ2の裏面上で3個の平面軸受3の中心を結んだ
線がほぼ正三角形になるように設置している。また、X
−Yステージ2の重心が前記正三角形の内部にあるよう
に、上記平面軸受3の設置位置を決定することが望まし
い。
次に、上記X−Yステージ2と平面軸受3との結合の
一例を第2図を参照して説明すると、X−Yステージ2
と平面軸受3とには、その対向する位置に円錘形の溝2
a,3aが形成され、この溝2a,3aの間に球体であるボール
4が介在配置されている。
また、X−Yステージ2を単にボール4を介して平面
軸受3上に支持するだけでもよいが、本実施例では平面
軸受3の外径よりもわずかに大きな内径を有する中空円
筒状のカバー5を設け、その上部フランジ5aを前記X−
Yステージ2にねじ止めすると共に、前記平面軸受3の
周囲より突出形成した2本以上の軸6を挿通する穴5b
を、上記軸6の数に対応して前記カバー5の周面に形成
している。なお、前記穴5bは軸6よりもかなり大きく形
成するものでよい。
次に、作用について説明する。
X−Yステージ2は、ステージベース1に対して平面
軸受3で支持されており、この平面軸受3とステージベ
ース1との間の摩擦抵抗が少ないことから、X−Yステ
ージ2をX,Y方向に駆動すると、ステージベース1上を
平面軸受3が滑り移動することで、この平面軸受3と一
体的に移動するX−Yステージ2のX,Y方向の駆動が可
能となっている。
ここで、本実施例では平面軸受3を直接にX−Yステ
ージ2に取り付けず、その間にボール4を介在配置して
いる。
したがって、X−Yステージ2の溝2aと上記ボール4
とは平面的に接触せず、ボール4の球面にならってX−
Yステージ2は任意の方向に傾くことができるように回
転方向への自由度を持って支持されていることになる。
このように、X−Yステージ2がボール4によって回
転が許容されて支持されているために、以下のように作
用する。
すなわち、従来の複数箇所の支持による平面軸受によ
れば、X−Yステージを平面的に支持していたので、複
数箇所に配置される平面軸受の高さが厳密に管理される
必要があり、例えば複数の平面軸受を同時に加工する等
によって、高精度の加工が必要であった。このようにし
ないと、複数箇所に配置された平面軸受の高さにばらつ
きが出て、これが結果的にX−Yステージの支持の不安
定さにつながるからである。
ところが、本実施例の場合には、平面軸受3の高さに
万一ばらつきがあったとしても、その高さの差分に応じ
てX−Yステージ2がボール4を介して回転して傾くよ
うに支持され、しかも3箇所での支持であるのでこのよ
うな微細な傾きが生じても、確実にX−Yステージ2を
接触支持でき、安定な支持を常時確保することができ
る。また、このような支持にあたって、平面軸受3,X−
Yステージ2に余分な負荷が作用することもない。
さらに、X−Yステージ2を駆動加速した場合に、瞬
間的に平面軸受3とステージベース1との間にギャップ
の変化が生じ、これに起因してX−Yステージ2の姿勢
に変動が生ずるような場合にも、ボール4を介してX−
Yステージ2を回転するようにしてこの変動成分を吸収
することができる。
また、上記実施例のように円錘形の溝2aとボール4と
を当接させて支持した場合には、線接触によってX−Y
ステージ2を支持することになるが、このようにボール
4との接触面積が微細であるので、X−Yステージ2の
その接触部分の面出し精度は過渡に要求されることがな
く、従来よりも加工精度は格段に低くて済む。
なお、本実施例ではカバー5のフランジ5aをX−Yス
テージ2に固定し、またこのカバー5に形成した穴5bに
平面軸受3の軸6を挿通することで、X−Yステージ2
をステージベース1より離そうとしても、上記軸6と穴
5bとの係合によってX−Yステージ2と平面軸受3とは
離れずに一体化することができる。そして、この場合上
記X−Yステージ2の回転の自由度を保持させるため、
軸6よりもかなり大きめの径の穴5bとしておけば、この
穴5bの許容する範囲で上記X−Yステージ2は回転可能
となる。
なお、上記のようなカバー5などは必ずしも要せず、
これがない場合でもX−Yステージ2の駆動に何等支障
はない。すなわち、X−Yステージ2の溝2a,ボール4,
平面軸受3の溝3aの摩擦抵抗は、平面軸受3の下面とス
テージベース1との間の摩擦抵抗よりも極めて大きく、
したがって、X−Yステージ2を駆動すると、平面軸受
3とステージベース1との間で滑り移動が生じ、ボール
4は溝2a,3aより外れることがないので、X−Yステー
ジ2と平面軸受3とは一体的にステージベース1上を移
動することができる。
ここで、上記平面軸受としては、静圧空気軸受,焼結
含油軸受の他、通常の油潤滑による平面軸受を使用する
ことができるが、摩擦抵抗が少ない点や油を使用しない
クリーンな軸受であることから考慮すると、静圧空気軸
受を使用することが好ましい。そして、静圧空気軸受を
採用した場合には、上記軸6の代わりに、空気供給用チ
ューブのニップル等で代用可能である。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではな
く、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能であ
る。
例えば、上記ボール4の支持形態については種々の変
形実施が可能であり、その溝形状等も円錘形とするもの
が接触が少なくかつボール4の抜けを確実に防止できる
点で優れているが、球面溝などであってもよく、要はボ
ール4の球面にならってX−Yステージ2を回転可能に
支持できればよい。
第3図は、X−Yステージ2の他の支持形態を示した
ものであり、X−Yステージ2にねじ止め等によって固
定されるカバー10は有底筒状に形成され、その内側底面
に円錘形の溝10aを形成し、その筒状の側面に軸6を挿
通する穴10bを形成したものである。このようにしても
第2図の場合と同様の効果を奏することができるが、X
−Yステージ2には何等の加工を要さずに組み立てでき
る点で優れている。
なお、本発明に係わるX−Yテーブルは、物体をX−
Y平面上で任意に移動する種々の装置に適用でき、ウエ
ハステッパ,アライナ,ウエハプローバ,レーザプロー
バ,メモリリペア装置等に好適に使用することができ
る。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によればX−Yステージ
の形状加工精度がたとえ悪くても、あるいは平面軸受の
高さ方向の精度がばらついても、X−Yステージを支持
する球体にならってX−Yステージを回転自在に支持す
ることで、他の部分の高精度な加工を要せずにX−Yス
テージを適性に支持することができ、また、組み立て時
の調整も要しないので、組み立てが容易でかつ安価なX
−Yテーブルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明のX−Yテーブルの平面図、 第2図は、平面軸受とX−Yステージとの結合を説明す
るための概略断面図、 第3図は、平面軸受とX−Yステージとの結合の変形例
を説明するための概略説明図である。 1……ステージベース、 2……X−Yステージ、2a……溝、 3……平面軸受、3a……溝、 4……球体(ボール)、 5……カバー、5a……フランジ、5b……穴、 6……軸、 10……カバー、10a……溝、10b……穴。

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ステージベース上でX−Yステージを2次
    元にテーブル駆動するX−Yテーブルにおいて、 上記ステージベースとX−Yステージとの間で、一直線
    上にない3箇所の位置に平面軸受を配置し、かつ、この
    平面軸受とX−Yステージとの間に球体を介在配置した
    ことを特徴とするX−Yテーブル。
  2. 【請求項2】請求項1において、 3箇所に配置された各平面軸受の中心がほぼ正三角形の
    頂点に位置し、前記X−Yステージの重心が前記正三角
    形の内部に位置するように、前記平面軸受を配置したこ
    とを特徴とするX−Yテーブル。
  3. 【請求項3】請求項1又は2に記載のX−Yテーブルを
    有し、前記X−Yテーブルにて被検査体をX−Y平面上
    で移動させて、被検査体の電気的特性を検査することを
    特徴とするプローブ装置。
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