JP2599831B2 - Spatial light modulator and method of manufacturing the same - Google Patents
Spatial light modulator and method of manufacturing the sameInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ポッケルス読み出し光
変調素子等の空間光変調素子に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spatial light modulator such as a Pockels readout light modulator.
【０００２】[0002]
【従来の技術】空間光変調素子のうち、酸化ケイ素ビス
マスBi12SiO20(BSO)単結晶を使用したPROM(Pockels Rea
dout Optical Modulator) 素子は、BSO 単結晶の光伝導
性を利用して、書き込み画像情報の光強度分布を単結晶
内の電荷分布に変換して蓄積し、次いでこの電荷分布が
つくる電界によって生ずる電気光学効果を利用し、読み
出し光の強度分布に変換するものである。従って、この
型の空間光変調素子は、BSO 単結晶板とこれを包む絶縁
層、及び透明電極を形成したガラス製基板によって構成
される。2. Description of the Related Art Among spatial light modulators, a PROM (Pockels Rea) using a silicon oxide bismuth Bi 12 SiO 20 (BSO) single crystal.
dout Optical Modulator) The device uses the photoconductivity of BSO single crystal to convert the light intensity distribution of the written image information into a charge distribution in the single crystal, accumulates it, and then generates an electric field generated by the electric field created by this charge distribution. The optical effect is used to convert the read light into an intensity distribution. Therefore, this type of spatial light modulator is composed of a BSO single crystal plate, an insulating layer surrounding the BSO single crystal plate, and a glass substrate on which a transparent electrode is formed.
【０００３】特に、インコヒーレント光画像をコヒーレ
ント光画像に変換する空間光変調素子においては、干渉
縞を防止するためにBSO 単結晶板にテーパを設けること
が検討されている。このとき必要なテーパ角の大きさ
は、素子、装置によって変動するけれども、例えば15分
程度の大きさが必要である。このため、空間光変調素子
を作製する際、BSO 単結晶板をテーパ状に加工し、その
両面に絶縁板、電極板を順次接着している。In particular, in a spatial light modulator for converting an incoherent light image into a coherent light image, it has been studied to provide a taper on a BSO single crystal plate in order to prevent interference fringes. At this time, the required taper angle varies depending on the element and the device, but needs to be, for example, about 15 minutes. For this reason, when manufacturing a spatial light modulator, a BSO single crystal plate is processed into a tapered shape, and an insulating plate and an electrode plate are sequentially bonded to both surfaces thereof.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、本発明者が、
こうしたBSO 単結晶板の両側に一対のガラス絶縁板、透
明電極を有する一対のガラス製基板をそれぞれ貼り合わ
せてPROM素子を作製し、レーザー光を照射して透過光の
像を観察したところ、未だ干渉縞が画像ノイズとして表
れることが解った。However, the present inventor has
A pair of glass insulating plates and a pair of glass substrates having transparent electrodes were attached to both sides of such a BSO single crystal plate, respectively, to produce a PROM element, and a laser beam was applied to observe the transmitted light image. It was found that interference fringes appeared as image noise.
【０００５】本発明の課題は、コヒーレント光を読み出
し光として用いる空間光空調素子において、テーパ付の
電気光学結晶層に直接起因しない干渉縞を実質的に消去
することである。An object of the present invention is to substantially eliminate interference fringes not directly caused by a tapered electro-optical crystal layer in a spatial light air conditioner using coherent light as read light.
【０００６】本発明に係る空間光変調素子は、ガラス製
基板と、このガラス製基板に設けられた透明電極膜と、
このガラス製基板の透明電極膜側に光学接着されたガラ
ス製の絶縁層と、この絶縁層に対して光学接着された電
気光学結晶板とを備えており、ガラス製基板と絶縁層と
が同種のガラスによって形成されており、ガラス製基板
の一方の端面からこの端面と対向する他方の端面に向か
って厚さが連続的に減少することを特徴とする。また、
本発明に係る空間光変調素子の製造方法は、厚さが一定
のガラス平板の主面に透明電極膜を形成し、この上にガ
ラス平板と同種のガラスからなる絶縁板を光学接着し、
絶縁板を光学研磨して絶縁層を形成し、このガラス平板
を傾斜面上に固定し、ガラス製平板を水平面に沿って切
削加工し、一方の端面から他方の端面に向かって厚さが
連続的に減少するガラス製基板を作製し、絶縁層上に電
気光学結晶層を形成することを特徴とする。A spatial light modulator according to the present invention comprises: a glass substrate; a transparent electrode film provided on the glass substrate;
The glass substrate is provided with a glass insulating layer optically bonded to the transparent electrode film side of the glass substrate, and an electro-optical crystal plate optically bonded to the insulating layer, wherein the glass substrate and the insulating layer are of the same type. Characterized in that the thickness decreases continuously from one end face of the glass substrate to the other end face facing this end face. Also,
The method for manufacturing a spatial light modulator according to the present invention is such that a transparent electrode film is formed on the main surface of a glass flat plate having a constant thickness, and an insulating plate made of the same kind of glass as the glass flat plate is optically bonded thereon.
The insulating plate is optically polished to form an insulating layer, this glass flat plate is fixed on an inclined surface, the glass flat plate is cut along a horizontal plane, and the thickness is continuously increased from one end surface to the other end surface. The method is characterized in that a glass substrate which is reduced in number is produced, and an electro-optic crystal layer is formed on the insulating layer.
【０００７】[0007]
【作用】本発明者は、上述のような空間光変調素子によ
る干渉縞の発生について検討したところ、それらがガラ
ス製基板の相対向する主面（最も広い方の面）における
コヒーレント光の反射に起因していたことを見出した。
そして、ガラス製基板の相対向する一対の端面の間で連
続的にガラス製基板の厚さを変化させること（以下、ガ
ラス製基板にテーパを付けること、と呼ぶことがあ
る。）によって、ガラス製基板の両主面における反射に
起因する干渉縞を実質的に消去することができるのであ
る。しかも、ガラス製基板と絶縁層とを同種のガラスと
することで光学的に見て一体的に振る舞わせ、このガラ
ス製基板にテーパを付けることによって、絶縁層の主面
での反射に起因する干渉縞も、防止することに成功し
た。The present inventor studied the generation of interference fringes due to the above-mentioned spatial light modulator, and found that the interference fringes were reflected on the coherent light reflected on the opposing main surfaces (the widest surface) of the glass substrate. Was found to have been caused.
Then, by continuously changing the thickness of the glass substrate between the pair of opposed end surfaces of the glass substrate (hereinafter, sometimes referred to as tapering the glass substrate), the glass is formed. It is possible to substantially eliminate interference fringes caused by reflection on both main surfaces of the substrate. In addition, the glass substrate and the insulating layer are made of the same type of glass so that they behave integrally when viewed optically, and the glass substrate is tapered to cause reflection at the main surface of the insulating layer. Interference fringes were also successfully prevented.
【０００８】[0008]
【実施例】図１、図２は、それぞれ本発明の実施例に係
るPROM素子の一例を示す概略正面図である。図１の例で
は、ガラス製基板１の一方の端面1aから他方の端面1bに
向かって基板１の厚さが連続的に減少しており、基板１
の主面のうち一方に絶縁層２が形成されている。そし
て、一対のガラス製基板１は互いに絶縁層２を内側に挟
むようにして対向され、一方の端面1a同士が互いに基板
１の同じ側に位置するように基板１が配向されている。
相対向する一対の絶縁層２の間には、BSO 単結晶等から
なる電気光学結晶層３が形成されている。このPROM素子
４はコヒーレント光で読み出しを行うものであるので、
電気光学結晶層３においても、その一方の端面3aから他
方の端面3bへと向かって層厚が連続的に減少している
（即ち、電気光学結晶層３にテーパが付いている。）。1 and 2 are schematic front views each showing an example of a PROM element according to an embodiment of the present invention. In the example of FIG. 1, the thickness of the substrate 1 decreases continuously from one end surface 1a of the glass substrate 1 to the other end surface 1b.
The insulating layer 2 is formed on one of the main surfaces of the first and second substrates. The pair of glass substrates 1 are opposed to each other so as to sandwich the insulating layer 2 inside, and the substrates 1 are oriented such that one end surfaces 1a are located on the same side of the substrate 1.
An electro-optic crystal layer 3 made of BSO single crystal or the like is formed between the pair of insulating layers 2 opposed to each other. Since this PROM element 4 performs reading with coherent light,
Also in the electro-optic crystal layer 3, the layer thickness decreases continuously from one end face 3a to the other end face 3b (that is, the electro-optic crystal layer 3 is tapered).
【０００９】また、図２に示すPROM素子14は、図１に示
す素子４とほぼ同様の構成を有しているが、相対向する
一対の基板１の一方の端面1aが図面において反対側に位
置している点で異なる。The PROM element 14 shown in FIG. 2 has substantially the same structure as the element 4 shown in FIG. 1, but one end surface 1a of a pair of substrates 1 facing each other is located on the opposite side in the drawing. It differs in that it is located.
【００１０】なお、図１，図２において、ガラス製基板
１と絶縁層２との間、絶縁層２と電気光学結晶層３との
間は、それぞれ光学接着剤によって接着される。また、
ガラス製基板１の表面には、図示しない透明電極が形成
されている。In FIG. 1 and FIG. 2, an optical adhesive is used to bond between the glass substrate 1 and the insulating layer 2 and between the insulating layer 2 and the electro-optic crystal layer 3, respectively. Also,
A transparent electrode (not shown) is formed on the surface of the glass substrate 1.
【００１１】本実施例に示すPROM素子４，14によれば、
ガラス製基板１にテーパが付けられているので、ガラス
製基板１の一対の主面におけるコヒーレント光の反射に
起因した干渉縞を防止することができる。具体的には、
読み出し光画像における干渉縞の間隔Ｌは、ガラス製基
板１のテーパ角θに対して近似的に反比例の関係にある
ので、テーパ角θを大きくすることで上記間隔Ｌが小さ
くなり、干渉縞が見えにくくなり、間隔Ｌが解像度より
も小さくなると干渉縞が見えなくなる。According to the PROM elements 4 and 14 shown in this embodiment,
Since the glass substrate 1 is tapered, interference fringes caused by reflection of coherent light on the pair of main surfaces of the glass substrate 1 can be prevented. In particular,
Since the interval L of the interference fringes in the read light image is approximately inversely proportional to the taper angle θ of the glass substrate 1, the interval L is reduced by increasing the taper angle θ, and the interference fringes are reduced. When the interval L becomes smaller than the resolution, the interference fringes become invisible.
【００１２】干渉縞の間隔Ｌが解像度よりも小さくなる
テーパ角は、光の波長、ガラス基板の屈折率によって異
なるが、例えばパイレックスガラス製基板を用い、読み
出し光として波長633nm のHe-Ne レーザーを用いると、
テーパ角は25分以上でなくてはならない。The taper angle at which the interval L of the interference fringes becomes smaller than the resolution depends on the wavelength of light and the refractive index of the glass substrate. For example, a Pyrex glass substrate is used, and a He-Ne laser having a wavelength of 633 nm is used as readout light. When used,
The taper angle must be at least 25 minutes.
【００１３】また、これと同様の理由から、電気光学結
晶層３をBSO 単結晶によって形成すると、この結晶層３
のテーパ角は15分程度以上の大きさであることが必要で
ある。For the same reason, when the electro-optic crystal layer 3 is formed of BSO single crystal, the crystal layer 3
Is required to be about 15 minutes or more.
【００１４】ただ、本発明者は、この場合には、新たな
干渉縞の問題が発生することを見出した。即ち、上記の
場合、図２において、結晶層３の一方の主面Ａとガラス
製基板１の外側主面Ｂとは15分の角度をなすのだが、ガ
ラス製基板１の屈折率が結晶層３内での屈折率よりも小
さいことから、主面ＡとＢとが15分の角度をなすことに
よる距離差は相殺され、主面Ａ，Ｂ間の反射に起因する
新たな干渉縞が発生したのである。しかし、本発明者
は、この主面Ｂの表面に反射防止膜５を形成すること
で、主面Ａ，Ｂ間における反射に起因する干渉縞を消去
することに成功した。However, the present inventor has found that in this case, a new problem of interference fringes occurs. That is, in the above case, in FIG. 2, one main surface A of the crystal layer 3 and the outer main surface B of the glass substrate 1 form an angle of 15 minutes, but the refractive index of the glass substrate 1 is Since the refractive index is smaller than the refractive index in 3, the distance difference caused by the 15-minute angle between the main surfaces A and B is canceled out, and a new interference fringe is generated due to the reflection between the main surfaces A and B. It was done. However, the present inventor succeeded in eliminating interference fringes caused by reflection between the main surfaces A and B by forming the antireflection film 5 on the surface of the main surface B.
【００１５】次に、図１，図２に示したようなPROM素子
の製造法について、図３の(a) 〜(e) を参照しながら説
明する。まず、ガラス製平板11を準備するが、ガラス製
平板11の材料としてはパイレックスガラス、ホウケイ酸
ガラス、合成石英ガラス等の硬度の高いものが好まし
い。次いで、平板11に蒸着等によって透明電極膜６を形
成する。そして、絶縁板12を平板11へと接着した後、絶
縁板12の端面を研削加工及び光学研摩し、(c) に示すよ
うな絶縁層２を形成する。なお、(b),(c),(d),(e) にお
いては、透明電極膜６を図示省略する。Next, a method of manufacturing the PROM element as shown in FIGS. 1 and 2 will be described with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (e). First, a glass flat plate 11 is prepared. As a material of the glass flat plate 11, a material having high hardness such as Pyrex glass, borosilicate glass, or synthetic quartz glass is preferable. Next, the transparent electrode film 6 is formed on the flat plate 11 by vapor deposition or the like. Then, after bonding the insulating plate 12 to the flat plate 11, the end face of the insulating plate 12 is ground and optically polished to form the insulating layer 2 as shown in FIG. In (b), (c), (d), and (e), the transparent electrode film 6 is not shown.
【００１６】次いで、(d) に示すように、絶縁層２を治
具７の傾斜面7aに接着する。この際、傾斜面7aの傾斜角
度は、予めガラス製基板１の予定テーパ角と等しくなる
ように設定しておく。このテーパ角を例えば30分とする
と、ガラス製平板11を治具７上に固定したとき、ガラス
製平板11の一対の主面は水平面Ｃに対して30分の角度を
なす。この水平面Ｃに沿ってガラス製平板11を研削加工
及び光学研摩すると、(e) に示すようにテーパの付いた
ガラス製基板１が得られる。Next, as shown in (d), the insulating layer 2 is bonded to the inclined surface 7a of the jig 7. At this time, the inclination angle of the inclined surface 7a is set in advance to be equal to the predetermined taper angle of the glass substrate 1. Assuming that the taper angle is, for example, 30 minutes, when the glass flat plate 11 is fixed on the jig 7, a pair of main surfaces of the glass flat plate 11 form an angle of 30 minutes with respect to the horizontal plane C. When the glass plate 11 is ground and optically polished along the horizontal plane C, a tapered glass substrate 1 is obtained as shown in FIG.
【００１７】このような方法でガラス製基板１にテーパ
を付けることとすると、研削加工の段階でガラス製平板
11の全面に亘って均等に圧力が加わるので、この彎曲を
防止でき、これに伴う波面収差も低減することができ
る。また、治具７において、傾斜面7aの傾斜角を所定角
度に設定するだけで、ガラス製基板１におけるテーパ角
の精度を保持することができる。When the glass substrate 1 is tapered by such a method, a glass flat plate is formed at the stage of grinding.
Since pressure is evenly applied over the entire surface of 11, the curvature can be prevented, and the resulting wavefront aberration can be reduced. Further, in the jig 7, the accuracy of the taper angle of the glass substrate 1 can be maintained only by setting the inclination angle of the inclined surface 7a to a predetermined angle.
【００１８】次いで、ガラス製基板１を治具17の傾斜面
17a に接着し、固定した後、絶縁層４上へと電気光学結
晶平板13を接着し、固定する。ただし、(e) において
は、一方の主面1aが傾斜面17a の下側に位置し、他方の
主面1bが傾斜面17a の上側に位置するように、ガラス製
基板１を配向する。そして、水平面Ｄに沿って電気光学
結晶平板13を研削加工及び光学研摩し、図１，図２に示
すような電気光学結晶層３を形成する。この際、傾斜面
17a の傾斜角度は、電気光学結晶層３におけるテーパ角
とガラス製基板１におけるテーパ角との総和とする。例
えば、基板1aのテーパ角を30分とし、結晶層３における
テーパ角を15分とすると、傾斜面17a の傾斜角度は45分
でなければならない。Next, the glass substrate 1 is placed on the inclined surface of the jig 17.
After bonding and fixing to 17a, the electro-optic crystal flat plate 13 is bonded to the insulating layer 4 and fixed. However, in (e), the glass substrate 1 is oriented so that one main surface 1a is located below the inclined surface 17a and the other principal surface 1b is located above the inclined surface 17a. Then, the electro-optic crystal flat plate 13 is ground and optically polished along the horizontal plane D to form the electro-optic crystal layer 3 as shown in FIGS. At this time, the slope
The inclination angle 17a is the sum of the taper angle in the electro-optic crystal layer 3 and the taper angle in the glass substrate 1. For example, if the taper angle of the substrate 1a is 30 minutes and the taper angle of the crystal layer 3 is 15 minutes, the inclination angle of the inclined surface 17a must be 45 minutes.
【００１９】これとは別に、図３の(a) 〜(b) のプロセ
スに従って、ガラス製基板１を作製し、この基板１に形
成した絶縁層２を電気光学結晶層３に接着することで、
図１又は図２のPROM素子を得る。この際、最後に接着す
るガラス製基板１のテーパの向きを変えることにより、
図１，図２のPROM素子のいずれかが得られる。Separately, a glass substrate 1 is manufactured according to the processes shown in FIGS. 3A and 3B, and the insulating layer 2 formed on the substrate 1 is bonded to the electro-optic crystal layer 3. ,
The PROM element shown in FIG. 1 or 2 is obtained. At this time, by changing the direction of the taper of the glass substrate 1 to be bonded last,
One of the PROM elements shown in FIGS. 1 and 2 is obtained.
【００２０】また、図３の(d) の段階に至った後、別の
プロセスをたどることもできる。例えば、図４に示すよ
うに、ガラス製基板１のテーパ角よりも小さい傾斜角を
有する傾斜面27a を設けた治具27を使用すれば、ガラス
製基板１のテーパ角と傾斜面27a の傾斜角との差が、電
気光学結晶層３のテーパ角となる。例えば、ガラス製基
板１のテーパ角を30分、結晶層３のテーパ角を15分とす
ると、水平面Ｅに対して傾斜面27a が15分の角度をなし
ていればよく、従って傾斜面27a の傾斜角度は15分でよ
い。この方法であれば、水平面Ｅに沿って研削加工を行
う際に、治具の傾斜面の傾斜角度が図３の(e) の場合の
傾斜角度よりも小さくなるので、研削加工時に電気光学
結晶平板13に歪みが一層生じにくい。次いで、上記と同
様に他方のガラス製基板１を準備し、その上に形成され
た絶縁層２を電気光学結晶層３に接着することで、図２
のPROM素子を得ることができる。After reaching the stage of FIG. 3D, another process can be followed. For example, as shown in FIG. 4, if a jig 27 having an inclined surface 27a having an inclination angle smaller than the taper angle of the glass substrate 1 is used, the taper angle of the glass substrate 1 and the inclination of the inclined surface 27a are reduced. The difference from the angle is the taper angle of the electro-optic crystal layer 3. For example, assuming that the taper angle of the glass substrate 1 is 30 minutes and the taper angle of the crystal layer 3 is 15 minutes, it is sufficient that the inclined surface 27a has an angle of 15 minutes with respect to the horizontal plane E. The angle of inclination may be 15 minutes. According to this method, when performing the grinding along the horizontal plane E, the inclination angle of the inclined surface of the jig is smaller than the inclination angle in the case of FIG. Flat plate 13 is less likely to be distorted. Next, the other glass substrate 1 is prepared in the same manner as described above, and the insulating layer 2 formed thereon is adhered to the electro-optic crystal layer 3 to obtain the structure shown in FIG.
Can be obtained.
【００２１】更に具体的に実施例について述べる。ま
ず、図３の(a) に示すように、一辺40mm四方、厚さ３mm
の合成石英ガラス製平板11を準備し、この表面に一辺27
mmの透明電極膜６を蒸着によって形成した。次いで(b)
に示すように、一辺40mm、厚さ３mmの合成石英ガラス製
絶縁板12を、光学用エポキシ系接着剤によって基板11の
透明電極膜側へと接着した。そして、平面研削盤、研か
け研摩機を順次使用して絶縁板12を研削加工、光学研摩
し、厚さ10μm の絶縁層２を形成した。The embodiment will be described more specifically. First, as shown in FIG. 3A, each side is 40 mm square and 3 mm thick.
Prepare a flat plate 11 made of synthetic quartz glass of
The transparent electrode film 6 of mm was formed by vapor deposition. Then (b)
As shown in the figure, an insulating plate 12 made of synthetic quartz glass having a side of 40 mm and a thickness of 3 mm was bonded to the transparent electrode film side of the substrate 11 with an epoxy adhesive for optical use. Then, the insulating plate 12 was ground and optically polished using a surface grinder and a polishing grinder in this order to form an insulating layer 2 having a thickness of 10 μm.
【００２２】次いで、(d) に示すように、傾斜角30分の
傾斜面7aに絶縁層２を接着し、水平面Ｃに沿って合成石
英ガラス製基板11を研削加工、光学研摩した。絶縁層２
を治具７から分離した。また、(e) に示すように、結晶
軸(001) に沿ってカットした一辺30mm四方、厚さ３mmの
BSO 単結晶平板13を、光学用エポキシ系接着剤によって
絶縁層２に接着した。更に、傾斜角45分の傾斜面17a に
ガラス製基板１を接着し、水平面Ｄに沿ってBSO 単結晶
平板13を研削加工及び光学研摩し、BSO 単結晶層３を形
成した。Next, as shown in (d), the insulating layer 2 was bonded to the inclined surface 7a having an inclination angle of 30 minutes, and the synthetic quartz glass substrate 11 was ground and optically polished along the horizontal plane C. Insulating layer 2
Was separated from the jig 7. Also, as shown in (e), each side is 30mm square and 3mm thick cut along the crystal axis (001).
The BSO single crystal flat plate 13 was bonded to the insulating layer 2 with an optical epoxy adhesive. Further, the glass substrate 1 was bonded to the inclined surface 17a having an inclination angle of 45 minutes, and the BSO single crystal flat plate 13 was ground and optically polished along the horizontal plane D to form the BSO single crystal layer 3.
【００２３】これと別に、図３の(a) 〜(b) に沿って上
記のようにしてテーパ角30分の合成石英ガラス製基板１
を作製し、その絶縁層２をBSO 単結晶層３に光学接着
し、図１に示すPROM素子４を作製した。Separately, the synthetic quartz glass substrate 1 having a taper angle of 30 minutes as described above along FIGS. 3A and 3B.
Then, the insulating layer 2 was optically bonded to the BSO single crystal layer 3 to produce the PROM element 4 shown in FIG.
【００２４】また、上記において、合成石英ガラス製平
板11のテーパ加工を行わず、そのまま基板として用い、
比較例のPROM素子を作製した。Further, in the above, the flat plate 11 made of synthetic quartz glass is not tapered, and is used as it is as a substrate.
A PROM element of a comparative example was manufactured.
【００２５】そして、上記の本発明例及び比較例の各PR
OM素子を使用し、図５に概略的に示す読み出し装置を使
用し、干渉縞の発生について検討した。Then, each PR of the above-mentioned inventive examples and comparative examples was
Using an OM element and a readout device schematically shown in FIG. 5, generation of interference fringes was examined.
【００２６】即ち、He-Ne レーザ(633nm)22 を発振源21
から発振させ、対物レンズ23、コリメートレンズ24によ
ってビームを拡げ、偏光子25を通してPROM素子４（又は
比較例のPROM素子) に照射した。PROM素子には、直流電
源26によって５KVの直流電圧を印加し、ポッケルス効果
によってレーザービームを変調する。PROM素子を透過し
た光は、次いで検光子28を透過し、集光レンズ29により
集光され、フィルム30上に結像する。偏光子25と検光子
28とはクロスニコル状態にしておく。That is, a He-Ne laser (633 nm) 22 is
Then, the beam was expanded by the objective lens 23 and the collimating lens 24, and was irradiated to the PROM element 4 (or the PROM element of the comparative example) through the polarizer 25. A DC voltage of 5 KV is applied to the PROM element by the DC power supply 26, and the laser beam is modulated by the Pockels effect. The light transmitted through the PROM element then passes through the analyzer 28, is collected by the condenser lens 29, and forms an image on the film 30. Polarizer 25 and analyzer
28 and cross Nicol state.
【００２７】このようにしてフィルム上に像を撮影した
結果、従来のPROM素子を用いた場合は、図６の写真に示
すように細かい干渉縞が見られたのに対し、図１のPROM
素子を用いた場合は、図７に示すように干渉縞が見られ
なくなった。As a result of photographing an image on the film as described above, when the conventional PROM element was used, fine interference fringes were seen as shown in the photograph of FIG.
When the element was used, no interference fringes were seen as shown in FIG.
【００２８】[0028]
【発明の効果】本発明によれば、空間光変調素子におい
て、ガラス製基板の一方の端面から他方の端面へと向か
って連続的にガラス製基板の厚さを減少させたので、ガ
ラス製基板の両主面における反射に起因する干渉縞を非
常に細かくし、実質的に消去することができる。しか
も、ガラス製基板と絶縁層とを同種のガラスとすること
で光学的に見て一体的に振る舞わせ、このガラス製基板
にテーパを付けることによって、絶縁層の主面での反射
に起因する干渉縞も、防止することに成功した。According to the present invention, in the spatial light modulator, the thickness of the glass substrate is continuously reduced from one end surface to the other end surface of the glass substrate. The interference fringes resulting from the reflection on both principal surfaces can be made very fine and substantially eliminated. In addition, the glass substrate and the insulating layer are made of the same type of glass so that they behave integrally when viewed optically, and the glass substrate is tapered to cause reflection at the main surface of the insulating layer. Interference fringes were also successfully prevented.
【００２９】また、本発明の製造方法によれば、ガラス
製平板を傾斜面上に固定し、水平面に沿ってガラス製平
板を研削加工することで、一方の端面から他方の端面に
向かって連続的に厚さが減少するガラス製基板を作製し
ているので、研削加工の段階でガラス製平板が傾斜面上
に置かれていることから、研削加工の段階でガラス製平
板の全面に亘って均等に圧力が加わり、局部的に無理な
力が加わらない。従って、ガラス製平板の彎曲を防止で
き、これに伴う波面収差を低減することもできる。ま
た、傾斜面の傾斜角度を水平面に対して所定角度に設置
するだけで、ガラス製基板におけるテーパ角の精度を保
持することができる。According to the manufacturing method of the present invention, the glass flat plate is fixed on the inclined surface, and the glass flat plate is ground along the horizontal plane, so that the glass flat plate is continuously moved from one end surface to the other end surface. Since the glass substrate whose thickness is gradually reduced is made, the glass plate is placed on the inclined surface at the stage of grinding, so the entire surface of the glass plate is ground at the stage of grinding. Pressure is evenly applied and no excessive force is applied locally. Accordingly, it is possible to prevent the glass flat plate from being curved, and to reduce the wavefront aberration associated therewith. Further, the accuracy of the taper angle in the glass substrate can be maintained only by setting the inclination angle of the inclined surface at a predetermined angle with respect to the horizontal plane.
【図１】本発明の実施例に係るPROM素子を示す概略正面
図である。FIG. 1 is a schematic front view showing a PROM element according to an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の実施例に係るPROM素子を示す概略正面
図である。FIG. 2 is a schematic front view showing a PROM element according to an embodiment of the present invention.
【図３】(a),(b),(c),(d) 及び(e) は、ガラス製基板及
び電気光学結晶層にテーパを付けるための製造方法を示
す概略図である。FIGS. 3 (a), (b), (c), (d) and (e) are schematic views showing a manufacturing method for tapering a glass substrate and an electro-optic crystal layer.
【図４】電気光学結晶層にテーパを付ける他の方法を説
明するための概略正面図である。FIG. 4 is a schematic front view for explaining another method for tapering the electro-optic crystal layer.
【図５】干渉縞の発生を測定するための撮影装置を示す
模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing an imaging device for measuring the occurrence of interference fringes.
【図６】比較例のPROM素子を用いた場合の、レーザービ
ームによる読み出し光画像を示す写真である。FIG. 6 is a photograph showing a light image read by a laser beam when a PROM element of a comparative example is used.
【図７】本発明例のPROM素子を用いた場合の、レーザー
ビームによる読み出し光画像を示す写真である。FIG. 7 is a photograph showing an optical image read by a laser beam when the PROM element of the present invention is used.
１ ガラス製基板 1a 一方の端面 1b 他方の端面 ２ 絶縁層 ３ 電気光学結晶層 ４，14 PROM素子 ５ 反射防止膜 ６ 透明電極膜 ７，17, 27 治具 7a, 17a, 27a 傾斜面 Ｃ，Ｄ，Ｅ 水平面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 1a One end face 1b The other end face 2 Insulating layer 3 Electro-optic crystal layer 4, 14 PROM element 5 Antireflection film 6 Transparent electrode film 7, 17, 27 Jig 7a, 17a, 27a Inclined surface C, D , E horizontal plane
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丹下 正次 愛知県名古屋市瑞穂区市丘町２丁目38番 地の２ 日本ガイシ市丘寮 (56)参考文献 特開 昭63−168618（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−118183（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−48262（ＪＰ，Ａ) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Shoji Tange 2-38-2, Okamachi, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi Prefecture, Japan hill dormitory (56) References JP-A-63-168618 (JP, A) JP-A-63-118183 (JP, A) JP-A-54-48262 (JP, A)
Claims (3)
けられた透明電極膜と、このガラス製基板の前記透明電
極膜側に光学接着されたガラス製の絶縁層と、この絶縁
層に対して光学接着された電気光学結晶板とを備えてい
る空間光変調素子であって、前記ガラス製基板と前記絶
縁層とが同種のガラスによって形成されており、前記ガ
ラス製基板の一方の端面からこの端面と対向する他方の
端面に向かって厚さが連続的に減少することを特徴とす
る、空間光変調素子。1. A glass substrate, a transparent electrode film provided on the glass substrate, a glass insulating layer optically bonded to the transparent electrode film side of the glass substrate, A spatial light modulator comprising an electro-optic crystal plate optically bonded to the glass substrate, wherein the glass substrate and the insulating layer are formed of the same type of glass, and from one end face of the glass substrate. A spatial light modulator, wherein the thickness continuously decreases toward the other end face facing the end face.
成する材質が、パイレックスガラス、ホウケイ酸ビスマ
スガラスおよび合成石英ガラスからなる群より選ばれた
ガラスであることを特徴とする、請求項１記載の空間光
変調素子。2. The glass substrate and the insulating layer are made of a material selected from the group consisting of Pyrex glass, bismuth borosilicate glass, and synthetic quartz glass. Spatial light modulator.
極膜を形成し、この上に前記ガラス平板と同種のガラス
からなる絶縁板を光学接着し、前記絶縁板を光学研磨し
て絶縁層を形成し、このガラス平板を傾斜面上に固定
し、前記ガラス製平板を水平面に沿って切削加工し、一
方の端面から他方の端面に向かって厚さが連続的に減少
するガラス製基板を作製し、前記絶縁層上に電気光学結
晶層を形成することを特徴とする、空間光変調素子の製
造方法。3. A transparent electrode film is formed on a main surface of a glass flat plate having a constant thickness, an insulating plate made of the same kind of glass as the glass flat plate is optically bonded thereon, and the insulating plate is optically polished. An insulating layer is formed, this glass flat plate is fixed on an inclined surface, and the glass flat plate is cut along a horizontal plane, and the thickness of the glass flat plate continuously decreases from one end surface to the other end surface. A method for manufacturing a spatial light modulation element, comprising forming a substrate and forming an electro-optic crystal layer on the insulating layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3035144A JP2599831B2 (en) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | Spatial light modulator and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3035144A JP2599831B2 (en) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | Spatial light modulator and method of manufacturing the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04254818A JPH04254818A (en) | 1992-09-10 |
| JP2599831B2 true JP2599831B2 (en) | 1997-04-16 |
Family
ID=12433713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3035144A Expired - Lifetime JP2599831B2 (en) | 1991-02-06 | 1991-02-06 | Spatial light modulator and method of manufacturing the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2599831B2 (en) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63118183A (en) * | 1986-11-06 | 1988-05-23 | Dainippon Printing Co Ltd | Formation of holographic stereogram |
| JPS63168618A (en) * | 1986-12-30 | 1988-07-12 | Victor Co Of Japan Ltd | Image pickup device |
-
1991
- 1991-02-06 JP JP3035144A patent/JP2599831B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04254818A (en) | 1992-09-10 |
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