JP2584510B2 - 砂模様の形成方法 - Google Patents
砂模様の形成方法Info
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- JP2584510B2 JP2584510B2 JP1103970A JP10397089A JP2584510B2 JP 2584510 B2 JP2584510 B2 JP 2584510B2 JP 1103970 A JP1103970 A JP 1103970A JP 10397089 A JP10397089 A JP 10397089A JP 2584510 B2 JP2584510 B2 JP 2584510B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、砂模様の形成方法に関するものである。
さらに詳しくは、この発明は、瓦表面に砂の散布による
不均一なまだら模様を容易に形成することのできる砂模
様の形成方法に関するものである。
さらに詳しくは、この発明は、瓦表面に砂の散布による
不均一なまだら模様を容易に形成することのできる砂模
様の形成方法に関するものである。
(従来の技術) 従来より、住宅等の建造物の屋根に葺いている瓦に
は、種々の形状と意匠とからなるものが知られている。
雨水の浸入防止や施工後の葺上がり外観に立体感を持た
せるなどのために、これまでに様々な工夫がなされてき
ている。たとえば、瓦表面に砂を散布し、模様付けやす
べり止め等の機能を付与することが行われてきている。
このような砂散布による瓦表面の模様付けにおいては、
通常、砂散布機により直接、瓦表面に砂を散布してい
る。
は、種々の形状と意匠とからなるものが知られている。
雨水の浸入防止や施工後の葺上がり外観に立体感を持た
せるなどのために、これまでに様々な工夫がなされてき
ている。たとえば、瓦表面に砂を散布し、模様付けやす
べり止め等の機能を付与することが行われてきている。
このような砂散布による瓦表面の模様付けにおいては、
通常、砂散布機により直接、瓦表面に砂を散布してい
る。
この方法は、たとえば第9図に例示することができ
る。すなわち、砂散布機は、模様付けする砂(ア)を貯
溜および供給するホツパ(イ)と、その下部に配置した
回転ドラム(ウ)およびシュート(エ)を有し、図中に
示した矢印(A)方向に移動する連続ライン(オ)上の
瓦(カ)に、シュート(エ)からの砂(ア)を散布す
る。
る。すなわち、砂散布機は、模様付けする砂(ア)を貯
溜および供給するホツパ(イ)と、その下部に配置した
回転ドラム(ウ)およびシュート(エ)を有し、図中に
示した矢印(A)方向に移動する連続ライン(オ)上の
瓦(カ)に、シュート(エ)からの砂(ア)を散布す
る。
この場合、ホッパ(イ)から落下する砂(ア)は、回
転ドラム(ウ)の回転により一定量ずつシュート(エ)
に供給される。砂(ア)はシュート(エ)面に沿って降
下し、連続ライン(オ)を移動する瓦(カ)の表面に落
下する。こうして砂(ア)の散布模様が形成される。
転ドラム(ウ)の回転により一定量ずつシュート(エ)
に供給される。砂(ア)はシュート(エ)面に沿って降
下し、連続ライン(オ)を移動する瓦(カ)の表面に落
下する。こうして砂(ア)の散布模様が形成される。
(発明が解決しようとする課題) この従来の模様付け方法は、連続的に均質な模様を形
成するのには適したものであるが、一方で、従来方法の
場合には、砂模様が瓦表面全体にわたって均一なものと
なるため、意匠性に乏しく、仕上がり感も悪いという欠
点があった。
成するのには適したものであるが、一方で、従来方法の
場合には、砂模様が瓦表面全体にわたって均一なものと
なるため、意匠性に乏しく、仕上がり感も悪いという欠
点があった。
このような欠点を解消するための手段として、シュー
トの下方に砂(ア)の受け皿を設けることが考えられる
が、この場合には、形成する砂模様の境界ははっきりし
過ぎているという欠点があり、依然として仕上がり感は
悪いという問題が残されていた。
トの下方に砂(ア)の受け皿を設けることが考えられる
が、この場合には、形成する砂模様の境界ははっきりし
過ぎているという欠点があり、依然として仕上がり感は
悪いという問題が残されていた。
この発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたもの
であり、従来の瓦表面の砂模様形成の欠点を解消し、瓦
表面に不均一な砂のまだら模様を容易に形成することの
できる、模様形成の自由度の大きな新しい方法を提供す
ることを目的としている。
であり、従来の瓦表面の砂模様形成の欠点を解消し、瓦
表面に不均一な砂のまだら模様を容易に形成することの
できる、模様形成の自由度の大きな新しい方法を提供す
ることを目的としている。
(課題を解決するための手段) この発明は、上記の課題を解決するために、ホッパ
と、回転ドラムおよびシュートとを連続配置してなる砂
散布機のシュート前方に、砂回収桶とともに波形形状の
遮蔽板を配設し、該遮蔽板により、シュートからの砂の
散布量を局所的に制御して瓦表面に砂のまだら模様を形
成することを特徴とする砂模様の形成方法を提供する。
と、回転ドラムおよびシュートとを連続配置してなる砂
散布機のシュート前方に、砂回収桶とともに波形形状の
遮蔽板を配設し、該遮蔽板により、シュートからの砂の
散布量を局所的に制御して瓦表面に砂のまだら模様を形
成することを特徴とする砂模様の形成方法を提供する。
(作用) この発明の砂模様の形成方法においては、砂散布機の
シュート前方に波形形状の遮蔽板を設けることによっ
て、散布する砂の散布量を局所的にコントロールするこ
とができ、境界がそれほどはっきりしない趣のある不均
一な砂のまだら模様を瓦表面に形成することができる。
また、砂回収桶への未散布砂の回収も容易である。
シュート前方に波形形状の遮蔽板を設けることによっ
て、散布する砂の散布量を局所的にコントロールするこ
とができ、境界がそれほどはっきりしない趣のある不均
一な砂のまだら模様を瓦表面に形成することができる。
また、砂回収桶への未散布砂の回収も容易である。
(実施例) 以下、図面に沿って実施例を示し、この発明の砂模様
の形成方法についてさらに詳しく説明する。
の形成方法についてさらに詳しく説明する。
第1図は、この発明の砂模様の形成方法の一実施例を
示した装置側面図である。
示した装置側面図である。
たとえば、この例に示したように、模様付用の砂
(1)を貯溜するホッパ(2)の下方には、表面に半円
球穴(3)を有する回転ドラム(4)およびシュート
(5)とを連続配置し、その下端部前方には、砂回収桶
(6)と波形形状の遮蔽板(7)を配設している。この
砂散布装置は、図中に矢印(A)で示した方向に瓦
(8)が移動する連続ライン(9)の上部の所定位置に
配備している。
(1)を貯溜するホッパ(2)の下方には、表面に半円
球穴(3)を有する回転ドラム(4)およびシュート
(5)とを連続配置し、その下端部前方には、砂回収桶
(6)と波形形状の遮蔽板(7)を配設している。この
砂散布装置は、図中に矢印(A)で示した方向に瓦
(8)が移動する連続ライン(9)の上部の所定位置に
配備している。
ホッパ(2)から落下する砂(1)は、回転ドラム
(4)の回転により一定量ずつシユート(5)に供給さ
れる。回転ドラム(4)については、たとえば第2図に
示したように、その表面に半円球状の穴(3)を多数設
けることができる。この穴(3)の形状は他のものとし
てもよいが、これを形成することによって、第1図に示
したホッパ(2)と回転ドラム(4)との間での砂詰ま
りや急激な落下を防止することができ、連続的に安定し
て、所定量の砂(1)の供給を行うことができる。回転
ドラム(4)表面の穴(3)の大きさについては特に制
限はなく、たとえば1mmφ程度のものを例示することが
できる。
(4)の回転により一定量ずつシユート(5)に供給さ
れる。回転ドラム(4)については、たとえば第2図に
示したように、その表面に半円球状の穴(3)を多数設
けることができる。この穴(3)の形状は他のものとし
てもよいが、これを形成することによって、第1図に示
したホッパ(2)と回転ドラム(4)との間での砂詰ま
りや急激な落下を防止することができ、連続的に安定し
て、所定量の砂(1)の供給を行うことができる。回転
ドラム(4)表面の穴(3)の大きさについては特に制
限はなく、たとえば1mmφ程度のものを例示することが
できる。
シュート(5)へ供給された砂(1)は、シュート
(5)面に沿って降下し、瓦(8)の表面へと散布され
る。このとき、シュート(5)下端部前方に設けた遮蔽
板(7)により、一部の砂(1)は瓦(8)表面に散布
され、また他の一部は砂回収桶(6)に回収される。そ
の様子を第1図図中の点線円内に示している。遮蔽板
(7)を波形形状とすることにより、遮蔽板(7)の基
部(10)および頂部(11)に衝突する砂(1)は砂回収
桶(6)に回収され、頂部(11)の左右では、遮蔽板
(7)に衝突しない砂(1)がそのまま瓦(8)表面に
散布される。これにより、散布する砂(1)の局所的な
散布量をコントロールすることができ、瓦(8)表面に
形成する砂模様を不均一なまだら模様とすることができ
る。もちろん、上記の遮蔽板(7)の形状については特
に制限はなく、高低段差部を有するような適宜な波形形
状とすることができる。また、この遮蔽板(7)は水平
方向にスライドさせることもできる。このスライド可能
によって模様付けの自由度はさらに大きくなる。
(5)面に沿って降下し、瓦(8)の表面へと散布され
る。このとき、シュート(5)下端部前方に設けた遮蔽
板(7)により、一部の砂(1)は瓦(8)表面に散布
され、また他の一部は砂回収桶(6)に回収される。そ
の様子を第1図図中の点線円内に示している。遮蔽板
(7)を波形形状とすることにより、遮蔽板(7)の基
部(10)および頂部(11)に衝突する砂(1)は砂回収
桶(6)に回収され、頂部(11)の左右では、遮蔽板
(7)に衝突しない砂(1)がそのまま瓦(8)表面に
散布される。これにより、散布する砂(1)の局所的な
散布量をコントロールすることができ、瓦(8)表面に
形成する砂模様を不均一なまだら模様とすることができ
る。もちろん、上記の遮蔽板(7)の形状については特
に制限はなく、高低段差部を有するような適宜な波形形
状とすることができる。また、この遮蔽板(7)は水平
方向にスライドさせることもできる。このスライド可能
によって模様付けの自由度はさらに大きくなる。
この発明の砂模様の形成方法により製造した瓦の具体
例を示したものが次の製造例である。
例を示したものが次の製造例である。
〈製造例1〉 原板にアクリル系樹脂エマルジョンのシーラー塗料
(固形分20g/m2)をスポンジローラーで塗布した後、15
0℃の熱風で予熱し、表面温度を65℃とした。これに青
色に調色したアクリル系樹脂エマルジョン塗料をフロー
コータで固型分換算で50g/m2となるように塗布した。
(固形分20g/m2)をスポンジローラーで塗布した後、15
0℃の熱風で予熱し、表面温度を65℃とした。これに青
色に調色したアクリル系樹脂エマルジョン塗料をフロー
コータで固型分換算で50g/m2となるように塗布した。
この塗料が固まる前に、第3図に示した遮蔽板(7)
を用い、第1図に例示したような砂散布装置により平均
粒径300μ程度の黒砂を瓦表面に散布した。
を用い、第1図に例示したような砂散布装置により平均
粒径300μ程度の黒砂を瓦表面に散布した。
次いで、上記した塗料に再び埋没させた後、180℃の
熱風乾燥炉で瓦表面温度が85℃となるまで焼付け、砂を
固着させた。
熱風乾燥炉で瓦表面温度が85℃となるまで焼付け、砂を
固着させた。
このようにして得られた瓦の表面を示したものが第4
図である。濃淡の境界がはっきりしない連続的に変化す
る趣のある化粧模様(12)が得られた。
図である。濃淡の境界がはっきりしない連続的に変化す
る趣のある化粧模様(12)が得られた。
〈製造例2〉 製造例1と同様な操作で、第5図に示したような片側
に垂直縁部(13)を有する波形形状の遮蔽板(7)を用
いて、瓦表面に化粧模様を形成した。得られた瓦表面を
示したものが、第6図である。濃淡の境界がはっきりし
た部分とぼやけた部分とが共存する化粧模様(12)が得
られた。
に垂直縁部(13)を有する波形形状の遮蔽板(7)を用
いて、瓦表面に化粧模様を形成した。得られた瓦表面を
示したものが、第6図である。濃淡の境界がはっきりし
た部分とぼやけた部分とが共存する化粧模様(12)が得
られた。
〈製造例3〉 製造例1と同様な操作で、第7図に示したように、遮
蔽板(7)を水平方向(B)にゆっくりとスライドさせ
て砂を散布し、瓦表面に化粧模様を形成した。このよう
にして得られた瓦表面を示したものが第8図である。濃
淡部分が波形に変化する化粧模様(12)を形成した。遮
蔽板(7)をスライド可動とすることにより、模様付け
の自由度が大きくなる。
蔽板(7)を水平方向(B)にゆっくりとスライドさせ
て砂を散布し、瓦表面に化粧模様を形成した。このよう
にして得られた瓦表面を示したものが第8図である。濃
淡部分が波形に変化する化粧模様(12)を形成した。遮
蔽板(7)をスライド可動とすることにより、模様付け
の自由度が大きくなる。
もちろんこの発明は、以上の例によって限定されるも
のではない。遮蔽板、瓦および化粧模様の形状、砂の粒
径、塗布する塗料の種類、製造条件等の細部については
様々な態様が可能であることはいうまでもない。
のではない。遮蔽板、瓦および化粧模様の形状、砂の粒
径、塗布する塗料の種類、製造条件等の細部については
様々な態様が可能であることはいうまでもない。
(発明の効果) 以上詳しく説明した通り、この発明の砂模様の形成方
法によって、不均一な砂のまだら模様を瓦表面に形成す
ることができる。趣のある意匠性の向上した瓦を製造す
ることができる。表面をまだら模様とすることによっ
て、屋根に取付けたときの瓦の目地を目だだなくするこ
とが可能となる。
法によって、不均一な砂のまだら模様を瓦表面に形成す
ることができる。趣のある意匠性の向上した瓦を製造す
ることができる。表面をまだら模様とすることによっ
て、屋根に取付けたときの瓦の目地を目だだなくするこ
とが可能となる。
しかもまた、この発明の方法により、このような模様
付けの自由度が大きくなる。
付けの自由度が大きくなる。
第1図は、この発明の砂模様の形成方法の一実施例を示
した装置側面図である。第2図は、第1図に例示した砂
散布装置の回転ドラムの例を示した斜視図である。 第3図と第4図、第5図と第6図および第7図と第8図
は、各々、この発明の方法に用いることのできる遮蔽板
の例とこれによって得られた瓦の表面模様の例を示した
平面図である。 第9図は、従来の砂散布装置を示した側面図である。 1……砂 2……ホッパ 3……穴 4……回転ドラム 5……シュート 6……砂回収桶 7……遮蔽板 8……瓦 9……連続ライン 10……基部 11……頂部 12……化粧模様 13……垂直縁部
した装置側面図である。第2図は、第1図に例示した砂
散布装置の回転ドラムの例を示した斜視図である。 第3図と第4図、第5図と第6図および第7図と第8図
は、各々、この発明の方法に用いることのできる遮蔽板
の例とこれによって得られた瓦の表面模様の例を示した
平面図である。 第9図は、従来の砂散布装置を示した側面図である。 1……砂 2……ホッパ 3……穴 4……回転ドラム 5……シュート 6……砂回収桶 7……遮蔽板 8……瓦 9……連続ライン 10……基部 11……頂部 12……化粧模様 13……垂直縁部
Claims (3)
- 【請求項1】ホッパと、回転ドラムおよびシュートとを
連続配置してなる砂散布機のシュート前方に、砂回収桶
とともに波形形状の遮蔽板を配設し、該遮蔽板により、
シュートからの砂の散布量を局所的に制御して瓦表面に
砂のまだら模様を形成することを特徴とする砂模様の形
成方法。 - 【請求項2】遮蔽板を水平方向にスライドさせる請求項
(1)記載の砂模様の形成方法。 - 【請求項3】回転ドラムが表面半円球穴を有する請求項
(1)記載の砂模様の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1103970A JP2584510B2 (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | 砂模様の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1103970A JP2584510B2 (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | 砂模様の形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02281904A JPH02281904A (ja) | 1990-11-19 |
JP2584510B2 true JP2584510B2 (ja) | 1997-02-26 |
Family
ID=14368204
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1103970A Expired - Fee Related JP2584510B2 (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | 砂模様の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2584510B2 (ja) |
-
1989
- 1989-04-24 JP JP1103970A patent/JP2584510B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02281904A (ja) | 1990-11-19 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |