JP2569741B2 - 調光装置およびその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は透過散乱型の調光装置、およびその製造方法
に関するものである。

［従来の技術］ 近年H.G.CraigheadらがAppl.Phys.Lett.,40（１）22
（1982）に開示したように、液晶の屈折率異方性を生か
して、樹脂の硬化物のマトリックス中に液晶物質を分散
させた液晶フィルムを一対の電極付き基板間に挟持した
液晶光学素子が注目されている。これらは具体的には、
液晶物質を多孔体に含浸させたり、液晶物質をマイクロ
カプセル中に封入したりした液晶フィルムを使用し、電
圧印加の有無により液晶の屈折率を変化させ、マトリッ
クスを構成する多孔体やマイクロカプセル外壁との屈折
率を調節することにより、透過散乱を制御するものであ
る。

この液晶フィルムは、偏光板を用いることなく原理的
にDS（動的散乱）モード、PC（相転移）モードが持つ欠
点を克服することが可能であり、有用な方法である。

これらは、他にJ.L.Fergasonらがポリビニルアルコー
ルを使ってマイクロカプセル化したネマチック液晶の液
晶フィルムにより（特表昭58−501631号）、またK.N.Pe
arlmanらは種々のラテックス取り込み液晶の液晶フィル
ムにより（特開昭60−252687号）、またJ.W.Doaneら
は、エポキシ樹脂中に液晶を分散硬化させた液晶フィル
ムにより（特表昭61−502128号）作製している。

［発明の解決しようとする課題］ これらの方法により作製された液晶フィルムを用いた
液晶光学素子においては、電圧を印加するために、電極
付き基板に液晶フィルムを挟持する必要がある。電極付
き基板には、光を透過させるために、ガラスやプラスチ
ックフィルム等の基板の上に、ITO（酸化インジウム−
酸化錫）、SnO₂（酸化錫）などの金属酸化物や、金、銀
などの金属の薄膜を設けたものが用いられることが多
い。

特に、基板としては、生産性、加工性などの点より、
ポリエステル、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン
等の透明高分子フィルムを用いることが好ましく、ま
た、電極としては、光の透過時に高い透過率を発現させ
るために、基板への着色が少ないITO,SnO₂などの金属酸
化物の薄膜が好ましい。

ITOなどの金属酸化物薄膜をポリエステルなどの透明
高分子フィルム上に形成する方法には、蒸着、スパッタ
リング、イオンプレーティングなど種々の方法があり、
得られるITOの性質はその形成法により異なる。

一方、先に示した液晶光学素子においては、電極に液
晶や液晶を取り囲む他の有機物が直接接する構造を有し
ている。そのため、耐蝕性が充分でないITOを電極とし
て使用した場合、素子の長期的な使用により電極に変化
が生じ、電極の抵抗が増加して素子に充分な電圧が印加
されなくなったり、電極の着色が増加するなどして素子
の性能を低下させるといった問題点が生じていた。

このため、液晶光学素子においては、先に示したよう
な液晶を含む樹脂の硬化物を、耐蝕性が高く、液晶や液
晶を取り囲む他の有機物に直接接した状態においても電
極に変化を生じさせず、長期的に素子の特性が維持され
る電極材料と組合わせることが望まれている。

［課題を解決するための手段］ 本発明は前述の課題を解決すべくなされたものであ
り、得られる硬化物の屈折率が、使用する液晶物質の常
光屈折率（n₀）、異常光屈折率（n_e）又は液晶物質がラ
ンダムに配向した場合の屈折率（n_x）のいずれかと一致
するように選ばれた硬化物マトリックス中に液晶物質が
分散保持されたフィルム状液晶層を一対の電極付き基板
間に挟持してなる液晶光学素子を用いた調光装置におい
て、使用する一対の電極付き基板の一方もしくは両方の
基板上に形成された電極が、酸化インジウム系の電極で
あり、その全部もしくは一部が液晶化され、その液晶化
された電極付き基板が、電極付きプラスチックフィルム
基板とされ、その端子が駆動回路に接続され、電圧の印
加によって、光の透過状態が透明状態と散乱状態との間
で制御可能とされたことを特徴とする調光装置、及び、
その調光装置において、用いられた液晶光学素子の両面
に保護板を接着性材料層で接着したことを特徴とする調
光装置、及び、それらの調光装置において、電圧印加時
に透明状態になり、電圧無印加時に散乱状態になる液晶
光学素子が用いられたことを特徴とする調光装置、及
び、得られる硬化物の屈折率が、使用する液晶物質の常
光屈折率（n₀）、異常光屈折率（n_e）又は液晶物質がラ
ンダムに配向した場合の屈折率（n_x）のいずれかと一致
するように選ばれた硬化物マトリックス中に液晶物質が
分散保持されたフィルム状液晶層を一対の電極付き基板
間に挟持してなる液晶光学素子を用いた調光装置の製造
方法において、使用する一対の電極付き基板の一方もし
くは両方の基板上に形成する電極を、酸化インジウム系
の電極とし、その全部もしくは一部を結晶化し、その結
晶化された電極付き基板を、電極付きプラクチックフィ
ルム基板とし、その電極付の基板間に液晶物質と硬化性
化合物との混合物を挟持して硬化性化合物を硬化させ
て、樹脂のマトリックス中に液晶物質が分散しているフ
ィルム状液晶層を形成し、その端子を、駆動回路に接続
し、電圧の印加によって、光の透過状態を透明状態と散
乱状態との間で制御可能にすることを特徴とする調光装
置の製造方法を提供するものである。

本発明では、フィルム状液晶層を挟持する電極付の基
板として、その全部もしくは一部が結晶化している酸化
インジウム系の電極付の基板を用いる。これにより、基
板の電極が液晶物質と接しているにもかかわらず、長期
にわたり優れた耐久性を有する液晶光学素子を容易に得
ることができ、そして調光装置を構成する。

この電極付の基板としては、通常酸化インジウム系の
透明電極付の透明基板であって、その全部もしくは一部
が結晶化しているものが使用できる。具体的にはITO（I
n₂O₃−SnO₂）の透明電極付のプラスチックフィルム基板
の透明基板が使用できる。もっとも、反射型液晶光学素
子、調光鏡のような用途の場合には一方の電極を反射電
極としたり、一方の基板を不透明な基板や金属基板とし
てもよい。さらに、この透明電極に金属の細線等の低抵
抗リードを積層したり、配線したりしてもよい。

フィルム状液晶層は、液晶物質が、樹脂マトリックス
中に分散した構造を有し、電圧の印加によって、その光
の透過状態を透明状態と散乱状態との間で制御可能なも
のが使用できる。

これには、液晶物質がマイクロカプセルに封入された
ものや、網目状の樹脂の多孔質マトリックス中に液晶物
質が含浸されたような構造のものがある。

これは、液晶物質の屈折率と樹脂マトリックスの屈折
率との組み合わせにより、両者の屈折率が一致した時に
は透過状態となり、異なった時には散乱状態となる液晶
光学素子であり、液晶物質の屈折率を電圧の印加と非印
加によって変化させる。

即ち、得られる樹脂硬化物の屈折率が、使用する液晶
物質の常光屈折率（n₀）、異常光屈折率（n_e）又は液晶
物質がランダムに配向した場合の屈折率（n_x）のいずれ
かと一致するように選ばれた硬化性を有する化合物及び
液晶物質の溶解物またはラテックスを一対の基板間に保
持し、硬化物化合物を硬化させて液晶物質と樹脂硬化物
との相分離を固定化して独立した液泡中に液晶が封入さ
れたマイクロカプセル状のものや、液泡自体が連通して
いる多孔質マトリックス状のものがある。特に、樹脂硬
化物の屈折率が、使用する液晶物質の常光屈折率（n₀）
または異常光屈折率（n_e）のどちらかの一致するように
選ばれるようにする方が透明状態での均一性が良いため
好ましい。

さらに、この液晶中に２色性色素、単なる色素、顔料
等を添加しても良いし、硬化性化合物として着色したも
のを使用しても良い。

このような液晶物質が樹脂マトリックスに分散された
液晶を使用することにより、大面積にしても、上下の透
明電極が短絡する危険性がなく、かつ、通常のツイスト
ネマチック型の表示素子のように配向や基板間隙を厳密
に制御する必要もなく、大面積を有する液晶光学素子に
よる調光装置を極めて生産性良く製造できる。

さらに、調製する硬化性化合物と液晶物質との混合物
が均一に溶解している物を使用することにより、２枚の
電極付き基板の接着も同時に可能となるという利点も有
する。

具体的には、電極付のプラスチックフィルム基板に液
晶物質と硬化性化合物との混合物を供給し、これに対向
する基板を重ね合わせ、これを硬化させるようにすれば
よい。

なお、硬化時に溶媒を蒸発させる必要がある場合に
は、一方の基板上に液晶物質と硬化性化合物との混合物
を供給し、対向する基板を重ね合せる前に硬化させ、そ
の後、必要に応じて硬化したフィルム状液晶層の表面に
接着材を塗布し、対向する基板を重ね合せればよい。こ
のため、溶媒を必要としないタイプのものが好ましく、
液晶物質と硬化性化合物との溶液から硬化に伴い樹脂の
マトリックスと液晶物質とが自然に相分離するような組
成物を用いることが好ましい。

本発明では、この液晶光学素子の両面に保護板を接着
することが好ましい。このため、液晶光学素子の基板自
体はプラスチックフィルム基板を使用することが好まし
い。これは、両面には保護板が接着される場合には、液
晶光学素子自体にはあまり剛性を要求されないこと、厚
さが薄くなり積層が容易なこと及び大面積の液晶光学素
子が製造しやすいためである。

また、基板の端子を容易に形成できるものでもあり、
大面積の液晶光学素子から必要な大きさの素子を切り出
して使用することもできるためでもある。

基板間ギャップは、２〜100μｍにて動作することが
できるが、印加電圧、オン・オフ時のコントラストを配
慮すれば、５〜40μｍに設定することが適当である。

この保護板を用いる場合の保護板としては、強度が高
く、透過性が良いものが好ましく、具体的には、アクリ
ル板、ポリカーボネート板、透明塩化ビニル板等の有機
材料板、ガラス板、石英板等の無機材料板等がある。特
に、大面積の素子では、耐擦傷性、耐薬品性、剛性等の
点からみて、ガラス板の使用が好ましい。

もちろん、これらの保護板は、必要に応じて表面に耐
擦傷性コーティング層、反射防止層、着色層、飛散防止
層を設けたり、保護板自体を強化ガラス板、着色プラス
チック板、積層ガラス板にしたりしてもよい。

特に、液晶光学素子として電極付のプラスチックフィ
ルム基板間にフィルム状液晶層を挟持した液晶光学素子
を使用し、この液晶光学素子を２枚のガラス体の間に、
熱または光により接着力を発揮するシート状接着材を介
して挟持し、加熱または光照射によりそのシート状接着
材を硬化させて液晶光学素子とガラス体とを接着して一
体化することにより、加工時に所望のサイズに切断でき
るので作業性が良く、かつ合せガラス状で耐久性が高い
という液晶光学素子を容易に得ることができる。

この保護板を接着するための接着材としては熱硬化
型、２液混合硬化型、光硬化型等種々の接着材が使用可
能であるが、シート状接着材が積層作業が容易で生産性
が良い。特に、積層作業中はベトつかなく、加熱または
光照射時にはじめて接着性を生じるシート接着材が積層
作業の作業性が良く好ましい。

加熱により接着性を生じるシート状接着材としては、
代表的なものとして、ポリビニルブチラールがあり、通
常の合せガラスの製造と同様に、液晶光学素子と保護板
とをポリビニルブチラールシートを介して積層し、減圧
下で脱泡して、その後加熱加圧することにより容易に脱
泡し、一体化できる。

光照射により接着性を生じるシート状接着材を使用し
た場合には、積層しておいた後、加圧しながら紫外線等
の光を照射して接着一体化されればよい。

この接着に際し、保護板の面積を液晶光学素子の面積
よりも大きくして、少なくとも２辺で保護板同志を直接
接着するようにすることが好ましい。特に、４辺で保護
板の同志を直接接着するようにすることにより、液晶光
学素子と保護板相互の接着力が向上するとともに、液晶
光学素子側面の保護にもなり、液晶光学素子の信頼性が
向上する。

これにより、２枚の保護板をはがすような力が働いた
場合にも、液晶光学素子の基板間での剥離を防止でき
る。

特に、保護板の接着材として、耐湿性に優れた材料を
使用することにより、屋外使用や高湿度雰囲気下での使
用の用途に適している。

前述のポリビニルブチラールの場合には、この保護板
が直接接着される部分の幅が５〜30mm程度とされること
によって、接着強度、耐湿性ともに満足できる。

このように液晶光学素子を保護板の間に完全に埋め込
んでしまう場合には、液晶光学素子の基板上の電極がそ
の側方に延長された端子に接続された液晶光学素子を用
い、接着して一体化した際に、延長された端子の端部の
みが一対の透明板の端部から露出するようにされること
により、前述の利点を生かしつつ、駆動回路との導電接
続も容易にできる。

具体的には、液晶光学素子の基板上の電極に線状、板
状の金属片を接着、または基板に孔を開けて嵌込み接続
固定して液晶光学素子の側方に取り出されていれば良
い。この突起状の端子は、保護板の外まで延長されて、
外部の駆動回路に接続されれば良い。

この外部へ接続される端子の厚さは、端子の幅にもよ
るが、接着された保護板間の間隔の80％以下とされる。
これは端子の厚みが厚すぎると端子の取り出し部分から
の湿気、水分の侵入を防ぐ効果が低下するためである。

本発明に用いられる液晶光学素子を製造するには、所
望の形状の基板を２枚準備して、これを組合せて液晶光
学素子を製造してもよいし、連続プラスチックフィルム
基板を使用し、後で切断する方式で製造してもよい。

さらに、この液晶光学素子は、耐久性を向上させるた
めに、フィルム状液晶層の側面や端子面等の電極の露出
面に、樹脂による絶縁膜を形成しても良い。

本発明の液晶光学素子は、この外、カラーフィルタ
ー、赤外線カットフィルター、紫外線カットフィルター
を積層したり、裏面に鏡を積層したり、一部の電極にパ
ターニングを行い表示に使用したり、この液晶光学素子
を組み合わせて巨大な表示に使用したりする等種々の応
用が可能なものである。

本発明の調光装置の液晶光学素子は、その端子を、駆
動回路に接続し、電圧を印加した際に透過状態となり、
電圧を印加しない際に散乱状態となるようにした調光装
置として好適である。

この場合、駆動回路としては、交流の10〜100V程度の
電圧が印加できるものが使用できる。このため、家庭用
のAC50Hz、60Hzの100Vをそのまま使用することも可能で
ある。

［作用］ ここで、４種のITOの薄膜を電極としてポリエステル
フィルム上に形成した透明電極付き基板（A,B,C,D）を
用い、液晶と樹脂硬化物を挟持した透過散乱型液晶光学
素子を作製し、長期的な使用によるITO電極抵抗の変化
を評価するため、60℃および80℃の恒温槽中に、素子の
電圧を印加した状態および電圧不印加の状態で放置し
た。

60℃での電圧印加状態および80℃での不印加状態で、
それぞれ2000時間放置した素子について経時的な電極抵
抗の変化および着色について調べたところ、用いた４種
のITO付きポリエステルフィルムの内、Ａのみが抵抗の
変化が初期値の1.2倍以下であり、他のものは２倍から1
0倍にITOの表面抵抗が上昇していた。

また、電極の着色の進行においても同様に、Ａのみが
１％以内の透過率の低下であったのに対してＢ、Ｃ、Ｄ
は２〜６％の低下を示していた。

そこで、次に、それぞれのITOについてＸ線回折スペ
クトルを採取したところ、Ａのみに31゜付近で回折ピー
クが観測され、他のB,C,Dについてはそのような特徴的
な回折ピークは認められなかった（第１図−ａ〜ｄ）。
Ａに見られるＸ線回折スペクトルにおける31゜付近のピ
ークは、ITOの（222）面による回折線である（ASTM car
d 6−0416）。用いたITO付きポリエステルフィルムの
内、Ａのみが結晶性のITOであり、B,C,Dはアモルファス
のITOであることがわかった。

一般に、素子の長期的な性能の変化を通常使用する温
度以上の温度域での変化より推定することがしばしば行
われている。即ち、上記のＸ線回折スペクトルのよう
に、Ｘ線回折スペクトルからその全部又は一部が結晶化
していることが分かる程度に結晶化しているITOを電極
として用いることにより、長期的な使用においても性能
の変化が小さく、信頼性の高い液晶光学素子を得ること
ができる。

以上のように、Ｘ線回折スペクトルにより特徴的なピ
ークが観察される結晶性ITOを電極に用いる液晶光学素
子は、長期的な使用によってもITO電極抵抗の上昇や着
色が少なく、長寿命で信頼性の高いものである。

［実施例］ 以下、実施例により、本発明を具体的に説明する。

実施例１ アクリル系重合性樹脂２部に液晶（BDH社製「Ｅ−
８」）３部を溶解し、光重合開始剤（メルク社製「ダロ
キュアー1116」）0.04部、および20μｍのスペーサー0.
01部を加えたもの（組成物１）を、Ｘ線回折スペクトル
により特徴的なピークが観察される結晶性のITOを電極
として設けた２枚のポリエステルフィルム（帝人社製
「Ａ−125」）の基板間に挟み込み、紫外線照射装置に
より２分間光露光して、光硬化させた。

得られた素子は、基板間に電圧を印加しない状態では
全面散乱状態を示し、これにAC50Hz、100Vの電圧を印加
したところ、全面透明状態となり、この時の透過率を視
感感度の透過率計で測定したところ80.2％であった。ま
た、この素子よりITO付きポリエステルフィルム基板の
一部を取り出し、四端子法にて電極ITOの表面抵抗を測
定したところ180Ω／□であった。

次に、ここで得られた素子にAC50Hz、100Vの電圧を印
加した状態で、60℃に保った恒温槽中に2000時間放置し
た後取り出し、AC50Hz、100Vの電圧を印加して同様に透
過率を測定したところ79.8％であっつた。また、この素
子によりITO付きポリエステルフィルム基板の一部を取
り出し、四端子法にて電極ITOの表面抵抗を測定したと
ころ210Ω／□であった。

比較例１ 実施例１で示した組成物１を、Ｘ線回折スペクトルに
より特徴的なピークが観察されないアモルファスのITO
を電極として設けた２枚のポリエステルフィルム（ダイ
セル化学工業社製「セレックＫ−EC」）の間に挟み込
み、同様にして素子を得た。

これにAC50Hz、100Vの電圧を印加した時の透過率は7
8.5％であった。得られた素子の一部より取り出したITO
付きポリエステルフィルム基板上のITOの表面抵抗は450
Ω／□であった。

次に、得られた素子に実施例１と同様に電圧を印加し
た状態で、60℃に保った恒温槽中に2000時間放置した後
取り出し、AC50Hz、100Vの電圧を印加して同様に透過率
を測定したところ73.7％であった。また、この素子から
ITO付きポリエステルフィルム基板の一部を取り出し、
四端子法にて電極ITOの表面抵抗を測定したところ730Ω
／□であった。

実施例２ アクリル系光重合性樹脂１部に液晶（ロッシュ社製
「ROTN4931」）２部を溶解し、光重合開始剤としてベン
ゾインイソプロピルエーテル0.05部および20μｍのスペ
ーサー0.01部を加えたもの（組成物２）を、結晶性のIT
Oを電極として設けた２枚のポリエステルフィルム（ユ
ニチカ社製「TP−125」）の基板間に挟み込、紫外線照
射装置により1.5分間露光して、硬化させた。

得られた素子は、基板間に電圧を印加しない状態では
全面散乱状態を示し、これにAC60Hz、100Vの電圧を印加
したところ、全面透明状態となり、この時の透過率を視
感感度の透過率計で測定したところ75.2％であった。ま
た、この素子よりITO付きポリエステルフィルム基板の
一部を取り出し、四端子法にて電極ITOの表面抵抗を測
定したところ330Ω／□であった。

次に、ここで得られた素子を電圧を印加しない状態
で、80℃に保った恒温槽中に1100時間放置した後取り出
し、AC60Hz、100Vの電圧を印加して同様に透過率を測定
したところ74.3％であった。また、この素子よりITO付
きポリエステルフィルム基板の一部を取り出し、四端子
法にて電極ITOの表面抵抗を測定したところ370Ω／□で
あった。

比較例２ 実施例２に示した組成物２を、Ｘ線回折スペクトルに
より特徴的なピークが観察されないアモルファスのITO
を電極として設けた２枚のポリエステルフィルム（帝人
社製「Ｃ−125」）の間に挟み込み、同様にして素子を
得た。

これにAC60Hz、100Vの電圧を印加した時の透過率は7
6.1％であった。この素子の一部より取り出したITO付き
ポリエステルフィルム基板上のITOの表面抵抗は570Ω／
□であった。

次に、得られた素子を実施例２と同様に電圧を印加し
ない状態で、80℃に保った恒温槽中に1100時間放置した
後取り出し、AC60Hz、100Vの電圧を印加して同様に透過
率を測定したところ72.4％であった。また、この素子か
らITO付きポリエステルフィルム基板の一部を取り出
し、四端子法にて電極ITOの表面抵抗を測定したところ8
60Ω／□であった。

実施例３ 実施例１に示した組成物１を、Ｘ線回折スペクトルに
より特徴的なピークが観察される結晶性のITOを電極と
して設けたポリエステルフィルム（帝人社製「Ａ−12
5」）とＸ線回折スペクトルにより特徴的なピークが観
察されないアモルファスのITOを電極として設けたポリ
エステルフィルム（ダイセル化学工業社製「セレックＫ
−EC」）との基板間に挟み込み、実施例１と同様にして
素子を得た。

これにAC50Hz、100Vの電圧を印加した時の透過率は7
9.7％であった。この素子の一部より取り出したITO付き
ポリエステルフィルム基板上のITOの表面抵抗は、結晶
性のITOが180Ω／□であり、アモルファスのITOが450Ω
／□であった。

次に、得られた素子を実施例１と同様に電圧を印加し
た状態で、60℃に保った恒温槽中に800時間放置した後
取り出し、AC50Hz、100Vの電圧を印加して同様に透過率
を測定したところ77.0％であった。また、この素子から
ITO付きポリエステルフィルム基板の一部を取り出し、
四端子法にて電極ITOの表面抵抗を測定したところ、結
晶性のITOが200Ω／□であり、アモルファスのITOが660
Ω／□であった。

実施例４〜６ 上記の実施例１〜３の液晶光学素子の端子に金属片を
接着し、液晶光学素子よりも少し大き目の厚さ3mmの２
枚のガラス板の間に、夫々周囲に20mmずつ保護板同志が
対向するように配置し、それらの間に厚さ約380μｍの
ポリビニルブチラールフィルムを積層し、保護板同志が
直接対向している幅20mmの部分には同じポリビニルブチ
ラールフィルムを幅20mmの枠状に切抜いたものを積層し
た。

次いで、この積層物をゴム袋内に入れて、内部を減圧
状態とした。その後、この積層物を収容したゴム袋をオ
ートクレーブに入れ、100℃まで昇温して、予備圧着し
た。その後、予備圧着した積層物をゴム袋から取り出
し、直接オートクレーブに入れて135℃まで昇温加圧し
て、本圧着を行った。

保護板が接着一体化された液晶光学素子は、液晶光学
素子全面にわたり、均一で泡もなく、良好な外観であっ
た。

この保護板から露出した金属片を、駆動回路（AC50H
z、100V）に接続し、調光窓として使用した。電圧を印
加しない時には散乱状態で反射側が見えなく、電圧を印
加すると透過状態となって、反対側が良く視認できた。

［発明の効果］ 以上のごとく、本発明は長期的な使用によっても特性
の変化の少ない液晶光学素子を用いた調光装置を提供す
るものであり、使用する一対の電極付き基板の一方もし
くは両方の基板上に形成された電極に、全部もしくは部
分的に結晶化した酸化インジウム系の電極を選ぶことに
より製造される。

結晶化した酸化インジウム系の電極は、フィルム状液
晶層を構成する液晶物質や液晶物質を取り囲む他の有機
物に直接接した状態においても電極に変化を生じさせに
くく、長期的に素子の特性が維持される。これにより、
結晶化した酸化インジウム系の電極を電極として設けた
プラスチックフィルムを基板として使用することで、生
産性及び現場作業性が良く、かつ、高寿命で信頼性の高
い液晶光学素子を容易に得ることができる。

さらに、その両面に保護板を接着することにより、大
面積の調光装置としても、液晶光学素子と保護板とが全
面で密着していることとなり、平行光線透過率が高く、
透過率ムラが少なく、長期間にわたり、安定で信頼性の
高いものとなる。

また、接着材として、シート状接着材を使用する、特
に熱または光により接着力が生じるシート状接着材を使
用することにより、シート状接着材がベト付いたりする
ことがないので、その配置作業に支障を生じにくく、生
産プロセスが容易になり、生産性が極めて高くなる。

本発明の調光装置は、外観品位、生産性に優れた調光
装置であり、大面積での調光、表示、光シャッター等に
広く利用することができ、調光窓、調光鏡、飾り窓、大
型公衆表示体、間仕切り等種々の応用が可能である。こ
の他、本発明の効果を損しない範囲で種々の応用が可能
である。

【図面の簡単な説明】

第１図には、液晶を含む樹脂硬化物を挟持するための電
極として例示した、各種ITO薄膜（A,B,C,D）のＸ線回折
スペクトルを示す。第１図−ａ中の矢印は、ITO結晶に
よる（222）面の回折線である。

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】得られる硬化物の屈折率が、使用する液晶
   物質の常光屈折率（n₀）、異常光屈折率（n_e）又は液晶
   物質がランダムに配向した場合の屈折率（n_x）のいずれ
   かと一致するように選ばれた硬化物マトリックス中に液
   晶物質が分散保持されたフィルム状液晶層を一対の電極
   付き基板間に挟持してなる液晶光学素子を用いた調光装
   置において、使用する一対の電極付き基板の一方もしく
   は両方の基板上に形成された電極が、酸化インジウム系
   の電極であり、その全部もしくは一部が液晶化され、そ
   の液晶化された電極付き基板が、電極付きプラスチック
   フィルム基板とされ、その端子が駆動回路に接続され、
   電圧の印加によって、光の透過状態が透明状態と散乱状
   態との間で制御可能とされたことを特徴とする調光装
   置。
2. 【請求項２】請求項１の調光装置において、用いられた
   液晶光学素子の両面に保護板を接着性材料層で接着した
   ことを特徴とする調光装置。
3. 【請求項３】請求項１または２の調光装置において、電
   圧印加時に透明状態になり、電圧無印加時に散乱状態に
   なる液晶光学素子が用いられたことを特徴とする調光装
   置。
4. 【請求項４】得られる硬化物の屈折率が、使用する液晶
   物質の常光屈折率（n₀）、異常光屈折率（n_e）又は液晶
   物質がランダムに配向した場合の屈折率（n_x）のいずれ
   かと一致するように選ばれた硬化物マトリックス中に液
   晶物質が分散保持されたフィルム状液晶層を一対の電極
   付き基板間に挟持してなる液晶光学素子を用いた調光装
   置の製造方法において、使用する一対の電極付き基板の
   一方もしくは両方の基板上に形成する電極を、酸化イン
   ジウム系の電極とし、その全部もしくは一部を結晶化
   し、その結晶化された電極付き基板を、電極付きプラク
   チックフィルム基板とし、その電極付の基板間に液晶物
   質と硬化性化合物との混合物を挟持して硬化性化合物を
   硬化させて、樹脂のマトリックス中に液晶物質が分散し
   ているフィルム状液晶層を形成し、その端子を、駆動回
   路に接続し、電圧の印加によって、光の透過状態を透明
   状態と散乱状態との間で制御可能にすることを特徴とす
   る調光装置の製造方法。