JP2560397B2 - アセナフテン、ジベンゾフランおよびフルオレンの製造方法 - Google Patents

アセナフテン、ジベンゾフランおよびフルオレンの製造方法

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JP2560397B2 JP63054077A JP5407788A JP2560397B2 JP 2560397 B2 JP2560397 B2 JP 2560397B2 JP 63054077 A JP63054077 A JP 63054077A JP 5407788 A JP5407788 A JP 5407788A JP 2560397 B2 JP2560397 B2 JP 2560397B2
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卓郎 岩間
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、アセナフテン、ジベンゾフランおよびフル
オレンの製造方法に関する。
[従来の技術とその問題点] コールタール中には数百種類の成分が含有している
が、アセナフテン、ジベンゾフランおよびフルオレンの
各成分は化学原料としての用途がある。一方、アセナフ
テン、ジベンフランおよびフルオレンの混合物もスルホ
ン化による分散剤、アルキル化による熱媒等の用途が考
えられる。
しかしながら、従来、コールタールからアセナフテ
ン、ジベンゾフランおよびフルオレンの混合物を製造す
る方法はなかった。従って、該混合物から高純度のアセ
ナフテン、ジベンゾフランおよびフルオレンを製造する
方法もなかった。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、ア
セナフラン、ジベンゾフランおよびフルオレンの混合物
と高純度のアセナフテン、ジベンゾフランおよびフルオ
レンを簡単な工程で容易に得ることのできる製造方法を
提供するものである。
[問題を解決するための手段] 本発明は、コールタールまたは一部あるいは全量を水
素添加したコールタールを蒸留して230〜350℃留分を得
る工程と、該230〜350℃留分に蒸留を施してアセナフテ
ンが10wt%以上、ジベンゾフランが20wt%以上およびフ
ルオレンが8wt%以上のアセナフテン、ジベンゾフラン
・フルオレン留分を得る工程と、該アセナフテン・ジベ
ンゾフラン・フルオレン留分に晶析を施して固相分を得
る工程と、該固相分に所定の溶剤を添加し、晶析を施し
てアセナフテン、ジベンゾフランおよびフルオレンの3
成分が混合する析出物を得る工程と、該析出物に蒸留を
施す工程とを具備することを特徴とする高純度のアセナ
フテン、ジベンゾフランおよびフルオレンの製造方法で
ある。
ここで、コールタールに施す水素添加処理の水素化深
度は、600〜3000 SCF/BL(Standard Cubic Feet/Barre
l)に設定するのが好ましい。水素化深度が600 SCF/BL
に満たない場合は、本発明にて使用する留出油として適
したものが得られない。また、3000 SCF/BLを越える
と、アセナフテン、ジベンゾフランおよびフルオレンの
水素化が急激に進み、特にアセナフテンの含有量が激減
する。水素添加処理に際しては、Ni−Mo,Co−Mo,Ni−Co
−Moのような通常重質油の水素添加に使用する触媒を使
用するのが好ましい。
230〜350℃留分に施す蒸留は、複数回としてアセナフ
テン、ジベンゾフランおよびフルオレンの組成を高める
のが好ましい。
アセナフテンが10wt%以上、ジベンゾフランが20wt%
以上およびフルオレンが8wt%以上の留分に施す晶析は
該留分を晶析するのが、必要に応じて溶剤を用いても良
い。
また、固相分および析出物の晶析は必要に応じて2段
階以上としても良い。晶析の温度は0〜80℃の範囲で適
宜設定するのが好ましい。
晶析に用いる溶剤は、溶解度パラメータ7〜14.5の炭
化水素系溶剤が好ましい。具体的には、エタノール、n
−ヘキサン等を挙げることができる。
析出物に施す蒸留は、1回以上として、回分式または
/および連続式いづれの方法でも良い。
[作用] アセナフテン、ジベンゾフランおよびフルオレンの沸
点は夫々278℃、287℃および298℃である。この沸点差
があれば精密蒸留で分離できる。しかしながら、コール
タールまたは一部あるいは全量を水素添加したコールタ
ールから得られる留出油には該沸点の近傍に沸点を持つ
成分が多種類あり、蒸留でアセナフテン、ジベンゾフラ
ンおよびフルオレンを分離するのは困難であった。
本発明にかかるアセナフテン、ジベンゾフランおよび
フルオレンの製造方法によれば、コールタールまたは一
部あるいは全量を水素添加したコールタールから得られ
る留出油の230〜350℃留分に、さらに蒸留を施してアセ
ナフテンが10wt%以上、ジベンゾフランが20wt%以上お
よびフルオレンが8wt%以上の留分を得る。該留分の組
成に調整するとアセナフテン、ジベンゾフランおよびフ
ルオレンは優先的に析出し、アセナフテン、ジベンゾフ
ランおよびフルオレン3成分の濃度が95wt%以上の混合
物が製造できる。
該3成分の混合物に蒸留を施すと高純度のアセナフテ
ン、ジベンゾフランおよびフルオレンを得ることができ
る。
[実施例] 以下、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
(実施例1) 第1図に示すごとく、先ず、コールタール11を蒸留12
して230〜350℃留分15を得る。この230〜350℃留分15に
2次蒸留16を施してアセナフテン、ジベンゾフランおよ
びフルオレン留分17を得る。この留分17の組成はアセナ
フテン24.3wt%、ジベンゾフラン28.7wt%、フルオレン
8.0wt%であった。該留分17に20℃で晶析18を施した。
晶析18で生成した固相分19の組成はアセナフテン31.7wt
%、ジベンゾフラン32.2wt%、フルオレン34.2wt%であ
り、該3成分の濃度は98.1wt%であった。固相分19に次
工程の晶析20を省略して精密蒸留22を施した。精密蒸留
22後の純度はアセナフテン99.5wt%、ジベンゾフラン9
5.3wt%、フルオレン98.2wt%であった。
(実施例2) 先ず、コールタール11を蒸留12して280℃+留分を得
て、該留分に水素化深度1250 SCF/BLで水素添加処理し
て水添留出油13を得る。該留分13に1次蒸留14を施して
230〜350℃留分15を得る。該留分15の2次蒸留16以降は
実施例1と同様であった。留分17および固相分19の組成
wt%、精密蒸留22後の純度wt%は下記の通りであった。
留分17 固相分19 精密蒸留22後 アセナフテン 12.8 33.4 99.4 ジベンゾフラン 20.7 30.6 95.1 フルオレン 8.5 36.0 99.0 なお、実施例1,2において、1次蒸留14、2次蒸留16
および精密蒸留22で使用した蒸留塔の仕様は、下記の通
りであった。
記 蒸留塔の内容 (1)1次蒸留塔(40L−15段) 塔径[mm] :100 充填高さ[mm]:1600 充填物 :下部−マクマホン6mm/上部−ヘリパッ
ク No.4 理論段数 :15 還流比 :5(3秒−開/15秒−閉) 仕込み量[kg]:約40(塔内ホールドアップ 約1.9[k
g]) (2)2次蒸留塔(10L−60段) 塔径[mm] :40 充填高さ[mm]:2100 充填物 :ヘリパック No.2 理論段数 :60 還流比 :5(3秒−開/15秒−閉) 仕込み量[kg]:約10(塔内ホールドアップ 約0.4[k
g]) (3)精密蒸留塔(2L−100段) 塔径[mm] :20 充填高さ[mm]:2200 充填物 :ヘリパック No.1 理論段数 :100 還流比 :10(2秒−開/20秒−閉) 仕込み量[kg]:約1.5(塔内ホールドアップ 約0.1
[kg]) [発明の効果] 以上説明した如く、本発明にかかるアセナフテン、ジ
ベンゾフランおよびフルオレンの製造方法によればアセ
ナフテン、ジベンゾフランおよびフルオレン3成分の混
合物および高純度のアセナフテン、ジベンゾフランおよ
びフルオレンが得ることができるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例を示す説明図である。 11……コールタール、12……蒸留、水素添加処理、13…
…水添留出油、14……1次蒸留、15……230〜350℃留
分、16……2次蒸留、17……アセナフテン、ジベンゾフ
ランおよびフルオレン留分、18……晶析、19……固相
分、20……晶析、21……アセナフテン、ジベンゾフラン
およびフルオレン混合物、22……蒸留。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 307/91 C07D 307/91 C10C 1/04 9547−4H C10C 1/04 (72)発明者 岩間 卓郎 東京都千代田区丸の内1丁目1番2号 日本鋼管株式会社内 (72)発明者 谷口 博昭 東京都千代田区丸の内1丁目1番2号 アドケムコ株式会社内

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】コールタールまたは一部あるいは全量を水
    素添加したコールタールを蒸留して230〜350℃留分を得
    る工程と、該230〜350℃留分に蒸留を施してアセナフテ
    ンが10wt%以上、ジベンゾフランが20wt%以上およびフ
    ルオレンが80wt%以上のアセナフテン、ジベンゾフラン
    ・フルオレン留分を得る工程と、該アセナフテン、ジベ
    ンゾフラン・フルオレン留分に晶析を施して固相分を得
    る工程と、該固相分に所定の溶剤を添加し、晶析を施し
    てアセナフテン、ジベンゾフランおよびフルオレンの3
    成分が混合する析出物を得る工程と、該析出物に蒸留を
    施す工程とを具備することを特徴とする高純度のアセナ
    フテン、ジベンゾフランおよびフルオレンの製造方法。
  2. 【請求項2】230〜350℃留分に施す蒸留が、複数回であ
    る特許請求の範囲第1項記載のアセナフテン、ジベンゾ
    フランおよびフルオレンの製造方法。
  3. 【請求項3】固相分に施す晶析が1段階以上のものであ
    る特許請求の範囲第1項記載のアセナフテン、ジベンゾ
    フランおよびフルオレンの製造方法。
  4. 【請求項4】析出物に施す蒸留が1段階以上のものであ
    る特許請求の範囲第1項記載のアセナフテン、ジベンゾ
    フランおよびフルオレンの製造方法。
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