JP2550075B2 - 十字線を搬送するための装置 - Google Patents

十字線を搬送するための装置

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体のウエーハの製作における1工程で
十字線(レクテイルreticle)を搬送するための装置に
関する。
従来技術 十字線を高精度で光学スリットを通過させて搬送する
ためには従来種々の技術が採用されてきた。かかる技術
の1つでは十字線を旋回アームの端部に取付け、該アー
ムをモータによって前進および後退駆動することによっ
て十字線をアーチ状に移動させる。
別の形式では、十字線をエアバーを用いて直線形に移
動させる。エアバーは精密ラッピングされた表面を有す
る、方形横断面の長い棒として考えられる。エアバーに
沿って移動可能に方形の管がエアバーに載着しており、
該管は十字線を支持している。エアバーと管との間の圧
縮空気がほぼ摩擦のない運動を与える。しかしエアバー
の形式も旋回アームの形式も十字線の位置の可能な調整
の数が限られていた。
発明が解決しようとする問題点 本発明の課題は上記の従来技術の欠点を排除すること
である。
問題点を解決するための手段 上記の課題を解決するための本発明の手段は、冒頭に
記載の装置が、第1の平らな支承面と第2の平らな支承
面とを持つベース部材を備えており、第1の支承面と第
2の支承面とが互いに交差するように配置されており; 上記装置が、第1の支承面と第2の支承面とによって
支持されていて、支持された状態で直線的に移動可能な
十字線台とこの十字線台に取付けられた、平らな支持面
を持つ複数のガスベアリングとを備えており、十字線台
が、ガスベアリングの支持面でもって第1の支承面上と
第2の支承面に沿って移動するようにガスベアリングに
よって第1の支承面および第2の支承面上に支持されて
おり、該支持面には各支承面に隣接して真空室と複数の
圧力室とが形成されており、上記複数のガスベアリング
の少なくとも3つが十字線台を第1の支承面または第2
の支承面のいずれか一方の上で支持していて、残りのガ
スベアリングが十字線台を第1の支承面または第2の支
承面のいずれか他方の上で支持しており; 上記装置が真空源と、圧縮ガス源と、真空室と真空源
とを、および圧力室と圧縮ガス源とを同時に接続するた
めの手段とを備えていて、このようにして十字線台の、
支承面に沿ったほぼ摩擦のない移動を圧縮ガスが許し、
かつ十字線台の、支承面から離れる運動を真空が阻止す
るようになっており; さらに上記装置が、十字線台を支承面に沿って駆動す
るための手段を備えていることである。
発明の効果 本発明のように構成された装置によって上記の課題は
解決される。
ベース部材は水平な支承面および鉛直の支承面を有し
ており、これらの支承面は機械で処理され、かつラッピ
ングされて光学的に平らな特性を持つ。十字線台は比較
的大きな間隔で配置されたエアベアリングによって水平
および鉛直の両支承面と接触して取り付けられている。
十字線台は十字線台内に精密に位置決めされた十字線を
保持するように適合せしめられている。各エアベアリン
グは各支承面に隣接する位置に真空室と複数の圧力室と
を備えている。各エアベアリングはまた軸線方向の精密
な調整手段と2軸線回りに可撓性の部材を備えている。
真空室と真空源とを、かつ圧力室と圧縮空気源とを接続
するための手段が設けられている。真空と空気圧はエア
ベアリングに同時に適用され、空気圧によってエアベア
リングは各支承面に沿って浮遊せしめられ、かつ同時に
真空は各支承面から離れるのを阻止する。十字線台はリ
ニアモータによって支承面に沿って駆動される。
実施例 本発明の装置はベース部材であるベースアセンブリ10
を備えている。ベースアセンブリの上に十字線台12が取
付けられており、十字線台はエアベアリング14a〜14eに
よってベースアセンブリに取付けられている。ベースア
センブリ10はほぼ矩形のボックスの形のベースフレーム
16から成っており、ベースフレームは矩形の中央孔20を
有する上板18を備えている。上板18は水平であり、かつ
精密ラッピングされた水平の支承面22を前縁に沿って有
し(第1図)、かつ中央孔20の後縁に沿って延びた、よ
り短い水平の支承面24を有している。上板18の各端部の
支持台26は機械的なショックアブソーバ28を支持してい
る。ショックアブソーバの機能については後述する。電
子光学式の検出器30が上板18の各支持台26の隣りに取付
けられている。
上板18の後部から上方へ鉛直の壁32が延びている。壁
32は第2図にみられるように背面に凹所34とリブ36とが
設けられていて“ハニカム構造”になっている。これら
は剛性を高め、しかも重量を最小にする。壁32の前面は
精密ラッピングされた鉛直の支承面38を有している。
十字線台12はベースアセンブリ10上に支持されている
ベースアセンブリに沿ってエアベアリング14a〜14eによ
って水平の支承面22,24および鉛直の支承面38上を精確
に直線形に移動する。十字線台12は鉛直の十字線プレー
ト40から成っており、十字線プレートはほぼ矩形であ
り、かつ両端部で一対の後方へ延びる左右のサイドフレ
ーム42,44に固定されている。両サイドフレームは中央
のハニカム構造の鋳造ブロック46によって結合されてい
る。十字線プレート40の背面にはみぞが形成されてお
り、みぞは真空孔48に接続されている。これらのみぞは
十字線フレーム50を確実に保持するための真空チャック
として働く(第2図)。十字線台12はベースフレーム16
内に収容された直流リニアモータによってベースアセン
ブリ10に沿って前進および後退駆動される。十字線台12
に取付けられたラグ52は通常電子光学式の検出器30と協
働して移動限界を制御する。故障事態の安全手段として
凹所を有する円筒状のストッパ54がショックアブソーバ
28と係合するように十字線台12によって保持されてい
る。
本発明の重要な特徴はエアベアリング14a〜14eの配置
である。十字線台12の両端は水平の支承面22上に位置す
るエアベアリング14a,14bを支持しており、他方第3の
中央に位置決めされたエアベアリング14cは水平の支承
面24上に位置していることに注意すべきである。エアベ
アリング14d,14eは鉛直の支承面38に対して支承するた
めにそれぞれ左側のサイドフレーム42と右側のサイドフ
レーム44によって支持されている。
各エアベアリング14の詳細は第3図から第5図に示さ
れている。特に第4図に言及するが、第4図にはエアベ
アリング部材14が固定された構造部材56が例として示さ
れている。詳細に記載された上記の実施例では構造部材
56は十字線台12の一部を構成する。構造部材56は穿孔さ
れた穴58を有しており、穴を介して構造部材56の片側の
円錐形の対応凹所60と構造部材56の他方の側の拡大され
た円筒状の開口62とが接続されている。めねじを備えた
円筒状の挿入体64が開口62内に取付けられている。挿入
体64内にはアジャスタ66がねじ込まれている。アジャス
タ66は中空であっておねじを有するシャンク68と拡大さ
れた環状のヘッド70とを備えており、シャンクは挿入体
64内にねじ込まれ、かつヘッドは調整工具を受容するた
めの半径方向の通路72を複数有している。アジャスタ66
のヘッド70に対して平らな凸面状のワッシャ74の平らな
方の面が取付けられている。ワッシャ74の凸面状の表面
は対応する平らな凹面状のワッシャ76の凹面状の表面上
に位置している。
エアベアリング14の円板形のベース部分78は中央の開
口80を有しており、開口は第4図に示されているように
ベース部分の上面で拡大された凹所82で終わっている。
開口80および凹所82内には円筒形の可撓性の連結部材が
取付けられており、連結部材は短軸84を有しており、短
軸は開口80内に保持され、かつ円筒状の可撓性の部材86
を冠している。この部材には直径方向のウエブ88を残し
て一対の対向する同平面のスロットが形成されている。
ウエブは第4図に端部が示されている。ウエブ88の直ぐ
上にはもう一対の上記スロットに直交して配置された同
平面のスロットが第2のウエブ90を残して形成されてい
る。ウエブ90はウエブ88と直交する。本発明の1実施例
において可撓性の連結部材はアルミニウム合金から製作
されており、かつ各ウエブは厚さ約0.0762cm(0.030イ
ンチ)を持つ。可撓性の部材86上にはヘッド92が配置さ
れており、ヘッドからはめねじを有する支柱94がアジャ
スタ66内へ延びていて、しかもねじ96と噛合っている。
ねじは拡大されたねじ頭部98を有しており、ねじ頭部は
対応凹所60内に位置した球面ワッシャ102の中央の凹所1
00内に保持されている。
エアベアリングのベース部分78の下側の支持面106に
は拡大された中央の真空室104が形成されている。真空
室104は通路108と管路110によって例えば第1図の真空
孔48を介して真空源に接続されている。ベース部分78の
上面には矩形横断面を持つスロット112を帯状に形成さ
れており、かつ同様の、しかし幅の狭いみぞ114がスロ
ット112から内向きに延びている。みぞ114は半径方向の
通路116および管路118を介して圧縮空気源に接続可能で
ある。みぞは例えば十字線台12上の圧力孔120を介して
圧縮空気源に接続することができる。複数の穴122がみ
ぞ114から下向きに、ほぼベース部分78を貫通して穿孔
されている。1つの実際の実施例では、例えばベース部
分78の外径が約8.890cm(3.50インチ)の場合に穴122の
直径は約0.15748cm(0.62インチ)であり、かつ支持面1
06から約0.0254cm(0.010インチ)内の所まで延いてい
た。各穴122の底部からは約0.00762cm(0.003インチ)
の穴124が支持面106を貫通して穿孔されていた。円環状
のリング126がスロット112内に挿入されていて、圧縮空
気系を外界から断絶していた。支持面106はラッピング
されて、紫外線光の2つの波長のそれに近似の光学面許
容誤差を有していた。ラッピング後卵形の凹部128が支
持面106の各穴124の周囲に形成された。これら各凹部の
深さは約0.000762〜0.001524cm(0.0003〜0.0006イン
チ)であった。上記の特別な実施例のその他の詳しい寸
法は第5図の拡大断面図に示されている。各凹部の幅は
約0.7112cm(0.28インチ)である。いくつかの単純計算
から各凹部の面積は約0.7948cm2(0.1232平方インチ)
であり、8つの凹部の合計面積は約6.3584cm2(0.9856
平方インチ)である。真空室104の直径は約4.445cm(1.
75インチ)であり、したがって、その面積は約15.51cm2
(2.4平方インチ)である。
作 用 十字線130を十字線フレーム50内に置き、かつ位置決
め取付け工具で精密に位置決めする。この工具は本発明
の範囲内に含まれないので、図示されていない。次いで
十字線フレーム50および十字線130を十字線プレート40
上に取付け、かつ位置決めの後真空によって保持され
る。十字線台1はX軸に沿って精密に直線形に移動可能
である。各エアベアリング14の支持面106内の凹部128に
供給される空気圧は空気の膜を形成し、これは十字線台
12をして精密ラッピングされた支承面22,24および38上
を任意に浮遊させることができる。更に、各エアベアリ
ング14の真空室104へ適用される真空はこれらのエアベ
アリングを支承面に対して確実に保持し、支承面からの
変位を防止する。したがって空気圧によって許される任
意の直線移動と真空によって与えられる離脱阻止との間
に新しいバランスがみられる。
各エアベアリング14はねじ96をゆるめ、アジャスタ66
を所望の位置へ回転させ、次いでねじ96を締めることに
よって軸線方向で位置調整可能である。可撓性の部材86
は各エアベアリングアセンブリ14に対して面追従を配慮
する。水平および鉛直の支承面それぞれに対する、大き
な間隔を持った3点のエアベアリングと各エアベアリン
グの精密な軸線方向の位置調整との組合わせによって十
字線台によって支持された十字線の高度に精密な調整が
可能である。ラグ52および電子光学式の検出器30は十字
線台12の精密な減速と停止とを制御する。十字線台12の
直線方向の位置は十字線台によって支持された再帰反射
鏡とリモートレーザ測定装置とを用いてモニターしても
よい。
緊急急激な停止事態に対しては機械的なショックアブ
ソーバ28が配慮されている。
場合によっては空気以外のガス、例えば窒素を“エア
ベアリング”に使用することが望ましい。
本発明で多くの他の変更形および修正形が本発明の精
神と範囲から離れることなしに可能であることも明らか
であろう。したがって本発明は上記の実施例に限定され
るものではない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による十字線を搬送するための装置の斜
視図、第2図は内部の構造を示すために鉛直の支承面を
1部破断して示した第1図の搬送装置の背面図、第3図
は本発明で使用されるエアベアリングの底面からみた
図、第4図は第3図の4−4線にほぼ沿った断面図、第
5図は第3図の5−5線にほぼ沿った拡大断面図であ
る。 10……ベースアセンブリ、12……十字線台、14,14a,14
b,14c,14d,14e……エアベアリング、16……ベースフレ
ーム、18……上板、20……中央孔、22,24……支承面、2
6……支持台、28……ショックアブソーバ、30……検出
器、32……壁、34……凹所、36……リブ、38……支承
面、40……十字線プレート、42,44……サイドフレー
ム、46……鋳造ブロック、48……真空孔、50……十字線
フレーム、52……ラグ、54……ストッパ、56……構造部
材、58……穴、60……対応凹所、62……開口、64……挿
入体、66……アジャスタ、68……シャンク、70……ヘッ
ド、72……通路、74,76……ワッシャ、78……ベース部
分、80……開口、82……凹所、84……短軸、86……部
材、88,90……ウエブ、92……ヘッド、94……支柱、96
……ねじ、98……ねじ頭部、100……凹所、102……球面
ワッシャ、104……真空室、106……支持面、108……通
路、110……管路、112……スロット、114……みぞ、116
……通路、118……管路、120……圧力孔、122,124……
穴、126……円環リング。128……凹部、130……十字線

Claims (12)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】十字線を搬送するための装置であって、該
    装置が、第1の平らな支承面と第2の平らな支承面とを
    持つベース部材を備えており、第1の支承面と第2の支
    承面とが互いに交差するように配置されており; 上記装置が、第1の支承面と第2の支承面とによって支
    持されていて、支持された状態で直線的に移動可能な十
    字線台とこの十字線台に取付けられた、平らな支持面を
    持つ複数のガスベアリングとを備えており、十字線台
    が、ガスベアリングの支持面でもって第1の支承面上と
    第2の支承面に沿って移動するようにガスベアリングに
    よって第1の支承面および第2の支承面上に支持されて
    おり、該支持面には各支承面に隣接して真空室と複数の
    圧力室とが形成されており、上記複数のガスベアリング
    の少なくとも3つが十字線台を第1の支承面または第2
    の支承面のいずれか一方の上で支持していて、残りのガ
    スベアリングが十字線台を第1の支承面または第2の支
    承面のいずれか他方の上で支持しており; 上記装置が真空源と、圧縮ガス源と、真空室と真空源と
    を、および圧力室と圧縮ガス源とを同時に接続するため
    の手段とを備えていて、このようにして十字線台の、支
    承面に沿ったほぼ摩擦のない移動を圧縮ガスが許し、か
    つ十字線台の、支承面から離れる運動を真空が阻止する
    ようになっており; さらに上記装置が、十字線台を支承面に沿って駆動する
    ための手段を備えていることを特徴とする、十字線を搬
    送するための装置。
  2. 【請求項2】交差する第1の支承面および第2の支承面
    が互いにほぼ垂直である、特許請求の範囲第1項記載の
    装置。
  3. 【請求項3】支承面の1つがほぼ水平であり、かつ他方
    がほぼ鉛直である、特許請求の範囲第2項記載の装置。
  4. 【請求項4】十字線台を第1の支承面上および第2の支
    承面上で支持する各3つのガスベアリングが3角形状に
    十字線台に取付けられている、特許請求の範囲第1項記
    載の装置。
  5. 【請求項5】各ガスベアリングが、ベアリングの十字線
    台からの位置を機械式に調整可能に決めるためのアジャ
    スタ手段を介して十字線台に取付けられている、特許請
    求の範囲第1項または第4項記載の装置。
  6. 【請求項6】位置決めするためのアジャスタ手段が、十
    字線台またはガスベアリングのいずれか一方に設けられ
    ためねじと、上記めねじとねじ結合する、十字線台また
    はガスベアリングのいずれか他方に設けられたおねじ
    と、位置を変えるために一方のねじを他方のねじに対し
    て相対的に回転させるための手段と、ねじを所望の相対
    位置で締付けるための手段とを備えている、特許請求の
    範囲第5項記載の装置。
  7. 【請求項7】締付け手段が、噛合ったねじにこれらのね
    じを横切る方向の圧縮力を選択的に及ぼすための手段か
    ら成っている、特許請求の範囲第6項記載の装置。
  8. 【請求項8】おねじが管状の部材(68)の外面に設けら
    れており、圧縮力を及ぼす手段が、十字線台またはガス
    ベアリングのいずれか一方から上記管状の部材(68)内
    に突入した支柱(94)と、十字線台またはガスベアリン
    グのいずれか他方から上記管状の部材(68)内に突入し
    て上記支柱(94)とねじ結合するロック部材(96)とか
    ら成っている、特許請求の範囲第7項記載の装置。
  9. 【請求項9】支柱(94)が円筒形の、可撓性の連結部材
    を介して十字線台またはガスベアリングのいずれか一方
    に取付けられており、連結部材がスロットによって形成
    された互いに直交するウエブ(88,90)を備えている、
    特許請求の範囲第8項記載の装置。
  10. 【請求項10】ロック部材がボルトと、十字線台または
    ガスベアリングのいずれか他方によって支持された、上
    記ボルトの頭部を保持するための部材とから成ってい
    る、特許請求の範囲第9項記載の装置。
  11. 【請求項11】保持部材が球面座内に配置された球面ワ
    ッシャから成っている、特許請求の範囲第10項記載の装
    置。
  12. 【請求項12】十字線台が、互いに交差した第1の支承
    面および第2の支承面によって形成された比較的小さな
    角度内に配置されている、特許請求の範囲第1項記載の
    装置。
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Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5160883A (en) * 1989-11-03 1992-11-03 John H. Blanz Company, Inc. Test station having vibrationally stabilized X, Y and Z movable integrated circuit receiving support
US5166606A (en) * 1989-11-03 1992-11-24 John H. Blanz Company, Inc. High efficiency cryogenic test station
US5077523A (en) * 1989-11-03 1991-12-31 John H. Blanz Company, Inc. Cryogenic probe station having movable chuck accomodating variable thickness probe cards
US5098204A (en) * 1989-11-03 1992-03-24 John H. Blanz Company, Inc. Load balanced planar bearing assembly especially for a cryogenic probe station
JPH09503448A (ja) * 1993-10-19 1997-04-08 グーストリイ、スチーヴン、エドワード 電磁空気式機械加工用ジグ
JP3247554B2 (ja) * 1994-07-19 2002-01-15 キヤノン株式会社 基板搬送装置およびこれを用いた露光装置
JPH08293459A (ja) * 1995-04-21 1996-11-05 Nikon Corp ステージ駆動制御方法及びその装置
JP3709896B2 (ja) * 1995-06-15 2005-10-26 株式会社ニコン ステージ装置
JPH0953640A (ja) * 1995-08-18 1997-02-25 Mitsutoyo Corp 静圧軸受装置
US5883703A (en) * 1996-02-08 1999-03-16 Megapanel Corporation Methods and apparatus for detecting and compensating for focus errors in a photolithography tool
US6315450B1 (en) * 1999-02-01 2001-11-13 Etec Systems, Inc. Diaphragm preload air bearing
US6271530B1 (en) * 1999-04-19 2001-08-07 Applied Materials, Inc. Apparatus for reducing distortion in fluid bearing surfaces
US6239863B1 (en) 1999-10-08 2001-05-29 Silicon Valley Group, Inc. Removable cover for protecting a reticle, system including and method of using the same
US6847434B2 (en) * 2000-02-10 2005-01-25 Asml Holding N.V. Method and apparatus for a pellicle frame with porous filtering inserts
US6507390B1 (en) 2000-02-10 2003-01-14 Asml Us, Inc. Method and apparatus for a reticle with purged pellicle-to-reticle gap
US6307619B1 (en) 2000-03-23 2001-10-23 Silicon Valley Group, Inc. Scanning framing blade apparatus
KR100597035B1 (ko) * 2001-03-01 2006-07-04 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 마스크핸들링방법, 마스크, 그를 위한 그리퍼를 포함하는기구 또는 장치, 디바이스 제조방법 및 그 디바이스
US6809793B1 (en) 2002-01-16 2004-10-26 Advanced Micro Devices, Inc. System and method to monitor reticle heating
US7304720B2 (en) * 2002-02-22 2007-12-04 Asml Holding N.V. System for using a two part cover for protecting a reticle
US6822731B1 (en) * 2003-06-18 2004-11-23 Asml Holding N.V. Method and apparatus for a pellicle frame with heightened bonding surfaces
US6862817B1 (en) 2003-11-12 2005-03-08 Asml Holding N.V. Method and apparatus for kinematic registration of a reticle
KR100568207B1 (ko) * 2004-02-13 2006-04-05 삼성전자주식회사 이송장치
US20060201848A1 (en) * 2005-03-14 2006-09-14 Ting-Yu Lin Method for reducing mask precipitation defects
US8029947B2 (en) 2005-09-01 2011-10-04 Micron Technology, Inc. Systems and methods for implementing and manufacturing reticles for use in photolithography tools
US8282281B2 (en) * 2007-02-14 2012-10-09 Integrated Dynamics Engineering Gmbh Air bearing with consideration of high-frequency resonances
JP4445528B2 (ja) * 2007-07-11 2010-04-07 住友重機械工業株式会社 静圧軸受
DE102022133619A1 (de) 2022-12-16 2024-06-27 Schaeffler Technologies AG & Co. KG Hydrodynamisches oder hydrostatisches Gleitlager

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1117095A (fr) * 1954-12-18 1956-05-16 Gendron Freres Sa Dispositif de graissage sous pression pour glissières ou analogues
CH415188A (de) * 1963-08-23 1966-06-15 Max Fehr C O Liberia Mining Co Magnetische Vorrichtung zum Festhalten und zum berührungslosen Verschieben zweier Teile an- bzw. relativ zueinander
GB1107721A (en) * 1963-12-18 1968-03-27 Mach Tool Industry Res Ass Improvements in or relating to fluid bearings
US3393648A (en) * 1965-12-28 1968-07-23 Optomechanisms Inc Air bearing table
US3476444A (en) * 1968-04-04 1969-11-04 James D Dunfee Hydrostatic bearing unit
US3722996A (en) * 1971-01-04 1973-03-27 Electromask Inc Optical pattern generator or repeating projector or the like
GB1393035A (en) * 1971-07-09 1975-05-07 Olivetti & Co Spa Precision measuring apparatus with aerostatic bearings
US4013280A (en) * 1976-08-09 1977-03-22 Anwar Chitayat Workpiece positioning table
DE3144120A1 (de) * 1981-11-06 1983-05-19 Ernst Leitz Wetzlar Gmbh, 6330 Wetzlar Schlittenmikrotom
JPS58116735A (ja) * 1981-12-29 1983-07-12 Canon Inc 投影焼付方法
EP0121829B1 (de) * 1983-03-30 1987-05-20 Wyler AG Wasserwaagen und Messwerkzeuge Lagerkörper für Luftlagerungen
US4643590A (en) * 1985-03-15 1987-02-17 Federal Products Corporation Guide system

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Publication number Publication date
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DE3787409T2 (de) 1994-01-13

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