JP2535705Y2 - 燃料噴射弁のアシストエア制御装置 - Google Patents

燃料噴射弁のアシストエア制御装置

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JP2535705Y2
JP2535705Y2 JP1991001173U JP117391U JP2535705Y2 JP 2535705 Y2 JP2535705 Y2 JP 2535705Y2 JP 1991001173 U JP1991001173 U JP 1991001173U JP 117391 U JP117391 U JP 117391U JP 2535705 Y2 JP2535705 Y2 JP 2535705Y2
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JP
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air
throttle valve
assist air
passage
fuel injection
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浩史 矢野
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Nissan Motor Co Ltd
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Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この考案は内燃機関用燃料噴射弁
のアシストエア制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、内燃機関用燃料噴射弁は、吸気
通路の吸気弁に近接した位置に設けられており、機関吸
入空気量及び機関回転数などの信号により計量された燃
料を吸気中に噴射混合させ、吸気弁の開弁と同時に気筒
内に吸入させてその燃焼により出力を得させしめてい
る。
【0003】ところで、燃料噴射弁による燃料の噴射の
際、アイドル等の低圧で噴射される場合の微粒化を補助
するために、噴射弁先端にアシストエアを導入する技術
は従来公知である(例えば、特公平2−549号又は特
公平1−9465号公報参照)。しかしこれら従来のも
のは、アシストエアを絞弁上流より導入しているため、
アイドル時より空気量が増加しアイドル回転数を上昇さ
せ、排気エミッション、燃費等の性能を悪化させるとい
う問題があった。
【0004】これに対し、アシストエアを絞弁下流より
導入しているものが、実開平2−67070号公報に開
示されており、このような構成とすることで、アシスト
エアが導入されても、気筒内に供給される空気量は、絞
弁で調量されたものに相当して増量されることはなく、
アシストエアを導入することによるアイドル回転数の上
昇が回避される。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】しかしながら、このも
のは、アシストエア導入通路の上流端が、絞弁下流のサ
ージタンクに開口しており、アシストエアがサージタン
クを介して気筒内に供給されるため、多気筒機関に上記
構成を適用した場合、バルブオーバラップやサージタン
クの容積、形状あるいはそれらの組合わせによって、特
にアイドル時において各気筒への空気量の分配が不均一
となって著しく悪化し、運転性の悪化を招くという問題
がある。
【0006】この考案は、アイドル回転数の上昇を生ず
ることなく、かつアイドル時の各気筒への空気分配性能
の向上を図ることにより、アイドル回転数の安定化を達
成することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】この考案は、前述の目的
を達成するため、内燃機関の吸気弁に近接して設けられ
た燃料噴射弁の先端にアシストエア導入通路の一端を開
口すると共に、前記アシストエア導入通路の他端を、一
端が絞弁の上流に、他端が前記開口位置と絞弁との間に
それぞれ連通して絞弁をバイパスするバイパス通路に設
けたアイドル調整手段の空気通路後流に開口してなるも
のである。
【0008】
【作用】絞弁開度は所定のアイドル回転数を維持するた
めに所定量に調節され、一方アイドル調整手段により調
整された空気は絞弁下流に供給されて前記調節された絞
弁を通過した空気とともに気筒内に供給される。ここ
で、アシストエア導入通路の上流開口は、アイドル調整
手段の空気通路後流にあるので、アシストエアは専らこ
の調整された空気を利用することになる。そして、この
後流位置開口は、絞弁の下流になるので、アイドル調整
用に余分に空気が流れたとしても、それは調整用のため
のものであり、専用のアシストエアとして絞弁上流から
流れることはない。
【0009】
【実施例】以下この考案の第1実施例を図1により説明
する。まず、構成を説明すると、内燃機関1は気筒4内
を上下に摺動するピストン10を有し、その運動をコン
ロッド11を介して図示せざるクランクシャフトにより
出力できるようになっている。ピストン10の上部に吸
気弁2及び排気弁3があり、図示省略のカム機構により
これらの弁が開閉して混合気を吸気通路5から吸入し、
燃焼後の排気を排気通路12から排出するようになって
いる。
【0010】吸気通路5の吸気弁2に近接したところに
燃料噴射弁9が配置され、燃料タンク13からの燃料を
図示省略のコントロールユニットにより制御されて噴射
するようになっている。吸気通路5の途中に絞弁6が設
けられ、その上流に空気流量計7及びエアクリーナ8が
設けられている。空気流量計7は機関1の吸入する空気
が吸気通路5を通して流れる際に、その流量を計量する
もので、その流量信号を機関回転数などの信号と共に前
述のコントロールユニットに送り噴射燃料量を制御する
役目をする。燃料噴射弁9の先端を囲むように、アシス
トエア導入通路14の一端が接続され、下流部としての
開口15を形成してある。アシストエア導入通路14の
他端、即ち上流部は、絞弁6の下流側の吸気通路5に設
けたアイドル調整手段としてのアイドル調整装置19の
空気通路後流の位置にあり、ここに開口16を形成して
ある。アシストエア導入通路14の中間部にエアポンプ
17が設けられている。このエアポンプ17は、燃料噴
霧の微粒化の必要時に作動すべく、絞弁6の開度I、機
関回転数II及び燃料噴射量(TP)III 又は加速、定
常、減速等の信号の入力を受けるコントローラ18によ
りデューティ制御方式にて回転制御されるようになって
いる。
【0011】前記アイドル調整装置19は、経時変化等
によりアイドル回転数が変化したとき、正規回転数に調
整するものであり、絞弁6の下流のこの弁部ユニット2
2と絞弁6の上流とを、絞弁6をバイパスするバイパス
通路となる第1バイパス23で接続し、弁部開孔量の変
化によりバイパス空気量を加減してアイドル回転数の調
整を行なうものである。なお、図中で符号20にて示す
ものは、アイドル制御装置(FICD)で、エアコン等
の使用時にその負荷増大に対処すべくアイドル回転数を
前述の第1バイパス23の共用により上昇制御する装置
である。21はエアレギュレータで、暖機等にジャケッ
ト24の水温が低い場合に第2バイパス25の弁26を
あけて(紙面に直角な面内で開口させる)バイパス空気
量を増やしアイドル回転数を上昇させ、水温上昇ととも
に閉じて正規のアイドル回転数に戻すようにするもので
ある。
【0012】次に前記実施例の作用を説明する。
【0013】内燃機関1の出力をアイドル(絞弁6の全
閉時)から上げるときは、絞弁6を開きその開度を大き
くする。すると、吸気通路5を通る空気の流量が増大す
るので、空気流量計7がそれを計算し、図示せざるコン
トロールユニットを介して燃料噴射弁9に出力しその噴
射量を増大させ、出力を上げる。絞弁6を元に戻せばア
イドルとなる。
【0014】又、経時変化又はエアコン使用時にはアイ
ドル調整装置19又はアイドル制御装置20の弁部ユニ
ット22に回転数低下又は負荷増大等の信号を入力する
事により自動的に又は手動的にアイドル回転数の調整が
行なわれる。
【0015】更に、暖機時にはエアレギュレータ21に
より、アイドル回転数が主として水温信号により上昇す
るように調整される。
【0016】ここで、通常運転状態におけるアイドル時
のように燃料噴射弁9の噴射量が少い場合には、霧化が
不充分となる事が想定される。その場合、この実施例で
は、例えばアイドル時にはコントローラ18に絞弁開度
I、機関回転数II及び燃料噴射量III のいずれもが小で
あるという信号が入力され、機関がアイドル状態にある
とみられるので、コントローラ18はエアポンプ17に
出力し、これを駆動する。この結果、アシストエアが上
流の開口16、導入通路14そして下流の開口15へと
流れるため、噴射弁9の噴射燃料にアシストエアが吹き
こまれ、その流速に応じた運動エネルギを燃料に与え噴
霧を微粒化し、燃焼を良好にする。
【0017】この場合、アシストエア導入通路14の上
流開口16は、アイドル調整装置19の空気通路後流に
あるので、アシストエアは専ら、この調整された空気を
利用することになる。そして、この後流位置開口16
は、絞弁6の下流になるので、機関アイドル調整用に余
分に流れた空気があるとしても、それは調整のためのも
のであり、アシスト専用として別段に絞弁6の上流から
流れることはない。このため、アイドル回転数の無用な
変化がなく従って燃費を少なくすることができ、更に燃
焼改善による排気エミッションの向上及び運転性の向上
を図ることができる。
【0018】なお、前記実施例において、エアポンプ1
7及びコントローラ18を廃止しても、開口16が上流
であるので、圧力ヘッドにより導入通路14には上流部
からアシストエアが流れ、下流部の開口15から吹出し
うるものである。
【0019】
【0020】図2はこの考案の第2実施例を示す。この
実施例は、アシストエア導入通路14bの上流開口16
bを、エアレギュレータ21の空気通路後流に設けたも
のであり、その他は前実施例と同様である。なお、ここ
では、エアレギュレータ21がアイドル調整手段を構成
し、第2バイパス25が絞弁6をバイパスするバイパス
通路を構成している。
【0021】また、図2ではエアポンプをアシストエア
導入通路14b中に設けていないものを示してあるが、
エアポンプを設けたものでも同様に適用できる。
【0022】本実施例でも、エアレギュレータ21の通
過空気、即ち暖機時に必要として絞弁6下流に供給され
る通過空気を、アシストエアとして使用するものであ
り、このため、上記通過空気をアシストエアとして使用
しても、無用なアイドルアップを生ずることはない。勿
論、燃料噴霧の微粒化も図られる。また、この実施例に
おいても、エアレギュレータ21で調整された空気のほ
とんどが、サージタンクを経ずにアシストエア導入通路
14bを経て気筒内に供給されるため、多気筒機関にて
各気筒へ供給される空気量の分配が改善され、アイドル
回転数の一層の安定化を可能にするとともに、吸気通路
5としては、アシストエア導入通路14bの接続口を設
ける必要がないので、アシストエア導入通路14bを設
けない従来のものを兼用でき、製造コストを抑えること
ができる。
【0023】
【考案の効果】この考案は、以上に説明したように、ア
イドル回転数の無用な上昇を生ずることなく、かつアイ
ドル時の空気分配の改善が図られることによるアイドル
回転数の安定化を達成して、燃料噴霧の微粒化を良好に
することができ、もって、燃焼状態の向上を図ることが
でき、排気エミッション及び燃費の改善効果を発揮させ
ることができる。また、アシストエア導入通路の上流端
がアイドル調整手段に接続されているので、吸気通路と
しては、アシストエア導入通路の接続口を設ける必要が
なく、アシストエア導入通路を設けない従来のものを兼
用でき、製造コストを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この考案の第1実施例を示す断面図である。
【図2】この考案の第2実施例を示す断面図である。
【符号の説明】
2 吸気弁 5 吸気通路 6 絞弁 7 空気流量計 9 燃料噴射弁 13 燃料タンク 14 アシストエア導入通路 15 開口(下流部) 16 開口(上流部) 17 エアポンプ 18 コントローラ 19 アイドル調整装置 20 アイドル制御装置(FICD) 21 エアレギュレータ 23 第1バイパス 25 第2バイパス

Claims (1)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内燃機関の吸気弁に近接して設けられた
    燃料噴射弁の先端にアシストエア導入通路の一端を開口
    すると共に、前記アシストエア導入通路の他端を、一端
    が絞弁の上流に、他端が前記開口位置と絞弁との間にそ
    れぞれ連通して絞弁をバイパスするバイパス通路に設け
    たアイドル調整手段の空気通路後流に開口してなる燃料
    噴射弁のアシストエア制御装置。
JP1991001173U 1991-01-18 1991-01-18 燃料噴射弁のアシストエア制御装置 Expired - Lifetime JP2535705Y2 (ja)

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JPH0495663U JPH0495663U (ja) 1992-08-19
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