JP2024036245A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 装置全体の排気量の調整を容易にした基板処理装置を提供する【解決手段】 基板処理装置は、基板Ｗに処理液を供給するノズル３１０と、基板Ｗの上方の供給位置と基板Ｗの外方の待機位置との間でノズル３１０を移動させる移動部と、待機位置に位置し、ノズル３１０を収容するノズル収容器５００と、基板Ｗに処理液が供給される処理空間内の気体を排気装置Ｘ１に導く第１の排出流路と、ノズル収容器内の気体を第１の排出流路に導く第２の排出流路とを備える。【選択図】図４

Description

本発明は、基板処理装置に関し、特に処理液を用いて基板を処理する基板処理装置に関する。

従来基板処理装置として、現像液等の処理液を用いて感光性膜の現像処理を行う現像装置がある。現像液が強い臭気を有する場合、現像液を含む雰囲気が現像装置の外部に漏れ出ると、現像装置の外部の環境の快適性が低下する。そのため、現像装置内の現像液を含む雰囲気の漏洩を抑制する要求がある。

例えば、特開２０１７－０９２２４０号公報（特許文献１）に記載の現像装置においては、現像液を吐出するノズル、基板を処理する処理室と待機ポッドとを有する。ノズルは、処理室内の基板の上方の処理位置と待機ポッドに収容される待機位置の間で移動可能に構成される。ノズルからは処理室と待機ポッドそれぞれにおいて、ノズルから処理液が吐出される。このため、処理室および待機ポッドそれぞれに排気流路が設けられる。

特開２０１７－０９２２４０号公報

しかしながら、特許文献１に記載の現像装置においては、処理室および待機ポッドそれぞれに排気流路が設けられるので、処理室内の気体の排出量および待機ポッド内の気体の排出量を別個に管理しなければならない。このため、現像装置全体の排気量を調整する制御が困難であるといった問題がある。

本発明の目的は、装置全体の排気量の調整を容易にした基板処理装置を提供することである。

一態様に係る基板処理装置は、基板に処理液を供給するノズルと、基板の上方の供給位置と基板の外方の待機位置との間でノズルを移動させる移動部と、待機位置に位置し、ノズルを収容するノズル収容器と、基板に処理液が供給される処理空間内の気体を排気装置に導く第１の排出流路と、ノズル収容器内の気体を第１の排出流路に導く第２の排出流路とを備える。

本発明によれば、装置全体の排気量の調整を容易にすることができる。

本発明の一実施の形態に係る現像装置の概略構成を説明するための模式的斜視図である。 液処理ユニットの一部の構成を説明するための模式的断面図である。 排気ダクトの構成を説明するための平面図である。 液処理ユニットの構成を説明するための斜視図である。 複数のノズルが待機位置に位置する状態における液処理ユニットの構成を説明するための斜視図である。 排気流路の全体を模式的に示す斜視図である。 排気流路の流量調整部の拡大図である。 流量調整筐体の透視図である。 第２の方向から見たノズル収容器および流量調整筐体の断面図である。 上方から見たノズル収容器の一部および流量調整筐体の断面図である。 他の実施の形態に係るノズル収容器の構成を示す模式的断面図である。

以下、本発明の実施の形態に係る基板処理装置について図面を参照しつつ説明する。以下の説明において、基板とは、液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等をいう。

基板処理装置の一例として、現像装置を説明する。本実施の形態において現像処理の対象となる基板は、主面および裏面を有する。また、本実施の形態に係る現像装置においては、基板の主面が上方に向けられ、基板の裏面が下方に向けられた状態で、基板の裏面（下面）が保持され、基板の主面（上面）に現像処理が行われる。

基板の主面の少なくとも中央部には露光処理後の感光性膜が形成されている。この感光性膜は、例えばネガ型の感光性ポリイミド膜である。露光されたネガ型の感光性ポリイミド膜を溶解する現像液として、シクロヘキサノンまたはシクロペンタノン等を含む有機溶剤が用いられる。また、リンス液として、イソプロピルアルコールまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等を含む有機溶剤が用いられる。

なお、本実施の形態において、「基板の現像処理」とは、基板の主面に形成された露光処理後の感光性膜に現像液を供給することにより、その感光性膜の一部を溶解することを意味する。

（１）現像装置の構成
図１は、本発明の一実施の形態に係る現像装置の概略構成を説明するための模式的斜視図である。図１に示すように、現像装置１は、基本的に筐体ＣＡ内に２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢが収容された構成を有する。図１では、２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの概略形状が点線で示される。液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの構成の詳細については後述する。

筐体ＣＡは、水平面内で一方向に延びる略直方体の箱形状を有する。具体的には、筐体ＣＡは、第１の側壁板１ｗ、第２の側壁板２ｗ、第３の側壁板３ｗ、第４の側壁板４ｗ、床板５ｗおよび天井板６ｗが図示しないフレームに取り付けられることにより形成される。以下の説明では、水平面内で筐体ＣＡが延びる方向に平行な方向を適宜第１の方向Ｄ１と呼び、水平面内で第１の方向Ｄ１に直交する方向を適宜第２の方向Ｄ２と呼ぶ。２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢは、筐体ＣＡ内で第１の方向Ｄ１に並ぶように床板５ｗ上に配置されている。

第１および第２の側壁板１ｗ，２ｗは、矩形の板形状を有し、上下方向および第１の方向Ｄ１に平行でかつ互いに対向するように設けられている。第３および第４の側壁板３ｗ，４ｗは、矩形の板形状を有し、上下方向および第２の方向Ｄ２に平行でかつ互いに対向するように設けられている。

第２の側壁板２ｗには、筐体ＣＡの内部と筐体ＣＡの外部との間で基板を搬送するための２つの搬入搬出口ｐｈが形成されている。２つの搬入搬出口ｐｈは、第２の側壁板２ｗのうち第２の方向Ｄ２において液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに対向する２つの部分にそれぞれ形成されている。天井板６ｗには、第１の方向Ｄ１に並ぶように、２つの開口ｏｐ１が形成されている。天井板６ｗにおける２つの開口ｏｐ１の開口率は、筐体ＣＡの上端全体が上方に開放されている状態と同じ程度に十分に大きく設定されている。

天井板６ｗの２つの開口ｏｐ１をそれぞれ塞ぐように、天井板６ｗの上方に２つのフィルタＦＬが設けられている。なお、２つのフィルタＦＬは、天井板６ｗの直下に設けられてもよい。図１では、２つのフィルタＦＬが太い一点鎖線で示される。２つのフィルタＦＬは、例えばＵＬＰＡ（Ultra Low Penetration Air）フィルタであり、筐体ＣＡを構成する図示しないフレームまたは天井板６ｗに取り付けられている。筐体ＣＡの天井板６ｗ上には、２つのフィルタＦＬを取り囲むように空気ガイドＡＧが設けられている。図１では、空気ガイドＡＧが二点鎖線で示される。

筐体ＣＡは、メンテナンス空間ＭＳＰと隣接する。メンテナンス空間ＭＳＰは、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢを含む内部空間ＳＰと第１の側壁板１ｗを挟んで反対側に位置する。メンテナンス空間ＭＳＰは、内部空間ＳＰと第２の方向Ｄ２において隣り合う。このため現像装置１のメンテナンス時に使用者または点検者がメンテナンス空間ＭＳＰ側から内部空間ＳＰにアクセス可能である。第１の側壁板１ｗは、メンテナンス空間ＭＳＰ側から容易に取り外し可能に構成されている。

筐体ＣＡの外部には、気体供給部１０が設けられている。気体供給部１０は、例えばエアーコントロールユニットであり、現像装置１の電源がオンされている間、予め定められた条件を満たすように温度および湿度等の空気の状態を調整する。また、気体供給部１０は、状態が調整された空気をダクトＤＵを通して空気ガイドＡＧに供給する。この場合、空気ガイドＡＧは、気体供給部１０から供給された空気を、２つのフィルタＦＬを通して天井板６ｗの２つの開口ｏｐ１に導く。それにより、温度および湿度等が調整された清浄な空気が筐体ＣＡ内に供給され、筐体ＣＡの内部空間ＳＰの全体に下降気流が発生する。

筐体ＣＡの外部には、気体供給部１１ａおよび現像液供給部１１ｂおよびリンス液供給部１１ｃが設けられている。図１においては、気体供給部１１ａ、現像液供給部１１ｂおよびリンス液供給部１１ｃが液処理ユニットＬＰＢに接続される例が示されているが、液処理ユニットＬＰＡについても、別の気体供給部１１ａ、現像液供給部１１ｂおよびリンス液供給部１１ｃが接続されている。気体供給部１１ａは、気体供給源を含む。それにより、気体供給経路１２ａを通して液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに気体が供給される。現像液供給部１１ｂは、現像液供給源を含む。それにより、現像液供給経路１２ｂを通して液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに現像液が供給される。リンス液供給部１１ｃは、リンス液供給源を含む。それにより、リンス液供給経路１２ｃを通して液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢにリンス液が供給される。図１では、気体供給経路１２ａ、現像液供給経路１２ｂおよびリンス液供給経路１２ｃが一点鎖線で示される。なお、本実施の形態において、気体供給経路１２ａ、現像液供給経路１２ｂおよびリンス液供給経路１２ｃは、１または複数の配管およびバルブ等により構成される。

（２）液処理ユニットの構成
図１の２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢは、一部の構成要素が第１の方向Ｄ１に直交する面（鉛直面）を基準として互いに対称となるように設けられる点を除いて、基本的に同じ構成を有する。したがって、以下の説明では特に言及しない限り２つの液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢを代表して液処理ユニットＬＰＢの構成を説明する。

図２は、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの一部の構成を説明するための模式的断面図である。図２に示すように、液処理ユニットＬＰＢは、区画板１００、筒部材２００、カップ４０、収容器５０および排気ダクト２０を含む。

筐体ＣＡ内では、収容器５０が床板５ｗ上に固定される。収容器５０は、側壁部５１および底部５２を含む。側壁部５１は、円環形状の水平断面を有し、一定の内径および一定の外径で上下方向に延びるように形成されている。底部５２は、側壁部５１の下端を閉塞するように形成されている。

底部５２には、３つの貫通孔が形成されている。３つの貫通孔のうち２つの貫通孔の形成部分の各々に排気管６１が接続されている。排気管６１の上端（開口端）は底部５２よりも上方に位置する。排気管６１の下端は、筐体ＣＡ内の雰囲気を、筐体ＣＡの外部に設けられる図示しない排気装置Ｘ１に導くための排気ダクト２０に接続されている。排気ダクト２０は、収容器５０の底部５２の下方に位置する。排気ダクト２０の詳細については、後述する。

また、底部５２には、底部５２に形成された３つの貫通孔のうち他の１つの貫通孔の形成部分に排液管６２がさらに接続されている。排液管６２は、基板Ｗの現像処理時に、カップ４０から収容器５０の底部に流れる液体（現像液およびリンス液）を筐体ＣＡの外部に設けられる図示しない排液装置に導く。収容器５０において、排液管６２の端部（開口端）は、底部５２の上面と同じ高さ位置し、排気管６１の端部よりも下方に位置する。

各液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢにおいては、スピンモータ７２の下部は収容器５０の底部５２よりも下方に突出している。そのため、底部５２には、スピンモータ７２の下部を収容するための円形状の開口が形成されている。これにより、スピンモータ７２と底部５２とが干渉することが防止される。

収容器５０内には、基板保持装置７０の少なくとも一部が収容される。具体的には、基板保持装置７０は、吸着保持部７１、スピンモータ７２およびモータカバー７９を含む。スピンモータ７２は、平面視で収容器５０の中央に位置するように底部５２上に固定されている。スピンモータ７２には、上方に向かって延びるように回転軸７３が設けられている。回転軸７３の上端に吸着保持部７１が設けられている。吸着保持部７１は、収容器５０の上端よりも上方に突出している。

収容器５０の外部には、図示しない吸引装置が設けられている。吸着保持部７１は、吸引装置が動作することにより基板Ｗの裏面中央部を吸着可能に構成されている。吸着保持部７１が基板Ｗの裏面中央部を吸着することにより、基板Ｗが収容器５０の上方の位置で水平姿勢で保持される。また、基板Ｗが吸着保持部７１により吸着保持された状態でスピンモータ７２が動作することにより、基板Ｗが水平姿勢で回転する。

モータカバー７９は、略椀形状を有し、開放された径大部分が下方を向くように収容器５０に固定されている。モータカバー７９は、そのモータカバー７９の上端中央部の貫通孔に回転軸７３が挿入された状態で、回転軸７３を除くスピンモータ７２の上端部分と水平面内でスピンモータ７２を取り囲む一定幅の空間とを上方から覆っている。モータカバー７９の外周端部と側壁部５１の内周面との間には、一定幅の隙間が形成されている。

ここで、上記の排気管６１の上端部は、平面視でモータカバー７９の内側に位置し、側面視でモータカバー７９の下端よりも上方に位置する。それにより、基板Ｗの現像処理時に、収容器５０の上方から落下する液体（現像液およびリンス液）が排気管６１の内部に進入することが防止される。

収容器５０内には、基板保持装置７０の一部に加えて、カップ４０の少なくとも下端が収容される。ここで、カップ４０は、収容器５０内で上下方向に移動可能に構成されている。また、カップ４０は、筒状壁部４１および液受け部４２を含む。筒状壁部４１および液受け部４２の各々は、円環形状の水平断面を有し、少なくとも上下方向に延びるように設けられている。カップ４０は、平面視で基板保持装置７０を取り囲むように構成されている。

液受け部４２の外径および内径は、液受け部４２の上端から下方に向かうにつれて漸次拡大されている。液受け部４２の下端の外径（液受け部４２の最大外径）は、収容器５０の側壁部５１の内径よりも小さい。そのため、液受け部４２の外周端部と側壁部５１の内周面との間には、一定幅の隙間が形成されている。筒状壁部４１は、一定の内径および一定の外径で、液受け部４２の上端から上方に向かって延びるように形成されている。

筒部材２００は、円筒形状を有し、図示しないブラケットを介して筐体ＣＡの一部に固定されている。筒部材２００の内径は、カップ４０の筒状壁部４１の外径よりも大きい。区画板１００は、略円板形状を有し、筒部材２００の上端部近傍でかつ筒部材２００の内周面全体に接するように、筒部材２００に取り付けられている。区画板１００の略中央部には、第１の方向Ｄ１に延びる長方形のノズル開口１１０が形成されている。ノズル開口１１０は、基板Ｗの現像処理時に、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの中央部分に対向する。区画板１００には、複数の貫通孔（図示せず）がノズル開口１１０を除く区画板１００の全体に渡って分散するように形成されている。

筐体ＣＡ内で収容器５０の近傍には昇降駆動部（図示せず）が設けられている。昇降駆動部は、モータまたはエアシリンダ等の駆動機構を含み、カップ４０を支持するとともにカップ４０を上下動させることにより、カップ４０を第１の状態と第２の状態とに移行させる。ここで、第１の状態とは、カップ４０が収容器５０の内部の位置まで下降した状態である。第２の状態とは、カップ４０の上端が筒部材２００の下端よりも上方の位置まで上昇した状態である（図２の状態）。

現像装置１においては、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢに対する基板Ｗの搬入搬出時に、カップ４０が第１の状態で維持される。それにより、現像装置１の外部から搬入される基板Ｗを液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸着保持部７１上に載置することができる。また、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの吸着保持部７１上に載置された基板Ｗを取り出し、現像装置１の外部に搬出することができる。

カップ４０が第２の状態においてカップ４０の液受け部４２の内周面は、基板保持装置７０により保持される基板Ｗを水平面内で取り囲む。それにより、基板Ｗの現像処理時に複数のノズル３１０から基板Ｗに供給される現像液およびリンス液の大部分は、液受け部４２の内周面により受け止められて、収容器５０へ導かれる。

一方、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの現像処理時に、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの各々において、カップ４０が第２の状態で維持されカバー部材３３０が区画板１００のノズル開口１１０を覆う。それにより、筐体ＣＡの内部空間ＳＰが、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢの区画板１００、筒部材２００、カバー部材３３０、カップ４０および収容器５０により、処理空間ＳＰａと非処理空間ＳＰｂとに区画される。処理空間ＳＰａは基板保持装置７０により保持される基板Ｗを含む空間であり、非処理空間ＳＰｂは処理空間ＳＰａを取り囲む空間である。処理空間ＳＰａは、複数のノズル３１０から基板Ｗに処理液を供給するための空間である。

図３は、排気ダクト２０の構成を説明するための平面図である。図３には、液処理ユニットＬＰＢのカップ４０、収容器５０およびスピンモータ７２の外縁が点線で示されている。図３に示すように、排気ダクト２０は、排気管路部２１～２５を含み、カップ４０内の気体を排出するための排気流路を形成する。

排気管路部２１は、第１の方向Ｄ１に延び、スピンモータ７２から第２の方向Ｄ２方向に離間した位置に設けられる。排気管路部２２と排気管路部２３とは、第２の方向Ｄ２に延び、スピンモータ７２を挟んで対向するように設けられる。排気管路部２２の下流端部は、排気管路部２１の上流端部に接続される。排気管路部２２の下流端部は、排気管路部２１の上流端部と下流端部との間に接続される。排気管路部２２，２３の上流端部の上面には、長円形状の開口２２ａ，２３ａがそれぞれ形成される。開口２２ａ，２３ａには、２つの排気管６１（図２）の下端部がそれぞれ接続される。

排気管路部２４は、第２の方向Ｄ２に延びる。排気管路部２４の上流端部は、排気管路部２１の下流端部に接続される。排気管路部２１の下流端部と排気管路部２４の上流端部との接続部分は、所定の角度（本例では９０度）で屈曲する。排気管路部２５は、第１の方向Ｄ１に延びる。排気管路部２５の上流端部は、排気管路部２４の下流端部に接続される。排気管路部２５の上流端部と排気管路部２４の下流端部との接続部分は、所定の角度（本例では９０度）で屈曲する。排気管路部２５の下流端部は、現像装置１の外部の排気装置Ｘ１に接続される。排気管路部２５の下流端部の上面には、後述する排気管５４０が接続されている。

上記の接続によれば、２つの排気管６１から排出された気体は、開口２２ａ，開口２３ａを通して排気管路部２２，２３に導入される。排気管路部２２，２３に導入された排気は、図３に太い一点鎖線で示すように、排気管路部２１，２４，２５を通して上流から下流に流れる。本実施の形態において、排気装置Ｘ１は、現像装置１の運転中に常時稼働するように構成されている。そのため、収容器５０内の気体は、現像装置１の運転中に常時排気装置Ｘ１に導かれる。

排気ダクト２０は、スピンモータ７２の第２の方向Ｄ２の反対方向側に排気管路部が配置されないので、スピンモータ７２に干渉することなく、第２の方向Ｄ２にスライド可能である。このため、使用者は、排気ダクト２０をメンテナンス空間ＭＳＰ側にスライドさせることにより、現像装置１の筐体ＣＡ内から取り外すことができる。

図４は、液処理ユニットＬＰＢの構成を説明するための斜視図である。図４に示すように、図１の筐体ＣＡ内では、ノズル駆動部４００が第１の方向Ｄ１において収容器５０に隣り合うように設けられている。ノズル駆動部４００は、回転軸４０１を有するモータとアクチュエータとを含む。アクチュエータは、エアシリンダ、液圧シリンダまたはモータ等を含み、回転軸４０１を有するモータが上下方向に移動可能となるように、当該モータを床板５ｗ（図１）上に支持する。回転軸４０１は、ノズル駆動部４００の上端部に位置する。

図１の筐体ＣＡ内では、床板５ｗ（図１）上にノズル収容器５００がさらに設けられている。ノズル駆動部４００およびノズル収容器５００は、収容器５０の側方の位置で間隔をおいて第２の方向Ｄ２に並ぶ。ノズル収容器５００は、第２の方向Ｄ２に一定長さ延びる箱形状を有する。ノズル収容器５００の上面には、後述する複数のノズル３１０を収容するための複数の待機孔５１０が形成されている。

ノズル駆動部４００の回転軸４０１の上端部に、ノズルアームユニット３００が取り付けられている。ノズルアームユニット３００は、回転軸４０１の上端部に取り付けられた状態で、回転軸４０１とは異なる方向に直線状に延びる長手形状を有する。

ノズルアームユニット３００は、主として、複数（本例では６個）のノズル３１０、支持体３２０およびカバー部材３３０から構成される。本実施の形態において、ノズル３１０は、基板Ｗに現像液を供給するための３つの現像液用ノズルおよび基板Ｗにリンス液を供給するための３つのリンス液用ノズルを含む。ノズルアームユニット３００においては、３つの現像液用ノズルが所定間隔で配置され、３つのリンス液用ノズルが所定間隔で配置される。現像液用ノズルおよびリンス液用ノズルは、液体および気体の混合液を噴射可能な二流体ノズルにより構成される。それにより、現像液用ノズルから現像液および気体の混合液が噴射され、リンス液用ノズルからリンス液および気体の混合液が噴射される。

ノズル駆動部４００のモータが上下方向に移動すると、ノズルアームユニット３００は上下方向に移動する。また、ノズル駆動部４００のモータが動作すると、ノズルアームユニット３００は回転軸４０１を中心として水平面内で回転する。本実施の形態では、図４に示すように、ノズルアームユニット３００の複数のノズル３１０は、基板Ｗに対する現像処理が行われる間、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの上方の処理位置Ｐ２で保持される。図４においては、複数のノズル３１０が処理位置Ｐ２に位置する状態が示される。なお、図４には、待機位置Ｐ１および処理位置Ｐ２がそれぞれ白抜きの矢印で示されている。

図５は、複数のノズル３１０が待機位置に位置する状態における液処理ユニットＬＰＢの構成を説明するための斜視図である。図５に示すように、ノズルアームユニット３００の複数のノズル３１０は、基板Ｗに対する現像処理が行われない間、基板保持装置７０により保持される基板Ｗの側方の待機位置Ｐ１で保持される。なお、図５には、待機位置Ｐ１および処理位置Ｐ２がそれぞれ白抜きの矢印で示されている。ノズル３１０が待機位置Ｐ１で保持されている間、ノズル３１０がノズル収容器５００の待機孔５１０に収容される。本実施の形態においては、ノズル３１０内に滞留する液体を吐出する動作が行われる。

ノズル収容器５００には、ノズルアームユニット３００が待機位置Ｐ１に位置する状態において、複数のノズル３１０から噴射された液体または落下した液体を筐体ＣＡの外部に排出する排液管（図示せず）が接続されている。また、ノズル収容器５００には、当該ノズル収容器５００内部の雰囲気を筐体ＣＡの外部に排出するための排気流路５２０が接続されている。

図６は、排気流路５２０の全体を模式的に示す斜視図である。排気流路５２０は、流量調整部５３０および排気管５４０を含む。排気流路５２０は、ノズル収容器５００内の気体が排気ダクト２０を介して排気装置Ｘ１に導かれるように構成される。図６には、排気流路５２０内の気体の流れが点線矢印で示される。

流量調整部５３０は、ノズル収容器５００の側壁５０１に取り付けられる。排気管５４０は、部分管５４０ａ～５４０ｅを含む。部分管５４０ａの上流端は、流量調整部５３０に接続される。部分管５４０ａは、上流端から下方に延びる。部分管５４０ａの下流端には、部分管５４０ｂの上流端が接続される。部分管５４０ｂは、上流端から第２の方向Ｄ２に平行に延びる。部分管５４０ｂの下流端には、部分管５４０ｃの上流端が接続される。部分管５４０ｃは、上流端から上方に排気管路部２５の上方まで延びる。部分管５４０ｃの下流端には、部分管５４０ｄの上流端が接続される。

部分管５４０ｄは、平面視で排気管路部２５と重なる位置まで水平方に延びる。部分管５４０ｄの下流端には、部分管５４０ｅが接続される。部分管５４０ｅは、部分管５４０ｄの下流端から下方に延び、前述した排気管路部２５の上面に接続される。部分管５４０ｅが排気管路部２５の上面に接続されているので、使用者または点検者は、部分管５４０ｅを排気管路部２５から取り外す際に、排気管路部２５の上方から部分管５４０ｅにアクセスできるので、作業が容易である。

図７は、排気流路の流量調整部の拡大図である。図７に示すように、流量調整部５３０は、流量調整筐体５３１を備える。流量調整筐体５３１は、ノズル収容器５００の側壁５０１に接続される。流量調整筐体５３１は、第２の方向Ｄ２に延びる箱形状を有する。

流量調整筐体５３１の第２の方向Ｄ２側の側面に操作部５３４が設けられる。操作部５３４は、前述したメンテナンス空間ＭＳＰ（図１）に向く。このため、使用者または点検者は、操作部５３４に容易にアクセスすることができる。

図８は、流量調整筐体の透視図である。図８に示されるように、ノズル収容器５００の側壁５０１には、ノズル収容器５００内の空間ＳＰ２と流量調整筐体５３１の空間ＳＰ１とが連通するように、開口部ＯＰ２が形成されている。開口部ＯＰ２の断面積は、Ｓ２に設定される。

流量調整筐体５３１の底部には排気管５４０に繋がる開口部ＯＰ３が形成されている。流量調整筐体５３１は、空間ＳＰ１内に回転軸５３２と一対の遮蔽板５３３とが設けられる。回転軸５３２は、第２の方向Ｄ２に平行に延びる円柱形状であり、第２の方向Ｄ２に平行な回転軸ＡＸの周りで回転可能に流量調整筐体５３１の側壁５３１ａで支持される。また、回転軸５３２は、流量調整筐体５３１の側壁５３１ａを貫通するように設けられる。一対の遮蔽板（調整板）５３３、平板形状であり、回転軸５３２から外方に互いに反対方向に延びるように回転軸５３２に固定されている。

回転軸５３２のＤ２方向側の端部は操作部５３４と接続される。操作部５３４は、ガイド部材５３４ａ、突起部材５３４ｂおよび固定部材５３４ｃを含む。ガイド部材５３４ａおよび突起部材５３４ｂは、回転軸５３２と一体的に回転可能に回転軸５３２の一端５３２ａに接続される。固定部材５３４ｃは、流量調整筐体５３１に形成されたネジ穴にねじ込まれるネジである。

ガイド部材５３４ａには、ガイド孔ＧＨが形成される。ガイド孔ＧＨは、回転軸５３２の回転範囲を規制するために回転軸ＡＸの同心円弧状に形成されている。固定部材５３４ｃは、ガイド孔ＧＨを通って、流量調整筐体５３１のネジ穴にねじ込まれる。固定部材５３４ｃが流量調整筐体５３１のネジ穴に最後までねじ込まれて固定されると、固定部材５３４ｃと流量調整筐体５３１との間でガイド部材５３４ａが固定される。この状態において、回転軸５３２が自由に回転することはできないので、回転軸５３２の回転位置が固定される。

一方、固定部材５３４ｃが最後までネジ込まれずにネジ込み量が少ない場合、固定部材５３４ｃと流量調整筐体５３１との間でガイド部材５３４ａが固定されない。すなわち、回転軸５３２が自由に回転可能な状態である。使用者または点検者は、突起部材５３４ｂを操作して、回転軸５３２の回転位置を変更することができる。

図９は、第２の方向Ｄ２から見たノズル収容器および流量調整筐体の断面図である。なお、図９には、ノズル収容器５００の待機孔５１０に収容される状態のノズル３１０が図示されている。回転軸５３２が回転軸ＡＸ中心に矢印ａ１の方向に回転させると、図９に実線で示すように、遮蔽板５３３が上下方向に平行になる。図９に実線で示される遮蔽板５３３の位置は、固定部材５３４ｃがガイド孔ＧＨの他端ＧＨ２（図８参照）に位置する場合である。

回転軸５３２が回転軸ＡＸ中心に矢印ａ２の方向に回転させると、図９に点線で示すように、遮蔽板５３３が第１の方向Ｄ１に平行になる。図９に点線で示される遮蔽板５３３の位置は、固定部材５３４ｃがガイド孔ＧＨの他端ＧＨ１（図８参照）に位置する場合である。流量調整筐体５３１の空間ＳＰ１において、遮蔽板５３３は、開口部ＯＰ２と開口部ＯＰ３との間に配置される。このため、回転軸５３２の回転角度が変更されると、開口部ＯＰ２から開口部ＯＰ３までの流路の断面積が変更する。開口部ＯＰ２から開口部ＯＰ３までを結ぶ流路の断面積は、回転軸５３２の回転角度に応じて定まる。

遮蔽板５３３が第１の方向Ｄ１に平行の場合、開口部ＯＰ２から開口部ＯＰ３までを結ぶ流路の断面積が最小となる。一方、遮蔽板５３３が上下方向に平行の場合、開口部ＯＰ２から開口部ＯＰ３までを結ぶ流路の断面積が最大となる。

このように、ノズル収容器５００の空間ＳＰ２から流量調整筐体５３１の空間ＳＰ１に導かれた気体の量は、回転軸５３２の回転角度によって調整することができる。換言すれば、図８のガイド部材５３４ａおよび突起部材５３４ｂの位置を調整することにより、ノズル収容器５００の空間ＳＰ２から排気管５４０に導かれる気体の流量を調整することが可能になる。ガイド部材５３４ａと固定部材５３４ｃとの相対的な位置は、回転軸５３２の回転角度を示すので、使用者または点検者は、ガイド部材５３４ａと固定部材５３４ｃとの相対的な位置に基づいて、回転軸５３２の回転角度、換言すれば、開口部ＯＰ２から開口部ＯＰ３までの流路の断面積を、確認することができる。

ノズル収容器５００の空間ＳＰ２においては、側壁５０１の開口部ＯＰ２に対向する位置に開口部ＯＰ２を覆うように流路形成部材５０３が配置される。

流路形成部材５０３の上端５０３ａは、ノズル収容器５００の天板５０２の内面に固定される。流路形成部材５０３は、ノズル収容器５００の天板５０２からノズル収容器５００の開口部ＯＰ２およびノズル収容器５００に収容された状態のノズル３１０の下端よりも下方の位置まで延びるように形成される。それにより、ノズル３１０から吐出されたミスト状の処理液が流量調整部５３０および排気管５４０に進入することが抑制される。また、流路空間ＦＳ１において気体導入口ＧＩ１が、下方に向く。現像液を含んだ気体は空気より重いので、ノズル収容器５００の空間ＳＰ２内の下方に蓄積される。このため、現像液を含んだ気体を効率的に排出することができる。

図１０は、上方から見たノズル収容器の一部および流量調整筐体の断面図である。流路形成部材５０３は、例えば、一枚の平板状の部材一枚の金属板を適宜折り曲げ加工することにより作製される。図１０に示されるように、流路形成部材５０３は、中央部５０３ｄ、中央部の両端に繋がる端部５０３ｂ，５０３ｃを有する。端部５０３ｂ、５０３ｃは、中央部５０３ｄの両端それぞれから中央部５０３ｄに交差する（本例では、９０度）ように接続される。流路形成部材５０３の端部５０３ｂ，５０３ｃは、ノズル収容器５００の側壁５０１の内面に固定される。流路形成部材５０３の中央部５０３ｄは、開口部ＯＰ２が形成される側壁５０１の内面から間隔Ｉ１離間する。

流路形成部材５０３は、ノズル収容器５００の空間ＳＰ２を、流路空間ＦＳ１とその他の空間とに区画する。流路空間ＦＳ１は、上流端に相当する気体導入口ＧＩ１で空間ＳＰ２のその他の空間と連通し、下流端に相当する開口部ＯＰ２で流量調整筐体５３１の空間ＳＰ１と連通する。気体導入口ＧＩ１の断面積が開口部ＯＰ２の断面積Ｓ２より小さくなるように設定されるのが好ましい。この場合、気体導入口ＧＩ１における流速を開口部ＯＰ２における流速よりも大きくできる。それにより、ノズル収容器５００の空間ＳＰ２の気体の吸引効率を向上させることが可能になる。また、流路空間ＦＳ１において気体導入口ＧＩ１が下方を向くので、現像液を含んだ気体を効率的に排出することができる。

（３）実施の形態の効果
上記実施の形態の現像装置１によれば、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢ内の雰囲気が排気ダクト２０を通って排気装置Ｘ１に導かれる。また、ノズル収容器５００の空間ＳＰ２内の雰囲気が排気管５４０および排気ダクト２０を通って排気装置Ｘ１に導かれる。このため、単一の排気装置Ｘ１を用いて液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢ内の雰囲気およびノズル収容器５００の空間ＳＰ２内の雰囲気を現像装置１の外部に排出すること可能になる。その結果、装置全体の排気量の調整を容易にすることが可能になる。また、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢおよびノズル収容器５００ごとに独立した排気装置を儲ける必要がないので、装置が大型化が抑制される。

また、ノズル収容器５００の空間ＳＰ２内の雰囲気を排出するための排気流路５２０に流量調整部５３０が設けられる。それにより、排気流路５２０を流れる雰囲気の排出量が調整される。単一の排気装置Ｘ１により、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢおよびノズル収容器５００の雰囲気の排出量が制限される場合、ノズル収容器５００の雰囲気の排出量を調整することができる。それにより、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢ内の雰囲気を排出するために必要な流量を確保することができる。その結果、筐体ＣＡの内部空間ＳＰへの雰囲気の漏洩がさらに抑制される。

（４）他の実施の形態
上記実施の形態において、流量調整部５３０は、ノズル収容器５００と排気管５４０との間に位置するように設けられるが、本発明はこれに限定されない。例えば、流量調整部５３０は、ノズル収容器５００の空間ＳＰ２内の雰囲気を排気装置Ｘ１に導くための排気管５４０に介挿されるように設けられてもよい。また、流量調整部５３０として、コントロールバルブ等の流量調整弁が用いられてもよい。

上記実施の形態において、使用者が流量調整部５３０の操作部５３４を操作することにより、排気流路５２０の気体の流量が調整されるが、本発明はこれに限定されない。例えば、排気流路５２０の気体の流量が自動的に調整されるように構成されてもよい。

上記実施の形態の図９において、流路形成部材５０３が天板５０２および側壁５０１に接続されることにより、側壁５０１、天板５０２および流路形成部材５０３により流路空間ＦＳ１が形成されるが本発明はこれに限定されない。図１１は、他の実施の形態に係るノズル収容器５００の構成を示す模式的断面図である。図１１に示すように、流路形成部材５０３は、平板形状であり、図示しない支持部材により支持されてもよい。例えば、流路形成部材５０３は、側壁５０１から延びる支持部材により側壁５０１に固定されてもよい。側壁５０１および流路形成部材５０３の間隔Ｉ１は、側壁５０１と流路形成部材５０３との間に流入する気体の断面積が開口部ＯＰ２の断面積より小さくなるように設定されてもよい。この場合、ノズル収容器５００の空間ＳＰ２の気体の吸引効率を向上させることが可能になる。また、流路形成部材５０３が支持部材により支持されるので、流路形成部材５０３を側壁５０１および天板５０２に接続する必要がない。そのため、ノズル収容器５００の製作が容易になる。

（５）請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明する。上記実施の形態では、ノズル駆動部４００が移動部の例であり、排気ダクト２０が第１の排出流路の例であり、排気流路５２０が第２の排出流路の例であり、流路空間ＦＳ１が第３の排出流路の例である。

（６）実施の形態の総括
（第１項） 一態様に係る基板処理装置は、
基板に処理液を供給するノズルと、
基板の上方の供給位置と基板の外方の待機位置との間で前記ノズルを移動させる移動部と、
前記待機位置に位置し、前記ノズルを収容するノズル収容器と、
基板に処理液が供給される処理空間内の気体を排気装置に導く第１の排出流路と、
前記ノズル収容器内の気体を前記第１の排出流路に導く第２の排出流路とを備える。

第１項に記載の基板処理装置によれば、処理空間内の気体が第１の排出流路を通って排気装置に導かれる。また、ノズル収容器内の気体が第２の排出流路および第１の排出流路を通って排気装置に導かれる。このため、単一の排気経路を用いてノズル収容器内の処理液を含む気体および処理空間内の処理液を含む気体を外部に排出することが可能になる。その結果、装置全体の排気量の調整を容易にすることが可能になる。

（第２項） 第１項に記載の基板処理装置において、前記第２の排出流路を流れる気体の流量を調整する流量調整部をさらに備えてもよい。

第２項に記載の基板処理装置によれば、流量調整部により、第２の排出流路を流れる気体の流量が調整される。このため、第１および第２の排気流路を流れる気体の流量が制限される場合においても、第２の排出流路を流れる気体の流量が調整されるので、処理空間内の気体を外部に排出するために必要な流量を確保することができる。

（第３項） 第２項に記載の基板処理装置において、
前記流量調整部は、前記第２の排出流路内の気体の流量を調整するために使用者により操作される操作部をさらに含み、
前記操作部は、前記ノズル収容器および前記処理空間を含む筐体に隣り合うように形成されたメンテナンス空間に向くように設けられてもよい。

第３項に記載の基板処理装置によれば、使用者はメンテナンス空間から操作部を操作できるので、使用者が第２の排出流路を流れる気体の流量を容易に調整することが可能になる。その結果、装置に対するメンテナンス性が向上する。

（第４項） 第１項～第３項のいずれか一項に記載の基板処理装置において、
前記ノズル収容器は、前記ノズル収容器の内部空間と前記第２の排出流路とを連通する開口部と、
前記ノズル収容器の内部に設けられ、前記開口部を覆う流路形成部材とを含んでもよい。

第４項に記載の基板処理装置によれば、流路形成部材が開口部を覆うので、ノズル収容器内で開口部に向かって流れる気体の流れが調整される。したがって、効率的にノズル収容器内の気体を排出することが可能になる。

（第５項）第４項に記載の基板処理装置において、
前記開口部は、前記ノズル収容器の側壁に形成され、
前記流路形成部材は、前記ノズル収容器の前記内部空間を第３の排出流路とその他の空間とに区画するように設けられ、
前記第３の排出流路は、前記開口部に接続される排出口と、下方に向けて開口する吸入口と、を有してもよい。

第５項に記載の基板処理装置によれば、ノズル収容器内の気体が第３の排出流路の下方に向く吸入口から第３の排出流路を通して開口部に導かれる。この場合、処理液を含んだ気体は空気より重いので、ノズル収容器内の処理液を含んだ気体を効率的に排出することが可能になる。

（第６項） 第５項に記載の基板処理装置において、
前記流路形成部材の下端は、前記ノズル収容器に収容された前記ノズルの下端よりも下方に位置してもよい。

第６項に記載の基板処理装置によれば、流路形成部材がノズルの下端よりも下方に位置する。この場合、ノズルから吐出される処理液が開口部から第２の排出流路に流入することを抑制できる。

上記実施の形態の基板処理装置によれば、液処理ユニットＬＰＡ，ＬＰＢおよびノズル収容器５００ごとに独立した排気装置を儲ける必要がないので、一の基板処理装置に対する排気量を低減することができる。その結果、余分なエネルギーを消費することがなくなるため、基板処理装置の使用者の節電に寄与することが可能になる。また、処理液が薬液を含む場合に、それらが大気中に放出されるのを抑制して、環境が汚染されるのを抑制することができる。

１…現像装置，１１ａ…気体供給部，１１ｂ…現像液供給部，１１ｃ…リンス液供給部，２０…排気ダクト，２１～２５…排気管路部，２２ａ，２３ａ…開口，４０…カップ，４１…筒状壁部，５０…収容器，６１…排気管，７０…基板保持装置，７９…モータカバー，１００…区画板，１１０…ノズル開口，２００…筒部材，３００…ノズルアームユニット，３１０…ノズル，３３０…カバー部材，４００…ノズル駆動部，５００…ノズル収容器，５０１…側壁，５０２…天板，５０３…流路形成部材，５０３ａ…上端，５０３ｂ，５０３ｃ…端部，５０３ｄ…中央部，５１０…待機孔，５２０…排気流路，５３０…流量調整部，５３１…流量調整筐体，５３１ａ…側壁，５３２…回転軸，５３２ａ…一端，５３３…遮蔽板，５３４…操作部，５３４ａ…ガイド部材，５３４ｂ…突起部材，５３４ｃ…固定部材，５４０…排気管，５４０ａ～５４０ｅ…部分管，ＣＡ…筐体，ＦＳ１…流路空間，ＧＨ…ガイド孔，ＧＨ１，ＧＨ２…他端，ＧＩ１…気体導入口，ＬＰＡ，ＬＰＢ…液処理ユニット，ＭＳＰ…メンテナンス空間，ＯＰ２…開口部，Ｐ１…待機位置，Ｐ２…処理位置，ＳＰ…内部空間，ＳＰ１，ＳＰ２…空間，ＳＰａ…処理空間，ＳＰｂ…非処理空間，Ｗ…基板，Ｘ１…排気装置，ＸＸ，ｏｐ１…開口，ｐｈ…搬入搬出口

Claims (6)

1. 基板に処理液を供給するノズルと、
   基板の上方の供給位置と基板の外方の待機位置との間で前記ノズルを移動させる移動部と、
   前記待機位置に位置し、前記ノズルを収容するノズル収容器と、
   基板に処理液が供給される処理空間内の気体を排気装置に導く第１の排出流路と、
   前記ノズル収容器内の気体を前記第１の排出流路に導く第２の排出流路とを備えた、基板処理装置。
2. 前記第２の排出流路を流れる気体の流量を調整する流量調整部をさらに備えた、請求項１記載の基板処理装置。
3. 前記流量調整部は、前記第２の排出流路内の気体の流量を調整するために使用者により操作される操作部をさらに含み、
   前記操作部は、前記ノズル収容器および前記処理空間を含む筐体に隣り合うように形成されたメンテナンス空間に向くように設けられる、請求項２記載の基板処理装置。
4. 前記ノズル収容器は、前記ノズル収容器の内部空間と前記第２の排出流路とを連通する開口部と、
   前記ノズル収容器の内部に設けられ、前記開口部を覆う流路形成部材とを含む、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
5. 前記開口部は、前記ノズル収容器の側壁に形成され、
   前記流路形成部材は、前記ノズル収容器の前記内部空間を第３の排出流路とその他の空間とに区画するように設けられ、
   前記第３の排出流路は、前記開口部に接続される排出口と、下方に向けて開口する吸入口と、を有する、請求項４記載の基板処理装置。
6. 前記流路形成部材の下端は、前記ノズル収容器に収容された前記ノズルの下端よりも下方に位置する、請求項５記載の基板処理装置。

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