JP2023036547A - Surface treatment agent - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、表面処理剤に関する。 The present disclosure relates to surface treatment agents.
ある種のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、衛生用品、建築資材など種々多様な基材に施されている（特許文献１）。 Certain fluoropolyether group-containing silane compounds are known to provide excellent water repellency, oil repellency, antifouling properties, etc. when used for surface treatment of substrates. A layer obtained from a surface treatment agent containing a fluoropolyether group-containing silane compound (hereinafter also referred to as a "surface treatment layer") is a so-called functional thin film, for example, glass, plastic, fiber, sanitary goods, building materials, etc. (Patent Document 1).
特許文献１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、優れた機能を有する表面処理層を与えることができるが、より高い摩耗耐久性を有する表面処理層が求められている。 Although the fluoropolyether group-containing silane compound described in Patent Document 1 can provide a surface treatment layer having excellent functions, there is a demand for a surface treatment layer having higher abrasion resistance.
本開示は、摩耗耐久性がより高い表面処理層を与えることができる表面処理剤を提供することを目的とする。 An object of the present disclosure is to provide a surface treatment agent capable of providing a surface treatment layer with higher abrasion resistance.
本開示は、以下の態様を含む。
［１］ フルオロポリエーテル基及びシリル基を有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤であって、該表面処理剤中に含まれる、シリル基のＳｉ原子に結合するＳｉ結合基は、加水分解性基から選択される少なくとも２種の基を含む、表面処理剤。
［２］ 前記Ｓｉ結合基は、前記加水分解性基に加え、さらに水酸基を含む、上記［１］に記載の表面処理剤。
［３］ 前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、下記式（１）又は（２）：
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２
ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物である、上記［１］又は［２］に記載の表面処理剤。
［４］ Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１－６パーフルオロアルキレン基である、
上記［３］に記載の表面処理剤。
［５］ ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ
６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
［式中、ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲＦａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、上記［３］又は［４］に記載の表面処理剤。
［６］ ＲＦａは、フッ素原子である、上記［５］に記載の表面処理剤。
［７］ ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）又は（ｆ６）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは、０又は１である。］
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－Ｒｒ－（Ｒ７’－Ｒ６’）ｇ’－ （ｆ４）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
Ｒ６’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数であり、
ｇ’は、２～１００の整数であり、
Ｒｒは、
である。］；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［３］又は［４］に記載の表面処理剤。
［８］ ＲＳｉは、それぞれ独立して、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり；
Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ１１－ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１であり；
Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１－ＳｉＲ２１
ｐ１Ｒ２２
ｑ１Ｒ２３
ｒ１であり；
Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１’－ＳｉＲ２１’
ｐ１’Ｒ２２’
ｑ１’Ｒ２３’
ｒ１’であり；
Ｒ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｐ１、ｑ１、及びｒ１の合計は、ＳｉＲ２１
ｐ１Ｒ２２
ｑ１Ｒ２３
ｒ１単位において、３であり；
Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１”－ＳｉＲ２２”
ｑ１”Ｒ２３”
ｒ１”であり；
Ｒ２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｐ１’、ｑ１’、及びｒ１’の合計は、ＳｉＲ２１’
ｐ１’Ｒ２２’
ｑ１’Ｒ２３’
ｒ１’単位において、３であり；
Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１”及びｒ１”の合計は、ＳｉＲ２２”
ｑ１”Ｒ２３”
ｒ１”単位において、３であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｋ１、ｌ１及びｍ１の合計は、ＳｉＲａ１
ｋ１Ｒｂ１
ｌ１Ｒｃ１
ｍ１単位において、３であり；
Ｒｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ２－ＣＲ３１
ｐ２Ｒ３２
ｑ２Ｒ３３
ｒ２であり；
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ２’－ＣＲ３２’
ｑ２’Ｒ３３’
ｒ２’であり；
Ｒ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２であり；
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｐ２、ｑ２、及びｒ２の合計は、ＳｉＲ３１
ｐ２Ｒ３２
ｑ２Ｒ３３
ｒ２単位において、３であり；
Ｚ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２であり；
Ｒ３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ２’、及びｒ２’の合計は、ＳｉＲ３２’
ｑ２’Ｒ３３’
ｒ２’単位において、３であり；
Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、ＣＲｄ１
ｋ２Ｒｅ１
ｌ２Ｒｆ１
ｍ２単位において、３であり；
Ｒｇ１及びＲｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ４－ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１、－Ｚ４－ＳｉＲａ１
ｋ１Ｒｂ１
ｌ１Ｒｃ１
ｍ１、又は－Ｚ４－ＣＲｄ１
ｋ２Ｒｅ１
ｌ２Ｒｆ１
ｍ２であり；
Ｚ４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である、上記［３］～［７］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［９］ α、β、及びγは、１である、上記［３］～［８］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１０］ 前記式（Ｓ１）で表される基は、下記式（Ｓ１－ｂ）：
で表される基である、上記［８］又は［９］に記載の表面処理剤。
［１１］ 一分子中に、加水分解性基から選択される２種以上のＳｉ結合基を有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む、上記［１］～［１０］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１２］ 加水分解性基から選択されるそれぞれ異なるＳｉ結合基を有する、２種以上のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１３］ 前記加水分解性基は、それぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＲｋ－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ
２、－ＮＲｊ
２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、及びハロゲン（式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキル基であり、Ｒｋは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキレン基である。）からなる群から選択される、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１４］ 前記表面処理剤中に存在する加水分解性基は、２種である、上記［１］～［１３］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１５］ 前記加水分解性基は、－ＯＲｊ及び－ＯＲｋ－ＯＲｊである、上記［１］～［１４］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１６］ 前記表面処理剤中の各Ｓｉ結合基の含有量は、全Ｓｉ結合基に対して、１０～９０モル％である、上記［１］～［１５］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１７］ 含フッ素オイル、シリコーンオイル、及び触媒から選択される１種又はそれ以上の他の成分をさらに含有する、上記［１］～［１６］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１８］ さらに溶媒を含む、上記［１］～［１７］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１９］ 防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、上記［１］～［１８］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２０］ 上記［１］～［１９］のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
［２１］ 基材と、該基材上に、上記［１］～［１９］のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［２２］ 前記基材は、ガラス基材である、上記［２１］に記載の物品。
［２３］ 光学部材である、上記［２１］又は［２２］に記載の物品。
The present disclosure includes the following aspects.
[1] A surface treatment agent containing a fluoropolyether group-containing silane compound having a fluoropolyether group and a silyl group, wherein the Si bonding group contained in the surface treatment agent and bonded to the Si atom of the silyl group is A surface treatment agent comprising at least two groups selected from hydrolyzable groups.
[2] The surface treatment agent according to [1] above, wherein the Si-bonded group further contains a hydroxyl group in addition to the hydrolyzable group.
[3] The fluoropolyether group-containing silane compound has the following formula (1) or (2):
R F1 is independently at each occurrence Rf 1 -R F -O q -;
R F2 is -Rf 2 p -R F -O q -;
Rf 1 is independently at each occurrence a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Rf 2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
R F is independently at each occurrence a divalent fluoropolyether group;
p is 0 or 1;
q is independently 0 or 1 at each occurrence;
R Si is independently at each occurrence a monovalent group comprising a Si atom bonded with a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom or a monovalent organic group;
at least one R Si is a monovalent group comprising a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is attached;
each X A is independently a single bond or a divalent to decavalent organic group;
α is an integer from 1 to 9;
β is an integer from 1 to 9;
Each γ is independently an integer of 1-9. ]
The surface treatment agent according to the above [1] or [2], which is at least one fluoropolyether group-containing silane compound represented by
[4] Rf 1 is independently at each occurrence a C 1-16 perfluoroalkyl group;
Rf 2 is independently at each occurrence a C 1-6 perfluoroalkylene group;
The surface treatment agent according to [3] above.
[5] R F is independently at each occurrence of the formula:
- (OC 6 F 12 ) a - (OC 5 F 10 ) b - (OC 4 F 8 ) c - (OC 3 R Fa 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OCF 2 ) f -
[wherein R Fa is independently at each occurrence a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom;
a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 to 200, the sum of a, b, c, d, e and f is 1 or more; The order of existence of each repeating unit bracketed with c, d, e or f is arbitrary in the formula, provided that when all RFa are hydrogen atoms or chlorine atoms, a, b, At least one of c, e and f is 1 or more. ]
The surface treatment agent according to the above [3] or [4], which is a group represented by
[6] The surface treating agent according to [5] above, wherein RFa is a fluorine atom.
[7] R F is independently at each occurrence represented by the following formulas (f1), (f2), (f3), (f4), (f5) or (f6):
-(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e - (f1)
[Wherein, d is an integer of 1 to 200, and e is 0 or 1. ]
-(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f2)
[Wherein, c and d are each independently an integer of 0 or more and 30 or less, e and f are each independently an integer of 1 or more and 200 or less,
the sum of c, d, e and f is greater than or equal to 2;
The order of existence of each repeating unit bracketed with subscript c, d, e or f is arbitrary in the formula. ]
-(R 6 -R 7 ) g - (f3)
[wherein R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 or 2 independently selected from these groups or a combination of three groups,
g is an integer from 2 to 100; ]
—(R 6 —R 7 ) g —R r —(R 7′ —R 6′ ) g′ − (f4)
[wherein R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 or 2 independently selected from these groups or a combination of three groups,
R 6' is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
R 7′ is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 or independently selected from these groups a combination of two or three groups,
g is an integer from 2 to 100,
g' is an integer from 2 to 100,
Rr is
is. ];
- (OC 6 F 12 ) a - (OC 5 F 10 ) b - (OC 4 F 8 ) c - (OC 3 F 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OCF 2 ) f - (f5)
[Wherein, e is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and a, b, c, d, e or The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with f is arbitrary in the formula. ]
- (OC 6 F 12 ) a - (OC 5 F 10 ) b - (OC 4 F 8 ) c - (OC 3 F 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OCF 2 ) f - (f6)
[Wherein, f is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d and e are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and a, b, c, d, e or The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with f is arbitrary in the formula. ]
The surface treatment agent according to the above [3] or [4], which is a group represented by
[8] R Si each independently represents the following formula (S1), (S2), (S3), (S4) or (S5):
R 11 is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 12 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n1 is an integer of 0 to 3 independently for each (SiR 11 n1 R 12 3-n1 ) unit;
X 11 is independently at each occurrence a single bond or a divalent organic group;
R 13 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
t is independently at each occurrence an integer greater than or equal to 2;
R 14 is independently at each occurrence a hydrogen atom, a halogen atom or —X 11 —SiR 11 n1 R 12 3-n1 ;
each occurrence of R 15 is independently a single bond, an oxygen atom, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyleneoxy group having 1 to 6 carbon atoms;
R a1 is independently at each occurrence -Z 1 -SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ;
Z 1 is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21 is independently at each occurrence -Z 1' -SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ;
R 22 is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of p1, q1, and r1 is 3 in the SiR21 p1 R22 q1 R23 r1 unit;
Z 1′ is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21′ is independently at each occurrence —Z 1″ —SiR 22″ q1″ R 23″ r1″ ;
R 22′ is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23′ at each occurrence is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1′ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of p1′, q1′ and r1′ is 3 in the SiR 21′ p1′ R 22′ q1′ R 23′ r1′ unit;
Z 1″ is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group;
R 22″ is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23″ at each occurrence is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
q1″ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r1″ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of q1″ and r1″ is 3 in SiR 22″ q1″ R 23″ r1″ units;
each occurrence of R b1 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R c1 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
k1 is independently at each occurrence an integer from 1 to 3;
l1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
m1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of k1, l1 and m1 is 3 in SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 units;
R d1 is independently at each occurrence -Z 2 -CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ;
Z 2 is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 31 is independently at each occurrence -Z 2' -CR 32' q2' R 33' r2' ;
R 32 is independently at each occurrence -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
each occurrence of R 33 is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
p2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of p2, q2 , and r2 is 3 in the SiR31p2R32q2R33r2 unit;
Z 2' is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 32′ is independently at each occurrence —Z 3 —SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33′ is independently at each occurrence a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
q2' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r2' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of q2' and r2' is 3 in the SiR 32' q2' R 33' r2' unit;
Z 3 is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 34 is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 35 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
R e1 is independently at each occurrence —Z 3 —SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R f1 is independently at each occurrence a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
k2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
l2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
m2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of k2, l2 and m2 is 3 in CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 units;
R g1 and R h1 are independently at each occurrence -Z 4 -SiR 11 n1 R 12 3-n1 , -Z 4 -SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 , or -Z 4 -CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 ;
Z 4 is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
However, in formulas (S1), (S2), (S3), (S4) and (S5), there is at least one Si atom to which a hydroxyl group or hydrolyzable group is bonded. ]
The surface treatment agent according to any one of [3] to [7] above, which is a group represented by
[9] The surface treatment agent according to any one of [3] to [8] above, wherein α, β, and γ are 1.
[10] The group represented by the formula (S1) is represented by the following formula (S1-b):
The surface treatment agent according to the above [8] or [9], which is a group represented by
[11] Any one of the above [1] to [10], which contains a fluoropolyether group-containing silane compound having two or more Si-bonded groups selected from hydrolyzable groups in one molecule. surface treatment agent.
[12] The surface according to any one of [1] to [11] above, comprising two or more fluoropolyether group-containing silane compounds each having a different Si-bonded group selected from hydrolyzable groups. Processing agent.
[13] The hydrolyzable groups each independently represent -OR j , -OR k -OR j , -OCOR j , -ON=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , -NCO , and halogen, wherein R j is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkyl group and R k is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkylene group. The surface treatment agent according to any one of [1] to [12] above.
[14] The surface treating agent according to any one of [1] to [13] above, wherein two types of hydrolyzable groups are present in the surface treating agent.
[15] The surface treating agent according to any one of [1] to [14] above, wherein the hydrolyzable groups are -OR j and -OR k -OR j .
[16] The content of each Si-bonded group in the surface treatment agent is 10 to 90 mol% with respect to all Si-bonded groups, according to any one of [1] to [15] above. Surface treatment agent.
[17] The surface treatment agent according to any one of [1] to [16] above, further containing one or more other components selected from fluorine-containing oils, silicone oils, and catalysts.
[18] The surface treatment agent according to any one of [1] to [17] above, further comprising a solvent.
[19] The surface treatment agent according to any one of [1] to [18] above, which is used as an antifouling coating agent or a waterproof coating agent.
[20] A pellet containing the surface treatment agent according to any one of [1] to [19] above.
[21] An article comprising a substrate and a layer formed on the substrate from the surface treating agent according to any one of [1] to [19] above.
[22] The article according to [21] above, wherein the substrate is a glass substrate.
[23] The article according to [21] or [22] above, which is an optical member.
本開示によれば、より高い摩耗耐久性を有する表面処理層を与えることができる表面処理剤を提供することができる。 According to the present disclosure, it is possible to provide a surface treatment agent capable of providing a surface treatment layer having higher abrasion resistance.
本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２～１０価の有機基」とは、炭素を含有する２～１０価の基を意味する。かかる２～１０価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１～９個の水素原子を脱離させた２～１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。 As used herein, "monovalent organic radical" means a monovalent radical containing carbon. Although the monovalent organic group is not particularly limited, it may be a hydrocarbon group or a derivative thereof. A derivative of a hydrocarbon group is a group having one or more of N, O, S, Si, amide, sulfonyl, siloxane, carbonyl, carbonyloxy, etc. at the end of the hydrocarbon group or in the molecular chain. means In addition, when it shows simply as an "organic group", it means a monovalent organic group. Further, the “divalent to decavalent organic group” means a divalent to decavalent group containing carbon. Such a divalent to decavalent organic group is not particularly limited, but includes a divalent to decavalent group in which 1 to 9 hydrogen atoms are further eliminated from an organic group. For example, the divalent organic group is not particularly limited, but includes a divalent group in which one hydrogen atom is further eliminated from the organic group.
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。 As used herein, "hydrocarbon group" means a group containing carbon and hydrogen from which one hydrogen atom has been removed from a hydrocarbon. Such hydrocarbon groups include, but are not limited to, C 1-20 hydrocarbon groups optionally substituted by one or more substituents, such as aliphatic hydrocarbon groups, aromatic A hydrocarbon group etc. are mentioned. The above "aliphatic hydrocarbon group" may be linear, branched or cyclic, and may be saturated or unsaturated. Hydrocarbon groups may also contain one or more ring structures.
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、Ｃ２－６アルキニル基、Ｃ３－１０シクロアルキル基、Ｃ３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６－１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。 As used herein, the substituent of the "hydrocarbon group" is not particularly limited, but for example, a halogen atom, C 1-6 alkyl optionally substituted by one or more halogen atoms group, C 2-6 alkenyl group, C 2-6 alkynyl group, C 3-10 cycloalkyl group, C 3-10 unsaturated cycloalkyl group, 5-10 membered heterocyclyl group, 5-10 membered unsaturated heterocyclyl groups, C 6-10 aryl groups and 5-10 membered heteroaryl groups.
本開示の表面処理剤は、フルオロポリエーテル基及びシリル基を有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤であって、該表面処理材中に、加水分解性基から選択される少なくとも２種のＳｉ結合基を含む。本開示の表面処理剤は、２種以上のＳｉ結合基を含むことにより、高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。 The surface treatment agent of the present disclosure is a surface treatment agent containing a fluoropolyether group-containing silane compound having a fluoropolyether group and a silyl group, wherein at least two hydrolyzable groups selected from hydrolyzable groups are contained in the surface treatment agent. containing Si-bonded groups of the species. The surface treatment agent of the present disclosure can form a surface treatment layer having high friction durability by containing two or more types of Si bonding groups.
本開示の表面処理剤は、Ｓｉ結合基として、さらに水酸基を含み得る。 The surface treatment agent of the present disclosure may further contain hydroxyl groups as Si-bonded groups.
（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物）
上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、フルオロポリエーテル基及びシリル基を有する。
(Fluoropolyether group-containing silane compound)
The fluoropolyether group-containing silane compound has a fluoropolyether group and a silyl group.
上記シリル基は、加水分解性基から選択されるＳｉ結合基を有し得る。かかる加水分解性基から選択されるＳｉ結合基は、基材との反応部位を与える。 The silyl groups may have Si-bonded groups selected from hydrolyzable groups. Si-bonded groups selected from such hydrolyzable groups provide reactive sites with the substrate.
一の態様において、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、下記式（１）又は（２）：
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２
ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物である。
In one aspect, the fluoropolyether group-containing silane compound has the following formula (1) or (2):
R F1 is independently at each occurrence Rf 1 -R F -O q -;
R F2 is -Rf 2 p -R F -O q -;
Rf 1 is independently at each occurrence a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Rf 2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
R F is independently at each occurrence a divalent fluoropolyether group;
p is 0 or 1;
q is independently 0 or 1 at each occurrence;
R Si is independently at each occurrence a monovalent group comprising a Si atom bonded with a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom or a monovalent organic group;
at least one R Si is a monovalent group comprising a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is attached;
each X A is independently a single bond or a divalent to decavalent organic group;
α is an integer from 1 to 9;
β is an integer from 1 to 9;
Each γ is independently an integer of 1-9. ]
is at least one fluoropolyether group-containing silane compound represented by
上記式（１）において、ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－である。 In formula (1) above, each occurrence of R F1 is independently Rf 1 —R F —O q —.
上記式（２）において、ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－である。 In the above formula (2), R F2 is -Rf 2 p -R F -O q -.
上記式において、Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基である。 In the above formula, Rf 1 at each occurrence is independently a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms.
上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基における「Ｃ１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ１－６アルキル基、特にＣ１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－６アルキル基、特にＣ１－３アルキル基である。 The "C 1-16 alkyl group" in the C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms may be linear or branched, preferably is a straight or branched C 1-6 alkyl group, especially a C 1-3 alkyl group, more preferably a straight chain C 1-6 alkyl group, especially a C 1-3 alkyl group.
上記Ｒｆ１は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ－Ｃ１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１－１６パーフルオロアルキル基である。 Rf 1 above is preferably a C 1-16 alkyl group substituted with one or more fluorine atoms, more preferably a CF 2 H—C 1-15 perfluoroalkylene group, still more preferably is a C 1-16 perfluoroalkyl group.
上記Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ３、－ＣＦ２ＣＦ３、又は－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。 The C 1-16 perfluoroalkyl group may be linear or branched, preferably a linear or branched C 1-6 perfluoroalkyl group, especially C 1- 3 perfluoroalkyl group, more preferably a linear C 1-6 perfluoroalkyl group, particularly a C 1-3 perfluoroalkyl group, specifically -CF 3 , -CF 2 CF 3 , or -CF 2 CF 2 CF 3 .
上記式において、Ｒｆ２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基である。 In the above formula, Rf 2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms.
上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基における「Ｃ１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－３アルキレン基である。 The "C 1-6 alkylene group" in the C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms may be linear or branched, preferably is a linear or branched C 1-3 alkylene group, more preferably a linear C 1-3 alkylene group.
上記Ｒｆ２は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ１－３パーフルオロアルキレン基である。 Rf 2 above is preferably a C 1-6 alkylene group substituted with one or more fluorine atoms, more preferably a C 1-6 perfluoroalkylene group, still more preferably C 1- 3 is a perfluoroalkylene group.
上記Ｃ１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２－、又は－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－である。 The C 1-6 perfluoroalkylene group may be linear or branched, preferably a linear or branched C 1-3 perfluoroalkylene group, more preferably is a linear C 1-3 perfluoroalkyl group, specifically -CF 2 -, -CF 2 CF 2 -, or -CF 2 CF 2 CF 2 -.
上記式において、ｐは、０又は１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。 In the above formula, p is 0 or 1. In one aspect, p is zero. In another aspect, p is 1.
上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。 In the above formula, q is 0 or 1 independently at each occurrence. In one aspect, q is zero. In another aspect q is 1.
上記式（１）及び（２）において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。 In formulas (1) and (2) above, each occurrence of RF is independently a divalent fluoropolyether group.
ＲＦは、好ましくは、下記：
－（ＯＣｈ１ＲＦａ
２ｈ１）ｈ３－（ＯＣｈ２ＲＦａ
２ｈ２－２）ｈ４－
［式中：
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ｈ１は、１～６の整数であり、
ｈ２は、４～８の整数であり、
ｈ３は、０以上の整数であり、
ｈ４は、０以上の整数であり、
だたし、ｈ３とｈ４の合成は、１以上、好ましくは２以上、より好ましくは５以上であり、ｈ３及びｈ４を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基を含み得る。
R F is preferably:
- (OC h1 R Fa 2h1 ) h3 - (OC h2 R Fa 2h2-2 ) h4 -
[In the formula:
R Fa is independently at each occurrence a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom;
h1 is an integer from 1 to 6,
h2 is an integer from 4 to 8,
h3 is an integer of 0 or more,
h4 is an integer of 0 or more,
However, the composition of h3 and h4 is 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and the order of existence of each repeating unit bracketed with h3 and h4 is Optional. ]
It may contain a group represented by
一の態様において、ＲＦは、直鎖状、又は分枝鎖状であり得る。ＲＦは、好ましくは、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ
６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
［式中：
ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ただし、すべてのＲＦａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である。
In one aspect, R F can be linear or branched. R F preferably has the formula:
- (OC 6 F 12 ) a - (OC 5 F 10 ) b - (OC 4 F 8 ) c - (OC 3 R Fa 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OCF 2 ) f -
[In the formula:
R Fa is independently at each occurrence a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom;
a, b, c, d, e and f are each independently integers from 0 to 200, and the sum of a, b, c, d, e and f is 1 or more. The order of existence of each repeating unit bracketed with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula. However, when all RFa are hydrogen atoms or chlorine atoms, at least one of a, b, c, e and f is 1 or more. ]
is a group represented by
ＲＦａは、好ましくは、水素原子又はフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。ただし、すべてのＲＦａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。 RFa is preferably a hydrogen atom or a fluorine atom, more preferably a fluorine atom. However, when all RFa are hydrogen atoms or chlorine atoms, at least one of a, b, c, e and f is 1 or more.
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。 a, b, c, d, e and f may preferably each independently be an integer from 0 to 100.
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下又は３０以下であってもよい。 The sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example 15 or more or 20 or more. The sum of a, b, c, d, e and f is preferably 200 or less, more preferably 100 or less, still more preferably 60 or less, and may be, for example, 50 or less or 30 or less.
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、－（ＯＣ６Ｆ１２）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよい。－（ＯＣ５Ｆ１０）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよい。－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－及び－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ３Ｆ６）－（即ち、上記式中、ＲＦａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－及び－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－及び－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよい。 These repeating units may be linear or branched. For example, -( OC6F12 ) - is -( OCF2CF2CF2CF2CF2CF2 ) - , -( OCF ( CF3 ) CF2CF2CF2CF2 ) -, - ( OCF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 CF 2 )-, - (OCF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 CF 2 )-, - (OCF 2 CF 2 CF 2 CF (CF 3 ) CF 2 )- , -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 ))- and the like. -( OC5F10 )- is -( OCF2CF2CF2CF2CF2 ) - , -(OCF ( CF3 ) CF2CF2CF2 )-, - ( OCF2CF ( CF3 ) CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 )CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 ))- and the like. -( OC4F8 )- is -( OCF2CF2CF2CF2 ) - , -( OCF ( CF3 ) CF2CF2 )- , -( OCF2CF ( CF3 ) CF2 ) - , -( OCF2CF2CF ( CF3 ))-, - ( OC( CF3 ) 2CF2 )-, -( OCF2C ( CF3 ) 2 ) - , -(OCF( CF3 )CF( CF 3 ))-, -(OCF(C 2 F 5 )CF 2 )- and -(OCF 2 CF(C 2 F 5 ))-. -(OC 3 F 6 )- (that is, in the above formula, R 3 Fa is a fluorine atom) is represented by -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 )- and -( OCF 2 CF(CF 3 ))—. -(OC 2 F 4 )- may be either -(OCF 2 CF 2 )- or -(OCF(CF 3 ))-.
一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩耗耐久性等を向上させることができる。 In one aspect, the repeating unit is linear. By making the repeating unit linear, the surface lubricity, abrasion resistance, etc. of the surface-treated layer can be improved.
一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。 In one aspect, the repeat unit is branched. By branching the repeating unit, the dynamic friction coefficient of the surface treatment layer can be increased.
一の態様において、ＲＦは、環構造を含み得る。 In one aspect, R F can include a ring structure.
上記環構造は、下記三員環、四員環、五員環、又は六員環であり得る。
上記環構造は、好ましくは四員環、五員環、又は六員環、より好ましくは四員環、又は六員環であり得る。 The ring structure can be preferably a four-, five- or six-membered ring, more preferably a four- or six-membered ring.
環構造を有する繰り返し単位は、好ましくは、下記の単位であり得る。
一の態様において、ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）～（ｆ６）：
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］；
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］；
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－Ｒｒ－（Ｒ７’－Ｒ６’）ｇ’－ （ｆ４）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
Ｒ６’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数であり、
ｇ’は、２～１００の整数であり、
Ｒｒは、
である。］；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
のいずれかで表される基である。
In one aspect, R F is independently at each occurrence of formulas (f1) to (f6):
-(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e - (f1)
[Wherein, d is an integer of 1 to 200, and e is 0 or 1. ];
-(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f2)
[Wherein, c and d are each independently an integer of 0 or more and 30 or less, e and f are each independently an integer of 1 or more and 200 or less,
the sum of c, d, e and f is greater than or equal to 2;
The order of existence of each repeating unit bracketed with subscript c, d, e or f is arbitrary in the formula. ];
-(R 6 -R 7 ) g - (f3)
[wherein R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 or 2 independently selected from these groups or a combination of three groups,
g is an integer from 2 to 100; ];
—(R 6 —R 7 ) g —R r —(R 7′ —R 6′ ) g′ − (f4)
[wherein R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 or 2 independently selected from these groups or a combination of three groups,
R 6' is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
R 7′ is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 or independently selected from these groups a combination of two or three groups,
g is an integer from 2 to 100,
g' is an integer from 2 to 100,
Rr is
is. ];
- (OC 6 F 12 ) a - (OC 5 F 10 ) b - (OC 4 F 8 ) c - (OC 3 F 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OCF 2 ) f - (f5)
[Wherein, e is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and a, b, c, d , e or f in parentheses may be present in any order in the formula. ]
- (OC 6 F 12 ) a - (OC 5 F 10 ) b - (OC 4 F 8 ) c - (OC 3 F 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OCF 2 ) f - (f6)
[Wherein, f is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d and e are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and a, b, c, d , e or f in parentheses may be present in any order in the formula. ]
is a group represented by any one of
上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。一の態様において、ｅは、１である。別の態様において、ｅは０である。上記式（ｆ１）において－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－は、好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ－又は－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｄ－で表される基であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ－で表される基である。 In the above formula (f1), d is preferably an integer of 5-200, more preferably 10-100, still more preferably 15-50, for example 25-35. In one aspect, e is one. In another aspect, e is zero. In the above formula (f1), -(OC 3 F 6 ) d - is preferably a group represented by -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) d - or -(OCF(CF 3 )CF 2 ) d - and more preferably -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) d -.
上記式（ｆ２）において、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であってもよい。 In the above formula (f2), e and f are each independently an integer of preferably 5-200, more preferably 10-200. Also, the sum of c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and may be, for example, 15 or more or 20 or more. In one aspect, the above formula (f2) is preferably -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) c -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) d -(OCF 2 CF 2 ) e -(OCF 2 ) It is a group represented by f- . In another embodiment, formula (f2) may be a group represented by -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f -.
上記式（ｆ３）において、Ｒ６は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４である。上記（ｆ３）において、Ｒ７は、好ましくは、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から選択される基である。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６及びＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、及び－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ３Ｆ６）ｇ－又は－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ４Ｆ８）ｇ－である。 In formula (f3) above, R 6 is preferably OC 2 F 4 . In (f3) above, R 7 is preferably a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 , or 2 independently selected from these groups, or A combination of three groups, more preferably a group selected from OC 3 F 6 and OC 4 F 8 . The combination of two or three groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited, but for example -OC 2 F 4 OC 3 F 6 -, -OC 2F4OC4F8- , -OC3F6OC2F4- , -OC3F6OC3F6- , -OC3F6OC4F8- , -OC4F8OC4F _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ 8- , -OC4F8OC3F6- , -OC4F8OC2F4- , -OC2F4OC2F4OC3F6- , -OC2F4OC2F4OC _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ 4F8- , -OC2F4OC3F6OC2F4- , -OC2F4OC3F6OC3F6- , -OC2F4OC4F8OC2F4- , _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ -OC3F6OC2F4OC2F4- , -OC3F6OC2F4OC3F6- , -OC3F6OC3F6OC2F4- , and -OC4F _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ 8 OC 2 F 4 OC 2 F 4 - and the like. In the above formula (f3), g is an integer of preferably 3 or more, more preferably 5 or more. Said g is preferably an integer of 50 or less. In formula (f3) above, OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 may be linear or branched, preferably linear. is a chain. In this aspect, the above formula (f3) is preferably -(OC 2 F 4 -OC 3 F 6 ) g - or -(OC 2 F 4 -OC 4 F 8 ) g -.
上記式（ｆ４）において、Ｒ６、Ｒ７及びｇは、上記式（ｆ３）の記載と同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ６’、Ｒ７’及びｇ’は、それぞれ、上記式（ｆ３）に記載のＲ６、Ｒ７及びｇと同意義であり、同様の態様を有する。Ｒｒは、好ましくは、
であり、より好ましくは
である。
In formula (f4) above, R 6 , R 7 and g have the same meanings as in formula (f3) above, and have the same aspects. R 6′ , R 7′ and g′ have the same meanings as R 6 , R 7 and g in formula (f3) above, respectively, and have the same aspects. R r is preferably
and more preferably
is.
上記式（ｆ５）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。 In the above formula (f5), e is preferably an integer of 1 or more and 100 or less, more preferably 5 or more and 100 or less. The sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.
上記式（ｆ６）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。 In the above formula (f6), f is preferably an integer of 1 or more and 100 or less, more preferably 5 or more and 100 or less. The sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ１）で表される基である。 In one aspect, R F is a group represented by the formula (f1).
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ２）で表される基である。 In one aspect, R F is a group represented by the formula (f2).
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ３）又は（ｆ４）で表される基である。 In one aspect, R F is a group represented by the formula (f3) or (f4).
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ３）で表される基である。 In one aspect, R F is a group represented by the formula (f3).
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ４）で表される基である。 In one aspect, R F is a group represented by the formula (f4).
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ５）で表される基である。 In one aspect, R F is a group represented by the formula (f5).
一の態様において、上記ＲＦは、上記式（ｆ６）で表される基である。 In one aspect, R F is a group represented by the formula (f6).
上記ＲＦにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩耗耐久性及び耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性及び摩耗耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。 In the above RF , the ratio of e to f (hereinafter referred to as “e/f ratio”) is 0.1 to 10, preferably 0.2 to 5, more preferably 0.2 to 2. Yes, more preferably 0.2 to 1.5, still more preferably 0.2 to 0.85. By setting the e/f ratio to 10 or less, the slipperiness, wear resistance and chemical resistance (for example, durability against artificial perspiration) of the surface treatment layer obtained from this compound are further improved. The smaller the e/f ratio, the more improved the sliding property and abrasion resistance of the surface treatment layer. On the other hand, by setting the e/f ratio to 0.1 or more, the stability of the compound can be further enhanced. The higher the e/f ratio, the more stable the compound.
一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９５であり、より好ましくは０．２～０．９である。 In one aspect, the e/f ratio is preferably 0.2 to 0.95, more preferably 0.2 to 0.9.
一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０～２．０である。 In one aspect, from the viewpoint of heat resistance, the e/f ratio is preferably 1.0 or more, more preferably 1.0 to 2.0.
上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物において、ＲＦ１及びＲＦ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、ＲＦ１及びＲＦ２の数平均分子量は、１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。 In the fluoropolyether group-containing silane compound, the number average molecular weights of the R 1 F1 and R 2 F2 moieties are not particularly limited, but are for example 500 to 30,000, preferably 1,500 to 30,000, more preferably 1,500 to 30,000. is between 2,000 and 10,000. In this specification, the number average molecular weights of R F1 and R F2 are values measured by 19 F-NMR.
別の態様において、ＲＦ１及びＲＦ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。 In another embodiment, the R F1 and R F2 moieties have a number average molecular weight of 500 to 30,000, preferably 1,000 to 20,000, more preferably 2,000 to 15,000, even more preferably 2,000. 000 to 10,000, such as 3,000 to 6,000.
別の態様において、ＲＦ１及びＲＦ２部分の数平均分子量は、４，０００～３０，０００、好ましくは５，０００～１０，０００、より好ましくは６，０００～１０，０００であり得る。 In another aspect, the number average molecular weight of the R F1 and R F2 moieties can be from 4,000 to 30,000, preferably from 5,000 to 10,000, more preferably from 6,000 to 10,000.
上記式（１）及び（２）において、ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。 In the above formulas (1) and (2), each occurrence of R Si is independently a monovalent group containing a Si atom to which a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom or a monovalent organic group is bonded. and at least one R Si is a monovalent group containing a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is attached.
好ましい態様において、ＲＳｉは、水酸基又及び加水分解性基から選択されるＳｉ結合基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。 In a preferred embodiment, R 3 Si is a monovalent group containing a Si atom to which a Si-bonding group selected from hydroxyl groups and hydrolyzable groups is bonded.
好ましい態様において、ＲＳｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）、又は（Ｓ５）：
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は二価の有機基であり；
Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ１１－ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１であり；
Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１－ＳｉＲ２１
ｐ１Ｒ２２
ｑ１Ｒ２３
ｒ１であり；
Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１’－ＳｉＲ２１’
ｐ１’Ｒ２２’
ｑ１’Ｒ２３’
ｒ１’であり；
Ｒ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
Ｒ２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１”－ＳｉＲ２２”
ｑ１”Ｒ２３”
ｒ１”であり；
Ｒ２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
Ｒ２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ２－ＣＲ３１
ｐ２Ｒ３２
ｑ２Ｒ３３
ｒ２であり；
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
Ｒ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ２’－ＣＲ３２’
ｑ２’Ｒ３３’
ｒ２’であり；
Ｒ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２であり；
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
Ｒ３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２であり；
Ｒ３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４
ｎ２Ｒ３５
３－ｎ２であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒｇ１及びＲｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ４－ＳｉＲ１１
ｎ１Ｒ１２
３－ｎ１、－Ｚ４－ＳｉＲａ１
ｋ１Ｒｂ１
ｌ１Ｒｃ１
ｍ１、又は－Ｚ４－ＣＲｄ１
ｋ２Ｒｅ１
ｌ２Ｒｆ１
ｍ２であり；
Ｚ４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である。
In preferred embodiments, R Si is represented by the following formula (S1), (S2), (S3), (S4), or (S5):
R 11 is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 12 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n1 is an integer of 0 to 3 independently for each (SiR 11 n1 R 12 3-n1 ) unit;
X 11 is independently at each occurrence a single bond or a divalent organic group;
R 13 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
R 14 is independently at each occurrence a hydrogen atom, a halogen atom or —X 11 —SiR 11 n1 R 12 3-n1 ;
each occurrence of R 15 is independently a single bond, an oxygen atom, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyleneoxy group having 1 to 6 carbon atoms;
t is independently at each occurrence an integer greater than or equal to 2;
R a1 is independently at each occurrence -Z 1 -SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ;
Z 1 is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21 is independently at each occurrence -Z 1' -SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ;
R 22 is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
Z 1′ is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21′ is independently at each occurrence —Z 1″ —SiR 22″ q1″ R 23″ r1″ ;
R 22′ is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23′ at each occurrence is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1′ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
Z 1″ is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group;
R 22″ is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23″ at each occurrence is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
q1″ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r1″ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
each occurrence of R b1 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R c1 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
k1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
l1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
m1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
R d1 is independently at each occurrence -Z 2 -CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ;
Z 2 is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 31 is independently at each occurrence -Z 2' -CR 32' q2' R 33' r2' ;
R 32 is independently at each occurrence -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
each occurrence of R 33 is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
p2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
Z 2' is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 32′ is independently at each occurrence —Z 3 —SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33′ is independently at each occurrence a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
q2' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r2' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
Z 3 is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 34 is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 35 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
R e1 is independently at each occurrence —Z 3 —SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R f1 is independently at each occurrence a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
k2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
l2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
m2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
R g1 and R h1 are independently at each occurrence -Z 4 -SiR 11 n1 R 12 3-n1 , -Z 4 -SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 , or -Z 4 -CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 ;
Z 4 is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
However, in formulas (S1), (S2), (S3), (S4) and (S5), there is at least one Si atom to which a hydroxyl group or hydrolyzable group is bonded. ]
is a group represented by
上記式中、Ｒ１１は、Ｓｉ結合基であり、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 In the above formula, R 11 is a Si-bonded group, each independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
上記加水分解性基とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。 The hydrolyzable group means a group capable of undergoing a hydrolysis reaction, that is, a group capable of being eliminated from the main skeleton of a compound by a hydrolysis reaction.
Ｒ１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。 R 11 is preferably independently at each occurrence a hydrolyzable group.
上記加水分解性基は、好ましくは、－ＯＲｊ、－ＯＲｋ－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ ２、－ＮＲｊ ２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲンである。Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキル基（好ましくは、Ｃ１－４アルキル基）であり、Ｒｋは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキレン基（好ましくは、Ｃ１－４アルキレン基）である。 The hydrolyzable group is preferably -OR j , -OR k -OR j , -OCOR j , -ON=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , -NCO, or halogen . R j is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkyl group (preferably C 1-4 alkyl group), R k is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkylene group (preferably C 1 -4 alkylene group).
Ｒ１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＲｋ－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ ２、－ＮＲｊ ２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキル基であり、Ｒｋは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキレン基である。）であり、より好ましくは－ＯＲｊ又は－ＯＲｋ－ＯＲｊである。Ｒｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｊは、エチル基である。Ｒｋとしては、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－などの非置換アルキレン基が挙げられる。 R 11 is preferably independently at each occurrence -OR j , -OR k -OR j , -OCOR j , -ON=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , -NCO , or halogen (wherein R j is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkyl group and R k is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkylene group), more preferably -OR j or -OR k -OR j . Examples of R j include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable. In one aspect, R j is a methyl group, and in another aspect R j is an ethyl group. Examples of R k include unsubstituted alkylene groups such as —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —, and —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —.
上記式中、Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 In the above formula, each occurrence of R 12 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.
Ｒ１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R 12 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, even more preferably a methyl group.
上記式中、ｎ１は、（ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、ＲＳｉが式（Ｓ１）又は（Ｓ２）で表される基である場合、式（１）及び式（２）の末端のＲＳｉ部分（以下、単に式（１）及び式（２）の「末端部分」ともいう）において、ｎ１が１～３である（ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。 In the above formula, n1 is an integer of 0 to 3 independently for each (SiR 11 n1 R 12 3-n1 ) unit. However, when R Si is a group represented by formula (S1) or (S2), the terminal R Si portion of formula (1) and formula (2) (hereinafter simply formula (1) and formula (2) (also referred to as the “terminal portion” of), there is at least one (SiR 11 n1 R 12 3-n1 ) unit where n1 is 1-3. That is, not all n1's are 0 at the same time. In other words, there is at least one Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is attached at the terminal portion of formulas (1) and (2).
ｎ１は、（ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。 n1 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 to 3, still more preferably 3, independently for each (SiR 11 n1 R 12 3-n1 ) unit.
上記式中、Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基である。かかる２価の有機基は、好ましくは－Ｒ２８－Ｏｘ－Ｒ２９－（式中、Ｒ２８及びＲ２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又はＣ１－２０アルキレン基であり、ｘは０又は１である。）である。かかるＣ１－２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。かかるＣ１－２０アルキレン基は、好ましくはＣ１－１０アルキレン基、より好ましくはＣ１－６アルキレン基、さらに好ましくはＣ１－３アルキレン基である。 In the above formula, X 11 at each occurrence is independently a single bond or a divalent organic group. Such divalent organic groups are preferably —R 28 —O x —R 29 —, wherein R 28 and R 29 are each independently at each occurrence a single bond or a C 1-20 alkylene group. , x is 0 or 1.). Such C 1-20 alkylene groups may be straight chain or branched, but are preferably straight chain. Such C 1-20 alkylene groups are preferably C 1-10 alkylene groups, more preferably C 1-6 alkylene groups, still more preferably C 1-3 alkylene groups.
一の態様において、Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｃ１－６アルキレン－Ｏ－Ｃ１－６アルキレン－又は－Ｏ－Ｃ１－６アルキレン－である。 In one aspect, X 11 is independently at each occurrence -C 1-6 alkylene-O-C 1-6 alkylene- or -O-C 1-6 alkylene-.
好ましい態様において、Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は直鎖のＣ１－６アルキレン基であり、好ましくは単結合又は直鎖のＣ１－３アルキレン基、より好ましくは単結合又は直鎖のＣ１－２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ１－２アルキレン基である。 In preferred embodiments, each occurrence of X 11 is independently a single bond or a straight-chain C 1-6 alkylene group, preferably a single bond or a straight-chain C 1-3 alkylene group, more preferably a single It is a bond or straight chain C 1-2 alkylene group, more preferably a straight chain C 1-2 alkylene group.
上記式中、Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基である。かかるＣ１－２０アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。 In the above formula, each occurrence of R 13 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such monovalent organic groups are preferably C 1-20 alkyl groups. Such C 1-20 alkyl groups may be straight chain or branched, but are preferably straight chain.
好ましい態様において、Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は直鎖のＣ１－６アルキル基であり、好ましくは水素原子又は直鎖のＣ１－３アルキル基、好ましくは水素原子又はメチル基である。 In preferred embodiments, R 13 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a linear C 1-6 alkyl group, preferably a hydrogen atom or a linear C 1-3 alkyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group.
上記式中、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数である。 In the above formula, each occurrence of t is independently an integer of 2 or more.
好ましい態様において、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０の整数、好ましくは２～６の整数である。 In preferred embodiments, t is independently at each occurrence an integer from 2 to 10, preferably an integer from 2 to 6.
上記式中、Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ１１－ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ１４は、水素原子である。 In the above formula, each occurrence of R 14 is independently a hydrogen atom, a halogen atom, or —X 11 —SiR 11 n1 R 12 3-n1 . Such a halogen atom is preferably an iodine atom, a chlorine atom or a fluorine atom, more preferably a fluorine atom. In preferred embodiments, R 14 is a hydrogen atom.
上記式中、Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。 In the above formula, each occurrence of R 15 is independently a single bond, an oxygen atom, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyleneoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
一の態様において、Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。 In one embodiment, each occurrence of R 15 is independently an oxygen atom, a C 1-6 alkylene group, or a C 1-6 alkyleneoxy group.
好ましい態様において、Ｒ１５は、単結合である。 In a preferred embodiment R 15 is a single bond.
一の態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ａ）である。
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｘ１１、及びｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり；
ｔ１及びｔ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上の整数、好ましくは１～１０の整数、より好ましくは２～１０の整数、例えば１～５の整数又は２～５の整数であり；
ｔ１及びｔ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
In one aspect, formula (S1) is the following formula (S1-a).
R 11 , R 12 , R 13 , X 11 , and n1 have the same meanings as described in formula (S1) above;
t1 and t2 are each independently at each occurrence an integer of 1 or greater, preferably an integer of 1 to 10, more preferably an integer of 2 to 10, such as an integer of 1 to 5 or an integer of 2 to 5;
The order of existence of each repeating unit bracketed with t1 and t2 is arbitrary in the formula. ]
好ましい態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ｂ）である。
上記式中、Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１－ＳｉＲ２１ ｐ１Ｒ２２ ｑ１Ｒ２３ ｒ１である。 In the above formula, each occurrence of R a1 is independently —Z 1 —SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 .
上記Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ２１ ｐ１Ｒ２２ ｑ１Ｒ２３ ｒ１）に結合する。 Each occurrence of Z 1 above is independently an oxygen atom or a divalent organic group. In the structure described below as Z 1 , the right side is bound to (SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ).
好ましい態様において、Ｚ１は、２価の有機基である。 In preferred embodiments, Z 1 is a divalent organic group.
好ましい態様において、Ｚ１は、Ｚ１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ１－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z 1 does not include those that form a siloxane bond with the Si atom to which Z 1 is bonded. Preferably, (Si—Z 1 —Si) in formula (S3) does not contain a siloxane bond.
上記Ｚ１は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ１－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ３－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z 1 is preferably a C 1-6 alkylene group, —(CH 2 ) z1 —O—(CH 2 ) z2 — (wherein z1 is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6 and z2 is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6) or -(CH 2 ) z3 -phenylene-(CH 2 ) z4 -, wherein z3 is an integer of 0 to 6, For example, it is an integer from 1 to 6, and z4 is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene groups may be linear or branched, but are preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, fluorine atoms, C 1-6 alkyl groups, C 2-6 alkenyl groups, and C 2-6 alkynyl groups. is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Ｚ１は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ３－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４－である。Ｚ１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 1 is a C 1-6 alkylene group or -(CH 2 ) z3 -phenylene-(CH 2 ) z4 -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z4 -. When Z 1 is such a group, higher light resistance, especially UV resistance, can be obtained.
別の好ましい態様において、上記Ｚ１は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ１は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ１は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。 In another preferred embodiment, Z 1 above is a C 1-3 alkylene group. In one aspect, Z 1 can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another aspect, Z 1 can be -CH 2 CH 2 -.
上記Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１’－ＳｉＲ２１’ ｐ１’Ｒ２２’ ｑ１’Ｒ２３’ ｒ１’である。 R 21 above is independently at each occurrence —Z 1′ —SiR 21′ p1′ R 22′ q1′ R 23′ r1′ .
上記Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ２１’ ｐ１’Ｒ２２’ ｑ１’Ｒ２３’ ｒ１’）に結合する。 Each occurrence of Z 1′ above is independently an oxygen atom or a divalent organic group. In the structure described as Z 1′ below, the right side is bound to (SiR 21′ p1′ R 22′ q1′ R 23′ r1′ ).
好ましい態様において、Ｚ１’は、２価の有機基である。 In a preferred embodiment, Z 1' is a divalent organic group.
好ましい態様において、Ｚ１’は、Ｚ１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ１’－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z 1' does not include those that form a siloxane bond with the Si atom to which Z 1' is bonded. Preferably, (Si—Z 1′ —Si) in formula (S3) does not contain a siloxane bond.
上記Ｚ１’は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ１’－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ２’－（式中、ｚ１’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４’－（式中、ｚ３’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z 1′ is preferably a C 1-6 alkylene group, —(CH 2 ) z1′ —O—(CH 2 ) z2′ — (wherein z1′ is an integer of 0 to 6, for example 1 to is an integer of 6 and z2' is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6) or -(CH 2 ) z3' -phenylene-(CH 2 ) z4' - (wherein z3' is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6, and z4' is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene groups may be linear or branched, but are preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, fluorine atoms, C 1-6 alkyl groups, C 2-6 alkenyl groups, and C 2-6 alkynyl groups. is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Ｚ１’は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４’－である。Ｚ１’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 1' is a C 1-6 alkylene group or -(CH 2 ) z3' -phenylene-(CH 2 ) z4' -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z4' -. When Z 1′ is such a group, it can have higher light resistance, especially UV resistance.
別の好ましい態様において、上記Ｚ１’は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ１’は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ１’は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。 In another preferred embodiment, Z 1′ above is a C 1-3 alkylene group. In one aspect, Z 1' can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another aspect, Z 1' can be -CH 2 CH 2 -.
上記Ｒ２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１”－ＳｉＲ２２” ｑ１”Ｒ２３” ｒ１”である。 R 21′ above is independently at each occurrence —Z 1″ —SiR 22″ q1″ R 23″ r1″ .
上記Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ２２” ｑ１”Ｒ２３” ｒ１”）に結合する。 Each occurrence of Z 1″ above is independently an oxygen atom or a divalent organic group . ).
好ましい態様において、Ｚ１”は、２価の有機基である。 In preferred embodiments, Z 1″ is a divalent organic group.
好ましい態様において、Ｚ１”は、Ｚ１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ１”－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z 1″ does not include those that form a siloxane bond with the Si atom to which Z 1″ is bonded. Preferably, in formula (S3), (Si—Z 1″ —Si) does not contain a siloxane bond.
上記Ｚ１”は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ１”－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ２”－（式中、ｚ１”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４”－（式中、ｚ３”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z 1″ is preferably a C 1-6 alkylene group, —(CH 2 ) z1″ —O—(CH 2 ) z2″ — (wherein z1″ is an integer of 0 to 6, for example 1 to is an integer of 6, and z2″ is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6) or —(CH 2 ) z3″ —phenylene-(CH 2 ) z4″ —, wherein z3″ is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6, and z4″ is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene groups are linear or branched, but preferably straight-chain, these groups are, for example, fluorine atoms, C 1-6 alkyl groups, C 2-6 alkenyl groups, and C 2- It may be substituted with one or more substituents selected from 6 alkynyl groups, but is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Ｚ１”は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ４”－である。Ｚ１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 1″ is a C 1-6 alkylene group or -(CH 2 ) z3″ -phenylene-(CH 2 ) z4″ -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z4″ -. When Z 1″ is such a group, it can be more light-resistant, especially UV-resistant.
別の好ましい態様において、上記Ｚ１”は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ１”は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ１”は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。 In another preferred aspect, Z 1″ is a C 1-3 alkylene group. In one aspect, Z 1″ can be —CH 2 CH 2 CH 2 —. In another aspect, Z 1″ can be —CH 2 CH 2 —.
上記Ｒ２２”は、Ｓｉ結合基であり、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 R 22 ″ above is a Si-bonded group and independently at each occurrence is a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
上記Ｒ２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。 R 22 ″ above is preferably independently at each occurrence a hydrolyzable group.
上記Ｒ２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＲｋ－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ ２、－ＮＲｊ ２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキル基であり、Ｒｋは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキレン基である。）であり、より好ましくは－ＯＲｊ又は－ＯＲｋ－ＯＲｊである。Ｒｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｊは、エチル基である。Ｒｋとしては、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－などの非置換アルキレン基が挙げられる。 R 22 ″ is preferably independently at each occurrence -OR j , -OR k -OR j , -OCOR j , -ON=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , —NCO or halogen (wherein R j is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkyl group and R k is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkylene group), and more Preferably -OR j or -OR k -OR j R j is an unsubstituted alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group; Of these, alkyl groups, particularly unsubstituted alkyl groups, are preferred, and methyl or ethyl groups are more preferred.In one embodiment, R j is a methyl group, and in another embodiment, R j is a methyl group. , R j is an ethyl group , R k is an unsubstituted An alkylene group is mentioned.
上記Ｒ２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R 23 ″ above is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such monovalent organic groups are monovalent organic groups excluding the above hydrolyzable groups.
上記Ｒ２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R 23″ above, the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, and even more preferably a methyl group.
上記ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ２２” ｑ１”Ｒ２３” ｒ１”）単位において、３である。 The above q1″ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3, and the at least one r1″ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3. The sum of q1″ and r1″ is 3 in units of (SiR 22″ q1″ R 23″ r1″ ).
上記ｑ１”は、（ＳｉＲ２２” ｑ１”Ｒ２３” ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。 The above q1″ is an integer of preferably 1 to 3, more preferably 2 to 3, still more preferably 3, independently for each (SiR 22″ q1″ R 23″ r1″ ) unit.
上記Ｒ２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 Each occurrence of R 22′ above is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
Ｒ２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。 R 22' is preferably independently at each occurrence a hydrolyzable group.
Ｒ２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＲｋ－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ ２、－ＮＲｊ ２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキル基であり、Ｒｋは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキレン基である。）であり、より好ましくは－ＯＲｊ又は－ＯＲｋ－ＯＲｊである。Ｒｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｊは、エチル基である。Ｒｋとしては、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－などの非置換アルキレン基が挙げられる。 R 22′ is preferably independently at each occurrence -OR j , -OR k -OR j , -OCOR j , -ON=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , - NCO or halogen (wherein R j is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkyl group and R k is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkylene group), more preferably is -OR j or -OR k -OR j . Examples of R j include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable. In one aspect, R j is a methyl group, and in another aspect R j is an ethyl group. Examples of R k include unsubstituted alkylene groups such as —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —, and —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —.
上記Ｒ２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R 23′ above is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.
Ｒ２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R 23′ , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, even more preferably a methyl group.
上記ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ’、ｑ１’とｒ１’の合計は、（ＳｉＲ２１’ ｐ１’Ｒ２２’ ｑ１’Ｒ２３’ ｒ１’）単位において、３である。 The above p1' is independently an integer of 0 to 3 at each occurrence, q1' is independently an integer from 0 to 3 at each occurrence, and r1' is independently at each occurrence. , and is an integer from 0 to 3. The sum of p', q1' and r1' is 3 in the unit of (SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ).
一の態様において、ｐ１’は、０である。 In one aspect, p1' is zero.
一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ２１’ ｐ１’Ｒ２２’ ｑ１’Ｒ２３’ ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。 In one embodiment, p1' is an integer of 1 to 3, an integer of 2 to 3, or 3 independently for each (SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ) unit. may In a preferred embodiment, p1' is 3.
一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ２１’ ｐ１’Ｒ２２’ ｑ１’Ｒ２３’ ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。 In one embodiment, q1′ is an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, each independently for each (SiR 21′ p1′ R 22′ q1′ R 23′ r1′ ) unit, 3 is more preferable.
一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ２１’ ｐ１’Ｒ２２’ ｑ１’Ｒ２３’ ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。 In one aspect, p1' is 0 and q1' is an integer of 1 to 3 independently for each (SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ) unit, preferably is an integer of 2-3, more preferably 3.
上記Ｒ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 Each occurrence of R 22 above is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
Ｒ２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。 R 22 is preferably independently at each occurrence a hydrolyzable group.
Ｒ２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＲｋ－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ ２、－ＮＲｊ ２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキル基であり、Ｒｋは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキレン基である。）であり、より好ましくは－ＯＲｊ又は－ＯＲｋ－ＯＲｊである。Ｒｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｊは、エチル基である。Ｒｋとしては、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－などの非置換アルキレン基が挙げられる。 R 22 is preferably independently at each occurrence -OR j , -OR k -OR j , -OCOR j , -ON=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , -NCO , or halogen (wherein R j is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkyl group and R k is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkylene group), more preferably -OR j or -OR k -OR j . Examples of R j include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable. In one aspect, R j is a methyl group, and in another aspect R j is an ethyl group. Examples of R k include unsubstituted alkylene groups such as —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —, and —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —.
上記Ｒ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R 23 above is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.
Ｒ２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R 23 , the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, even more preferably a methyl group.
上記ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ２１ ｐ１Ｒ２２ ｑ１Ｒ２３ ｒ１）単位において、３である。 p1 above independently at each occurrence is an integer of 0 to 3, q1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3, r1 is independently at each occurrence, An integer from 0 to 3. The sum of p1, q1 and r1 is 3 in units of (SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ).
一の態様において、ｐ１は、０である。 In one aspect, p1 is zero.
一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ２１ ｐ１Ｒ２２ ｑ１Ｒ２３ ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。 In one aspect, p1 may be an integer of 1 to 3, an integer of 2 to 3, or 3 independently for each (SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ) unit. In a preferred embodiment, p1 is 3.
一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ２１ ｐ１Ｒ２２ ｑ１Ｒ２３ ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。 In one aspect, q1 is an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, more preferably 3, independently for each (SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ) unit.
一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ２１ ｐ１Ｒ２２ ｑ１Ｒ２３ ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。 In one embodiment, p1 is 0 and q1 is independently an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, for each (SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ) unit. 3 is preferred.
上記式中、Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 In the above formula, each occurrence of R b1 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
上記Ｒｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。 R b1 above is preferably independently at each occurrence a hydrolyzable group.
上記Ｒｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＲｋ－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ ２、－ＮＲｊ ２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキル基であり、Ｒｋは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキレン基である。）であり、より好ましくは－ＯＲｊ又は－ＯＲｋ－ＯＲｊである。Ｒｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｊは、エチル基である。Ｒｋとしては、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－などの非置換アルキレン基が挙げられる。 Preferably, each occurrence of R b1 is independently -OR j , -OR k -OR j , -OCOR j , -ON=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , - NCO or halogen (wherein R j is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkyl group and R k is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkylene group), more preferably is -OR j or -OR k -OR j . Examples of R j include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable. In one aspect, R j is a methyl group, and in another aspect R j is an ethyl group. Examples of R k include unsubstituted alkylene groups such as —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —, and —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —.
上記式中、Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 In the above formula, each occurrence of R c1 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.
上記Ｒｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R c1 above, the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, still more preferably a methyl group.
上記ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲａ１ ｋ１Ｒｂ１ ｌ１Ｒｃ１ ｍ１）単位において、３である。 k1 above independently at each occurrence is an integer of 0 to 3, l1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3, m1 is independently at each occurrence, An integer from 0 to 3. The sum of k1, l1 and m1 is 3 in units of (SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 ).
一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲａ１ ｋ１Ｒｂ１ ｌ１Ｒｃ１ ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。 In one aspect, k1 is independently an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 for each (SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 ) unit. In a preferred embodiment, k1 is 3.
上記式（１）及び（２）において、ＲＳｉが式（Ｓ３）で表される基である場合、好ましくは、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。 In the above formulas (1) and (2), when R Si is a group represented by formula (S3), preferably at the terminal portion of formulas (1) and (2), a hydroxyl group or a hydrolyzable group There are at least two Si atoms to which are bonded.
好ましい態様において、式（Ｓ３）で表される基は、－Ｚ１－ＳｉＲ２２ ｑ１Ｒ２３ ｒ１（式中、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０～２の整数である。）、－Ｚ１’－ＳｉＲ２２’ ｑ１’Ｒ２３’ ｒ１’（式中、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０～２の整数である。）、又は－Ｚ１”－ＳｉＲ２２” ｑ１”Ｒ２３” ｒ１”（式中、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０～２の整数である。）のいずれか１つを有する。Ｚ１、Ｚ１’、Ｚ１”、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２２’、Ｒ２３’、Ｒ２２”、及びＲ２３”は、上記と同意義である。 In a preferred embodiment, the group represented by formula (S3) is —Z 1 —SiR 22 q1 R 23 r1 (wherein q1 is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 and r1 is an integer of 0 to 2.), —Z 1′ —SiR 22′ q1′ R 23′ r1′ (wherein q1′ is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3, and r1′ is an integer of 0 to 2), or —Z 1″ —SiR 22″ q1″ R 23″ r1″ (wherein q1″ is 1 to is an integer of 3, preferably 2 or 3, more preferably 3, and r1″ is an integer of 0 to 2.) Z 1 , Z 1′ , Z 1″ , R 22 , R 23 , R 22′ , R 23′ , R 22″ , and R 23″ are as defined above.
好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ２１’において、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。 In a preferred embodiment, in formula (S3), if R 21′ is present, at least one, preferably all R 21′ , q1″ is an integer from 1 to 3, preferably 2 or 3, or more 3 is preferred.
好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。 In a preferred embodiment, in formula (S3), if R 21 is present, at least one, preferably all R 21 , p1′ is 0 and q1′ is an integer of 1 to 3, preferably is 2 or 3, more preferably 3.
好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。 In a preferred embodiment, in formula (S3), if R a1 is present, at least one, preferably all R a1 , p1 is 0, q1 is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3.
好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ１は２又は３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２又は３、好ましくは３である。 In a preferred embodiment, k1 is 2 or 3, preferably 3, p1 is 0, and q1 is 2 or 3, preferably 3, in formula (S3).
Ｒｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ２－ＣＲ３１ ｐ２Ｒ３２ ｑ２Ｒ３３ ｒ２である。 R d1 is independently at each occurrence -Z 2 -CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 .
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ２として記載する構造は、右側が（ＣＲ３１ ｐ２Ｒ３２ ｑ２Ｒ３３ ｒ２）に結合する。 Z 2 is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom, or a divalent organic group. In the structure described below as Z 2 , the right side is bound to (CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ).
好ましい態様において、Ｚ２は、２価の有機基である。 In preferred embodiments, Z 2 is a divalent organic group.
上記Ｚ２は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ５－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ７－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z 2 is preferably a C 1-6 alkylene group, —(CH 2 ) z5 —O—(CH 2 ) z6 — (wherein z5 is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6 and z6 is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6) or -(CH 2 ) z7 -phenylene-(CH 2 ) z8 -, wherein z7 is an integer of 0 to 6, For example, an integer from 1 to 6, and z8 is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene groups may be linear or branched, but are preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, fluorine atoms, C 1-6 alkyl groups, C 2-6 alkenyl groups, and C 2-6 alkynyl groups. is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Ｚ２は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ７－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８－である。Ｚ２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 2 is a C 1-6 alkylene group or -(CH 2 ) z7 -phenylene-(CH 2 ) z8 -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z8 -. When Z2 is such a group, it can be more light-resistant, especially UV-resistant.
別の好ましい態様において、上記Ｚ２は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ２は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ２は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。 In another preferred embodiment, Z 2 above is a C 1-3 alkylene group. In one aspect, Z 2 can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another aspect, Z 2 can be -CH 2 CH 2 -.
Ｒ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ２’－ＣＲ３２’ ｑ２’Ｒ３３’ ｒ２’である。 R 31 is independently at each occurrence -Z 2' -CR 32' q2' R 33' r2' .
Ｚ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ３２’ ｑ２’Ｒ３３’ ｒ２’）に結合する。 Z 2' at each occurrence is independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group. In the structure described as Z 2′ below, the right side is bound to (CR 32′ q2′ R 33′ r2′ ).
上記Ｚ２’は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ５’－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ６’－（式中、ｚ５’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８’－（式中、ｚ７’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z 2′ is preferably a C 1-6 alkylene group, —(CH 2 ) z5′ —O—(CH 2 ) z6′ — (wherein z5′ is an integer of 0 to 6, for example 1 to is an integer of 6 and z6' is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6) or -(CH 2 ) z7' -phenylene-(CH 2 ) z8' - (wherein z7' is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6, and z8' is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene groups may be linear or branched, but are preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, fluorine atoms, C 1-6 alkyl groups, C 2-6 alkenyl groups, and C 2-6 alkynyl groups. is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Ｚ２’は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８’－である。Ｚ２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 2' is a C 1-6 alkylene group or -(CH 2 ) z7' -phenylene-(CH 2 ) z8' -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z8' -. When Z 2′ is such a group, it can be more light-resistant, especially UV-resistant.
別の好ましい態様において、上記Ｚ２’は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ２’は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ２’は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。 In another preferred embodiment, Z 2′ above is a C 1-3 alkylene group. In one aspect, Z 2' can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another aspect, Z 2' can be -CH 2 CH 2 -.
上記Ｒ３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２である。 Each occurrence of R 32′ above is independently —Z 3 —SiR 34 n2 R 35 3-n2 .
上記Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２）に結合する。 Each occurrence of Z 3 above is independently a single bond, an oxygen atom, or a divalent organic group. In the structure described below as Z 3 , the right side is bound to (SiR 34 n2 R 35 3-n2 ).
一の態様において、Ｚ３は酸素原子である。 In one aspect, Z3 is an oxygen atom.
一の態様において、Ｚ３は２価の有機基である。 In one aspect, Z 3 is a divalent organic group.
上記Ｚ３は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z 3 is preferably a C 1-6 alkylene group, —(CH 2 ) z5″ —O—(CH 2 ) z6″ — (wherein z5″ is an integer of 0 to 6, such as 1 to 6 and z6″ is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6) or —(CH 2 ) z7″ —phenylene-(CH 2 ) z8″ — (wherein z7″ is , an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6, and z8″ is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene groups may be linear or branched, but are preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, fluorine atoms, C 1-6 alkyl groups, C 2-6 alkenyl groups, and C 2-6 alkynyl groups. is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Ｚ３は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８”－である。Ｚ３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 3 is a C 1-6 alkylene group or —(CH 2 ) z7″ -phenylene-(CH 2 ) z8″ -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z8″ - . When is such a group, higher light resistance, especially UV resistance, can be obtained.
別の好ましい態様において、上記Ｚ３は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ３は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ３は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。 In another preferred embodiment, Z 3 above is a C 1-3 alkylene group. In one aspect, Z 3 can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another aspect, Z 3 can be -CH 2 CH 2 -.
上記Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。 Each occurrence of R 34 above is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
Ｒ３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。 R 34 is preferably independently at each occurrence a hydrolyzable group.
Ｒ３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲｊ、－ＯＲｋ－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ ２、－ＮＲｊ ２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（式中、Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキル基であり、Ｒｋは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキレン基である。）であり、より好ましくは－ＯＲｊ又は－ＯＲｋ－ＯＲｊである。Ｒｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒｊは、エチル基である。Ｒｋとしては、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－などの非置換アルキレン基が挙げられる。 R 34 is preferably independently at each occurrence -OR j , -OR k -OR j , -OCOR j , -ON=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , -NCO , or halogen (wherein R j is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkyl group and R k is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkylene group), more preferably -OR j or -OR k -OR j . Examples of R j include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable. In one aspect, R j is a methyl group, and in another aspect R j is an ethyl group. Examples of R k include unsubstituted alkylene groups such as —CH 2 —, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —, and —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —.
上記Ｒ３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R 35 above is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.
上記Ｒ３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R 35 above, the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group, still more preferably a methyl group.
上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、ＲＳｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、式（１）及び式（２）の末端部分において、ｎ２が１～３である（ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ２が同時に０になることはない。換言すれば、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。 In the above formula, n2 is an integer of 0 to 3 independently for each (SiR 34 n2 R 35 3-n2 ) unit. However, when R Si is a group represented by formula (S4), in the terminal portion of formula (1) and formula (2), (SiR 34 n2 R 35 3-n2 ) units in which n2 is 1 to 3 there is at least one That is, not all n2 are 0 at the same time. In other words, there is at least one Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is attached at the terminal portion of formulas (1) and (2).
ｎ２は、（ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。 n2 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 to 3, still more preferably 3, independently for each (SiR 34 n2 R 35 3-n2 ) unit.
上記Ｒ３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R 33′ above is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.
上記Ｒ３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基又は－（ＣｓＨ２ｓ）ｔ１－（Ｏ－ＣｓＨ２ｓ）ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。 In R 33′ above, the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group or —(C s H 2s ) t1 —(O—C s H 2s ) t2 (wherein s is 1 to 6 , preferably an integer of 2 to 4, t1 is 1 or 0, preferably 0, t2 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 10, more preferably an integer of 2 to 6 ), more preferably a C 1-20 alkyl group, still more preferably a C 1-6 alkyl group, and particularly preferably a methyl group.
一の態様において、Ｒ３３’は、水酸基である。 In one aspect, R 33' is a hydroxyl group.
別の態様において、Ｒ３３’は、１価の有機基、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基である。 In another aspect, R 33' is a monovalent organic group, preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group.
上記ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ３２’ ｑ２’Ｒ３３’ ｒ２’）単位において、３である。 Each occurrence of q2' is independently an integer from 0 to 3, and each occurrence of r2' is independently an integer from 0 to 3. The sum of q2' and r2' is 3 in the unit of (CR 32' q2' R 33' r2' ).
ｑ２’は、（ＣＲ３２’ ｑ２’Ｒ３３’ ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。 q2' is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 to 3, still more preferably 3, independently for each (CR 32' q2' R 33' r2' ) unit.
Ｒ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２である。かかる－Ｚ３－ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２は、上記Ｒ３２’における記載と同意義である。 R 32 is independently at each occurrence -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 . Such —Z 3 —SiR 34 n2 R 35 3-n2 has the same meaning as described for R 32′ above.
上記Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R 33 above is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.
上記Ｒ３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基又は－（ＣｓＨ２ｓ）ｔ１－（Ｏ－ＣｓＨ２ｓ）ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。 In R 33 above, the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group or —(C s H 2s ) t1 —(O—C s H 2s ) t2 (wherein s is 1 to 6 an integer, preferably an integer of 2 to 4, t1 is 1 or 0, preferably 0, t2 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 10, more preferably an integer of 2 to 6 ), more preferably a C 1-20 alkyl group, still more preferably a C 1-6 alkyl group, and most preferably a methyl group.
一の態様において、Ｒ３３は、水酸基である。 In one aspect, R 33 is a hydroxyl group.
別の態様において、Ｒ３３は、１価の有機基、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基である。 In another aspect, R 33 is a monovalent organic group, preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group.
上記ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２及びｒ２の合計は、（ＣＲ３１ ｐ２Ｒ３２ ｑ２Ｒ３３ ｒ２）単位において、３である。 p2 above independently at each occurrence is an integer of 0 to 3, q2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3, r2 is independently at each occurrence, An integer from 0 to 3. The sum of p2, q2 and r2 is 3 in the unit of (CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ).
一の態様において、ｐ２は、０である。 In one aspect, p2 is zero.
一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ３１ ｐ２Ｒ３２ ｑ２Ｒ３３ ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２は、３である。 In one aspect, p2 may be an integer of 1 to 3, an integer of 2 to 3, or 3 independently for each (CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ) unit. In preferred embodiments, p2 is three.
一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ３１ ｐ２Ｒ３２ ｑ２Ｒ３３ ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。 In one aspect, q2 is an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, more preferably 3 for each (CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ) unit.
一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ３１ ｐ２Ｒ３２ ｑ２Ｒ３３ ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。 In one embodiment, p2 is 0 and q2 is independently an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, for each (CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ) unit. 3 is preferred.
上記Ｒｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２である。かかる－Ｚ３－ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２は、上記Ｒ３２’における記載と同意義である。 Each occurrence of R e1 above is independently —Z 3 —SiR 34 n2 R 35 3-n2 . Such —Z 3 —SiR 34 n2 R 35 3-n2 has the same meaning as described for R 32′ above.
上記Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R f1 above is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.
上記Ｒｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ１－２０アルキル基又は－（ＣｓＨ２ｓ）ｔ１－（Ｏ－ＣｓＨ２ｓ）ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。 In R f1 above, the monovalent organic group is preferably a C 1-20 alkyl group or —(C s H 2s ) t1 —(O—C s H 2s ) t2 (wherein s is 1 to 6 an integer, preferably an integer of 2 to 4, t1 is 1 or 0, preferably 0, t2 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 10, more preferably an integer of 2 to 6 ), more preferably a C 1-20 alkyl group, still more preferably a C 1-6 alkyl group, and particularly preferably a methyl group.
一の態様において、Ｒｆ１は、水酸基である。 In one aspect, R f1 is a hydroxyl group.
別の態様において、Ｒｆ１は、１価の有機基、好ましくはＣ１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ１－６アルキル基である。 In another aspect, R f1 is a monovalent organic group, preferably a C 1-20 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group.
上記ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、（ＣＲｄ１ ｋ２Ｒｅ１ ｌ２Ｒｆ１ ｍ２）単位において、３である。 k2 above independently at each occurrence is an integer of 0 to 3, l2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3, m2 is independently at each occurrence, An integer from 0 to 3. The sum of k2, l2 and m2 is 3 in units of (CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 ).
上記式（１）及び（２）において、ＲＳｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、好ましくは、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。 In the above formulas (1) and (2), when R Si is a group represented by formula (S4), preferably at the terminal portion of formulas (1) and (2), a hydroxyl group or a hydrolyzable group There are at least two Si atoms to which are bonded.
一の態様において、ＲＳｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、ｎ２が１～３、好ましくは２又は３、より好ましくは３である（ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２）単位は、式（１）及び式（２）の各末端部分において、２個以上、例えば２～２７個、好ましくは２～９個、より好ましくは２～６個、さらに好ましくは２～３個、特に好ましくは３個存在する。 In one embodiment, when R Si is a group represented by formula (S4), n2 is 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 (SiR 34 n2 R 35 3-n2 ) units is 2 or more, for example 2 to 27, preferably 2 to 9, more preferably 2 to 6, still more preferably 2 to 3, at each terminal portion of formula (1) and formula (2), Especially preferably, there are three.
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ３２’において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。 In a preferred embodiment, in formula (S4), at least one, preferably all R 32 ' , if present, n2 is an integer from 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably is 3.
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ３２において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。 In a preferred embodiment, in formula (S4), at least one, preferably all R 32 , if present , n2 is an integer from 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 is.
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲａ１において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。 In a preferred embodiment, in formula (S4), if R e1 is present, at least one, preferably all R a1 , n2 is an integer from 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 is.
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｌ２、ｑ２及びｑ２’の合計は、２以上である。 In a preferred embodiment, in formula (S4), the sum of l2, q2 and q2' is 2 or more.
好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２又は３、好ましくは３であり、ｎ２は、２又は３、好ましくは３である。 In a preferred embodiment, k2 is 0, l2 is 2 or 3, preferably 3, and n2 is 2 or 3, preferably 3, in formula (S4).
上記Ｒｇ１及びＲｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ４－ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１、－Ｚ４－ＳｉＲａ１ ｋ１Ｒｂ１ ｌ１Ｒｃ１ ｍ１、－Ｚ４－ＣＲｄ１ ｋ２Ｒｅ１ ｌ２Ｒｆ１ ｍ２である。ここに、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒａ１、Ｒｂ２、Ｒｃ１、Ｒｄ１、Ｒｅ１、Ｒｆ１、ｎ１、ｋ１、ｌ１、ｍ１、ｋ２、ｌ２、及びｍ２は、上記と同意義である。 R g1 and R h1 are each independently at each occurrence -Z 4 -SiR 11 n1 R 12 3-n1 , -Z 4 -SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 , -Z 4 -CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 . Here, R 11 , R 12 , R a1 , R b2 , R c1 , R d1 , R e1 , R f1 , n1, k1, l1, m1, k2, l2, and m2 have the same meanings as above.
好ましい態様において、Ｒｇ１及びＲｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ４－ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１である。 In preferred embodiments, R g1 and R h1 are each independently —Z 4 —SiR 11 n1 R 12 3-n1 .
上記Ｚ４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ４として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１）に結合する。 Each occurrence of Z 4 above is independently a single bond, an oxygen atom, or a divalent organic group. In the structure described below as Z 4 , the right side is bound to (SiR 11 n1 R 12 3-n1 ).
一の態様において、Ｚ４は酸素原子である。 In one aspect, Z 4 is an oxygen atom.
一の態様において、Ｚ４は２価の有機基である。 In one aspect, Z 4 is a divalent organic group.
上記Ｚ４は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ２）ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ２）ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、及びＣ２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z 4 is preferably a C 1-6 alkylene group, —(CH 2 ) z5″ —O—(CH 2 ) z6″ — (wherein z5″ is an integer of 0 to 6, such as 1 to 6 and z6″ is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6) or —(CH 2 ) z7″ —phenylene-(CH 2 ) z8″ — (wherein z7″ is , an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6, and z8″ is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C 1-6 alkylene groups may be linear or branched, but are preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, fluorine atoms, C 1-6 alkyl groups, C 2-6 alkenyl groups, and C 2-6 alkynyl groups. is preferably unsubstituted.
好ましい態様において、Ｚ４は、Ｃ１－６アルキレン基又は－（ＣＨ２）ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ２）ｚ８”－である。Ｚ３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z 4 is a C 1-6 alkylene group or —(CH 2 ) z7″ -phenylene-(CH 2 ) z8″ -, preferably -phenylene-(CH 2 ) z8″ -. Z 3 When is such a group, higher light resistance, especially UV resistance, can be obtained.
別の好ましい態様において、上記Ｚ４は、Ｃ１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ４は、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。別の態様において、Ｚ４は、－ＣＨ２ＣＨ２－であり得る。 In another preferred embodiment, Z 4 above is a C 1-3 alkylene group. In one aspect, Z 4 can be -CH 2 CH 2 CH 2 -. In another aspect, Z 4 can be -CH 2 CH 2 -.
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、高い表面滑り性を有する表面処理層を形成することができる。 In one aspect, R Si is a group represented by formula (S2), (S3), (S4) or (S5). These compounds can form a surface treatment layer having high surface lubricity.
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ１）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に複数の加水分解性基を有することから、基材に強く密着し、高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。 In one aspect, R Si is a group represented by formula (S1), (S3), (S4) or (S5). Since these compounds have a plurality of hydrolyzable groups at one end, they can form a surface treatment layer that strongly adheres to a substrate and has high abrasion resistance.
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ１）、（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に複数の加水分解性基を有することから、基材に強く密着し、高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。 In one aspect, R Si is a group represented by formula (S1), (S3) or (S4). Since these compounds have a plurality of hydrolyzable groups at one end, they can form a surface treatment layer that strongly adheres to a substrate and has high abrasion resistance.
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に、一のＳｉ原子又はＣ原子から分岐した複数の加水分解性基を有し得ることから、さらに高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。 In one aspect, R Si is a group represented by formula (S3) or (S4). Since these compounds can have a plurality of hydrolyzable groups branched from one Si atom or C atom at one end, they can form a surface treatment layer with even higher abrasion resistance.
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ１）で表される基である。 In one aspect, R Si is a group represented by formula (S1).
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ２）で表される基である。 In one aspect, R Si is a group represented by formula (S2).
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ３）で表される基である。 In one aspect, R Si is a group represented by formula (S3).
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ４）で表される基である。 In one aspect, R Si is a group represented by formula (S4).
一の態様において、ＲＳｉは、式（Ｓ５）で表される基である。 In one aspect, R Si is a group represented by formula (S5).
上記式（１）及び（２）において、ＸＡは、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル部（ＲＦ１及びＲＦ２）と基材との結合能を提供する部（ＲＳｉ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該ＸＡは、式（１）及び（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの基であってもよい。 In the above formulas (1) and (2), X A is the fluoropolyether portion (R F1 and R F2 ) that mainly provides water repellency, surface slipperiness, etc., and the portion that provides bonding ability with the substrate ( R Si ) and the linker. Therefore, XA may be a single bond or any group as long as the compounds represented by formulas (1) and (2) can exist stably.
上記式（１）において、αは１～９の整数であり、βは１～９の整数である。これらα及びβは、ＸＡの価数に応じて変化し得る。α及びβの和は、ＸＡの価数と同じである。例えば、ＸＡが１０価の有機基である場合、α及びβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、又はαが１かつβが９となり得る。また、ＸＡが２価の有機基である場合、α及びβは１である。 In the above formula (1), α is an integer of 1-9, and β is an integer of 1-9. These α and β can vary depending on the valence of XA . The sum of α and β is the same as the valence of XA . For example, if X A is a decavalent organic group, the sum of α and β is 10, such as α being 9 and β being 1, α being 5 and β being 5, or α being 1 and β being 9. obtain. Also, α and β are 1 when X A is a divalent organic group.
上記式（２）において、γは１～９の整数である。γは、ＸＡの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、ＸＡの価数から１を引いた値である。 In the above formula (2), γ is an integer of 1-9. γ can vary depending on the valence of X A. That is, γ is the value obtained by subtracting 1 from the valence of XA .
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり； each X A is independently a single bond or a divalent to decavalent organic group;
上記ＸＡにおける２～１０価の有機基は、好ましくは２～８価の有機基である。一の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは２～４価の有機基であり、より好ましくは２価の有機基である。別の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは３～８価の有機基、より好ましくは３～６価の有機基である。 The divalent to decavalent organic group in X A above is preferably a divalent to octavalent organic group. In one aspect, such a divalent to decavalent organic group is preferably a divalent to tetravalent organic group, more preferably a divalent organic group. In another aspect, such divalent to decavalent organic groups are preferably trivalent to octavalent organic groups, more preferably trivalent to hexavalent organic groups.
一の態様において、ＸＡは、単結合又は２価の有機基であり、αは１であり、βは１である。 In one aspect, X A is a single bond or a divalent organic group, α is 1 and β is 1.
一の態様において、ＸＡは、単結合又は２価の有機基であり、γは１である。 In one aspect, X A is a single bond or a divalent organic group and γ is one.
一の態様において、ＸＡは３～６価の有機基であり、αは１であり、βは２～５である。 In one embodiment, X A is a tri- to hexavalent organic group, α is 1 and β is 2-5.
一の態様において、ＸＡは３～６価の有機基であり、γは２～５である。 In one embodiment, X A is a 3-6 valent organic group and γ is 2-5.
一の態様において、ＸＡは、３価の有機基であり、αは１であり、βは２である。 In one aspect, X A is a trivalent organic group, α is 1 and β is 2.
一の態様において、ＸＡは、３価の有機基であり、γは２である。 In one aspect, X A is a trivalent organic group and γ is two.
ＸＡが、単結合又は２価の有機基である場合、式（１）及び（２）は、下記式（１’）及び（２’）で表される。
一の態様において、ＸＡは単結合である。 In one aspect, X A is a single bond.
別の態様において、ＸＡは２価の有機基である。 In another aspect, X A is a divalent organic group.
一の態様において、ＸＡとしては、例えば、単結合又は下記式：
－（Ｒ５１）ｐ５－（Ｘ５１）ｑ５－
［式中：
Ｒ５１は、単結合、－（ＣＨ２）ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｓ５－であり、
ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１又は２であり、
Ｘ５１は、－（Ｘ５２）ｌ５－を表し、
Ｘ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、－ＣＯＮＲ５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、－ＮＲ５４－及び－（ＣＨ２）ｎ５－からなる群から選択される基を表し、
Ｒ５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基又はＣ１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基又はＣ１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｐ５は、０又は１であり、
ｑ５は、０又は１であり、
ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基が挙げられる。ここに、ＸＡ（典型的にはＸＡの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基及びＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、ＸＡは、これらの基により置換されていない。
In one aspect, X A is, for example, a single bond or the following formula:
-(R 51 ) p5 -(X 51 ) q5 -
[In the formula:
R 51 represents a single bond, —(CH 2 ) s5 — or an o-, m- or p-phenylene group, preferably —(CH 2 ) s5 —,
s5 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, even more preferably 1 or 2;
X 51 represents -(X 52 ) l5 -,
X 52 is independently at each occurrence -O-, -S-, o-, m- or p-phenylene group, -C(O)O-, -Si(R 53 ) 2 -, -( a group selected from the group consisting of Si(R 53 ) 2 O) m5 -Si(R 53 ) 2 -, -CONR 54 -, -O-CONR 54 -, -NR 54 - and -(CH 2 ) n5 - represents
R 53 at each occurrence independently represents a phenyl group, a C 1-6 alkyl group or a C 1-6 alkoxy group, preferably a phenyl group or a C 1-6 alkyl group, more preferably a methyl group and
each occurrence of R 54 independently represents a hydrogen atom, a phenyl group or a C 1-6 alkyl group (preferably a methyl group);
m5 at each occurrence is independently an integer from 1 to 100, preferably an integer from 1 to 20;
n5 at each occurrence is independently an integer from 1 to 20, preferably an integer from 1 to 6, more preferably an integer from 1 to 3;
l5 is an integer from 1 to 10, preferably an integer from 1 to 5, more preferably an integer from 1 to 3;
p5 is 0 or 1;
q5 is 0 or 1;
Here, at least one of p5 and q5 is 1, and the order of existence of each repeating unit bracketed with p5 or q5 is arbitrary.]
A divalent organic group represented by is mentioned. Here, X A (typically the hydrogen atom of X A ) is substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group and a C 1-3 fluoroalkyl group. may be In preferred embodiments, X A is not substituted by these groups.
好ましい態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、－（Ｒ５１）ｐ５－（Ｘ５１）ｑ５－Ｒ５２－である。Ｒ５２は、単結合、－（ＣＨ２）ｔ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ２）ｔ５－である。ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｒ５２（典型的にはＲ５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基及びＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ５６は、これらの基により置換されていない。 In a preferred embodiment, each X A above is independently -(R 51 ) p5 -(X 51 ) q5 -R 52 -. R 52 represents a single bond, -(CH 2 ) t5 - or an o-, m- or p-phenylene group, preferably -(CH 2 ) t5 -. t5 is an integer of 1-20, preferably an integer of 2-6, more preferably an integer of 2-3. wherein R 52 (typically the hydrogen atom of R 52 ) is substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group and a C 1-3 fluoroalkyl group; may be In preferred embodiments, R 56 is unsubstituted by these groups.
好ましくは、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－Ｒ５１－Ｘ５３－Ｒ５２－、又は
－Ｘ５４－Ｒ５－
［式中、Ｒ５１及びＲ５２は、上記と同意義であり、
Ｘ５３は、
－Ｏ－、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、
－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）u５－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）u５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ５３）２－ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（Ｒ５３）２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－Ｏ－（ＣＨ２）u５－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２－、
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）u５－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－、
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）u５－Ｎ（Ｒ５４）－、又は
－ＣＯＮＲ５４－（ｏ－、ｍ－又はｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ５３）２－
（式中、Ｒ５３、Ｒ５４及びｍ５は、上記と同意義であり、
ｕ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。）を表し、
Ｘ５４は、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）u５－（Ｓｉ（Ｒ５４）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５４）２－、
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）u５－Ｎ（Ｒ５４）－、又は
－ＣＯＮＲ５４－（ｏ－、ｍ－又はｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ５４）２－
（式中、各記号は、上記と同意義である。）
を表す。］
であり得る。
Preferably, the above X A are each independently
single bond,
a C 1-20 alkylene group,
—R 51 —X 53 —R 52 —, or —X 54 —R 5 —
[Wherein, R 51 and R 52 have the same meanings as above,
X53 is
-O-,
-S-,
-C(O)O-,
-CONR 54- ,
-O-CONR 54- ,
—Si(R 53 ) 2 —,
—(Si(R 53 ) 2 O) m5 —Si(R 53 ) 2 —,
—O—(CH 2 ) u5 —(Si(R 53 ) 2 O) m5 —Si(R 53 ) 2 —,
—O—(CH 2 ) u5 —Si(R 53 ) 2 —O—Si(R 53 ) 2 —CH 2 CH 2 —Si(R 53 ) 2 —O—Si(R 53 ) 2 —,
—O—(CH 2 ) u5 —Si(OCH 3 ) 2 OSi(OCH 3 ) 2 —,
—CONR 54 —(CH 2 ) u5 —(Si(R 53 ) 2 O) m5 —Si(R 53 ) 2 —,
-CONR 54 -(CH 2 ) u5 -N(R 54 )-, or -CONR 54 -(o-, m- or p-phenylene)-Si(R 53 ) 2 -
(Wherein, R 53 , R 54 and m5 have the same meanings as above,
u5 is an integer of 1-20, preferably an integer of 2-6, more preferably an integer of 2-3. ),
X54 is
-S-,
-C(O)O-,
-CONR 54- ,
-O-CONR 54- ,
—CONR 54 —(CH 2 ) u5 —(Si(R 54 ) 2 O) m5 —Si(R 54 ) 2 —,
-CONR 54 -(CH 2 ) u5 -N(R 54 )-, or -CONR 54 -(o-, m- or p-phenylene)-Si(R 54 ) 2 -
(In the formula, each symbol has the same meaning as above.)
represents ]
can be
より好ましくは、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－（ＣＨ２）ｔ５－
－Ｘ５４－、又は
－Ｘ５４－（ＣＨ２）ｔ５－
［式中、Ｘ５３、Ｘ５４、ｓ５及びｔ５は、上記と同意義である。］
である。
More preferably, the above X A are each independently
single bond,
a C 1-20 alkylene group,
—(CH 2 ) s5 —X 53 —,
—(CH 2 ) s5 —X 53 —(CH 2 ) t5 —
-X 54 -, or -X 54 -(CH 2 ) t5 -
[In the formula, X 53 , X 54 , s5 and t5 have the same meanings as above. ]
is.
より好ましくは、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－（ＣＨ２）ｔ５－、又は
－Ｘ５４－（ＣＨ２）ｔ５－
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。
More preferably, the above X A are each independently
single bond,
a C 1-20 alkylene group,
—(CH 2 ) s5 —X 53 —(CH 2 ) t5 —, or —X 54 —(CH 2 ) t5 —
[In the formula, each symbol has the same meaning as described above. ]
can be
好ましい態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－、又は
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－（ＣＨ２）ｔ５－
［式中、
Ｘ５３は、－Ｏ－、－ＣＯＮＲ５４－、又は－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－であり、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１－６アルキル基を表し、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
ｔ５は、１～２０の整数である。］
であり得る。
In a preferred embodiment, each of the above X A is independently
a single bond C 1-20 alkylene group,
—(CH 2 ) s5 —X 53 —, or —(CH 2 ) s5 —X 53 —(CH 2 ) t5 —
[In the formula,
X 53 is -O-, -CONR 54 -, or -O-CONR 54 -;
R 54 at each occurrence independently represents a hydrogen atom, a phenyl group or a C 1-6 alkyl group;
s5 is an integer from 1 to 20,
t5 is an integer from 1 to 20; ]
can be
好ましい態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ５－
－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）ｔ５－
［式中、
Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ１－６アルキル基を表し、
ｓ５は、１～２０の整数であり、
ｔ５は、１～２０の整数である。］
であり得る。
In a preferred embodiment, each of the above X A is independently
—(CH 2 ) s5 —O—(CH 2 ) t5 —
-CONR54- ( CH2 ) t5-
[In the formula,
R 54 at each occurrence independently represents a hydrogen atom, a phenyl group or a C 1-6 alkyl group;
s5 is an integer from 1 to 20,
t5 is an integer from 1 to 20; ]
can be
一の態様において、上記ＸＡは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ５－、
－（ＣＨ２）ｓ５－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－（ＣＨ２）ｔ５－、
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｏ－（ＣＨ２）u５－（Ｓｉ（Ｒ５３）２Ｏ）ｍ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－（ＣＨ２）ｔ５－、又は
－（ＣＨ２）ｓ５－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－（ＣＨ２）u５－Ｓｉ（Ｒ５３）２－（ＣvＨ２v）－
［式中、Ｒ５３、ｍ５、ｓ５、ｔ５及びｕ５は、上記と同意義であり、ｖ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。］
である。
In one aspect, each of the X A is independently
single bond,
a C 1-20 alkylene group,
—(CH 2 ) s5 —O—(CH 2 ) t5 —,
—(CH 2 ) s5 —(Si(R 53 ) 2 O) m5 —Si(R 53 ) 2 —(CH 2 ) t5 —,
—(CH 2 ) s5 —O—(CH 2 ) u5 —(Si(R 53 ) 2 O) m5 —Si(R 53 ) 2 —(CH 2 ) t5 — or —(CH 2 ) s5 —O— (CH 2 ) t5 —Si(R 53 ) 2 —(CH 2 ) u5 —Si(R 53 ) 2 —(C v H 2v )—
[In the formula, R 53 , m5, s5, t5 and u5 have the same meanings as above, and v5 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 2 to 6, more preferably an integer of 2 to 3. ]
is.
上記式中、－（ＣvＨ２v）－は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－であり得る。 In the above formula, -(C v H 2v )- may be linear or branched, for example -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH (CH 3 )—, —CH(CH 3 )CH 2 —.
上記ＸＡは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基及びＣ１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、ＸＡは、非置換である。 X A is each independently one or more selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group and a C 1-3 fluoroalkyl group (preferably a C 1-3 perfluoroalkyl group). It may be substituted by a substituent. In one aspect, X A is unsubstituted.
尚、上記ＸＡは、各式の左側がＲＦ１又はＲＦ２に結合し、右側がＲＳｉに結合する。 In addition, X A is bonded to R F1 or R F2 on the left side of each formula, and is bonded to R Si on the right side.
一の態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、－Ｏ－Ｃ１－６アルキレン基以外であり得る。 In one aspect, each X A can independently be other than a —O—C 1-6 alkylene group.
別の態様において、ＸＡとしては、例えば下記の基が挙げられる：
Ｄは、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）4－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、及び
から選択される基であり、
Ｅは、－（ＣＨ２）ｎ－（ｎは２～６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＲＦ１又はＲＦ２に結合し、Ｅは、ＲＳｉに結合する。］
In another aspect, X A includes, for example, the following groups:
D is
—CH 2 O(CH 2 ) 2 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 3 —,
—CF 2 O(CH 2 ) 3 —,
-(CH 2 ) 2 -,
-(CH 2 ) 3 -,
-(CH 2 ) 4 -,
—CONH—(CH 2 ) 3 —,
-CON(CH 3 )-(CH 2 ) 3 -,
-CON(Ph)-(CH 2 ) 3 -, where Ph means phenyl, and
is a group selected from
E is -(CH 2 ) n - (n is an integer of 2 to 6),
D is attached to R F1 or R F2 of the molecular backbone and E is attached to R Si . ]
上記ＸＡの具体的な例としては、例えば：
単結合、
－ＣＨ２ＯＣＨ２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）４－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）５－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、
－ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯ－、
－ＣＯＮＨ－、
－ＣＯＮＨ－ＣＨ２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）４－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）５－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）４－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）５－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－ＣＨ２－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）２－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）４－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）５－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ２）６－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）３－、
－ＣＨ２－Ｏ－（ＣＨ２）３－Ｓｉ（ＣＨ３）２－（ＣＨ２）２－Ｓｉ（ＣＨ３）２－ＣＨ（ＣＨ３）－ＣＨ２－、
－ＯＣＨ２－、
－Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＯＣＦＨＣＦ２－、
などが挙げられる。
Specific examples of X A above include:
single bond,
—CH 2 OCH 2 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 2 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 3 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 4 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 5 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 6 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 OSi(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 OSi(CH 3 ) 2 OSi(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 2 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 3 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 10 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 20 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —,
—CH 2 OCF 2 CHFOCF 2 —,
—CH 2 OCF 2 CHFOCF 2 CF 2 —,
-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2- , _ _ _
-CH2OCH2CF2CF2OCF2- , _ _ _
-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2- , _ _ _ _
-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2- , _ _ _ _ _
-CH2OCH2CF2CF2OCF ( CF3 ) CF2OCF2- , _
-CH2OCH2CF2CF2OCF ( CF3 ) CF2OCF2CF2- , _ _
-CH2OCH2CF2CF2OCF ( CF3 ) CF2OCF2CF2CF2- , _ _ _
-CH2OCH2CHFCF2OCF2- , _ _
-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2- , _ _ _
-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2- , _ _ _ _
-CH2OCH2CHFCF2OCF ( CF3 ) CF2OCF2- ,
-CH2OCH2CHFCF2OCF ( CF3 ) CF2OCF2CF2- , _
-CH2OCH2CHFCF2OCF ( CF3 ) CF2OCF2CF2CF2- , _ _
-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2 - C ( O)NH - CH2- ,
-CH2OCH2 ( CH2 ) 7CH2Si ( OCH3 ) 2OSi ( OCH3 ) 2 ( CH2 ) 2Si ( OCH3 ) 2OSi ( OCH3 ) 2 ( CH2 ) 2- ,
-CH2OCH2CH2CH2Si ( OCH3 ) 2OSi ( OCH3 ) 2 ( CH2 ) 3- ,
-CH2OCH2CH2CH2Si ( OCH2CH3 ) 2OSi ( OCH2CH3 ) 2 ( CH2 ) 3- ,
-CH2OCH2CH2CH2Si ( OCH3 ) 2OSi ( OCH3 ) 2 ( CH2 ) 2- ,
-CH2OCH2CH2CH2Si ( OCH2CH3 ) 2OSi ( OCH2CH3 ) 2 ( CH2 ) 2- ,
—(CH 2 ) 2 —Si(CH 3 ) 2 —(CH 2 ) 2 —,
-CH2- ,
-(CH 2 ) 2 -,
-(CH 2 ) 3 -,
-(CH 2 ) 4 -,
-(CH 2 ) 5 -,
-( CH2 ) 6- ,
-CO-,
-CONH-,
-CONH- CH2- ,
—CONH—(CH 2 ) 2 —,
—CONH—(CH 2 ) 3 —,
—CONH—(CH 2 ) 4 —,
—CONH—(CH 2 ) 5 —,
—CONH—(CH 2 ) 6 —,
-CON( CH3 ) -CH2- ,
-CON(CH 3 )-(CH 2 ) 2 -,
-CON(CH 3 )-(CH 2 ) 3 -,
-CON(CH 3 )-(CH 2 ) 4 -,
-CON(CH 3 )-(CH 2 ) 5 -,
-CON(CH 3 )-(CH 2 ) 6 -,
-CON(Ph)-CH 2 - (where Ph means phenyl),
-CON(Ph)-(CH 2 ) 2 - (wherein Ph means phenyl),
-CON(Ph)-(CH 2 ) 3 - (wherein Ph means phenyl),
-CON(Ph)-(CH 2 ) 4 - (wherein Ph means phenyl),
-CON(Ph)-(CH 2 ) 5 - (where Ph means phenyl),
-CON(Ph)-(CH 2 ) 6 - (wherein Ph means phenyl),
-CONH-(CH 2 ) 2 NH(CH 2 ) 3 -,
-CONH-( CH2 ) 6NH ( CH2 ) 3- ,
—CH 2 O—CONH—(CH 2 ) 3 —,
—CH 2 O—CONH—(CH 2 ) 6 —,
-S-(CH 2 ) 3 -,
-(CH 2 ) 2 S(CH 2 ) 3 -,
—CONH—(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 OSi(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —,
—CONH—(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 OSi(CH 3 ) 2 OSi(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —,
—CONH—(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 2 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —,
—CONH—(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 3 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —,
—CONH—(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 10 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —,
—CONH—(CH 2 ) 3 Si(CH 3 ) 2 O(Si(CH 3 ) 2 O) 20 Si(CH 3 ) 2 (CH 2 ) 2 —,
—C(O)O—(CH 2 ) 3 —,
—C(O)O—(CH 2 ) 6 —,
—CH 2 —O—(CH 2 ) 3 —Si(CH 3 ) 2 —(CH 2 ) 2 —Si(CH 3 ) 2 —(CH 2 ) 2 —,
—CH 2 —O—(CH 2 ) 3 —Si(CH 3 ) 2 —(CH 2 ) 2 —Si(CH 3 ) 2 —CH(CH 3 )—,
—CH 2 —O—(CH 2 ) 3 —Si(CH 3 ) 2 —(CH 2 ) 2 —Si(CH 3 ) 2 —(CH 2 ) 3 —,
—CH 2 —O—(CH 2 ) 3 —Si(CH 3 ) 2 —(CH 2 ) 2 —Si(CH 3 ) 2 —CH(CH 3 )—CH 2 —,
-OCH2- ,
—O(CH 2 ) 3 —,
-OCFHCF2- ,
etc.
さらに別の態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、式：－（Ｒ１６）ｘ１－（ＣＦＲ１７）ｙ１－（ＣＨ２）ｚ１－で表される基である。式中、ｘ１、ｙ１及びｚ１は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｘ１、ｙ１及びｚ１の和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。 In yet another aspect, each X A is independently a group of the formula: -(R 16 ) x1 -(CFR 17 ) y1 -(CH 2 ) z1 -. In the formula, x1, y1 and z1 are each independently an integer of 0 to 10, the sum of x1, y1 and z1 is 1 or more, and the order of existence of each parenthesized repeating unit is is optional in
上記式中、Ｒ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、－ＮＲ１８－（式中、Ｒ１８は、水素原子又は有機基を表す）又は２価の有機基である。好ましくは、Ｒ１８は、酸素原子又は２価の極性基である。 In the above formula, each occurrence of R 16 is independently an oxygen atom, phenylene, carbazolylene, —NR 18 — (wherein R 18 represents a hydrogen atom or an organic group) or a divalent organic group. be. Preferably, R 18 is an oxygen atom or a divalent polar group.
上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（＝ＮＲ１９）－、及び－Ｃ（Ｏ）ＮＲ１９－（これらの式中、Ｒ１９は、水素原子又は低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１～６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピルであり、これらは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。 The above-mentioned "divalent polar group" is not particularly limited, but -C(O)-, -C(=NR 19 )-, and -C(O)NR 19 - (in these formulas, R 19 is , represents a hydrogen atom or a lower alkyl group). The "lower alkyl group" is, for example, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, which may be substituted with one or more fluorine atoms.
上記式中、Ｒ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１～６、好ましくは炭素数１～３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１～３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。 In the above formula, each occurrence of R 17 is independently a hydrogen atom, a fluorine atom or a lower fluoroalkyl group, preferably a fluorine atom. The "lower fluoroalkyl group" is, for example, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably a fluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably a trifluoromethyl group, It is a pentafluoroethyl group, more preferably a trifluoromethyl group.
さらに別の態様において、ＸＡの例として、下記の基が挙げられる：
Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、又はＣ１－６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各ＸＡ基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＲＦ１又はＲＦ２に結合する以下の基：
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２－、
－ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）２－、
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）4－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ３）－（ＣＨ２）３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ２）３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、又は
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＲＳｉに結合し、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ１－６アルコキシ基又はラジカル捕捉基又は紫外線吸収基である。
In yet another aspect, examples of X A include the groups:
each R 41 is independently a hydrogen atom, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a C 1-6 alkoxy group, preferably a methyl group;
In each X A group any one of the T's are attached to R F1 or R F2 of the molecular backbone:
—CH 2 O(CH 2 ) 2 —,
—CH 2 O(CH 2 ) 3 —,
—CF 2 O(CH 2 ) 3 —,
-(CH 2 ) 2 -,
-(CH 2 ) 3 -,
-(CH 2 ) 4 -,
—CONH—(CH 2 ) 3 —,
-CON(CH 3 )-(CH 2 ) 3 -,
-CON(Ph)-(CH 2 ) 3 - (where Ph means phenyl), or
and some of the other T's are attached to R Si of the molecular backbone and, if present, the remaining T's are each independently a methyl group, a phenyl group, a C 1-6 alkoxy group or a radical scavenging group group or UV-absorbing group.
ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、又はトリアジン類の残基が挙げられる。 The radical scavenging group is not particularly limited as long as it can scavenge radicals generated by light irradiation. , hindered amines, hindered phenols, or triazines.
紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換及び未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレート又はアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。 The ultraviolet absorbing group is not particularly limited as long as it can absorb ultraviolet rays. Examples include residues of oxanilides, benzoxazinones, and benzoxazoles.
好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基又は紫外線吸収基としては、
この態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、３～１０価の有機基であり得る。 In this aspect, each X A can independently be a trivalent to decavalent organic group.
さらに別の態様において、ＸＡの例として、下記の基が挙げられる：
Ｒ２５は、少なくとも１つのＲＦ１に結合し、Ｒ２６及びＲ２７は、それぞれ、少なくとも１つのＲＳｉに結合する。］
In yet another aspect, examples of X A include the groups:
R 25 is bound to at least one R 2 F1 and R 26 and R 27 are each bound to at least one R 2 Si . ]
一の態様において、上記Ｒ２５は、単結合、Ｃ１－２０アルキレン基、Ｃ３－２０シクロアルキレン基、Ｃ５－２０アリーレン基、－Ｒ５７－Ｘ５８－Ｒ５９－、－Ｘ５８－Ｒ５９－、又は－Ｒ５７－Ｘ５８－である。上記、Ｒ５７及びＲ５９は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ１－２０アルキレン基、Ｃ３－２０シクロアルキレン基、又はＣ５－２０アリーレン基である。上記Ｘ５８は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－又は－ＣＯＯ－である。 In one embodiment, R 25 above is a single bond, a C 1-20 alkylene group, a C 3-20 cycloalkylene group, a C 5-20 arylene group, -R 57 -X 58 -R 59 -, -X 58 - R 59 -, or -R 57 -X 58 -. R 57 and R 59 above are each independently a single bond, a C 1-20 alkylene group, a C 3-20 cycloalkylene group, or a C 5-20 arylene group. X 58 above is -O-, -S-, -CO-, -O-CO- or -COO-.
一の態様において、上記Ｒ２６及びＲ２７は、それぞれ独立して、炭化水素、又は炭化水素の端又は主鎖中にＮ、Ｏ及びＳから選択される少なくとも１つの原子を有する基であり、好ましくは、Ｃ１－６アルキル基、－Ｒ３６－Ｒ３７－Ｒ３６－、－Ｒ３６－ＣＨＲ３８ ２－などが挙げられる。ここに、Ｒ３６は、それぞれ独立して、単結合又は炭素数１～６のアルキル基、好ましくは炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ３７は、Ｎ、Ｏ又はＳであり、好ましくはＮ又はＯである。Ｒ３８は、－Ｒ４５－Ｒ４６－Ｒ４５－、－Ｒ４６－Ｒ４５－又は－Ｒ４５－Ｒ４６－である。ここに、Ｒ４５は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ４６は、Ｎ、Ｏ又はＳであり、好ましくはＯである。 In one embodiment, R 26 and R 27 are each independently a hydrocarbon or a group having at least one atom selected from N, O and S in the end or main chain of the hydrocarbon, Preferred are C 1-6 alkyl group, —R 36 —R 37 —R 36 —, —R 36 —CHR 38 2 — and the like. Here, each R 36 is independently a single bond or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 37 is N, O or S, preferably N or O. R 38 is -R 45 -R 46 -R 45 -, -R 46 -R 45 - or -R 45 -R 46 -. Here, each R 45 is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 46 is N, O or S, preferably O.
この態様において、ＸＡは、それぞれ独立して、３～１０価の有機基であり得る。 In this aspect, each X A can independently be a trivalent to decavalent organic group.
上記式（１）又は式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０２～１×１０５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００～３２，０００、より好ましくは２，５００～１２，０００の平均分子量を有することが、摩耗耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「平均分子量」は、数平均分子量を言い、「平均分子量」は、１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。 The fluoropolyether group-containing silane compound represented by the formula (1) or (2) is not particularly limited, but may have an average molecular weight of 5×10 2 to 1×10 5 . Among these ranges, from the viewpoint of abrasion resistance, it is preferable to have an average molecular weight of 2,000 to 32,000, more preferably 2,500 to 12,000. The "average molecular weight" refers to the number average molecular weight, and the "average molecular weight" is a value measured by 19 F-NMR.
一の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（１）で表される化合物である。 In one aspect, the fluoropolyether group-containing silane compound in the surface treatment agent of the present disclosure is a compound represented by formula (1).
別の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（２）で表される化合物である。 In another aspect, the fluoropolyether group-containing silane compound in the surface treatment agent of the present disclosure is a compound represented by Formula (2).
別の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（１）で表される化合物及び式（２）で表される化合物である。 In another aspect, the fluoropolyether group-containing silane compound in the surface treatment agent of the present disclosure is the compound represented by Formula (1) and the compound represented by Formula (2).
本開示の表面処理剤中、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対して、式（２）で表される化合物が、好ましくは０．１モル％以上３５モル％以下である。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％又は１０モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下又は５モル％以上１０モル％以下である。式（２）で表される化合物をかかる範囲とすることにより、より摩耗耐久性を向上させることができる。 In the surface treatment agent of the present disclosure, the compound represented by formula (2) is preferably 0.1 with respect to the total of the compound represented by formula (1) and the compound represented by formula (2) It is mol % or more and 35 mol % or less. The lower limit of the content of the compound represented by formula (2) with respect to the total of the compound represented by formula (1) and the compound represented by formula (2) is preferably 0.1 mol%, more preferably It can be 0.2 mol %, more preferably 0.5 mol %, even more preferably 1 mol %, particularly preferably 2 mol %, especially 5 mol %. The upper limit of the content of the compound represented by formula (2) with respect to the total of the compound represented by formula (1) and the compound represented by formula (2) is preferably 35 mol%, more preferably 30 mol %, more preferably 20 mol %, even more preferably 15 mol % or 10 mol %. The compound represented by formula (2) with respect to the total of the compound represented by formula (1) and the compound represented by formula (2) is preferably 0.1 mol% or more and 30 mol% or less, more preferably 0.1 mol% or more and 20 mol% or less, more preferably 0.2 mol% or more and 10 mol% or less, even more preferably 0.5 mol% or more and 10 mol% or less, particularly preferably 1 mol% or more and 10 mol% or less Hereinafter, for example, it is 2 mol % or more and 10 mol % or less, or 5 mol % or more and 10 mol % or less. By setting the content of the compound represented by formula (2) within such a range, it is possible to further improve wear resistance.
上記の式（１）又は（２）で表される化合物は、例えば、上記特許文献１に記載の方法により得ることができる。 The compound represented by formula (1) or (2) above can be obtained, for example, by the method described in Patent Document 1 above.
上記の式（１）又は（２）で表される化合物の含有量は、表面処理剤全体に対して、好ましくは０．１～５０．０質量％、より好ましくは１．０～３０．０質量％、さらに好ましくは５．０～２５．０質量％、特に好ましくは１０．０～２０．０質量％であり得る。上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の含有量を上記の範囲にすることにより、より高い撥水撥油性を得ることができる。 The content of the compound represented by the above formula (1) or (2) is preferably 0.1 to 50.0% by mass, more preferably 1.0 to 30.0% by mass, based on the total surface treatment agent. % by weight, more preferably 5.0 to 25.0% by weight, particularly preferably 10.0 to 20.0% by weight. By setting the content of the fluoropolyether group-containing silane compound within the above range, higher water and oil repellency can be obtained.
一の態様において、本開示の表面処理剤は、一分子中に、加水分解性基から選択される２種以上のＳｉ結合基を有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む。 In one aspect, the surface treatment agent of the present disclosure contains a fluoropolyether group-containing silane compound having two or more Si-bonded groups selected from hydrolyzable groups in one molecule.
上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物が、一分子中に加水分解性基から選択される２種以上のＳｉ結合基を有する場合、各種の加水分解性基は、同じＳｉ原子に結合していても、別のＳｉ原子に結合していてもよい。例えば、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物が、加水分解性基を有するシリル基として－ＳｉＲ１１ ３を２つ含む場合、－ＳｉＲ１１ ３におけるＲ１１が２種以上であってもよく、あるいは、各－ＳｉＲ１１ ３における３つのＲ１１はすべて同じ基であって、２つのシリル基間でＲ１１が異なっていてもよい。好ましい態様において、各種の加水分解性基は、同じＳｉ原子に結合する。 When the fluoropolyether group-containing silane compound has two or more Si-bonded groups selected from hydrolyzable groups in one molecule, the various hydrolyzable groups may be bonded to the same Si atom. , may be bonded to another Si atom. For example, when the fluoropolyether group-containing silane compound contains two —SiR 11 3 as silyl groups having hydrolyzable groups, two or more R 11 in —SiR 11 3 may be present, or each All three R 11 in —SiR 11 3 are the same group, and R 11 may be different between the two silyl groups. In preferred embodiments, the various hydrolyzable groups are attached to the same Si atom.
上記態様において、好ましくは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、－ＳｉＲ６１Ｒ６２ ２（Ｒ６１は、加水分解性基であり、Ｒ６２は、Ｒ６１とは別の加水分解性基である。）を有する。 In the above aspect, the fluoropolyether group-containing silane compound is preferably —SiR 61 R 62 2 (R 61 is a hydrolyzable group, R 62 is a hydrolyzable group different from R 61 ).
別の態様において、本開示の表面処理剤は、加水分解性基から選択される異なるＳｉ結合基をそれぞれ有する、２種以上のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む。即ち、本開示の表面処理剤は、ある加水分解性基であるＳｉ結合基を有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物と、別の加水分解性基であるＳｉ結合基を有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物とを含む。かかる態様において、１種のフルオロポリエーテル基含有化合物に存在する加水分解性基は、１種のみであっても、２種以上であってもよい。好ましい態様において、１種のフルオロポリエーテル基含有化合物に存在する加水分解性基は、１種のみである。 In another aspect, the surface treatment agent of the present disclosure comprises two or more fluoropolyether group-containing silane compounds each having a different Si-bonded group selected from hydrolyzable groups. That is, the surface treatment agent of the present disclosure includes a fluoropolyether group-containing silane compound having a hydrolyzable Si-bonded group and a fluoropolyether group-containing silane compound having another hydrolyzable Si-bonded group. compounds. In this embodiment, the number of hydrolyzable groups present in one fluoropolyether group-containing compound may be one, or two or more. In a preferred embodiment, only one hydrolyzable group is present in one fluoropolyether group-containing compound.
上記態様において、好ましくは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、各化合物において独立して、－ＳｉＲ６１ ３（Ｒ６１は、同一の加水分解性基である。）を有する。 In the above aspect, the fluoropolyether group-containing silane compounds preferably have —SiR 61 3 (R 61 are the same hydrolyzable group) independently in each compound.
一の態様において、上記加水分解性基は、共役塩基を放出しない基である。 In one aspect, the hydrolyzable group is a group that does not release a conjugate base.
上記加水分解性基は、それぞれ独立して、好ましくは、－ＯＲｊ、－ＯＲｋ－ＯＲｊ、－ＯＣＯＲｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｊ ２、－ＮＲｊ ２、－ＮＨＲｊ、－ＮＣＯ、及びハロゲンからなる群、好ましくは－ＯＲｊ、－ＯＲｋ－ＯＲｊ、及びハロゲンからなる群から選択される。Ｒｊは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキル基であり、Ｒｋは、置換又は非置換のＣ１－１０アルキレン基である。 The above hydrolyzable groups are each independently preferably -OR j , -OR k -OR j , -OCOR j , -ON=CR j 2 , -NR j 2 , -NHR j , -NCO , and halogen, preferably selected from the group consisting of —OR j , —OR k —OR j , and halogen. R j is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkyl group and R k is a substituted or unsubstituted C 1-10 alkylene group.
一の態様において、上記Ｃ１－１０アルキル基は、非置換である。 In one aspect, the C 1-10 alkyl group is unsubstituted.
一の態様において、上記Ｃ１－１０アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。 In one aspect, the C 1-10 alkyl group may be linear or branched, but is preferably linear.
上記Ｃ１－１０アルキル基は、好ましくはＣ１－６アルキル基、より好ましくはＣ１－４アルキル基である。 The C 1-10 alkyl group is preferably a C 1-6 alkyl group, more preferably a C 1-4 alkyl group.
上記Ｃ１－１０アルキル基は、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、又はイソブチル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。 The C 1-10 alkyl group is preferably methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group or isobutyl group, more preferably methyl group or ethyl group.
一の態様において、上記Ｃ１－１０アルキレン基は、非置換である。 In one aspect, the C 1-10 alkylene group is unsubstituted.
一の態様において、上記Ｃ１－１０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。 In one aspect, the C 1-10 alkylene group may be linear or branched, but is preferably linear.
上記Ｃ１－１０アルキレン基は、好ましくはＣ１－６アルキレン基、より好ましくはＣ１－４アルキレン基である。 The C 1-10 alkylene group is preferably a C 1-6 alkylene group, more preferably a C 1-4 alkylene group.
上記Ｃ１－１０アルキル基は、好ましくは、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、又は－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－である。 The C 1-10 alkyl group is preferably -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -.
好ましい態様において、本開示の表面処理剤中に存在する加水分解性基は、２種である。 In a preferred embodiment, two types of hydrolyzable groups are present in the surface treatment agent of the present disclosure.
さらに好ましい態様において、上記２種の加水分解性基は、－ＯＲｊ及び－ＯＲｋ－ＯＲｊである。 In a further preferred embodiment, the two hydrolyzable groups are -OR j and -OR k -OR j .
一の態様において、上記２種の加水分解性基は、１つのフルオロポリエーテル基含有シラン化合物中に存在する。一の態様において、上記２種の加水分解性基は、１つのシリル基中に存在する。 In one embodiment, the two hydrolyzable groups are present in one fluoropolyether group-containing silane compound. In one aspect, the two hydrolyzable groups are present in one silyl group.
別の態様において、上記２種の加水分解性基は、それぞれ別のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物中に存在する。 In another embodiment, the two hydrolyzable groups are present in separate fluoropolyether group-containing silane compounds.
本開示の表面処理剤中の各Ｓｉ結合基の含有量は、全Ｓｉ結合基に対して、好ましくは１～９９モル％、より好ましくは２～９８モル％である。一の態様において、本開示の表面処理剤中の各加水分解性基の含有量は、全Ｓｉ結合基に対して、好ましくは１～９９モル％、より好ましくは２～９８モル％である。 The content of each Si-bonded group in the surface treatment agent of the present disclosure is preferably 1-99 mol %, more preferably 2-98 mol %, based on the total Si-bonded groups. In one aspect, the content of each hydrolyzable group in the surface treatment agent of the present disclosure is preferably 1 to 99 mol%, more preferably 2 to 98 mol%, based on all Si-bonded groups.
加水分解性基が２種である場合、本開示の表面処理剤中の一方の加水分解性基の含有量は、全Ｓｉ結合基に対して、好ましくは０．１～５０モル％、より好ましくは１～３０モル％、より好ましくは２～２０モル％である。 When there are two types of hydrolyzable groups, the content of one of the hydrolyzable groups in the surface treatment agent of the present disclosure is preferably 0.1 to 50 mol%, more preferably 0.1 to 50 mol%, based on all Si-bonded groups. is 1 to 30 mol %, more preferably 2 to 20 mol %.
加水分解性基が－ＯＲｊ及び－ＯＲｋ－ＯＲｊである場合、本開示の表面処理剤中の－ＯＲｋ－ＯＲｊの含有量は、全Ｓｉ結合基に対して、好ましくは０．１～５０モル％、より好ましくは１～３０モル％、より好ましくは２～２０モル％である。 When the hydrolyzable groups are -OR j and -OR k -OR j , the content of -OR k -OR j in the surface treatment agent of the present disclosure is preferably 0.00 to 0.000 relative to all Si-bonded groups. It is 1 to 50 mol %, more preferably 1 to 30 mol %, more preferably 2 to 20 mol %.
本開示の表面処理剤は、溶媒、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アルコール類、相溶化剤、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。 The surface treatment agent of the present disclosure is a solvent, a (non-reactive) fluoropolyether compound, preferably a perfluoro(poly)ether compound, which can be understood as a solvent, a fluorine-containing oil (hereinafter collectively referred to as "fluorine-containing oil"). , a (non-reactive) silicone compound that can be understood as silicone oil (hereinafter referred to as "silicone oil"), alcohols, compatibilizers, catalysts, surfactants, polymerization inhibitors, sensitizers, etc. .
上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、（ＣＦ３）２ＣＨＯＨ等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。 Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, and mineral spirits; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, naphthalene, and solvent naphtha. ; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, n-butyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate, carbitol acetate, diethyl oxalate, ethyl pyruvate, ethyl-2-hydroxybutyrate , ethyl acetoacetate, amyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 2-hydroxyisobutyrate, ethyl 2-hydroxyisobutyrate and other esters; acetone, methyl ethyl ketone, Ketones such as methyl isobutyl ketone, 2-hexanone, cyclohexanone, methylaminoketone, 2-heptanone; ethyl cellosolve, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol Glycol ethers such as monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoalkyl ether; methanol, ethanol, iso-propanol, n-butanol, alcohols such as isobutanol, tert-butanol, sec-butanol, 3-pentanol, octyl alcohol, 3-methyl-3-methoxybutanol, tert-amyl alcohol; glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; tetrahydrofuran, tetrahydro Cyclic ethers such as pyran and dioxane; amides such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide; ether alcohols such as methyl cellosolve, cellosolve, isopropyl cellosolve, butyl cellosolve, and diethylene glycol monomethyl ether; diethylene glycol monoethyl ether Acetate; 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane, 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoro Roethane, dimethylsulfoxide, 1,1 - dichloro-1,2,2,3,3 - pentafluoropropane (HCFC225), Zeorora H, HFE7100, HFE7200 , HFE7300, CF3CH2OH , CF3CF2CH2OH , (CF 3 ) 2 CHOH and other fluorine-containing solvents. Alternatively, a mixed solvent of two or more of these may be used.
含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ５－（ＯＣ４Ｆ８）ａ’－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’－（ＯＣＦ２）ｄ’－Ｒｆ６ ・・・（３）
式中、Ｒｆ５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒｆ５及びＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１－３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－及び（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ３Ｆ６）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－及び（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－及び（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－である。
Examples of the fluorine-containing oil include, but are not limited to, compounds represented by the following general formula (3) (perfluoro(poly)ether compounds).
Rf5- ( OC4F8 ) a' -( OC3F6 ) b' -( OC2F4 ) c ' -( OCF2 ) d'- Rf6 ( 3 )
In the formula, Rf 5 represents a C 1-16 alkyl group (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group) optionally substituted with one or more fluorine atoms, and Rf 6 is represents a C 1-16 alkyl group optionally substituted with one or more fluorine atoms (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group), a fluorine atom or a hydrogen atom, and Rf 5 and Rf 6 , more preferably each independently a C 1-3 perfluoroalkyl group.
a', b', c' and d' each represent the number of four types of repeating units of perfluoro(poly)ether constituting the main skeleton of the polymer, and are independently integers of 0 or more and 300 or less, , a′, b′, c′ and d′ are at least 1, preferably 1-300, more preferably 20-300. The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with subscript a', b', c' or d' is arbitrary in the formula. Among these repeating units, -(OC 4 F 8 )- is -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 ) CF 2 )-,-(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 ))-,-(OC(CF 3 ) 2 CF 2 )-,-(OCF 2 C(CF 3 ) 2 )-,-(OCF (CF 3 )CF(CF 3 ))-, -(OCF(C 2 F 5 )CF 2 )- and (OCF 2 CF(C 2 F 5 ))-, preferably - (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-. -(OC 3 F 6 )- may be any of -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 )- and (OCF 2 CF(CF 3 ))- , preferably -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-. -(OC 2 F 4 )- may be either -(OCF 2 CF 2 )- or (OCF(CF 3 ))-, but is preferably -(OCF 2 CF 2 )-.
上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ５－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”－Ｒｆ６ ・・・（３ａ）
Ｒｆ５－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ”－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ”－（ＯＣＦ２）ｄ”－Ｒｆ６ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ５及びＲｆ６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”及びｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”及びｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
Examples of perfluoro(poly)ether compounds represented by the general formula (3) include compounds represented by any of the following general formulas (3a) and (3b) (one or a mixture of two or more) may be used).
Rf 5 -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) b″ -Rf 6 (3a)
Rf5- ( OCF2CF2CF2CF2 ) a" -( OCF2CF2CF2 ) b" - ( OCF2CF2 ) c " -( OCF2 ) d" -Rf6 ... (3b )
In these formulas, Rf 5 and Rf 6 are as described above; in formula (3a), b″ is an integer of 1 or more and 100 or less; is an integer of 0 or more and 30 or less, and c" and d" are each independently an integer of 1 or more and 300 or less. The order of existence of each repeating unit is arbitrary in the formula.
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ３－Ｆ（式中、Ｒｆ３はＣ５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。 From another point of view, the fluorine-containing oil may be a compound represented by the general formula Rf 3 —F (wherein Rf 3 is a C 5-16 perfluoroalkyl group). It may also be a chlorotrifluoroethylene oligomer.
上記含フッ素オイルは、５００～１００００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。 The fluorine-containing oil may have an average molecular weight of 500-10,000. The molecular weight of the fluorine-containing oil can be measured using GPC.
含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の表面処理剤は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、又は極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。 The fluorine-containing oil may be contained in an amount of, for example, 0 to 50% by mass, preferably 0 to 30% by mass, more preferably 0 to 5% by mass, based on the surface treatment agent of the present disclosure. In one aspect, the surface treatment agent of the present disclosure is substantially free of fluorine-containing oil. “Substantially free of fluorine-containing oil” means that it does not contain fluorine-containing oil at all, or may contain a very small amount of fluorine-containing oil.
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、特に真空蒸着法により表面処理層を形成する場合において、より優れた摩耗耐久性と表面滑り性を得ることができる。 In one aspect, the average molecular weight of the fluorine-containing oil may be larger than the average molecular weight of the fluoropolyether group-containing silane compound. With such an average molecular weight, particularly when the surface treatment layer is formed by a vacuum deposition method, it is possible to obtain more excellent abrasion resistance and surface lubricity.
一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、かかる化合物から得られる表面処理層の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩耗耐久性及び高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。 In one aspect, the average molecular weight of the fluorine-containing oil may be smaller than the average molecular weight of the fluoropolyether group-containing silane compound. With such an average molecular weight, it is possible to form a cured product having high abrasion resistance and high surface slipperiness while suppressing deterioration of the transparency of the surface treatment layer obtained from such a compound.
含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。 The fluorine-containing oil contributes to improving the surface lubricity of the layer formed by the surface treatment agent of the present disclosure.
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。 As the silicone oil, for example, linear or cyclic silicone oil having 2,000 or less siloxane bonds can be used. Linear silicone oils may be so-called straight silicone oils and modified silicone oils. Examples of straight silicone oils include dimethylsilicone oil, methylphenylsilicone oil, and methylhydrogensilicone oil. Modified silicone oils include those obtained by modifying straight silicone oils with alkyl, aralkyl, polyether, higher fatty acid ester, fluoroalkyl, amino, epoxy, carboxyl, alcohol and the like. Cyclic silicone oil includes, for example, cyclic dimethylsiloxane oil.
本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。 In the surface treatment agent of the present disclosure, such a silicone oil is added to a total of 100 parts by mass of the fluoropolyether group-containing silane compound of the present disclosure (the sum of these when two or more types, the same applies hereinafter), for example It can be contained in an amount of 0 to 300 parts by weight, preferably 50 to 200 parts by weight.
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。 Silicone oil contributes to improving the surface lubricity of the surface treatment layer.
上記アルコール類としては、例えば１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１０のアルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類、ＣＦ３ＣＨ２ＯＨ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、（ＣＦ３）２ＣＨＯＨが挙げられる。これらのアルコールは、単独であっても、または２種以上であってもよい。一の態様において、アルコールは２種以上、例えば２～５種であり得る。これらのアルコール類を表面処理剤に添加することにより、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物と溶媒の相溶性を改善させる。また、Ｓｉ結合基の一部とアルコール由来のアルコキシ基が置換することにより、表面処理剤中のＳｉ結合基の種類を増やすことができる。 Examples of the alcohols include alcohols having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted with one or more fluorine atoms, such as methanol, ethanol, iso-propanol, tert-butanol, methyl cellosolve, cellosolve, and isopropyl. Ether alcohols such as cellosolve, butyl cellosolve, diethylene glycol monomethyl ether, CF 3 CH 2 OH, CF 3 CF 2 CH 2 OH and (CF 3 ) 2 CHOH. These alcohols may be used alone or in combination of two or more. In one embodiment, the alcohols can be 2 or more, such as 2-5. By adding these alcohols to the surface treatment agent, the compatibility between the perfluoropolyether group-containing silane compound and the solvent is improved. In addition, by substituting part of the Si-bonded groups with alcohol-derived alkoxy groups, the types of Si-bonded groups in the surface treatment agent can be increased.
上記相溶化剤としては、２，２，２－トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール又は２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロ－１－ペンタノール等のフッ素置換アルコール、好ましくは末端がＣＦ２Ｈであるフッ素置換アルコール、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等のフッ素置換アリール、好ましくはフッ素置換ベンゼン等が挙げられる。 As the compatibilizer, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol or 2,2,3,3,4,4,5,5- fluorine-substituted alcohols such as octafluoro-1-pentanol, preferably fluorine-substituted alcohols having CF 2 H at the terminal, fluorine-substituted aryls such as 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene, preferably fluorine-substituted benzene, and the like; mentioned.
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等））、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。 Examples of the catalyst include acids (eg, acetic acid, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, sulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid, etc.), bases (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, triethylamine, diethylamine etc.)), transition metals (such as Ti, Ni, Sn, etc.), and the like.
触媒は、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の加水分解及び脱水縮合を促進し、本開示の表面処理剤により形成される層の形成を促進する。 The catalyst promotes hydrolysis and dehydration condensation of the fluoropolyether group-containing silane compound of the present disclosure and promotes formation of the layer formed by the surface treatment agent of the present disclosure.
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。 Other components include, in addition to the above, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, methyltriacetoxysilane, and the like.
本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。 The surface treatment agent of the present disclosure can be formed into pellets by impregnating a porous material such as a porous ceramic material, metal fiber such as steel wool into a flocculated material. The pellet can be used, for example, for vacuum deposition.
本開示の表面処理剤は、上記した成分に加え、不純物として、例えばＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、シランの縮合物などを微量含み得る。 In addition to the components described above, the surface treatment agent of the present disclosure contains trace amounts of impurities such as Pt, Rh, Ru, 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, triphenylphosphine, NaCl, KCl, and silane condensates. obtain.
以下、本開示の物品について説明する。 Articles of the present disclosure are described below.
本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。 The article of the present disclosure includes a base material and a layer (surface treatment layer) formed on the surface of the base material from the surface treatment agent of the present disclosure.
本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。 Substrates that can be used in the present disclosure include, for example, glass, resins (natural or synthetic resins, such as common plastic materials), metals, ceramics, semiconductors (silicon, germanium, etc.), fibers (woven fabrics, non-woven fabrics etc.), fur, leather, wood, ceramics, stone, etc., construction members, etc., sanitary products, and any suitable material.
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｔａ３Ｏ５，Ｎｂ２Ｏ５、ＨｆＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。 For example, when the article to be manufactured is an optical member, the material forming the surface of the substrate may be a material for optical members, such as glass or transparent plastic. Moreover, when the article to be manufactured is an optical member, some layer (or film) such as a hard coat layer or an antireflection layer may be formed on the surface (outermost layer) of the substrate. The antireflection layer may be either a single antireflection layer or a multi-layer antireflection layer. Examples of inorganic materials that can be used for the antireflection layer include SiO2 , SiO, ZrO2 , TiO2 , TiO , Ti2O3 , Ti2O5 , Al2O3 , Ta2O5 , Ta3O5 . , Nb 2 O 5 , HfO 2 , Si 3 N 4 , CeO 2 , MgO, Y 2 O 3 , SnO 2 , MgF 2 , WO 3 and the like. These inorganic substances may be used alone or in combination of two or more (for example, as a mixture). In the case of a multi-layer antireflection layer, it is preferable to use SiO 2 and/or SiO for the outermost layer. When the article to be manufactured is an optical glass component for a touch panel, a thin film using a transparent electrode such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide is provided on part of the surface of the substrate (glass). may be In addition, depending on its specific specifications, the substrate may be an insulating layer, an adhesive layer, a protective layer, a decorative frame layer (I-CON), an atomized film layer, a hard coating film layer, a polarizing film, a phase retardation film, and a liquid crystal display module.
上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。 The shape of the substrate is not particularly limited, and may be, for example, plate-like, film, or other shapes. Moreover, the surface region of the base material on which the surface treatment layer is to be formed may be at least part of the surface of the base material, and can be appropriately determined according to the application and specific specifications of the article to be manufactured.
一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜又は熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。 In one embodiment, such a substrate may consist of a material that originally has hydroxyl groups, at least at its surface portion. Examples of such materials include glass, metals (particularly base metals), ceramics, and semiconductors on which a natural oxide film or thermal oxide film is formed. Alternatively, in the case where the base material does not have sufficient hydroxyl groups or does not originally have hydroxyl groups, such as resins, hydroxyl groups are introduced onto the surface of the base material by subjecting the base material to some pretreatment. can be increased or increased. Examples of such pretreatment include plasma treatment (eg, corona discharge) and ion beam irradiation. Plasma treatment can introduce or increase hydroxyl groups on the substrate surface, and can also be suitably used to clean the substrate surface (remove foreign matter and the like). Further, as another example of such a pretreatment, an interfacial adsorbent having a carbon-carbon unsaturated bond group is preliminarily formed on the substrate surface by a monomolecular film by the LB method (Langmuir-Blodgett method), a chemical adsorption method, or the like. A method in which the unsaturated bond is cleaved in an atmosphere containing oxygen, nitrogen, or the like is exemplified.
別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。 Alternatively, such a substrate may comprise, at least a portion of its surface, another reactive group, such as a silicone compound having one or more Si—H groups, or a material comprising an alkoxysilane. .
好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。 In a preferred embodiment, the substrate is glass. As such glass, sapphire glass, soda lime glass, alkali aluminosilicate glass, borosilicate glass, alkali-free glass, crystal glass, and quartz glass are preferable, and chemically strengthened soda lime glass, chemically strengthened alkali aluminosilicate glass, and chemically bonded borosilicate glasses are particularly preferred.
本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。 The article of the present disclosure is produced by forming a layer of the surface treatment agent of the present disclosure on the surface of the substrate, and post-treating this layer as necessary, thereby forming a layer from the surface treatment agent of the present disclosure. It can be manufactured by forming.
本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。 Layer formation of the surface treatment agent of the present disclosure can be carried out by applying the surface treatment agent to the surface of the substrate so as to coat the surface. A coating method is not particularly limited. For example, wet coating methods and dry coating methods can be used.
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング及び類似の方法が挙げられる。 Examples of wet coating methods include dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, roll coating, gravure coating and similar methods.
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。 Examples of dry coating methods include vapor deposition (usually vacuum deposition), sputtering, CVD and similar methods. Specific examples of vapor deposition methods (usually vacuum vapor deposition methods) include resistance heating, electron beams, high-frequency heating using microwaves, ion beams, and similar methods. Examples of CVD methods include plasma-CVD, optical CVD, thermal CVD, and similar methods.
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。 Furthermore, coating by the atmospheric pressure plasma method is also possible.
湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン及びパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））など。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）及び／又はパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）が特に好ましい。 When using wet coating methods, the surface treatment agents of the present disclosure may be diluted with a solvent prior to application to the substrate surface. From the viewpoint of the stability of the composition of the present disclosure and the volatility of the solvent, the following solvents are preferably used: perfluoroaliphatic hydrocarbons having 5 to 12 carbon atoms (for example, perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane and perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane); polyfluoroaromatic hydrocarbons (eg, bis(trifluoromethyl)benzene); polyfluoroaliphatic hydrocarbons (eg, C 6 F 13 CH 2 CH 3 (eg, Asahi Glass Asahiklin (registered trademark) AC-6000 manufactured by Co., Ltd.), 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane (for example, Zeorora (registered trademark) H manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.); Hydrofluoroethers (HFE) (e.g. perfluoropropyl methyl ether ( C3F7OCH3 ) (e.g. Novec™ 7000 from Sumitomo 3M) , perfluorobutyl methyl ether ( C4F9OCH3 ) ) (e.g. Novec (trademark) 7100 manufactured by Sumitomo 3M), perfluorobutyl ethyl ether ( C4F9OC2H5 ) (e.g. Novec (trademark) 7200 manufactured by Sumitomo 3M), perfluoro Alkyl perfluoroalkyl ethers ( perfluoroalkyl groups and alkyl groups are directly may be chain or branched), or CF 3 CH 2 OCF 2 CHF 2 (eg Asahiklin (registered trademark) AE-3000 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), etc. These solvents may be used alone or , can be used as a mixture of two or more, among which hydrofluoroethers are preferred, and perfluorobutyl methyl ether (C 4 F 9 OCH 3 ) and/or perfluorobutyl ethyl ether (C 4 F 9 OC 2 H 5 ) is particularly preferred.
乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。 When using a dry coating method, the surface treatment agents of the present disclosure may be subjected to the dry coating method as is, or may be diluted with the solvents described above and then subjected to the dry coating method.
表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。 Layering of the surface treatment agent is preferably carried out such that the surface treatment agent of the present disclosure is present in the layer together with a catalyst for hydrolysis and dehydration condensation. Conveniently, when the wet coating method is used, the catalyst may be added to the diluted solution of the surface treatment agent of the present disclosure after the surface treatment agent of the present disclosure has been diluted with a solvent, just prior to application to the substrate surface. In the case of the dry coating method, the surface treatment agent of the present disclosure to which the catalyst has been added is vapor-deposited (usually, vacuum deposition) as it is, or the surface treatment agent of the present disclosure to which the catalyst is added is applied to a metal porous body such as iron or copper. A vapor deposition (usually vacuum vapor deposition) process may be performed using a pellet-shaped material impregnated with .
触媒には、任意の適切な酸又は塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。 Any suitable acid or base can be used for the catalyst. Examples of acid catalysts that can be used include acetic acid, formic acid, and trifluoroacetic acid. Moreover, as a basic catalyst, for example, ammonia, organic amines, and the like can be used.
本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い摩耗耐久性の双方を有する。また、上記表面処理層は、高い摩耗耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、耐薬品性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。 The surface treatment layer included in the articles of the present disclosure has both high abrasion resistance. In addition to high abrasion resistance, the surface treatment layer has water repellency, oil repellency, and antifouling properties (for example, it prevents the adhesion of stains such as fingerprints), depending on the composition of the surface treatment agent used. Waterproofness (prevents water from penetrating into electronic parts, etc.), surface slipperiness (or lubricity, such as wiping off of fingerprints and other stains, excellent touch feeling on fingers), chemical resistance, etc. It can be suitably used as a functional thin film.
従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。 Therefore, the present disclosure further relates to an optical material having the surface treatment layer as the outermost layer.
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。 As optical materials, in addition to optical materials related to displays and the like as exemplified later, a wide variety of optical materials are preferably exemplified: for example, cathode ray tubes (CRT; e.g., personal computer monitors), liquid crystal displays, plasma displays, organic EL. Displays such as displays, inorganic thin film EL dot matrix displays, rear projection displays, fluorescent display tubes (VFD), field emission displays (FED; Field Emission Display), protective plates for these displays, or antireflection films on their surfaces processed.
本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。 Articles of the present disclosure are not particularly limited, but may be optical members. Examples of optical members include the following: lenses for eyeglasses; front protective plates, antireflection plates, polarizing plates, anti-glare plates for displays such as PDP and LCD; touch panel sheets; disc surfaces of optical discs such as Blu-ray (registered trademark) discs, DVD discs, CD-Rs, and MOs; optical fibers;
また、本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。 Articles of the present disclosure may also be medical devices or medical materials.
上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、摩耗耐久性及び防汚性の点から好ましい。 The thickness of the layer is not particularly limited. In the case of optical members, the thickness of the layer is preferably in the range of 1 to 50 nm, 1 to 30 nm, preferably 1 to 15 nm, from the viewpoint of optical performance, abrasion resistance and antifouling properties.
以上、本開示の物品について詳述した。なお、本開示の物品及び物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。 The articles of the present disclosure have been described above in detail. Note that the article, the method for manufacturing the article, and the like of the present disclosure are not limited to the examples given above.
以下、本開示の物品について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、フルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位の存在順序は任意であり、以下に示される化学式は平均組成を示す。 The articles of the present disclosure will be described below in Examples, but the present disclosure is not limited to the following Examples. In this example, the order of existence of the repeating units constituting the fluoropolyether is arbitrary, and the chemical formula shown below indicates the average composition.
（合成例１）
ＣＦ３Ｏ（ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＯ２ＣＨ３（ｍ＝３６、ｎ＝２１、４０ｇ）に、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（ｍＸＨＦ）（４０ｇ）及び化合物１ａ（２．０ｇ）を加え、室温で終夜撹拌した。パーフルオロヘキサンを加え、アセトンで洗浄した後、減圧濃縮することで、化合物２を３２ｇ得た。 To CF 3 O(CF 2 O) m (CF 2 CF 2 O) n CF 2 CO 2 CH 3 (m=36, n=21, 40 g) was added 1,3-bistrifluoromethylbenzene (mXHF) (40 g). and compound 1a (2.0 g) were added and stirred overnight at room temperature. After adding perfluorohexane and washing with acetone, 32 g of compound 2 was obtained by concentrating under reduced pressure.
化合物２
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]:2.34 (d, 6H), 3.59-3.62 (m, 2H),5.40-5.45 (m, 6H), 6.13-6.24 (m, 3H), 6.92 (broad,1H).
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.6, -85.1, -83.7, -83.4, -80.0, -78.3, -57.7, -56.0 , -55.2, -53.5, -51.9.
Compound 2
1 H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 2.34 (d, 6H), 3.59-3.62 (m, 2H), 5.40-5.45 (m, 6H), 6.13-6.24 (m, 3H), 6.92 ( broad, 1H).
19 F NMR (mXHF, 376 MHz) δ [ppm]: -129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.6, -85.1, -83.7, -83.4, -80.0, -78.3, -57.7, -56.0 , -55.2, -53.5, -51.9.
（合成例２）
化合物２（１０ｇ）に、ｍＸＨＦ（１０ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、１５０ｍｇ）、トリアセトキシメチルシラン、及びトリクロロシラン（１．１ｇ）を加え、６０℃で３時間撹拌した後、減圧濃縮した。ｍＸＨＦ（４．０ｇ）、メタノール（０．２５ｇ）、及びオルトギ酸トリメチル（４．０ｇ）を加え、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮し、化合物３ａ（３．６ｇ）を得た。 After adding mXHF (10 g), a xylene solution of Karstedt's catalyst (2%, 150 mg), triacetoxymethylsilane, and trichlorosilane (1.1 g) to compound 2 (10 g) and stirring at 60° C. for 3 hours , concentrated in vacuo. mXHF (4.0 g), methanol (0.25 g), and trimethyl orthoformate (4.0 g) were added, and the mixture was stirred overnight at room temperature and then concentrated under reduced pressure to obtain compound 3a (3.6 g).
化合物３ａ
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 0.95-0.99 (m, 6H), 1. 56-1.77 (m, 12H), 3.56-3.61 (m, 2H),3.89-4.10 (m, 27H)
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.6, -85.1, -83.7, -83.4, -80.0, -78.3, -57.7, -56.0 , -55.2, -53.5, -51.9.
Compound 3a
1 H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 0.95-0.99 (m, 6H), 1.56-1.77 (m, 12H), 3.56-3.61 (m, 2H), 3.89-4.10 (m, 27H) )
19 F NMR (mXHF, 376 MHz) δ [ppm]: -129.5, -125.8, -90.5, -88.9, -85.6, -85.1, -83.7, -83.4, -80.0, -78.3, -57.7, -56.0 , -55.2, -53.5, -51.9.
（合成例３）
化合物２（２．６ｇ）に、ｍＸＨＦ（２．６ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、４７ｍｇ）、ＳｉＨ（ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３）３（０．６７ｇ）を加え、５０℃で１５時間撹拌した後、減圧濃縮し、化合物３ｂ（２．６３ｇ）を得た。 To compound 2 (2.6 g) was added mXHF (2.6 g), a xylene solution of Karstedt's catalyst (2%, 47 mg), and SiH(OCH 2 CH 2 OCH 3 ) 3 (0.67 g), and the mixture was heated to 50°C. After stirring for 15 hours, the mixture was concentrated under reduced pressure to obtain compound 3b (2.63 g).
化合物３ｂ
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 0.95-1.04 (m, 6H), 1.56-1.84 (m, 12H), 3.41-3.53 (m, 29H), 3.60-3.80 (m, 18H), 4.12-4.35 (m, 18H)
19F NMR (mXHF, 376 MHz) δ[ppm]:-129.5, -125.8, -90.5, -88.8, -85.9, -85.3, -85.1, -83.7, -83.4, -79.8, -79.5, -57.7, -56.0 , -55.2, -53.5, -51.9.
Compound 3b
1 H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 0.95-1.04 (m, 6H), 1.56-1.84 (m, 12H), 3.41-3.53 (m, 29H), 3.60-3.80 (m, 18H), 4.12-4.35 (m, 18H)
19 F NMR (mXHF, 376 MHz) δ [ppm]: -129.5, -125.8, -90.5, -88.8, -85.9, -85.3, -85.1, -83.7, -83.4, -79.8, -79.5, -57.7, -56.0 , -55.2, -53.5, -51.9.
（合成例４）
化合物２（６ｇ）に、ｍＸＨＦ（６ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、８０ｍｇ）、トリアセトキシメチルシラン、及びトリクロロシラン（０．４ｇ）を加え、６０℃で３時間撹拌した後、減圧濃縮した。ｍＸＨＦ（６ｇ）及びエチレングリコールモノメチルエーテル（６０ｍｇ）を加え、５０℃で時間撹拌した。その後、メタノール（０．１２ｇ）オルトギ酸トリメチル（１．６ｇ）を加え、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮し、化合物３ｃ（３．４ｇ）を得た。 After adding mXHF (6 g), a xylene solution of Karstedt's catalyst (2%, 80 mg), triacetoxymethylsilane, and trichlorosilane (0.4 g) to compound 2 (6 g) and stirring at 60° C. for 3 hours , concentrated in vacuo. mXHF (6 g) and ethylene glycol monomethyl ether (60 mg) were added and stirred at 50° C. for hours. Thereafter, methanol (0.12 g) and trimethyl orthoformate (1.6 g) were added, and the mixture was stirred overnight at room temperature and then concentrated under reduced pressure to obtain compound 3c (3.4 g).
化合物３ｃ
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 0.77-0.84(m, 6H), 1. 39-1.70 (m, 12H), 3.4-3.42 (m, 2H),3.5 (s, 0.6H), 3.66-3.7 (m, 0.4H), 3.89-4.10 (m, 26.4H), 4.13-4.14 (m, 0.4H),
ｐ＋ｐ’＋ｐ”＝８．７９
Compound 3c
1 H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 0.77-0.84(m, 6H), 1. 39-1.70 (m, 12H), 3.4-3.42 (m, 2H), 3.5 (s, 0.6H) , 3.66-3.7 (m, 0.4H), 3.89-4.10 (m, 26.4H), 4.13-4.14 (m, 0.4H),
p+p′+p″=8.79
（合成例５）
化合物２（６ｇ）に、ｍＸＨＦ（６ｇ）、カールシュテッド触媒のキシレン溶液（２％、８０ｍｇ）、トリアセトキシメチルシラン、及びトリクロロシラン（０．４ｇ）を加え、６０℃で３時間撹拌した後、減圧濃縮した。ｍＸＨＦ（６ｇ）及びエチレングリコールモノメチルエーテル（０．１７ｇ）を加え、５０℃で時間撹拌した。その後、メタノール（０．１２ｇ）オルトギ酸トリメチル（１．６ｇ）を加え、室温で終夜撹拌した後、減圧濃縮し、化合物３ｄ（４ｇ）を得た。 After adding mXHF (6 g), a xylene solution of Karstedt's catalyst (2%, 80 mg), triacetoxymethylsilane, and trichlorosilane (0.4 g) to compound 2 (6 g) and stirring at 60° C. for 3 hours , concentrated in vacuo. mXHF (6 g) and ethylene glycol monomethyl ether (0.17 g) were added and stirred at 50° C. for hours. Then, methanol (0.12 g) and trimethyl orthoformate (1.6 g) were added, and the mixture was stirred overnight at room temperature and then concentrated under reduced pressure to obtain compound 3d (4 g).
化合物３ｄ
1H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 0.77-0.84(m, 6H), 1.40-1.67 (m, 12H), 3.4-3.43 (m, 2H),3.5 (s, 7.2H), 3.67-3.70 (m, 4.8H), 3.89-4.10 (m, 19.8H), 4.13-4.22 (m, 4.8H),
ｑ＋ｑ’＋ｑ”＝６．６
Compound 3d
1 H NMR (mXHF, 400 MHz) δ[ppm]: 0.77-0.84(m, 6H), 1.40-1.67 (m, 12H), 3.4-3.43 (m, 2H), 3.5 (s, 7.2H), 3.67 -3.70 (m, 4.8H), 3.89-4.10 (m, 19.8H), 4.13-4.22 (m, 4.8H),
q+q′+q″=6.6
＜表面処理層の形成＞
比較例１～２、及び実施例１
合成例２～４で得られたフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（化合物３ａ、３ｂ、３ｃ）を、濃度０．０６質量％となるようにＮｏｖｅｃ ７２００（３Ｍ社製、エチルパーフルオロブチルエーテル）で希釈し、それぞれ表面処理剤を調製した。その後、表面を大気圧プラズマで処理した化学強化ガラス（コーニング社製 Ｇｏｒｉｌｌａ ３）上にスプレー塗布装置を用いて上記で調製した表面処理剤を塗布した。塗布量は表面処理剤６０ｇ／ｍ２とした。続いて、表面処理剤が塗布された基材を大気圧下、１５０℃で３０分間加熱処理した。
<Formation of surface treatment layer>
Comparative Examples 1 and 2, and Example 1
The fluoropolyether group-containing silane compounds (compounds 3a, 3b, 3c) obtained in Synthesis Examples 2 to 4 were diluted with Novec 7200 (manufactured by 3M, ethyl perfluorobutyl ether) to a concentration of 0.06% by mass. Then, a surface treatment agent was prepared. After that, the surface treatment agent prepared above was applied using a spray coating device onto a chemically strengthened glass (Gorilla 3 manufactured by Corning Incorporated) whose surface was treated with atmospheric pressure plasma. The coating amount was 60 g/m 2 of the surface treatment agent. Subsequently, the substrate coated with the surface treatment agent was heat-treated at 150° C. for 30 minutes under atmospheric pressure.
実施例２
合成例２及び５で得られたフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（化合物３ａ、３ｄ）を、それぞれ濃度２０質量％となるようにＮｏｖｅｃ７２００で希釈し、それらを１対１（質量比）となるよう混合したのち、全体に占めるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が濃度０．０６質量％となるようにさらにＮｏｖｅｃ７２００で希釈した。その後、表面を大気圧プラズマで処理した化学強化ガラス（コーニング社製 Ｇｏｒｉｌｌａ ３）上にスプレー塗布装置を用いて上記で調製した表面処理剤を塗布した。塗布量は表面処理剤６０ｇ／ｍ２とした。続いて、表面処理剤が塗布された基材を大気圧下、１５０℃で３０分間加熱処理した。
Example 2
The fluoropolyether group-containing silane compounds (compounds 3a and 3d) obtained in Synthesis Examples 2 and 5 were each diluted with Novec 7200 to a concentration of 20% by mass, and diluted to a 1:1 (mass ratio). After mixing, the mixture was further diluted with Novec 7200 so that the concentration of the fluoropolyether group-containing silane compound in the whole was 0.06% by mass. After that, the surface treatment agent prepared above was applied using a spray coating device onto a chemically strengthened glass (Gorilla 3 manufactured by Corning Incorporated) whose surface was treated with atmospheric pressure plasma. The coating amount was 60 g/m 2 of the surface treatment agent. Subsequently, the substrate coated with the surface treatment agent was heat-treated at 150° C. for 30 minutes under atmospheric pressure.
＜水の静的接触角の測定方法＞
静的接触角の測定は、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。具体的には、測定対象の表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより静的接触角を測定した。水の静的接触角は、基材の表面処理層の異なる５点において測定し、その平均値を算出した値を用いた。
<Method for measuring static contact angle of water>
A fully automatic contact angle meter DropMaster 700 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) was used to measure the static contact angle. Specifically, a base material having a surface treatment layer to be measured is placed horizontally, 2 μL of water is dropped from a microsyringe on the surface, and a still image is taken with a video microscope 1 second after dropping. Static contact angles were measured. The static contact angle of water was measured at five different points on the surface treatment layer of the base material, and a value obtained by calculating the average value was used.
＜消しゴム耐久性評価＞
（初期評価）
初期評価（消しゴム摩擦回数０回）として、表面処理層の形成後、表面上の余剰分を拭き上げたのちに、水の静的接触角を測定した。結果を表１に示す。
<Evaluation of Eraser Durability>
(Initial evaluation)
As an initial evaluation (0 times of rubbing with an eraser), the static contact angle of water was measured after wiping off excess on the surface after forming the surface treatment layer. Table 1 shows the results.
（消しゴム耐久性試験後の評価） 形成された表面処理層に対して、ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で往復回数２５００回毎に水の静的接触角を測定し、水滴接触角１００°を下回るまで測定した。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨであった。結果を表１に示す。
消しゴム：Ｒａｂｅｒ Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
接地面積：６ｍｍφ
移動距離（片道）：４０ｍｍ
移動速度：３，６００ｍｍ／分
荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ
(Evaluation after Eraser Durability Test) Using a rubbing tester (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.), the static contact angle of water was measured on the formed surface treatment layer every 2500 reciprocations under the following conditions. , was measured until the water droplet contact angle fell below 100°. The test environmental conditions were 25° C. and 40% RH. Table 1 shows the results.
Eraser: Rubber Eraser (manufactured by Minoan)
Contact area: 6mmφ
Travel distance (one way): 40mm
Movement speed: 3,600mm/min Load: 1kg/6mmφ
（表面分析）
上記の処理されたガラス基体の表面処理層の表面組成を、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ，アルバック・ファイ社製 ＰＨＩ５０００ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩ）を用いて行った。ＸＰＳ分析の測定条件は、下記の通りとした。
Ｘ線源：単色化ＡｌＫα線（２５Ｗ）
光電子検出面積：１４００μｍ×３００μｍ
光電子検出角：４５度
パスエネルギー：２３．５ｅＶ
(surface analysis)
The surface composition of the surface treatment layer of the above-treated glass substrate was determined using an X-ray photoelectron spectroscopic analyzer (XPS, PHI5000VersaProbe II manufactured by ULVAC-Phi, Inc.). The measurement conditions for the XPS analysis were as follows.
X-ray source: monochromatic AlKα rays (25 W)
Photoelectron detection area: 1400 μm×300 μm
Photoelectron detection angle: 45 degrees Pass energy: 23.5 eV
形成された表面処理層において、上記ＸＰＳにより、Ｃ１ｓ、Ｏ１ｓ、Ｓｉ２ｐおよびＦ１ｓのピーク面積を観測し、それらのピーク面積比を算出することにより、表面処理防防汚層を含む処理表面の組成を求めた。サンプル表面における炭素原子濃度、酸素原子濃度、及びフッ素原子濃度の総量に対するフッ素原子濃度の割合を、表２に示す。 In the formed surface treatment layer, the peak areas of C1s, O1s, Si2p and F1s were observed by the above XPS, and the peak area ratio was calculated to determine the composition of the treated surface including the surface treatment antifouling layer. asked. Table 2 shows the ratio of fluorine atom concentration to the total amount of carbon atom concentration, oxygen atom concentration, and fluorine atom concentration on the sample surface.
本開示の物品は、種々多様な用途、例えばタッチパネル等の光学部材として好適に利用され得る。 The article of the present disclosure can be suitably used in various applications, for example, as an optical member such as a touch panel.
Claims (23)
ＲＦ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
ＲＦ２は、－Ｒｆ２ ｐ－ＲＦ－Ｏｑ－であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１－６アルキレン基であり；
ＲＦは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０又は１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
ＲＳｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲＳｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
ＸＡは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物である、請求項１に記載の表面処理剤。 The fluoropolyether group-containing silane compound has the following formula (1) or (2):
R F1 is independently at each occurrence Rf 1 -R F -O q -;
R F2 is -Rf 2 p -R F -O q -;
Rf 1 is independently at each occurrence a C 1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Rf 2 is a C 1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
R F is independently at each occurrence a divalent fluoropolyether group;
p is 0 or 1;
q is independently 0 or 1 at each occurrence;
R Si is independently at each occurrence a monovalent group comprising a Si atom bonded with a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom or a monovalent organic group;
at least one R Si is a monovalent group comprising a Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is attached;
each X A is independently a single bond or a divalent to decavalent organic group;
α is an integer from 1 to 9;
β is an integer from 1 to 9;
Each γ is independently an integer of 1-9. ]
2. The surface treatment agent according to claim 1, which is at least one fluoropolyether group-containing silane compound represented by.
Ｒｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１－６パーフルオロアルキレン基である、
請求項３に記載の表面処理剤。 Rf 1 is independently at each occurrence a C 1-16 perfluoroalkyl group;
Rf 2 is independently at each occurrence a C 1-6 perfluoroalkylene group;
The surface treating agent according to claim 3.
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３ＲＦａ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
［式中、ＲＦａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲＦａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、請求項３に記載の表面処理剤。 R F is independently at each occurrence of the formula:
- (OC 6 F 12 ) a - (OC 5 F 10 ) b - (OC 4 F 8 ) c - (OC 3 R Fa 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OCF 2 ) f -
[wherein R Fa is independently at each occurrence a hydrogen atom, a fluorine atom, or a chlorine atom;
a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 to 200, the sum of a, b, c, d, e and f is 1 or more; The order of existence of each repeating unit bracketed with c, d, e or f is arbitrary in the formula, provided that when all RFa are hydrogen atoms or chlorine atoms, a, b, At least one of c, e and f is 1 or more. ]
The surface treatment agent according to claim 3, which is a group represented by.
－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは、０又は１である。］
－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］
－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－Ｒｒ－（Ｒ７’－Ｒ６’）ｇ’－ （ｆ４）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
Ｒ６’は、ＯＣＦ２又はＯＣ２Ｆ４であり、
Ｒ７’は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０及びＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数であり、
ｇ’は、２～１００の整数であり、
Ｒｒは、
である。］；
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－ （ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項３に記載の表面処理剤。 R F is independently at each occurrence the following formula (f1), (f2), (f3), (f4), (f5) or (f6):
-(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e - (f1)
[Wherein, d is an integer of 1 to 200, and e is 0 or 1. ]
-(OC 4 F 8 ) c -(OC 3 F 6 ) d -(OC 2 F 4 ) e -(OCF 2 ) f - (f2)
[Wherein, c and d are each independently an integer of 0 or more and 30 or less, e and f are each independently an integer of 1 or more and 200 or less,
the sum of c, d, e and f is greater than or equal to 2;
The order of existence of each repeating unit bracketed with subscript c, d, e or f is arbitrary in the formula. ]
-(R 6 -R 7 ) g - (f3)
[wherein R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 or 2 independently selected from these groups or a combination of three groups,
g is an integer from 2 to 100; ]
—(R 6 —R 7 ) g —R r —(R 7′ —R 6′ ) g′ − (f4)
[wherein R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 or 2 independently selected from these groups or a combination of three groups,
R 6' is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
R 7′ is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 or independently selected from these groups a combination of two or three groups,
g is an integer from 2 to 100,
g' is an integer from 2 to 100,
Rr is
is. ];
- (OC 6 F 12 ) a - (OC 5 F 10 ) b - (OC 4 F 8 ) c - (OC 3 F 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OCF 2 ) f - (f5)
[Wherein, e is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and a, b, c, d, e or The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with f is arbitrary in the formula. ]
- (OC 6 F 12 ) a - (OC 5 F 10 ) b - (OC 4 F 8 ) c - (OC 3 F 6 ) d - (OC 2 F 4 ) e - (OCF 2 ) f - (f6)
[Wherein, f is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d and e are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and a, b, c, d, e or The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with f is arbitrary in the formula. ]
The surface treatment agent according to claim 3, which is a group represented by.
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり；
Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ１１－ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１であり；
Ｒ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
Ｒａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１－ＳｉＲ２１ ｐ１Ｒ２２ ｑ１Ｒ２３ ｒ１であり；
Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１’－ＳｉＲ２１’ ｐ１’Ｒ２２’ ｑ１’Ｒ２３’ ｒ１’であり；
Ｒ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｐ１、ｑ１、及びｒ１の合計は、ＳｉＲ２１ ｐ１Ｒ２２ ｑ１Ｒ２３ ｒ１単位において、３であり；
Ｚ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ１”－ＳｉＲ２２” ｑ１”Ｒ２３” ｒ１”であり；
Ｒ２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｐ１’、ｑ１’、及びｒ１’の合計は、ＳｉＲ２１’ ｐ１’Ｒ２２’ ｑ１’Ｒ２３’ ｒ１’単位において、３であり；
Ｚ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１”及びｒ１”の合計は、ＳｉＲ２２” ｑ１”Ｒ２３” ｒ１”単位において、３であり；
Ｒｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｋ１、ｌ１及びｍ１の合計は、ＳｉＲａ１ ｋ１Ｒｂ１ ｌ１Ｒｃ１ ｍ１単位において、３であり；
Ｒｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ２－ＣＲ３１ ｐ２Ｒ３２ ｑ２Ｒ３３ ｒ２であり；
Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ２’－ＣＲ３２’ ｑ２’Ｒ３３’ ｒ２’であり；
Ｒ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２であり；
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｐ２、ｑ２、及びｒ２の合計は、ＳｉＲ３１ ｐ２Ｒ３２ ｑ２Ｒ３３ ｒ２単位において、３であり；
Ｚ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２であり；
Ｒ３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ２’、及びｒ２’の合計は、ＳｉＲ３２’ ｑ２’Ｒ３３’ ｒ２’単位において、３であり；
Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
Ｒ３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ３－ＳｉＲ３４ ｎ２Ｒ３５ ３－ｎ２であり；
Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、ＣＲｄ１ ｋ２Ｒｅ１ ｌ２Ｒｆ１ ｍ２単位において、３であり；
Ｒｇ１及びＲｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ４－ＳｉＲ１１ ｎ１Ｒ１２ ３－ｎ１、－Ｚ４－ＳｉＲａ１ ｋ１Ｒｂ１ ｌ１Ｒｃ１ ｍ１、又は－Ｚ４－ＣＲｄ１ ｋ２Ｒｅ１ ｌ２Ｒｆ１ ｍ２であり；
Ｚ４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である、請求項３に記載の表面処理剤。 Each R Si is independently represented by the following formula (S1), (S2), (S3), (S4) or (S5):
R 11 is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 12 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n1 is an integer of 0 to 3 independently for each (SiR 11 n1 R 12 3-n1 ) unit;
X 11 is independently at each occurrence a single bond or a divalent organic group;
R 13 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
t is independently at each occurrence an integer greater than or equal to 2;
R 14 is independently at each occurrence a hydrogen atom, a halogen atom or —X 11 —SiR 11 n1 R 12 3-n1 ;
each occurrence of R 15 is independently a single bond, an oxygen atom, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyleneoxy group having 1 to 6 carbon atoms;
R a1 is independently at each occurrence -Z 1 -SiR 21 p1 R 22 q1 R 23 r1 ;
Z 1 is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21 is independently at each occurrence -Z 1' -SiR 21' p1' R 22' q1' R 23' r1' ;
R 22 is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of p1, q1, and r1 is 3 in the SiR21 p1 R22 q1 R23 r1 unit;
Z 1′ is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group;
R 21′ is independently at each occurrence —Z 1″ —SiR 22″ q1″ R 23″ r1″ ;
R 22′ is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23′ at each occurrence is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1′ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of p1′, q1′ and r1′ is 3 in the SiR 21′ p1′ R 22′ q1′ R 23′ r1′ unit;
Z 1″ is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group;
R 22″ is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 23″ at each occurrence is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
q1″ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r1″ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of q1″ and r1″ is 3 in SiR 22″ q1″ R 23″ r1″ units;
each occurrence of R b1 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R c1 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
k1 is independently at each occurrence an integer from 1 to 3;
l1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
m1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of k1, l1 and m1 is 3 in SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 units;
R d1 is independently at each occurrence -Z 2 -CR 31 p2 R 32 q2 R 33 r2 ;
Z 2 is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 31 is independently at each occurrence -Z 2' -CR 32' q2' R 33' r2' ;
R 32 is independently at each occurrence -Z 3 -SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
each occurrence of R 33 is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
p2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of p2, q2 , and r2 is 3 in the SiR31p2R32q2R33r2 unit;
Z 2' is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 32′ is independently at each occurrence —Z 3 —SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R 33′ is independently at each occurrence a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
q2' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r2' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of q2' and r2' is 3 in the SiR 32' q2' R 33' r2' unit;
Z 3 is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R 34 is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R 35 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
R e1 is independently at each occurrence —Z 3 —SiR 34 n2 R 35 3-n2 ;
R f1 is independently at each occurrence a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
k2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
l2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
m2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
the sum of k2, l2 and m2 is 3 in CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 units;
R g1 and R h1 are independently at each occurrence -Z 4 -SiR 11 n1 R 12 3-n1 , -Z 4 -SiR a1 k1 R b1 l1 R c1 m1 , or -Z 4 -CR d1 k2 R e1 l2 R f1 m2 ;
Z 4 is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
However, in formulas (S1), (S2), (S3), (S4) and (S5), there is at least one Si atom to which a hydroxyl group or hydrolyzable group is bonded. ]
The surface treatment agent according to claim 3, which is a group represented by.
で表される基である、請求項８に記載の表面処理剤。 The group represented by the formula (S1) is represented by the following formula (S1-b):
The surface treatment agent according to claim 8, which is a group represented by.
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