JP7319242B2 - Fluoropolyether group silane-containing compound - Google Patents

Description

本開示は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物に関する。 The present disclosure relates to silane compounds containing fluoropolyether groups.

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。 Certain fluorine-containing silane compounds are known to provide excellent water repellency, oil repellency, and antifouling properties when used for surface treatment of substrates. A layer obtained from a surface treatment agent containing a fluorine-containing silane compound (hereinafter also referred to as a "surface treatment layer") is applied as a so-called functional thin film to various substrates such as glass, plastic, fiber, and building materials. ing.

そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解性基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１～２）。 As such a fluorine-containing compound, a perfluoropolyether group-containing silane compound having a perfluoropolyether group in the molecular main chain and a hydrolyzable group bonded to an Si atom at the molecular end or terminal portion is known. (Patent Documents 1 and 2).

特開２０１４－２１８６３９号公報JP 2014-218639 A 特開２０１７－０８２１９４号公報JP 2017-082194 A

上記のような表面処理剤として使用し得るフルオロポリエーテル基含有シラン化合物としては、さらに新たな構造が求められ得る。 A new structure may be required for the fluoropolyether group-containing silane compound that can be used as a surface treatment agent as described above.

本開示は、以下の［１］～［２０］を提供するものである。
［１］ 式（１ａ）または式（１ｂ）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
αは、１～９の整数であり；
βは、１～９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
Ｘ^Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上のアミド結合を有する２～１０価の有機基であり；
Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［２］ Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［３］ Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表される、［１］または［２］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは１である。］
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
［４］ Ｘ^Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、
－（Ｘ^２１）_ｓ２１－［（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２２）］_ｓ１１－（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２１）_ｓ２２－
で表される基である、［１］～［３］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
Ｘ^Ｎは、アミド結合を表し；
ｓ１１は、１～３の整数であり；
Ｘ^２１は、それぞれ独立して、２～１０価の有機基であり；
Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１であり；
ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１である。］
［５］ Ｘ^Ａは、２価の有機基であり、各出現においてそれぞれ独立して、
－（Ｘ^２１）_ｓ２１－［（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２２）］_ｓ１１－（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２１）_ｓ２２－
で表される基である、［１］～［４］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
Ｘ^Ｎは、アミド結合を表し；
ｓ１１は、１～３の整数であり；
Ｘ^２１は、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１であり；
ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１である。］
［６］ Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、
－Ｒ^２２１－、または、
－（Ｒ^２２１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２２２）_ｓ３２－
である、［４］または［５］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
Ｒ^２２１およびＲ^２２２は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１０アルキレン基であり；
前記Ｃ_１－１０アルキレン基の水素原子は、置換されていてもよく；
Ｘ^３１は、－Ｏ－、または－ＮＲ^５４－であり；
Ｒ^５４は、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基であり；
ｓ３１は、０または１であり；
ｓ３２は、０または１である。］
［７］ α、βおよびγが、それぞれ１である、［１］～［６］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［８］ Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される、［１］～［７］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。

［式中：
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基または炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。］
［９］ ｎ１は、３である、［８］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１０］ ｋ１は、３であり、ｑ１は１～３の整数である、［８］または［９］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１１］ ｌ２は、３であり、ｎ２は１～３の整数である、［８］～［１０］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１２］ ［１］～［１１］のいずれか１つに記載の式（１ａ）または式（１ｂ）で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル化合物を含有する、表面処理剤。
［１３］ 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、［１２］に記載の表面処理剤。
［１４］ さらに溶媒を含む、［１２］または［１３］に記載の表面処理剤。
［１５］ 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、［１２］～［１４］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１６］ 真空蒸着用である、［１２］～［１５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１７］ 湿潤被覆処理用である、［１２］～［１５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１８］ ［１２］～［１６］のいずれか１つに記載の表面処理剤を含有するペレット。
［１９］ 基材と、該基材の表面に、［１］～［１１］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、または、［１２］～［１７］のいずれか１つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［２０］ 光学部材である、［１９］に記載の物品。 The present disclosure provides the following [1] to [20].
[1] Formula (1a) or Formula (1b):

[In the formula:
R ^F1 is independently at each occurrence Rf ¹ -R ^F -O _q -;
R ^F2 is -Rf ² _p -R ^F -O _q -;
Rf ¹ is independently at each occurrence a C _1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Rf ² is a C _1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
R ^F is independently at each occurrence a divalent fluoropolyether group;
p is 0 or 1;
q is independently 0 or 1 at each occurrence;
α is an integer from 1 to 9;
β is an integer from 1 to 9;
each γ is independently an integer from 1 to 9;
X ^A is each independently at each occurrence a divalent to decavalent organic group having two or more amide bonds;
R ^Si is independently at each occurrence a monovalent group comprising a Si atom to which is attached a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom or a monovalent organic group. ]
A fluoropolyether group-containing silane compound represented by
[2] R ^F is independently at each occurrence of the formula:
- (OC ₆ F ₁₂ ) _a - (OC ₅ F ₁₀ ) _b - (OC ₄ F ₈ ) _c - (OC ₃ F ₆ ) _d - (OC ₂ F ₄ ) _e - (OCF ₂ ) _f -
[In the formula:
a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 to 200, the sum of a, b, c, d, e and f is 1 or more; The order of existence of each repeating unit bracketed with c, d, e or f is arbitrary in the formula. ]
The fluoropolyether group-containing silane compound according to [1], which is a group represented by
[3] R ^F is described in [1] or [2], wherein each occurrence is independently represented by the following formula (f1), (f2), (f3), (f4) or (f5) fluoropolyether group-containing silane compound.
-(OC ₃ F ₆ ) _d -(OC ₂ F ₄ ) _e - (f1)
[Wherein, d is an integer of 1 to 200, and e is 1. ]
-(OC ₄ F ₈ ) _c -(OC ₃ F ₆ ) _d -(OC ₂ F ₄ ) _e -(OCF ₂ ) _f - (f2)
[Wherein, c and d are each independently an integer of 0 or more and 30 or less, e and f are each independently an integer of 1 or more and 200 or less,
the sum of c, d, e and f is greater than or equal to 2;
The order of existence of each repeating unit bracketed with subscript c, d, e or f is arbitrary in the formula. ]
-(R ⁶ -R ⁷ ) _g - (f3)
[wherein R ⁶ is OCF ₂ or OC ₂ F ₄ ;
R ⁷ is a group selected from OC ₂ F ₄ , OC ₃ F ₆ , OC ₄ F ₈ , OC ₅ F ₁₀ and OC ₆ F ₁₂ or 2 independently selected from these groups or a combination of three groups,
g is an integer from 2 to 100; ]
- (OC ₆ F ₁₂ ) _a - (OC ₅ F ₁₀ ) _b - (OC ₄ F ₈ ) _c - (OC ₃ F ₆ ) _d - (OC ₂ F ₄ ) _e - (OCF ₂ ) _f - (f4)
[Wherein, e is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and a, b, c, d, e and f are at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula. ]
- (OC ₆ F ₁₂ ) _a - (OC ₅ F ₁₀ ) _b - (OC ₄ F ₈ ) _c - (OC ₃ F ₆ ) _d - (OC ₂ F ₄ ) _e - (OCF ₂ ) _f - (f5)
[Wherein, f is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d and e are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and a, b, c, d, e and f are at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula. ]
[4] X ^A independently on each occurrence:
-(X ²¹ ) _s21 -[(X ^N )-(X ²² )] _s11 -(X ^N )-(X ²¹ ) _s22 -
The fluoropolyether group-containing silane compound according to any one of [1] to [3], which is a group represented by
[In the formula:
X ^N represents an amide bond;
s11 is an integer from 1 to 3;
each X ²¹ is independently a divalent to decavalent organic group;
X ²² is independently at each occurrence a divalent organic group;
each s21 is independently 0 or 1;
s22 is 0 or 1 independently. ]
[5] X ^A is a divalent organic group, independently at each occurrence,
-(X ²¹ ) _s21 -[(X ^N )-(X ²² )] _s11 -(X ^N )-(X ²¹ ) _s22 -
The fluoropolyether group-containing silane compound according to any one of [1] to [4], which is a group represented by
[In the formula:
X ^N represents an amide bond;
s11 is an integer from 1 to 3;
each X ²¹ is independently a divalent organic group;
X ²² is independently at each occurrence a divalent organic group;
each s21 is independently 0 or 1;
s22 is 0 or 1 independently. ]
[6] X ²² is independently at each occurrence:
-R ²²¹ -, or
-(R ²²¹ ) _s31 -X ³¹ -(R ²²² ) _s32 -
The fluoropolyether group-containing silane compound according to [4] or [5].
[In the formula:
R ²²¹ and R ²²² are each independently a C _1-10 alkylene group;
hydrogen atoms of said C _1-10 alkylene group may be substituted;
X ³¹ is —O—, or —NR ⁵⁴ —;
R ⁵⁴ is a hydrogen atom, a phenyl group or a C _1-6 alkyl group;
s31 is 0 or 1;
s32 is 0 or 1; ]
[7] The fluoropolyether group-containing silane compound according to any one of [1] to [6], wherein α, β and γ are each 1.
[8] R ^Si according to any one of [1] to [7], wherein each occurrence of R Si is independently represented by formula (S1), (S2), (S3) or (S4) fluoropolyether group-containing silane compound.

[In the formula:
R ¹¹ is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R ¹² is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n1 is an integer of 0 to 3 independently for each (SiR ¹¹ _n1 R ¹² _3-n1 ) unit;
X ¹¹ is independently at each occurrence a single bond or a divalent organic group;
R ¹³ is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
t is independently at each occurrence an integer greater than or equal to 2;
R ¹⁴ is independently at each occurrence a hydrogen atom, a halogen atom or —X ¹¹ —SiR ¹¹ _n1 R ¹² _3-n1 ;
each occurrence of R ¹⁵ is independently a single bond, an oxygen atom, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyleneoxy group having 1 to 6 carbon atoms;
R ^a1 is independently at each occurrence -Z ¹ -SiR ²¹ _p1 R ²² _q1 R ²³ _r1 ;
Z ¹ is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group;
R ²¹ is independently at each occurrence -Z ^1' -SiR ^21' _p1' R ^22' _q1' R ^23' _r1' ;
R ²² is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R ²³ is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
Z ^1′ is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group;
R ^21′ is independently at each occurrence —Z ^1″ —SiR ^22″ _q1″ R ^23″ _r1″ ;
R ^22′ is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R ^23′ at each occurrence is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group;
p1′ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
Z ^1″ is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group;
R ^22″ is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R ^23″ is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
q1″ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r1″ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
R ^b1 is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R ^c1 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
k1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
l1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
m1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
R ^d1 is independently at each occurrence -Z ² -CR ³¹ _p2 R ³² _q2 R ³³ _r2 ;
Z ² is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R ³¹ is independently at each occurrence -Z ^2' -CR ^32' _q2' R ^33' _r2' ;
R ³² is independently at each occurrence -Z ³ -SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 ;
each occurrence of R ³³ is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
p2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
Z ^2' is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R ^32′ is independently at each occurrence —Z ³ —SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 ;
R ^33′ is independently at each occurrence a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
q2' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r2' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
Z ³ is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group;
R ³⁴ is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R ³⁵ is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group;
n2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
R ^e1 is independently at each occurrence —Z ³ —SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 ;
R ^f1 is independently at each occurrence a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group;
k2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
l2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
m2 is independently an integer from 0 to 3 at each occurrence. ]
[9] The fluoropolyether group-containing silane compound according to [8], wherein n1 is 3.
[10] The fluoropolyether group-containing silane compound according to [8] or [9], wherein k1 is 3 and q1 is an integer of 1-3.
[11] The fluoropolyether group-containing silane compound according to any one of [8] to [10], wherein l2 is 3 and n2 is an integer of 1-3.
[12] A surface treatment agent containing at least one fluoropolyether compound represented by formula (1a) or (1b) according to any one of [1] to [11].
[13] The surface treatment agent of [12], further containing one or more other components selected from fluorine-containing oils, silicone oils, and catalysts.
[14] The surface treatment agent according to [12] or [13], which further contains a solvent.
[15] The surface treatment agent according to any one of [12] to [14], which is used as an antifouling coating agent or a waterproof coating agent.
[16] The surface treatment agent according to any one of [12] to [15], which is for vacuum deposition.
[17] The surface treatment agent according to any one of [12] to [15], which is for wet coating treatment.
[18] A pellet containing the surface treatment agent according to any one of [12] to [16].
[19] A substrate and, on the surface of the substrate, the fluoropolyether group-containing silane compound according to any one of [1] to [11], or any one of [12] to [17] and a layer formed from the surface treatment agent according to 1.
[20] The article according to [19], which is an optical member.

本開示によると、表面処理剤として使用し得る新たなフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が提供される。 According to the present disclosure, new fluoropolyether group-containing silane compounds are provided that can be used as surface treatment agents.

本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。 As used herein, "monovalent organic radical" means a monovalent radical containing carbon. Although the monovalent organic group is not particularly limited, it may be a hydrocarbon group or a derivative thereof. A derivative of a hydrocarbon group is a group having one or more of N, O, S, Si, amide, sulfonyl, siloxane, carbonyl, carbonyloxy, etc. at the end of the hydrocarbon group or in the molecular chain. means In addition, when it shows simply as an "organic group", it means a monovalent organic group.

また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。 Moreover, a "divalent organic group" means a divalent group containing carbon. Examples of such divalent organic groups include, but are not particularly limited to, divalent groups in which one hydrogen atom is further eliminated from an organic group.

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。 As used herein, "hydrocarbon group" means a group containing carbon and hydrogen from which one hydrogen atom has been removed from a hydrocarbon. Such hydrocarbon groups include, but are not limited to, C _1-20 hydrocarbon groups optionally substituted by one or more substituents, such as aliphatic hydrocarbon groups, aromatic A hydrocarbon group etc. are mentioned. The above "aliphatic hydrocarbon group" may be linear, branched or cyclic, and may be saturated or unsaturated. Hydrocarbon groups may also contain one or more ring structures.

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。 As used herein, the substituent of the "hydrocarbon group" is not particularly limited, but for example, a halogen atom, C _1-6 alkyl optionally substituted by one or more halogen atoms group, C _2-6 alkenyl group, C _2-6 alkynyl group, C _3-10 cycloalkyl group, C _3-10 unsaturated cycloalkyl group, 5-10 membered heterocyclyl group, 5-10 membered unsaturated heterocyclyl groups, C _6-10 aryl groups and 5-10 membered heteroaryl groups.

（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物）
本実施形態のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、以下の式（１ａ）または式（１ｂ）で表される。

(Fluoropolyether group-containing silane compound)
The fluoropolyether group-containing silane compound of this embodiment is represented by the following formula (1a) or formula (1b).

式（１ａ）において、Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。 In formula (1a), R ^F1 is independently at each occurrence Rf ¹ -R ^F -O _q -.

式（１ｂ）において、Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。 In formula (1b), R ^F2 is -Rf ² _p -R ^F -O _q -.

上記式において、Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。 In the above formula, Rf ¹ at each occurrence is independently a C _1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms.

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。 The "C _1-16 alkyl group" in the C _1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms may be linear or branched, preferably is a straight or branched C _1-6 alkyl group, especially a C _1-3 alkyl group, more preferably a straight chain C _1-6 alkyl group, especially a C _1-3 alkyl group.

上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である。 Rf ¹ above is preferably a C _1-16 alkyl group substituted with one or more fluorine atoms, more preferably a CF ₂ H—C _1-15 perfluoroalkylene group, still more preferably is a C _1-16 perfluoroalkyl group.

上記Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。 The C _1-16 perfluoroalkyl group may be linear or branched, preferably a linear or branched C _1-6 perfluoroalkyl group, especially C _{1- 3} perfluoroalkyl group, more preferably a linear C _1-6 perfluoroalkyl group, particularly a C _1-3 perfluoroalkyl group, specifically -CF ₃ , -CF ₂ CF ₃ , or -CF ₂ CF ₂ CF ₃ .

上記式において、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。 In the above formula, Rf ² is a C _1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms.

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。 The "C _1-6 alkylene group" in the C _1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms may be linear or branched, preferably is a linear or branched C _1-3 alkylene group, more preferably a linear C _1-3 alkylene group.

上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３パーフルオロアルキレン基である。 Rf ² above is preferably a C _1-6 alkylene group substituted with one or more fluorine atoms, more preferably a C _1-6 perfluoroalkylene group, still more preferably C _{1- 3} is a perfluoroalkylene group.

上記Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。 The C _1-6 perfluoroalkylene group may be linear or branched, preferably a linear or branched C _1-3 perfluoroalkylene group, more preferably is a linear C _1-3 perfluoroalkyl group, specifically -CF ₂ -, -CF ₂ CF ₂ -, or -CF ₂ CF ₂ CF ₂ -.

上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。 In the above formula, p is 0 or 1. In one aspect, p is zero. In another aspect, p is 1.

上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。 In the above formula, q is 0 or 1 independently at each occurrence. In one aspect, q is zero. In another aspect q is 1.

上記式（１ａ）および（１ｂ）において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。 In formulas (1a) and (1b) above, R ^F is independently at each occurrence a divalent fluoropolyether group.

Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
で表されるフルオロポリエーテル基である。
上記式中：
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。 R ^F preferably has the formula:
- (OC ₆ F ₁₂ ) _a - (OC ₅ F ₁₀ ) _b - (OC ₄ F ₈ ) _c - (OC ₃ F ₆ ) _d - (OC ₂ F ₄ ) _e - (OCF ₂ ) _f -
is a fluoropolyether group represented by
In the above formula:
a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 to 200, the sum of a, b, c, d, e and f is 1 or more; The order of existence of each repeating unit bracketed with c, d, e or f is arbitrary in the formula.

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。 a, b, c, d, e and f may preferably each independently be an integer from 0-100.

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。 The sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example 15 or more or 20 or more. The sum of a, b, c, d, e and f is preferably 200 or less, more preferably 100 or less, still more preferably 60 or less, and may be, for example, 50 or less or 30 or less.

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。また、－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。 These repeating units may be linear or branched, but are preferably linear. _For example, -( _OC6F12 ) _{- is} -( _{OCF2CF2CF2CF2CF2CF2} ) _{- ,} - _{( OCF} ( _CF3 ) _CF2CF2CF2CF2 )-, - _{( OCF 2} CF (CF ₃ ) CF ₂ CF ₂ CF ₂ )-, - (OCF ₂ CF ₂ CF (CF ₃ ) CF ₂ CF ₂ )-, - (OCF ₂ CF ₂ CF ₂ CF (CF ₃ ) CF ₂ )- , -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ CF ₂ CF(CF ₃ ))-, etc., but preferably -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ CF ₂ CF ₂ CF ₂ )-. -( _OC5F10 )- is -( _{OCF2CF2CF2CF2CF2 ) - ,} -( _{OCF ( CF3} ) _CF2CF2CF2 )-, _{- ( OCF2CF} ( _CF3 ) CF ₂ CF ₂ )-, -(OCF ₂ CF ₂ CF(CF ₃ )CF ₂ )-, -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ CF(CF ₃ ))-, etc., but preferably -( OCF ₂ CF ₂ CF ₂ CF ₂ CF ₂ )—. -( _OC4F8 )- is -( _{OCF2CF2CF2CF2 ) -} , -( _OCF ( _CF3 ) _CF2CF2 )- _, -( _OCF2CF ( _CF3 ) _CF2 ) _- , -( _OCF2CF2CF ( _CF3 ))-, - ₍ OC( _CF3 ) _2CF2 )-, -( _OCF2C ( _CF3 ) ₂ ) _- , -(OCF( _CF3 )CF( Any of CF ₃ ))-, -(OCF(C ₂ F ₅ )CF ₂ )- and -(OCF ₂ CF(C ₂ F ₅ ))-, preferably -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ CF ₂ )-. -(OC ₃ F ₆ )- is any of -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ )-, -(OCF(CF ₃ )CF ₂ )- and -(OCF ₂ CF(CF ₃ ))- but preferably -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ )-. -(OC ₂ F ₄ )- may be either -(OCF ₂ CF ₂ )- or -(OCF(CF ₃ ))-, but is preferably -(OCF ₂ CF ₂ )- be.

一の態様において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表される。
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは１である。］
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－ （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２～１００の整数である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］ In one aspect, each occurrence of ^RF is independently represented by the following formula (f1), (f2), (f3), (f4) or (f5).
-(OC ₃ F ₆ ) _d -(OC ₂ F ₄ ) _e - (f1)
[Wherein, d is an integer of 1 to 200, and e is 1. ]
-(OC ₄ F ₈ ) _c -(OC ₃ F ₆ ) _d -(OC ₂ F ₄ ) _e -(OCF ₂ ) _f - (f2)
[Wherein, c and d are each independently an integer of 0 or more and 30 or less, e and f are each independently an integer of 1 or more and 200 or less,
the sum of c, d, e and f is greater than or equal to 2;
The order of existence of each repeating unit bracketed with subscript c, d, e or f is arbitrary in the formula. ]
-(R ⁶ -R ⁷ ) _g - (f3)
[wherein R ⁶ is OCF ₂ or OC ₂ F ₄ ;
R ⁷ is a group selected from OC ₂ F ₄ , OC ₃ F ₆ , OC ₄ F ₈ , OC ₅ F ₁₀ and OC ₆ F ₁₂ or 2 independently selected from these groups or a combination of three groups,
g is an integer from 2 to 100; ]
- (OC ₆ F ₁₂ ) _a - (OC ₅ F ₁₀ ) _b - (OC ₄ F ₈ ) _c - (OC ₃ F ₆ ) _d - (OC ₂ F ₄ ) _e - (OCF ₂ ) _f - (f4)
[Wherein, e is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and a, b, c, d, e and f are at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula. ]
- (OC ₆ F ₁₂ ) _a - (OC ₅ F ₁₀ ) _b - (OC ₄ F ₈ ) _c - (OC ₃ F ₆ ) _d - (OC ₂ F ₄ ) _e - (OCF ₂ ) _f - (f5)
[Wherein, f is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d and e are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and a, b, c, d, e and f are at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula. ]

上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。上記式（ｆ１）において－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－または－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ－で表される基であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－で表される基である。 In the above formula (f1), d is preferably an integer of 5-200, more preferably 10-100, still more preferably 15-50, for example 25-35. In the above formula (f1), -(OC ₃ F ₆ ) _d - is preferably a group represented by -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _d - or -(OCF(CF ₃ )CF ₂ ) _d - and more preferably -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _d -.

上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であってもよい。 In the above formula (f2), e and f are each independently an integer of preferably 5 or more and 200 or less, more preferably 10-200. Also, the sum of c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and may be, for example, 15 or more or 20 or more. In one aspect, the above formula (f2) is preferably -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _c -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _d -(OCF ₂ CF ₂ ) _e -(OCF ₂ ) It is a group represented by _f- . In another embodiment, formula (f2) may be a group represented by -(OC ₂ F ₄ ) _e -(OCF ₂ ) _f -.

上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、および－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－または－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。 In formula (f3) above, R ⁶ is preferably OC ₂ F ₄ . In (f3) above, R ⁷ is preferably a group selected from OC ₂ F ₄ , OC ₃ F ₆ and OC ₄ F ₈ , or 2 independently selected from these groups, or A combination of three groups, more preferably a group selected from OC ₃ F ₆ and OC ₄ F ₈ . The combination of two or three groups independently selected from OC ₂ F ₄ , OC ₃ F ₆ and OC ₄ F ₈ is not particularly limited, but for example -OC ₂ F ₄ OC ₃ F ₆ -, -OC _{2F4OC4F8- , -OC3F6OC2F4- , -OC3F6OC3F6- , -OC3F6OC4F8- , -OC4F8OC4F _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ 8- , -OC4F8OC3F6- , -OC4F8OC2F4- , -OC2F4OC2F4OC3F6- , -OC2F4OC2F4OC _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ 4F8- , -OC2F4OC3F6OC2F4- , -OC2F4OC3F6OC3F6- , -OC2F4OC4F8OC2F4- , _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ -OC3F6OC2F4OC2F4- , -OC3F6OC2F4OC3F6- , -OC3F6OC3F6OC2F4- , and -OC4F _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ 8} OC ₂ F ₄ OC ₂ F ₄ - and the like. In the above formula (f3), g is an integer of preferably 3 or more, more preferably 5 or more. Said g is preferably an integer of 50 or less. In formula (f3) above, OC ₂ F ₄ , OC ₃ F ₆ , OC ₄ F ₈ , OC ₅ F ₁₀ and OC ₆ F ₁₂ may be linear or branched, preferably linear. is a chain. In this aspect, the above formula (f3) is preferably -(OC ₂ F ₄ -OC ₃ F ₆ ) _g - or -(OC ₂ F ₄ -OC ₄ F ₈ ) _g -.

上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。 In the above formula (f4), e is preferably an integer of 1 or more and 100 or less, more preferably 5 or more and 100 or less. The sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.

上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。 In the above formula (f5), f is preferably an integer of 1 or more and 100 or less, more preferably 5 or more and 100 or less. The sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。 In one aspect, R ^F is a group represented by the formula (f1).

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。 In one aspect, R ^F is a group represented by the formula (f2).

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。 In one aspect, R ^F is a group represented by the formula (f3).

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。 In one aspect, R ^F is a group represented by the formula (f4).

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。 In one aspect, R ^F is a group represented by the formula (f5).

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－
である［式中、ｄは、１～２００の整数である］。 In one aspect, the R ^F is
-( _{OC3F6 ) d-}
where d is an integer of 1-200.

上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、（人の）汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。ここで、ｆは１以上の整数である。 In the above ^RF , the ratio of e to f (hereinafter referred to as “e/f ratio”) is 0.1 to 10, preferably 0.2 to 5, more preferably 0.2 to 2. Yes, more preferably 0.2 to 1.5. By setting the e/f ratio to 10 or less, the slipperiness, friction durability and chemical resistance (for example, durability against (human) sweat) of the surface treatment layer obtained from this compound are further improved. The smaller the e/f ratio, the more improved the sliding property and friction durability of the surface treatment layer. On the other hand, by setting the e/f ratio to 0.1 or more, the stability of the compound can be further enhanced. The higher the e/f ratio, the more stable the compound. Here, f is an integer of 1 or more.

一の態様において、ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９であり、より好ましくは０．２～０．８５であり、さらに好ましくは０．２～０．８である。 In one aspect, the e/f ratio is preferably 0.2 to 0.9, more preferably 0.2 to 0.85, even more preferably 0.2 to 0.8.

一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．９以上であり、より好ましくは０．９～１．５である。 In one aspect, from the viewpoint of heat resistance, the e/f ratio is preferably 0.9 or more, more preferably 0.9 to 1.5.

上記Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。 The number average molecular weight of the R ^F1 and R ^F2 moieties is not particularly limited, but is, for example, 500 to 30,000, preferably 1,500 to 30,000, more preferably 2,000 to 10,000. be. In this specification, the number average molecular weights of R ^F1 and R ^F2 are values measured by ¹⁹ F-NMR.

別の態様において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～９，０００であり得、例えば３，０００～８，０００であり得る。 In another embodiment, the R ^F1 and R ^F2 moieties have a number average molecular weight of 500 to 30,000, preferably 1,000 to 20,000, more preferably 2,000 to 15,000, even more preferably 2,000. 000 to 10,000, such as 3,000 to 9,000, such as 3,000 to 8,000.

上記式（１ａ）において、αは１～９の整数であり、βは１～９の整数である。これらαおよびβは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。αおよびβの和は、Ｘ^Ａの価数と同じである。例えば、Ｘ^Ａが１０価の有機基である場合、αおよびβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、またはαが１かつβが９となり得る。また、Ｘ^Ａが２価の有機基である場合、αおよびβは１である。 In the above formula (1a), α is an integer of 1-9 and β is an integer of 1-9. These α and β can vary depending on the valence of ^XA . The sum of α and β is the same as the valence of ^XA . For example, if X ^A is a decavalent organic group, the sum of α and β is 10, such as α being 9 and β being 1, α being 5 and β being 5, or α being 1 and β being 9. obtain. Also, α and β are 1 when X ^A is a divalent organic group.

上記式（１ｂ）において、γは１～９の整数である。γは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、Ｘ^Ａの価数から１を引いた値である。 In the above formula (1b), γ is an integer of 1-9. γ can vary depending on the valence of X ^A. That is, γ is the value obtained by subtracting 1 from the valence of ^XA .

上記式（１ａ）および（１ｂ）において、Ｘ^Ａは、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル部（Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２）と基材との結合能を提供する部（Ｒ^Ｓｉ）とを連結するリンカーと解される。なお、Ｘ^Ａとして記載している構造は、左側がＲ^Ｆ１またはＲ^Ｆ２と、右側がＲ^Ｓｉとそれぞれ結合する。当該Ｘ^Ａは、式（１ａ）および（１ｂ）で表される化合物が安定に存在し得るものである。 In the above formulas (1a) and (1b), X ^A is the fluoropolyether portion (R ^F1 and R ^F2 ) that mainly provides water repellency and surface slipperiness, etc., and the portion that provides bonding ability with the substrate ( R ^Si ) and the linker. In the structure described as X ^A , the left side is bonded to R ^F1 or R ^F2 , and the right side is bonded to R ^Si . The ^XA is such that the compounds represented by formulas (1a) and (1b) can exist stably.

Ｘ^Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上のアミド結合を有する２～１０価の有機基である。該アミド結合において、窒素原子に結合する水素原子は、置換されていてもよい。言い換えると、アミド結合は、－ＮＲ^ＮＣ（＝Ｏ）－、または－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^Ｎ－で表され、Ｒ^Ｎは、例えば、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）であり、好ましくは水素原子である。
本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、このような構造を有することにより、摩擦耐久性（例えば皮膚摩擦耐久性、織布摩擦耐久性、消しゴム摩擦耐久性、スチールウール摩擦耐久性）、耐ケミカル性（例えば、溶剤に対する耐久性、人工汗に対する耐久性、酸やアルカリ性に対する耐久性）、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、防水性（例えば電子部品などへの水の浸水を防止する）、または表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）等の良好な硬化層（例えば、表面処理層）の形成に寄与し得る。これは、２以上のアミド結合を有することにより、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物と基材との親和性が高まり、より密で強固な結合が形成され得るためと考えられる。 Each occurrence of X ^A is independently a divalent to decavalent organic group having two or more amide bonds. A hydrogen atom bonded to a nitrogen atom in the amide bond may be substituted. In other words, the amide bond is represented by -NR ^N C(=O)- or -C(=O)NR ^N -, where R ^N is, for example, a hydrogen atom, a phenyl group or a C _1-6 alkyl group ( (preferably a methyl group), preferably a hydrogen atom.
By having such a structure, the fluoropolyether group-containing silane compound of the present disclosure has excellent friction durability (for example, skin friction durability, fabric friction durability, eraser friction durability, steel wool friction durability), resistance to Chemical properties (e.g. durability against solvents, durability against artificial perspiration, durability against acids and alkalis), water repellency, oil repellency, antifouling parts, etc.), waterproof (for example, to prevent water from entering electronic parts, etc.), or surface slipperiness (or lubricity, such as wiping off fingerprints and other stains, and It can contribute to the formation of a good cured layer (for example, a surface treatment layer) such as excellent touch. This is probably because having two or more amide bonds enhances the affinity between the fluoropolyether group-containing silane compound and the substrate, allowing formation of a tighter and stronger bond.

上記Ｘ^Ａにおける２～１０価の有機基は、好ましくは２～８価の有機基である。一の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは２～４価の有機基であり、より好ましくは２価の有機基である。別の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは３～８価の有機基、より好ましくは３～６価の有機基である。 The divalent to decavalent organic group in X ^A above is preferably a divalent to octavalent organic group. In one aspect, such divalent to decavalent organic groups are preferably divalent to tetravalent organic groups, more preferably divalent organic groups. In another aspect, such divalent to decavalent organic groups are preferably trivalent to octavalent organic groups, more preferably trivalent to hexavalent organic groups.

一の態様において、Ｘ^Ａは、２～１０価の有機基であり、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｌ１）：
－（Ｘ^Ｎ）_ｓ１０－（Ｘ^２）_ｓ１２－ （Ｌ１）
で表される。 In one aspect, X ^A is a divalent to decavalent organic group, each independently at each occurrence of formula (L1):
−(X ^N ) _s10 −(X ² ) _s12 − (L1)
is represented by

式（Ｌ１）において、Ｘ^Ｎは、アミド結合を表す。ここで、アミド結合は、－ＮＲ^ＮＣ（＝Ｏ）－、または－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^Ｎ－で表される。Ｒ^Ｎは、例えば、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）であり、好ましくは水素原子である。 In Formula (L1), X ^N represents an amide bond. Here, the amide bond is represented by -NR ^N C(=O)- or -C(=O)NR ^N -. R ^N is, for example, a hydrogen atom, a phenyl group or a C _1-6 alkyl group (preferably a methyl group), preferably a hydrogen atom.

式（Ｌ１）において、Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価以上の有機基である。Ｘ^２の価数は、上記式（Ｌ１）で表される基の価数に応じて変化し得る。例えば、式（Ｌ１）で表される基が２価の場合、すべてのＸ^２は２価の有機基であり、式（Ｌ１）で表される基が３価の場合、いずれか１つのＸ^２が３価の有機基であり、それ以外のＸ^２は２価の有機基である。 In formula (L1), each occurrence of X ² is independently a divalent or higher valent organic group. The valence of ^X2 may vary depending on the valence of the group represented by formula (L1) above. For example, when the group represented by formula (L1) is divalent, all X ² are divalent organic groups, and when the group represented by formula (L1) is trivalent, any one X ² is a trivalent organic group, and the other X ² is a divalent organic group.

式（Ｌ１）において、ｓ１０は、２～４の整数であり、好ましくは２または３である。一の態様において、ｓ１０は２である。 In formula (L1), s10 is an integer of 2-4, preferably 2 or 3. In one aspect, s10 is two.

式（Ｌ１）において、ｓ１２は、１～７の整数であり、１～５の整数であってもよく、１～３の整数であってもよい。 In formula (L1), s12 is an integer of 1 to 7, may be an integer of 1 to 5, or may be an integer of 1 to 3.

ただし、式（Ｌ１）において、添字ｓ１０、またはｒ１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。 However, in formula (L1), the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with subscript s10 or r12 is arbitrary in the formula.

一の態様において、Ｘ^Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｌ２）：
－（Ｘ^２１）_ｓ２１－［（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２２）］_ｓ１１－（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２１）_ｓ２２－
（Ｌ２）
で表される基である。
式中：
Ｘ^Ｎは、アミド結合を表し；
ｓ１１は、１～３の整数であり；
Ｘ^２１は、それぞれ独立して、２～１０価の有機基であり；
Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１であり；
ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１である。 In one aspect, X ^A is independently at each occurrence of formula (L2):
-(X ²¹ ) _s21 -[(X ^N )-(X ²² )] _s11 -(X ^N )-(X ²¹ ) _s22 -
(L2)
is a group represented by
In the formula:
X ^N represents an amide bond;
s11 is an integer from 1 to 3;
each X ²¹ is independently a divalent to decavalent organic group;
X ²² is independently at each occurrence a divalent organic group;
each s21 is independently 0 or 1;
s22 is 0 or 1 independently.

上記式（Ｌ２）の－（Ｘ^２１）_ｓ２１－、－（Ｘ^２２）－、および（Ｘ^２１）_ｓ２２－で表される部分が、式（Ｌ１）の－（Ｘ^２）_ｓ１２－で表される部分に相当する。すなわち、ｓ２１、ｓ１１およびｓ２２の和が、ｓ１２に相当し、Ｘ^２１およびＸ^２２の構造は、Ｘ^２の構造に相当する。式（Ｌ２）のｓ１１に１を足した値が、式（Ｌ１）のｓ１０となる。 The portions represented by -(X ²¹ ) _s21 -, -(X ²² )-, and (X ²¹ ) _s22 - in formula (L2) are represented by -(X ² ) _s12 - in formula (L1) corresponds to the part That is, the sum of s21, s11 and s22 corresponds to s12, and the structure of ^X21 and ^X22 corresponds to the structure of ^X2 . The value obtained by adding 1 to s11 in formula (L2) is s10 in formula (L1).

式（Ｌ２）において、Ｘ^２１は、それぞれ独立して、２～１０価の有機基である。 In formula (L2), each X ²¹ is independently a divalent to decavalent organic group.

一の態様において、Ｘ^２１は、２価の有機基である。本態様においては、Ｘ^２１は、後述するＸ^２２において２価の有機基として記載する構造と同意義であってもよい。 In one aspect, X ²¹ is a divalent organic group. In this embodiment, X ²¹ may have the same meaning as the structure described below as a divalent organic group for X ²² .

一の態様において、Ｘ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、
－Ｒ^２１１－、または、
－（Ｒ^２１１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２１２）_ｓ３２－
である。一の態様において、Ｘ^２１は－Ｒ^２１１－である。一の態様において、Ｘ^２１は－（Ｒ^２１１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２１２）_ｓ３２－である。 In one aspect, X ²¹ is independently at each occurrence:
-R ²¹¹ -, or
-(R ²¹¹ ) _s31 -X ³¹ -(R ²¹² ) _s32 -
is. In one aspect, X ²¹ is -R ²¹¹ -. In one aspect, X ²¹ is -(R ²¹¹ ) _s31 -X ³¹ -(R ²¹² ) _s32 -.

上記Ｒ^２１１およびＲ^２１２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－１０アルキレン基、好ましくは、Ｃ_１－５アルキレン基、より好ましくはＣ_１－３アルキレン基であり、例えばＣ_１－２アルキレン基である。これらのアルキレン基の水素原子は、置換されていてもよい。
該アルキレン基の水素原子が置換されている場合、置換基としては、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられ、例えば、ハロゲン原子、好ましくはフッ素原子である。 R ²¹¹ and R ²¹² above are each independently at each occurrence a C _1-10 alkylene group, preferably a C _1-5 alkylene group, more preferably a C _1-3 alkylene group, for example C _1-2 It is an alkylene group. The hydrogen atoms of these alkylene groups may be substituted.
When the hydrogen atom of the alkylene group is substituted, the substituent may be a halogen atom, a C _1-6 alkyl group optionally substituted by one or more halogen atoms, a C _2-6 alkenyl group , C _2-6 alkynyl group, C _3-10 cycloalkyl group, C _3-10 unsaturated cycloalkyl group, 5-10 membered heterocyclyl group, 5-10 membered unsaturated heterocyclyl group, C _6-10 aryl group and one or more groups selected from 5- to 10-membered heteroaryl groups, such as halogen atoms, preferably fluorine atoms.

例えば、Ｒ^２１１およびＲ^２１２は、それぞれ独立して、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２－、または－ＣＦ_２ＣＦ_２－であってもよい。 For example, R ²¹¹ and R ²¹² may each independently be -CH ₂ -, -CH ₂ CH ₂ -, CH ₂ CF ₂ -, -CF ₂ CH ₂ -, or -CF ₂ CF ₂ -. good.

本態様において、Ｘ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、または－ＮＲ^５４－である。ここで、Ｒ^５４は、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、好ましくは水素原子である。 In this embodiment, each occurrence of X ³¹ is independently —O— or —NR ⁵⁴ —. Here, R ⁵⁴ represents a hydrogen atom, a phenyl group or a C _1-6 alkyl group (preferably a methyl group), preferably a hydrogen atom.

本態様において、ｓ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｓ３１は０である。一の態様において、ｓ３１は１である。 In this aspect, s31 is independently 0 or 1 at each occurrence. In one aspect, s31 is zero. In one aspect, s31 is one.

本態様において、ｓ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｓ３２は０である。一の態様において、ｓ３２は１である。 In this aspect, s32 is independently 0 or 1 at each occurrence. In one aspect, s32 is zero. In one aspect, s32 is one.

本態様において、好ましくは、ｓ３１およびｓ３２の和は１以上である。 In this aspect, the sum of s31 and s32 is preferably 1 or more.

本態様において、例えば、ｓ３１は１、かつ、ｓ３２は１であり、一の態様において、ｓ３１は１、かつ、ｓ３２は０である。一の態様において、ｓ３１は０、かつ、ｓ３２は１である。 In this embodiment, for example, s31 is 1 and s32 is 1, and in one embodiment, s31 is 1 and s32 is 0. In one aspect, s31 is 0 and s32 is 1.

一の態様において、Ｘ^２１として、下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^２５、Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ独立して２～６価の有機基である。］ In one aspect, X ²¹ includes the following groups:

[In the formula, R ²⁵ , R ²⁶ and R ²⁷ are each independently a divalent to hexavalent organic group. ]

一の態様において、上記Ｒ^２５は、単結合、Ｃ_１－２０アルキレン基、Ｃ_３－２０シクロアルキレン基、Ｃ_５－２０アリーレン基、－Ｒ^５７－Ｘ^５８－Ｒ^５９－、－Ｘ^５８－Ｒ^５９－、または－Ｒ^５７－Ｘ^５８－である。上記、Ｒ^５７およびＲ^５９は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ_１－２０アルキレン基、Ｃ_３－２０シクロアルキレン基、またはＣ_５－２０アリーレン基である。上記Ｘ^５８は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－または－ＣＯＯ－である。 In one embodiment, R ²⁵ above is a single bond, a C _1-20 alkylene group, a C _3-20 cycloalkylene group, a C _5-20 arylene group, -R ⁵⁷ -X ⁵⁸ -R ⁵⁹ -, -X ⁵⁸ - R ⁵⁹ -, or -R ⁵⁷ -X ⁵⁸ -. R ⁵⁷ and R ⁵⁹ above are each independently a single bond, a C _1-20 alkylene group, a C _3-20 cycloalkylene group, or a C _5-20 arylene group. X ⁵⁸ above is -O-, -S-, -CO-, -O-CO- or -COO-.

一の態様において、上記Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ独立して、炭化水素、または炭化水素の端または主鎖中にＮ、ＯおよびＳから選択される少なくとも１つの原子を有する基であり、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－Ｒ^３６－Ｒ^３７－Ｒ^３６－、－Ｒ^３６－ＣＨＲ^３８ _２－などが挙げられる。ここに、Ｒ^３６は、それぞれ独立して、単結合または炭素数１～６のアルキレン基、好ましくは炭素数１～６のアルキレン基である。Ｒ^３７は、Ｎ、ＯまたはＳであり、好ましくはＮまたはＯである。Ｒ^３８は、－Ｒ^４５－Ｒ^４６－Ｒ^４５－、－Ｒ^４６－Ｒ^４５－または－Ｒ^４５－Ｒ^４６－である。ここに、Ｒ^４５は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ^４６は、Ｎ、ＯまたはＳであり、好ましくはＯである。 In one embodiment, each of R ²⁶ and R ²⁷ above is independently a hydrocarbon or a group having at least one atom selected from N, O and S in the end or main chain of the hydrocarbon, Preferred are a C _1-6 alkylene group, -R ³⁶ -R ³⁷ -R ³⁶ -, -R ³⁶ -CHR ³⁸ ₂ - and the like. Here, each R ³⁶ is independently a single bond or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, preferably an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. R ³⁷ is N, O or S, preferably N or O. R ³⁸ is -R ⁴⁵ -R ⁴⁶ -R ⁴⁵ -, -R ⁴⁶ -R ⁴⁵ - or -R ⁴⁵ -R ⁴⁶ -. Here, each R ⁴⁵ is independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R ⁴⁶ is N, O or S, preferably O.

この態様において、Ｘ^２１は、それぞれ独立して、３～１０価の有機基であり得る。 In this aspect, each X ²¹ can independently be a trivalent to decavalent organic group.

式（Ｌ２）において、Ｘ^Ｎは、アミド結合を表す。ここで、アミド結合は、－ＮＲ^ＮＣ（＝Ｏ）－、または－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^Ｎ－で表される。Ｒ^Ｎは、例えば、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）であり、好ましくは水素原子である。 In Formula (L2), X ^N represents an amide bond. Here, the amide bond is represented by -NR ^N C(=O)- or -C(=O)NR ^N -. R ^N is, for example, a hydrogen atom, a phenyl group or a C _1-6 alkyl group (preferably a methyl group), preferably a hydrogen atom.

式（Ｌ２）において、Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基である。 In formula (L2), X ²² at each occurrence is independently a divalent organic group.

一の態様において、Ｘ^２２としては、例えば、下記式：
－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｓ５－であり、
ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－を表し、
Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＮＲ^５４－および－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基を表し、ただし、Ｘ^５２には、アミド結合は含まれず、
Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基またはＣ_１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
ｐ５は、０または１であり、
ｑ５は、０または１であり、
ここに、ｐ５およびｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５またはｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基が挙げられる。ここに、Ｘ^２２（典型的にはＸ^２２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基およびＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^２２は、これらの基により置換されていない。 In one aspect, X ²² is, for example, the following formula:
-(R ⁵¹ ) _p5 -(X ⁵¹ ) _q5 -
[In the formula:
R ⁵¹ represents a single bond, —(CH ₂ ) _s5 — or an o-, m- or p-phenylene group, preferably —(CH ₂ ) _s5 —,
s5 is an integer from 1 to 20, preferably an integer from 1 to 6, more preferably an integer from 1 to 3, even more preferably 1 or 2;
X ⁵¹ represents -(X ⁵² ) _l5 -,
X ⁵² is independently at each occurrence -O-, -S-, o-, m- or p-phenylene group, -C(O)O-, -Si(R ⁵³ ) ₂ -, -( represents a group selected from the group consisting of Si(R ⁵³ ) ₂ O) _m5 —Si(R ⁵³ ) ₂ —, —NR ⁵⁴ — and —(CH ₂ ) _n5 —, provided that X ⁵² is an amide bond does not include
R ⁵³ at each occurrence independently represents a phenyl group, a C _1-6 alkyl group or a C _{1-6 alkoxy group, preferably a phenyl group or a C 1-6 alkyl} group, more preferably a methyl group and
each occurrence of R ⁵⁴ independently represents a hydrogen atom, a phenyl group or a C _1-6 alkyl group (preferably a methyl group);
m5 at each occurrence is independently an integer from 1 to 100, preferably an integer from 1 to 20;
n5 at each occurrence is independently an integer from 1 to 20, preferably an integer from 1 to 6, more preferably an integer from 1 to 3;
l5 is an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 3;
p5 is 0 or 1;
q5 is 0 or 1;
Here, at least one of p5 and q5 is 1, and the order of existence of each repeating unit bracketed with p5 or q5 is arbitrary.]
A divalent organic group represented by is mentioned. wherein X ²² (typically a hydrogen atom of X ²² ) is substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C _1-3 alkyl group and a C _1-3 fluoroalkyl group; may be In one aspect, X ²² is not substituted by these groups.

好ましい態様において、上記Ｘ^２２は、それぞれ独立して、
－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－Ｒ^５２－
である。
Ｒ^５２は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｔ５－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｔ５－である。ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｒ^５２（典型的にはＲ^５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基およびＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ^５２は、これらの基により置換されていない。 In a preferred embodiment, each of the above X ²² is independently
-(R ⁵¹ ) _p5 -(X ⁵¹ ) _q5 -R ⁵² -
is.
R ⁵² represents a single bond, -(CH ₂ ) _t5 - or an o-, m- or p-phenylene group, preferably -(CH ₂ ) _t5 -. t5 is an integer of 1-20, preferably an integer of 2-6, more preferably an integer of 2-3. wherein R ⁵² (typically the hydrogen atom of R ⁵² ) is substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C _1-3 alkyl group and a C _1-3 fluoroalkyl group; may be In preferred embodiments, R ⁵² is not substituted by these groups.

Ｘ^２２は、好ましくは、
－Ｒ^２２１－、または、
－（Ｒ^２２１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２２２）_ｓ３２－
である。 X ²² is preferably
-R ²²¹ -, or
-(R ²²¹ ) _s31 -X ³¹ -(R ²²² ) _s32 -
is.

Ｒ^２２１およびＲ^２２２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－１０アルキレン基、好ましくは、Ｃ_１－７アルキレン基である。これらのアルキレン基の水素原子は、置換されていてもよい。
該アルキレン基の水素原子が置換されている場合、置換基としては、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられ、例えば、ハロゲン原子、好ましくはフッ素原子である。例えば、該アルキレン基の水素原子がすべて置換されていてもよく、好ましくは該アルキレン基の水素原子がすべてフッ素原子により置換されていてもよい。 R ²²¹ and R ²²² are each independently at each occurrence a C _1-10 alkylene group, preferably a C _1-7 alkylene group. The hydrogen atoms of these alkylene groups may be substituted.
When the hydrogen atom of the alkylene group is substituted, the substituent may be a halogen atom, a C _1-6 alkyl group optionally substituted by one or more halogen atoms, a C _2-6 alkenyl group , C _2-6 alkynyl group, C _3-10 cycloalkyl group, C _3-10 unsaturated cycloalkyl group, 5-10 membered heterocyclyl group, 5-10 membered unsaturated heterocyclyl group, C _6-10 aryl group and one or more groups selected from 5- to 10-membered heteroaryl groups, such as halogen atoms, preferably fluorine atoms. For example, all hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted, preferably all hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with fluorine atoms.

一の態様において、Ｒ^２２１およびＲ^２２２におけるアルキレン基の水素原子は、少なくとも一部が置換されている。 In one aspect, the hydrogen atoms of the alkylene groups in R ²²¹ and R ²²² are at least partially substituted.

一の態様において、Ｒ^２２１およびＲ^２２２におけるアルキレン基の水素原子は、非置換である。 In one aspect, the hydrogen atoms of the alkylene groups in R ²²¹ and R ²²² are unsubstituted.

Ｘ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、または－ＮＲ^５４－である。ここで、Ｒ^５４は、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、好ましくは水素原子である。 Each occurrence of X ³¹ is independently —O— or —NR ⁵⁴ —. Here, R ⁵⁴ represents a hydrogen atom, a phenyl group or a C _1-6 alkyl group (preferably a methyl group), preferably a hydrogen atom.

ｓ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｓ３１は０である。一の態様において、ｓ３１は１である。 s31 is independently 0 or 1 at each occurrence. In one aspect, s31 is zero. In one aspect, s31 is one.

ｓ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｓ３２は０である。一の態様において、ｓ３２は１である。 s32 is independently 0 or 1 at each occurrence. In one aspect, s32 is zero. In one aspect, s32 is one.

好ましくは、ｓ３１およびｓ３２の和は１以上である。 Preferably, the sum of s31 and s32 is 1 or more.

一の態様において、ｓ３１は１、かつ、ｓ３２は１である。一の態様において、ｓ３１は１、かつ、ｓ３２は０である。一の態様において、ｓ３１は０、かつ、ｓ３２は１である。 In one aspect, s31 is 1 and s32 is 1. In one aspect, s31 is 1 and s32 is 0. In one aspect, s31 is 0 and s32 is 1.

一の態様において、Ｘ^２２は、－Ｒ^２２１－で表される。 In one aspect, X ²² is represented by -R ²²¹ -.

一の態様において、Ｘ^２２は、－（Ｒ^２２１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２２２）_ｓ３２－で表される。 In one aspect, X ²² is represented by -(R ²²¹ ) _s31 -X ³¹ -(R ²²² ) _s32 -.

式（Ｌ２）において、ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｓ２１は１である。一の態様において、ｓ２１は０である。 In formula (L2), each s21 is 0 or 1 independently. In one aspect, s21 is one. In one aspect, s21 is zero.

式（Ｌ２）において、ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｓ２２は１である。一の態様において、ｓ２２は０である。 In formula (L2), each s22 is 0 or 1 independently. In one aspect, s22 is one. In one aspect, s22 is zero.

一の態様において、ｓ２１は１、ｓ２２は１である。 In one aspect, s21 is 1 and s22 is 1.

一の態様において、ｓ２１は１、ｓ２２は０である。 In one aspect, s21 is 1 and s22 is 0.

一の態様において、ｓ２１は０、ｓ２２は１である。 In one aspect, s21 is 0 and s22 is 1.

一の態様において、ｓ２１は０、ｓ２２は０である。 In one aspect, s21 is 0 and s22 is 0.

一の態様において、ｓ１１は、１～３の整数であり、好ましくは１または２である。一の態様において、ｓ１１は１である。一の態様において、ｓ１１は２である。 In one aspect, s11 is an integer from 1 to 3, preferably 1 or 2. In one aspect, s11 is one. In one aspect, s11 is two.

一の態様において、Ｘ^２２は、－Ｒ^２２１－で表され、ｓ１１は２または３、好ましくは２である。即ち、本態様においては、複数の－Ｒ^２２１－が存在する。言い換えると、本態様においては、－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－で表される基が複数存在する。本態様において、－Ｒ^２２１－は、水素原子の一部が置換されたアルキレン基であってもよく；水素原子の一部が置換されたアルキレン基、および非置換のアルキレン基であってもよく；非置換のアルキレン基のみであってもよい。例えば、ｓ１１が２であり、－Ｒ^２２１－が２つ存在する場合には、２つの－Ｒ^２２１－は、双方とも水素原子の一部が置換されたアルキレン基であってもよく；一方が水素原子の一部が置換されたアルキレン基、他方が非置換のアルキレン基であってもよく；双方とも非置換のアルキレン基であってもよい。 In one aspect, X ²² is represented by -R ²²¹ - and s11 is 2 or 3, preferably 2. That is, in this embodiment, there are multiple -R ²²¹ -. In other words, in this aspect, there are a plurality of groups represented by -X ^N -X ²² -. In this embodiment, —R ²²¹ — may be an alkylene group in which some of the hydrogen atoms are substituted; an alkylene group in which some of the hydrogen atoms are substituted, and an unsubstituted alkylene group. ; it may be only an unsubstituted alkylene group. For example, when s11 is 2 and there are two -R ²²¹ -, the two -R ²²¹ - may both be alkylene groups in which a portion of the hydrogen atoms are substituted; Some of the hydrogen atoms may be substituted alkylene groups and the other may be unsubstituted alkylene groups; both may be unsubstituted alkylene groups.

一の態様において、Ｘ^Ａは、２価の有機基であり、各出現においてそれぞれ独立して、
－（Ｘ^２１）_ｓ２１－［（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２２）］_ｓ１１－（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２１）_ｓ２２－
で表される基である。
式中：
Ｘ^Ｎは、アミド結合を表し；
ｓ１１は、１～３の整数であり；
ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１であり；
ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ^２１およびＸ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり、具体的には、Ｘ^２１またはＸ^２２として上述した２価の有機基であり得る。 In one aspect, X ^A is a divalent organic group, independently at each occurrence,
-(X ²¹ ) _s21 -[(X ^N )-(X ²² )] _s11 -(X ^N )-(X ²¹ ) _s22 -
is a group represented by
In the formula:
X ^N represents an amide bond;
s11 is an integer from 1 to 3;
each s21 is independently 0 or 1;
each s22 is independently 0 or 1;
X ²¹ and X ²² may each independently at each occurrence be a divalent organic group, specifically a divalent organic group as described above for X ²¹ or X ²² .

本態様において、好ましくは、Ｘ^２１、またはＸ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、
－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－Ｒ^５２－
で表され、より好ましくは
－Ｒ^２２１－、または、
－（Ｒ^２２１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２２２）_ｓ３２－
で表される。Ｒ^５１、Ｘ^５１、Ｒ^５２、ｐ５、ｑ５、Ｒ^２２１、Ｒ^２２２、Ｘ^３１、ｓ３１およびｓ３２はそれぞれ上記と同意義である。 In this aspect, preferably each occurrence of X ²¹ or X ²² is independently
-(R ⁵¹ ) _p5 -(X ⁵¹ ) _q5 -R ⁵² -
and more preferably —R ²²¹ —, or
-(R ²²¹ ) _s31 -X ³¹ -(R ²²² ) _s32 -
is represented by R ⁵¹ , X ⁵¹ , R ⁵² , p5, q5, R ²²¹ , R ²²² , X ³¹ , s31 and s32 have the same meanings as above.

一の態様において、例えば、
－（Ｘ^２１）_ｓ２１－は単結合であり、かつ、－（Ｘ^２１）_ｓ２２－は－Ｒ^２２１－、または
－（Ｘ^２１）_ｓ２１－は－（Ｒ^２２１）_ｓ３１－Ｘ^３１－であり、かつ、－（Ｘ^２１）_ｓ２２－は－Ｒ^２２１－
であってもよい。 In one aspect, for example,
-(X ²¹ ) _s21 - is a single bond, and -(X ²¹ ) _s22 - is -R ²²¹ -, or -(X ²¹ ) _s21 - is -(R ²²¹ ) _s31 -X ³¹ -, and -(X ²¹ ) _s22 - is -R ²²¹ -
may be

式（Ｌ２）で表される場合、Ｘ^Ａは、例えば、
－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２１－、
－Ｘ^２１－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２１－、
－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２１－、
－Ｘ^２１－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２１－、
－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２１－、または
－Ｘ^２１－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２１－
で表される基であり得る。 When represented by formula (L2), X ^A is, for example,
-X ^N -X ²² -X ^N -X ²¹ -,
^-X21 - ^XN - ^X22 - ^XN - ^X21- ,
-X ^N -X ²² -X ^N -X ²² -X ^N -X ²¹ -,
^-X21 - ^XN - ^X22 - ^XN - ^X22 - ^XN - ^X21- ,
-X ^N -X ²² -X ^N -X ²² -X ^N -X ²² -X ^N -X ²¹ -, or -X ²¹ -X ^N -X ²² -X ^N -X ²² -X ^N -X ²² -X ^N -X ^21-
It may be a group represented by

Ｘ^Ａの具体的な構造としては、特に限定されないが、例えば、以下の基を挙げることができる。以下において、ｎ３１は、各出現において独立して、１～３の整数であり、ｎ３２は１～１０の整数（好ましくは１～７の整数）である。
－ＣＯＮＨ－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＦ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＦ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨＣＯ－（ＣＦ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＦ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨＣＯ－（ＣＦ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＦ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ Although the specific structure of X ^A is not particularly limited, the following groups can be mentioned, for example. In the following n31 is independently at each occurrence an integer from 1 to 3 and n32 is an integer from 1 to 10 (preferably an integer from 1 to 7).
—CONH—NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
—CONH—(CH ₂ ) _n32 —CONH—(CH ₂ ) _n31 —,
—CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
—CONH—(CH ₂ ) _n32 —O—CONH—(CH ₂ ) _n31 —,
—CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—O—(CH ₂ ) _n31 —,
—CONH—(CH ₂ ) _n32 —NH—CONH—(CH ₂ ) _n31 —,
—(CH ₂ ) _n31 —CONH—NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
-(CH ₂ ) _n31 -CONH-(CH ₂ ) _n32 -CONH-(CH ₂ ) _n31 -,
—(CH ₂ ) _n31 —CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
-(CH ₂ ) _n31 -O-CONH-(CH ₂ ) _n32 -CONH-(CH ₂ ) _n31 -,
—(CH ₂ ) _n31 —O—CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
-(CH ₂ ) _n31 -O-CONH-(CH ₂ ) _n32 -NHCONH-(CH ₂ ) _n31 -,
-(CH ₂ ) _n31 -NH-CONH-(CH ₂ ) _n32 -CONH-(CH ₂ ) _n31 -,
—(CH ₂ ) _n31 —NH—CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
-(CH ₂ ) _n31 -CONH-(CH ₂ ) _n32 -O-CONH-(CH ₂ ) _n31 -,
-(CH ₂ ) _n31 -CONH-(CH ₂ ) _n32 -NHCO-O-(CH ₂ ) _n31 -,
-(CH ₂ ) _n31 -CONH-(CH ₂ ) _n32 -NH-CONH-(CH ₂ ) _n31 -,
—CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—(CF ₂ ) _n32 —CONH—(CH ₂ ) _n31 —,
-(CH ₂ ) _n31 -CONH-(CH ₂ ) _n32 -NHCO-(CF ₂ ) _n32 -CONH-(CH ₂ ) _n31 -
_{-CF2CF2 -} CONH-NHCO-( _CH2 ) _n31- ,
—CF ₂ CF ₂ —CONH-(CH ₂ ) _n32 —CONH-(CH ₂ ) _n31 —,
_-CF2CF2 -CONH-( _CH2 ) _n32 -NHCO- _{( CH2} ) _n31- ,
—CF ₂ CF ₂ —CONH-(CH ₂ ) _n32 —O—CONH-(CH ₂ ) _n31 —,
_-CF2CF2 -CONH-( _CH2 ) _n32 -NHCO-O-( _CH2 ) _{n31- ,}
-CF ₂ CF ₂ -CONH-(CH ₂ ) _n32 -NH-CONH-(CH ₂ ) _n31 -,
—CF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —CONH—NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
—CF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —CONH—(CH ₂ ) _n32 —CONH—(CH ₂ ) _n31 —,
—CF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
—CF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —O—CONH—(CH ₂ ) _n32 —CONH—(CH ₂ ) _n31 —,
—CF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —O—CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
—CF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —NH—CONH—(CH ₂ ) _n32 —CONH—(CH ₂ ) _n31 —,
—CF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —NH—CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
—CF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —CONH—(CH ₂ ) _n32 —O—CONH—(CH ₂ ) _n31 —,
—CF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—O—(CH ₂ ) _n31 —,
—CF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —CONH—(CH ₂ ) _n32 —NH—CONH—(CH ₂ ) _n31 —,
_-CF2CF2 -CONH-( _CH2 ) _n31 -NHCO-( _CF2 ) _n32 -CONH- _{( CH2} ) _n31- ,
-CF ₂ CF ₂ -(CH ₂ ) _n31 -CONH-(CH ₂ ) _n32 -NHCO-(CF ₂ ) _n32 -CONH-(CH ₂ ) _n31 -
_{-OCF2CF2 -} CONH-NHCO-( _CH2 ) _n31- ,
_{-OCF2CF2 -} CONH-( _CH2 ) _n32 -CONH-( _CH2 ) _n31- ,
_{-OCF2CF2 -} CONH-( _CH2 ) _n32 -NHCO-( _CH2 ) _n31- ,
_{-OCF2CF2 -} CONH-( _CH2 ) _n32 -O-CONH-( _CH2 ) _n31- ,
_{-OCF2CF2 -} CONH-( _CH2 ) _n32 -NHCO-O-( _CH2 ) _n31- ,
_{-OCF2CF2 -} CONH-( _CH2 ) _n32- NH-CONH-( _CH2 ) _n31- ,
—OCF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —CONH—NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
_-OCF2CF2- ( _{CH2 ) n31} -CONH-( _CH2 ) _n32 -CONH-( _CH2 ) _n31- ,
—OCF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
_-OCF2CF2- ( _{CH2 ) n31} -O-CONH-( _CH2 ) _n32 -CONH-( _CH2 ) _n31- ,
—OCF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —O—CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—(CH ₂ ) _n31 —,
_-OCF2CF2- ( _{CH2 ) n31} -NH-CONH-( _CH2 ) _n32 -CONH-( _CH2 ) _n31- ,
_-OCF2CF2- ( _{CH2 ) n31} -NH-CONH-( _CH2 ) _n32 -NHCO-( _CH2 ) _n31- ,
—OCF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —CONH—(CH ₂ ) _n32 —O—CONH—(CH ₂ ) _n31 —,
_-OCF2CF2- ( _{CH2 ) n31} -CONH-( _CH2 ) _n32 -NHCO-O-( _CH2 ) _n31- ,
_-OCF2CF2- ( _{CH2 ) n31} -CONH-( _CH2 ) _n32 -NH-CONH-( _CH2 ) _n31- ,
_-OCF2CF2 -CONH-( _{CH2 ) n31} -NHCO-( _CF2 ) _n32 -CONH-( _CH2 ) _n31- ,
—OCF ₂ CF ₂ —(CH ₂ ) _n31 —CONH—(CH ₂ ) _n32 —NHCO—(CF ₂ ) _n32 —CONH—(CH ₂ ) _n31 —

一の態様において、αは１であり、βは２～５であり、Ｘ^Ａは３～６価の有機基である。 In one embodiment, α is 1, β is 2-5, and X ^A is a tri- to hexavalent organic group.

一の態様において、γは２～５であり、Ｘ^Ａは３～６価の有機基である。 In one embodiment, γ is 2-5 and X ^A is a tri- to hexavalent organic group.

一の態様において、αは１であり、βは２であり、Ｘ^Ａは、３価の有機基である。 In one aspect, α is 1, β is 2, and X ^A is a trivalent organic group.

一の態様において、γは２であり、Ｘ^Ａは、３価の有機基である。 In one aspect, γ is 2 and X ^A is a trivalent organic group.

一の態様において、αは１であり、βは１であり、Ｘ^Ａは２価の有機基である。 In one aspect, α is 1, β is 1, and X ^A is a divalent organic group.

Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。 R ^Si is independently at each occurrence a monovalent group comprising a Si atom to which is attached a hydroxyl group, a hydrolyzable group, a hydrogen atom or a monovalent organic group.

ここで、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。 Here, "hydrolyzable group" means a group capable of undergoing a hydrolysis reaction, that is, a group capable of being eliminated from the main skeleton of a compound by a hydrolysis reaction. Examples of hydrolyzable groups include -OR ^h , -OCOR ^h , -ON=CR ^h ₂ , -NR ^h ₂ , -NHR ^h , halogen (wherein R ^h is a substituted or unsubstituted C _1-4 alkyl group) and the like.

Ｒ^Ｓｉは、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。

R ^Si is preferably a group represented by the formula (S1), (S2), (S3) or (S4) independently at each occurrence.

Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。 Each occurrence of R ¹¹ is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.

Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。 R ¹¹ is preferably independently at each occurrence a hydrolyzable group.

Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。 R ¹¹ is preferably independently at each occurrence -OR ^h , -OCOR ^h , -ON=CR ^h ₂ , -NR ^h ₂ , -NHR ^h , or halogen (wherein R ^h represents a substituted or unsubstituted C _1-4 alkyl group), more preferably —OR ^h (ie, an alkoxy group). Examples of R ^h include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable. In one aspect, R ^h is a methyl group, and in another aspect R ^h is an ethyl group.

Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 R ¹² is independently at each occurrence a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.

Ｒ^１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R ¹² , the monovalent organic group is preferably a C _1-20 alkyl group, more preferably a C _1-6 alkyl group, even more preferably a methyl group.

ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。
ただし、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１）または（Ｓ２）で表される基である場合、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端のＲ^Ｓｉ部分（以下、単に式（１ａ）および式（１ｂ）の「末端部分」ともいう）において、ｎ１が１～３である（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。 n1 is an integer of 0 to 3 independently for each (SiR ¹¹ _n1 R ¹² _3-n1 ) unit.
However, when R ^Si is a group represented by formula (S1) or (S2), the terminal R ^Si portion of formula (1a) and formula (1b) (hereinafter simply formula (1a) and formula (1b) (also referred to as the “terminal portion” of), there is at least one (SiR ¹¹ _n1 R ¹² _3-n1 ) unit where n1 is 1-3. That is, not all n1's are 0 at the same time. In other words, there is at least one Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is attached at the terminal portion of formulas (1a) and (1b).

ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。 n1 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 to 3, still more preferably 3, independently for each (SiR ¹¹ _n1 R ¹² _3-n1 ) unit.

Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。かかる２価の有機基は、好ましくは－Ｒ^２８－（Ｏ）_ｘ－Ｒ^２９－である。式中、Ｒ^２８およびＲ^２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合またはＣ_１－２０アルキレン基であり、ｘは０または１である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、好ましくはＣ_１－１０アルキレン基、より好ましくはＣ_１－６アルキレン基、さらに好ましくはＣ_１－３アルキレン基である。 X ¹¹ at each occurrence is independently a single bond or a divalent organic group. Such divalent organic groups are preferably -R ²⁸ -(O) _x -R ²⁹ -. wherein R ²⁸ and R ²⁹ are each independently at each occurrence a single bond or a C _1-20 alkylene group and x is 0 or 1; Such C _1-20 alkylene groups may be straight chain or branched, but are preferably straight chain. Such C _1-20 alkylene groups are preferably C _1-10 alkylene groups, more preferably C _1-6 alkylene groups, still more preferably C _1-3 alkylene groups.

一の態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｃ_１－６アルキレン－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－または－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－である。 In one aspect, X ¹¹ is independently at each occurrence -C _1-6 alkylene-O-C _1-6 alkylene- or -O-C _1-6 alkylene-.

好ましい態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または直鎖のＣ_１－６アルキレン基であり、好ましくは単結合または直鎖のＣ_１－３アルキレン基、より好ましくは単結合または直鎖のＣ_１－２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ_１－２アルキレン基である。 In preferred embodiments, each occurrence of X ¹¹ is independently a single bond or a straight-chain C _1-6 alkylene group, preferably a single bond or a straight-chain C _1-3 alkylene group, more preferably a single It is a bond or straight chain C _1-2 alkylene group, more preferably a straight chain C _1-2 alkylene group.

Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。かかるＣ_１－２０アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。 Each occurrence of R ¹³ is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such monovalent organic groups are preferably C _1-20 alkyl groups. Such C _1-20 alkyl groups may be straight chain or branched, but are preferably straight chain.

好ましい態様において、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または直鎖のＣ_１－６アルキル基であり、好ましくは水素原子または直鎖のＣ_１－３アルキル基、好ましくは水素原子またはメチル基である。 In preferred embodiments, R ¹³ is independently at each occurrence a hydrogen atom or a linear C _1-6 alkyl group, preferably a hydrogen atom or a linear C _1-3 alkyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group.

ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数である。 t is independently an integer of 2 or greater at each occurrence.

好ましい態様において、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０の整数、好ましくは２～６の整数である。 In preferred embodiments, t is independently at each occurrence an integer from 2 to 10, preferably an integer from 2 to 6.

Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ^１４は、水素原子である。 R ¹⁴ is independently at each occurrence a hydrogen atom, a halogen atom or —X ¹¹ —SiR ¹¹ _n1 R ¹² _3-n1 . Such a halogen atom is preferably an iodine atom, a chlorine atom or a fluorine atom, more preferably a fluorine atom. In preferred embodiments, R ¹⁴ is a hydrogen atom.

Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基または炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。 Each occurrence of R ¹⁵ is independently a single bond, an oxygen atom, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyleneoxy group having 1 to 6 carbon atoms.

一の態様において、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基または炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。 In one embodiment, each occurrence of R ¹⁵ is independently an oxygen atom, a C 1-6 alkylene group, or a C 1-6 alkyleneoxy group.

好ましい態様において、Ｒ^１５は、単結合である。 In a preferred embodiment R ¹⁵ is a single bond.

一の態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ａ）である。

［式中、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、およびｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり；
ｔ１およびｔ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上の整数である。］ In one aspect, formula (S1) is the following formula (S1-a).

[In the formula,
R ¹¹ , R ¹² , R ¹³ , X ¹¹ , and n1 have the same meanings as described in formula (S1) above;
t1 and t2 are each independently at each occurrence an integer of 1 or greater. ]

好ましい態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ｂ）である。

［式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、ｎ１およびｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］ In a preferred embodiment, formula (S1) is the following formula (S1-b).

[Wherein, R ¹¹ , R ¹² , R ¹³ , X ¹¹ , n1 and t have the same meanings as described in formula (S1) above]

Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１である。 R ^a1 is independently at each occurrence -Z ¹ -SiR ²¹ _p1 R ²² _q1 R ²³ _r1 .

Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。以下、Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）に結合する。 Z ¹ is independently at each occurrence an oxygen atom or a divalent organic group. The structure described below as Z ¹ is bound to (SiR ²¹ _p1 R ²² _q1 R ²³ _r1 ) on the right side.

好ましい態様において、Ｚ^１は、２価の有機基である。 In preferred embodiments, Z ¹ is a divalent organic group.

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｚ^１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z ¹ does not include those that form a siloxane bond with the Si atom to which Z ¹ is bonded. That is, in formula (S3), (Si—Z ¹ —Si) does not contain a siloxane bond.

上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z ¹ is preferably a C _1-6 alkylene group, —(CH ₂ ) _z1 —O—(CH ₂ ) _z2 — (wherein z1 is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6 and z2 is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6) or -(CH ₂ ) _z3 -phenylene-(CH ₂ ) _z4 - (wherein z3 is an integer from 0 to 6, For example, it is an integer from 1 to 6, and z4 is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C _1-6 alkylene groups may be linear or branched, but are preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, fluorine atoms, C _1-6 alkyl groups, C _2-6 alkenyl groups, and C _2-6 alkynyl groups. is preferably unsubstituted.

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－である。Ｚ^１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z ¹ is a C _1-6 alkylene group or -(CH ₂ ) _z3 -phenylene-(CH ₂ ) _z4 -, preferably -phenylene-(CH ₂ ) _z4 -. When Z ¹ is such a group, higher light resistance, especially UV resistance, can be obtained.

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。 In another preferred embodiment, Z ¹ above is a C _1-3 alkylene group. In one aspect, Z ¹ can be -CH ₂ CH ₂ CH ₂ -. In another aspect, Z ¹ can be -CH ₂ CH ₂ -.

Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’である。 R ²¹ is independently at each occurrence -Z ^1' -SiR ^21' _p1' R ^22' _q1' R ^23' _r1' .

上記Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）に結合する。 Each occurrence of Z ^1′ above is independently an oxygen atom or a divalent organic group. In the structure described as Z ^1′ below, the right side is bound to (SiR ^21′ _p1′ R ^22′ _q1′ R ^23′ _r1′ ).

好ましい態様において、Ｚ^１’は、２価の有機基である。 In a preferred embodiment, Z ^1' is a divalent organic group.

好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｚ^１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１’－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z ^1' does not include those that form a siloxane bond with the Si atom to which Z ^1' is bonded. That is, in formula (S3), (Si—Z ^1′ —Si) does not contain a siloxane bond.

上記Ｚ^１’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２’－（式中、ｚ１’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－（式中、ｚ３’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z ^1′ is preferably a C _1-6 alkylene group, —(CH ₂ ) _z1′ —O—(CH ₂ ) _z2′ — (wherein z1′ is an integer of 0 to 6, for example 1 to is an integer of 6 and z2' is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6) or -(CH ₂ ) _z3' -phenylene-(CH ₂ ) _z4' - (wherein z3' is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6, and z4' is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C _1-6 alkylene groups may be linear or branched, but are preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, fluorine atoms, C _1-6 alkyl groups, C _2-6 alkenyl groups, and C _2-6 alkynyl groups. is preferably unsubstituted.

好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－である。Ｚ^１’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z ^1' is a C _1-6 alkylene group or -(CH ₂ ) _z3' -phenylene-(CH ₂ ) _z4' -, preferably -phenylene-(CH ₂ ) _z4' -. When Z ^1′ is such a group, it can have higher light resistance, especially UV resistance.

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。 In another preferred embodiment, Z ^1′ above is a C _1-3 alkylene group. In one aspect, Z ^1' can be -CH ₂ CH ₂ CH ₂ -. In another aspect, Z ^1' can be -CH ₂ CH ₂ -.

上記Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”である。 R ^21′ above is independently at each occurrence —Z ^1″ —SiR ^22″ _q1″ R ^23″ _r1″ .

上記Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）に結合する。 Each occurrence ^of Z ^{1 ″} _above is independently an oxygen atom or _a ^divalent organic group. ).

好ましい態様において、Ｚ^１”は、２価の有機基である。 In preferred embodiments, Z ^1″ is a divalent organic group.

好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｚ^１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１”－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。 In a preferred embodiment, Z ^1″ does not include those that form a siloxane bond with the Si atom to which Z ^1″ is bonded. That is, in formula (S3), (Si—Z ^1″ —Si) does not contain a siloxane bond.

上記Ｚ^１”は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２”－（式中、ｚ１”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－（式中、ｚ３”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z ^1″ is preferably a C _1-6 alkylene group, —(CH ₂ ) _z1″ —O—(CH ₂ ) _z2″ — (wherein z1″ is an integer of 0 to 6, for example 1 to is an integer of 6, and z2″ is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6) or —(CH ₂ ) _z3″ —phenylene-(CH ₂ ) _z4″ —, wherein z3″ is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6, and z4″ is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C _1-6 alkylene groups are linear or branched, but preferably straight-chain, these groups include, for example, fluorine atoms, C _1-6 alkyl groups, C _2-6 alkenyl groups, and C _2- It may be substituted with one or more substituents selected from ₆ alkynyl groups, but is preferably unsubstituted.

好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－である。Ｚ^１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z ^1″ is a C _1-6 alkylene group or -(CH ₂ ) _z3″ -phenylene-(CH ₂ ) _z4″ -, preferably -phenylene-(CH ₂ ) _z4″ -. When Z ^1″ is such a group, it can be more light-resistant, especially UV-resistant.

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１”は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。 In another preferred aspect, Z ^1″ is a C _1-3 alkylene group. In one aspect, Z ^1″ can be —CH ₂ CH ₂ CH ₂ —. In another aspect, Z ^1″ can be —CH ₂ CH ₂ —.

上記Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。 Each occurrence of R ^{22 ″} above is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.

上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。 R ^{22 ″} above is preferably independently at each occurrence a hydrolyzable group.

上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。 R ^{22 ″} is preferably independently at each occurrence —OR ^h , —OCOR ^h , —ON=CR ^h ₂ , —NR ^h ₂ , —NHR ^h , or halogen (wherein R ^h represents a substituted or unsubstituted C _1-4 alkyl group), more preferably —OR ^h (that is, an alkoxy group) ^{R h} includes a methyl group, an ethyl group, a propyl group, unsubstituted alkyl groups such as isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group; More preferred, in one aspect R ^h is a methyl group, and in another aspect R ^h is an ethyl group.

上記Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R ^{23 ″} above is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such monovalent organic groups are monovalent organic groups excluding the above hydrolyzable groups.

上記Ｒ^２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R ^23″ above, the monovalent organic group is preferably a C _1-20 alkyl group, more preferably a C _1-6 alkyl group, and even more preferably a methyl group.

上記ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３である。 The above q1″ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3, and the at least one r1″ is independently at each occurrence an integer from 0 to 3. The sum of q1″ and r1″ is 3 in units of (SiR ^22″ _q1″ R ^23″ _r1″ ).

上記ｑ１”は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。 The above q1″ is an integer of preferably 1 to 3, more preferably 2 to 3, still more preferably 3, independently for each (SiR ^22″ _q1″ R ^23″ _r1″ ) unit.

上記Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。 Each occurrence of R ^22′ above is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.

Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。 R ^22' is preferably independently at each occurrence a hydrolyzable group.

Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。 R ^22′ is preferably independently at each occurrence —OR ^h , —OCOR ^h , —ON═CR ^h ₂ , —NR ^h ₂ , —NHR ^h , or halogen (wherein R ^h represents a substituted or unsubstituted C _1-4 alkyl group), more preferably -OR ^h (ie, an alkoxy group). Examples of R ^h include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable. In one aspect, R ^h is a methyl group, and in another aspect R ^h is an ethyl group.

上記Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R ^23′ above is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.

Ｒ^２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R ^23′ , the monovalent organic group is preferably a C _1-20 alkyl group, more preferably a C _1-6 alkyl group, even more preferably a methyl group.

上記ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１’、ｑ１’とｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３である。 The above p1' is independently an integer of 0 to 3 at each occurrence, q1' is independently an integer from 0 to 3 at each occurrence, and r1' is independently at each occurrence. , and is an integer from 0 to 3. The sum of p1', q1' and r1' is 3 in the unit of (SiR ^21' _p1' R ^22' _q1' R ^23' _r1' ).

一の態様において、ｐ１’は、０である。 In one aspect, p1' is zero.

一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。 In one embodiment, p1' is an integer of 1 to 3, an integer of 2 to 3, or 3 independently for each (SiR ^21' _p1' R ^22' _q1' R ^23' _r1' ) unit. may In a preferred embodiment, p1' is 3.

一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。 In one embodiment, q1' is an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, each independently for each (SiR ^21' _p1' R ^22' _q1' R ^23' _r1' ) unit, 3 is more preferable.

一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。 In one aspect, p1' is 0 and q1' is an integer of 1 to 3 independently for each (SiR ^21' _p1' R ^22' _q1' R ^23' _r1' ) unit, preferably is an integer of 2-3, more preferably 3.

上記Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。 Each occurrence of R ²² above is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.

Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。 R ²² is preferably independently at each occurrence a hydrolyzable group.

Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。 R ²² is preferably independently at each occurrence -OR ^h , -OCOR ^h , -ON=CR ^h ₂ , -NR ^h ₂ , -NHR ^h , or halogen (wherein R ^h represents a substituted or unsubstituted C _1-4 alkyl group), more preferably —OR ^h (ie, an alkoxy group). Examples of R ^h include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable. In one aspect, R ^h is a methyl group, and in another aspect R ^h is an ethyl group.

上記Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R ²³ above is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.

Ｒ^２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R ²³ , the monovalent organic group is preferably a C _1-20 alkyl group, more preferably a C _1-6 alkyl group, even more preferably a methyl group.

上記ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３である。 p1 above independently at each occurrence is an integer of 0 to 3, q1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3, r1 is independently at each occurrence, An integer from 0 to 3. The sum of p1, q1 and r1 is 3 in units of (SiR ²¹ _p1 R ²² _q1 R ²³ _r1 ).

一の態様において、ｐ１は、０である。 In one aspect, p1 is zero.

一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。 In one aspect, p1 may be an integer of 1 to 3, an integer of 2 to 3, or 3 independently for each (SiR ²¹ _p1 R ²² _q1 R ²³ _r1 ) unit. In a preferred embodiment, p1 is 3.

一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。 In one aspect, q1 is an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, more preferably 3, independently for each (SiR ²¹ _p1 R ²² _q1 R ²³ _r1 ) unit.

一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。 In one embodiment, p1 is 0 and q1 is independently an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, for each (SiR ²¹ _p1 R ²² _q1 R ²³ _r1 ) unit. 3 is preferred.

上記式中、Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。 In the above formula, each occurrence of R ^b1 is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.

上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。 R ^b1 above is preferably independently at each occurrence a hydrolyzable group.

上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。 Preferably, each occurrence of R ^b1 is independently —OR ^h , —OCOR ^h , —ON=CR ^h ₂ , —NR ^h ₂ , —NHR ^h , or halogen (wherein R ^h represents a substituted or unsubstituted C _1-4 alkyl group), more preferably -OR ^h (ie, an alkoxy group). Examples of R ^h include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable. In one aspect, R ^h is a methyl group, and in another aspect R ^h is an ethyl group.

上記式中、Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 In the above formula, each occurrence of R ^c1 is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.

上記Ｒ^ｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R ^c1 above, the monovalent organic group is preferably a C _1-20 alkyl group, more preferably a C _1-6 alkyl group, still more preferably a methyl group.

上記ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３である。 k1 above independently at each occurrence is an integer of 0 to 3, l1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3, m1 is independently at each occurrence, An integer from 0 to 3. The sum of k1, l1 and m1 is 3 in units of (SiR ^a1 _k1 R ^b1 _l1 R ^c1 _m1 ).

一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。 In one embodiment, k1 is independently an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 for each (SiR ^a1 _k1 R ^b1 _l1 R ^c1 _m1 ) unit. In a preferred embodiment, k1 is 3.

上記式（１ａ）および（１ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される基である場合、好ましくは、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。 In formulas (1a) and (1b) above, when R ^Si is a group represented by formula (S3), preferably at the terminal portion of formulas (1a) and (1b), a hydroxyl group or a hydrolyzable group There are at least two Si atoms to which are bonded.

好ましい態様において、式（Ｓ３）で表される基は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１（式中、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０～２の整数である。）、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’（式中、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０～２の整数である。）、または－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”（式中、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０～２の整数である。）のいずれか１つを有する。なお、ここでｑ１とｒ１との合計は－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１単位毎に３であり；ｑ１’とｒ１’との合計は－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’単位毎に３であり；ｑ１”とｒ１”との合計は－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”単位毎に３である。 In a preferred embodiment, the group represented by formula (S3) is —Z ¹ —SiR ²² _q1 R ²³ _r1 (wherein q1 is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 and r1 is an integer of 0 to 2.), —Z ^1′ —SiR ^22′ _q1′ R ^23′ _r1′ (wherein q1′ is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3, and r1′ is an integer of 0 to 2), or —Z ^1″ —SiR ^22″ _q1″ R ^23″ _r1″ (wherein q1″ is 1 to is an integer of 3, preferably 2 or 3, more preferably 3, and r1″ is an integer of 0 to 2.) where the sum of q1 and r1 is 3 per -Z ¹ -SiR ²² _q1 R ²³ _r1 unit; the sum of q1' and r1' is 3 per -Z ^1' -SiR ^22' _q1' R ^23' _r1' unit; The sum of " and r1" is 3 for each -Z ^1" -SiR ^22" _q1" R ^23" _r1" unit.

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１’において、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。 In a preferred embodiment, in formula (S3), at least one, preferably all R ^{21′ ,} if present, q1″ is an integer from 1 to 3, preferably 2 or 3, or more 3 is preferred.

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。 In a preferred embodiment, in formula (S3), if R ²¹ is present, at least one, preferably all R ²¹ , p1′ is 0 and q1′ is an integer of 1 to 3, preferably is 2 or 3, more preferably 3.

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^ａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。 In a preferred embodiment, in formula (S3), if R ^a1 is present, at least one, preferably all R ^a1 , p1 is 0, q1 is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3.

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ１は２または３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２または３、好ましくは３である。 In a preferred embodiment, k1 is 2 or 3, preferably 3, p1 is 0, and q1 is 2 or 3, preferably 3, in formula (S3).

Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２である。 R ^d1 is independently at each occurrence -Z ² -CR ³¹ _p2 R ³² _q2 R ³³ _r2 .

Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）に結合する。 Z ² is independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group. In the structure described below as Z ² , the right side is bound to (CR ³¹ _p2 R ³² _q2 R ³³ _r2 ).

好ましい態様において、Ｚ^２は、２価の有機基である。 In preferred embodiments, Z ² is a divalent organic group.

上記Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z ² is preferably a C _1-6 alkylene group, —(CH ₂ ) _z5 —O—(CH ₂ ) _z6 — (wherein z5 is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6 and z6 is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6) or -(CH ₂ ) _z7 -phenylene-(CH ₂ ) _z8 - (wherein z7 is an integer from 0 to 6, For example, an integer from 1 to 6, and z8 is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C _1-6 alkylene groups may be linear or branched, but are preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, fluorine atoms, C _1-6 alkyl groups, C _2-6 alkenyl groups, and C _2-6 alkynyl groups. is preferably unsubstituted.

好ましい態様において、Ｚ^２は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－である。Ｚ^２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z ² is a C _1-6 alkylene group or -(CH ₂ ) _z7 -phenylene-(CH ₂ ) _z8 -, preferably -phenylene-(CH ₂ ) _z8 -. When ^Z2 is such a group, it can be more light-resistant, especially UV-resistant.

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。 In another preferred embodiment, Z ² above is a C _1-3 alkylene group. In one aspect, Z ² can be -CH ₂ CH ₂ CH ₂ -. In another aspect, Z ² can be -CH ₂ CH ₂ -.

Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’である。 R ³¹ is independently at each occurrence -Z ^2' -CR ^32' _q2' R ^33' _r2' .

Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）に結合する。 Z ^2' at each occurrence is independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group. In the structure described as Z ^2′ below, the right side is bound to (CR ^32′ _q2′ R ^33′ _r2′ ).

上記Ｚ^２’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６’－（式中、ｚ５’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－（式中、ｚ７’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z ^2′ is preferably a C _1-6 alkylene group, —(CH ₂ ) _z5′ —O—(CH ₂ ) _z6′ — (wherein z5′ is an integer of 0 to 6, for example 1 to is an integer of 6 and z6' is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6) or -(CH ₂ ) _z7' -phenylene-(CH ₂ ) _z8' - (wherein z7' is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6, and z8' is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C _1-6 alkylene groups may be linear or branched, but are preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, fluorine atoms, C _1-6 alkyl groups, C _2-6 alkenyl groups, and C _2-6 alkynyl groups. is preferably unsubstituted.

好ましい態様において、Ｚ^２’は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－である。Ｚ^２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z ^2' is a C _1-6 alkylene group or -(CH ₂ ) _z7' -phenylene-(CH ₂ ) _z8' -, preferably -phenylene-(CH ₂ ) _z8' -. When Z ^2' is such a group, it can be more light-resistant, especially UV-resistant.

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。 In another preferred embodiment, Z ^2′ above is a C _1-3 alkylene group. In one aspect, Z ^2' can be -CH ₂ CH ₂ CH ₂ -. In another aspect, Z ^2' can be -CH ₂ CH ₂ -.

上記Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。 Each occurrence of R ^32′ above is independently —Z ³ —SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 .

上記Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）に結合する。 Each occurrence of Z ³ above is independently a single bond, an oxygen atom or a divalent organic group. In the structure described below as Z ³ , the right side is bound to (SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 ).

一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。 In one aspect, ^Z3 is an oxygen atom.

一の態様において、Ｚ^３は２価の有機基である。 In one aspect, Z ³ is a divalent organic group.

上記Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。 The above Z ³ is preferably a C _1-6 alkylene group, —(CH ₂ ) _z5″ —O—(CH ₂ ) _z6″ — (wherein z5″ is an integer of 0 to 6, such as 1 to 6 and z6″ is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6) or —(CH ₂ ) _z7″ —phenylene-(CH ₂ ) _z8″ — (wherein z7″ is , an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6, and z8″ is an integer from 0 to 6, such as an integer from 1 to 6). Such C _1-6 alkylene groups may be linear or branched, but are preferably linear. These groups may be substituted with one or more substituents selected from, for example, fluorine atoms, C _1-6 alkyl groups, C _2-6 alkenyl groups, and C _2-6 alkynyl groups. is preferably unsubstituted.

好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。 In a preferred embodiment, Z ³ is a C _1-6 alkylene group or -(CH ₂ ) _z7″ -phenylene-(CH ₂ ) _z8″ -, preferably -phenylene-(CH ₂ ) _z8″ - ^. When is such a group, higher light resistance, especially UV resistance, can be obtained.

別の好ましい態様において、上記Ｚ^３は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。 In another preferred embodiment, Z ³ above is a C _1-3 alkylene group. In one aspect, Z ³ can be -CH ₂ CH ₂ CH ₂ -. In another aspect, Z ³ can be -CH ₂ CH ₂ -.

上記Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。 Each occurrence of R ³⁴ above is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group.

Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。 R ³⁴ is preferably independently at each occurrence a hydrolyzable group.

Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。 R ³⁴ is preferably independently at each occurrence -OR ^h , -OCOR ^h , -ON=CR ^h ₂ , -NR ^h ₂ , -NHR ^h , or halogen (wherein R ^h represents a substituted or unsubstituted C _1-4 alkyl group), more preferably —OR ^h (ie, an alkoxy group). Examples of R ^h include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group. Among them, an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable. In one aspect, R ^h is a methyl group, and in another aspect R ^h is an ethyl group.

上記Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R ³⁵ above is independently a hydrogen atom or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.

上記Ｒ^３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R ³⁵ above, the monovalent organic group is preferably a C _1-20 alkyl group, more preferably a C _1-6 alkyl group, still more preferably a methyl group.

上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端部分において、ｎ２が１～３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ２が同時に０になることはない。換言すれば、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。 In the above formula, n2 is an integer of 0 to 3 independently for each (SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 ) unit. However, when R ^Si is a group represented by formula (S4), in the terminal portion of formulas (1a) and (1b), (SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 ) units in which n2 is 1 to 3 there is at least one That is, not all n2 are 0 at the same time. In other words, there is at least one Si atom to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is attached at the terminal portion of formulas (1a) and (1b).

ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。 n2 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 to 3, still more preferably 3, independently for each (SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 ) unit.

上記Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R ^33′ above is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.

上記Ｒ^３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R ^33′ above, the monovalent organic group is preferably a C _1-20 alkyl group, more preferably a C _1-6 alkyl group, still more preferably a methyl group.

一の態様において、Ｒ^３３’は、水酸基である。 In one aspect, R ^33' is a hydroxyl group.

別の態様において、Ｒ^３３’は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。 In another aspect, R ^33′ is a monovalent organic group, preferably a C _1-20 alkyl group, more preferably a C _1-6 alkyl group.

上記ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３である。 Each occurrence of q2' is independently an integer from 0 to 3, and each occurrence of r2' is independently an integer from 0 to 3. The sum of q2' and r2' is 3 in the unit of (CR ^32' _q2' R ^33' _r2' ).

ｑ２’は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。 q2' is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 to 3, still more preferably 3, independently for each (CR ^32' _q2' R ^33' _r2' ) unit.

Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。 R ³² is independently at each occurrence -Z ³ -SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 . Such —Z ³ —SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 has the same meaning as described for R ^32′ above.

上記Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R ³³ above is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.

上記Ｒ^３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R ³³ above, the monovalent organic group is preferably a C _1-20 alkyl group, more preferably a C _1-6 alkyl group, still more preferably a methyl group.

一の態様において、Ｒ^３３は、水酸基である。 In one aspect, R ³³ is a hydroxyl group.

別の態様において、Ｒ^３３は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。 In another aspect, R ³³ is a monovalent organic group, preferably a C _1-20 alkyl group, more preferably a C _1-6 alkyl group.

上記ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２およびｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３である。 p2 above independently at each occurrence is an integer of 0 to 3, q2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3, r2 is independently at each occurrence, An integer from 0 to 3. The sum of p2, q2 and r2 is 3 in the unit of (CR ³¹ _p2 R ³² _q2 R ³³ _r2 ).

一の態様において、ｐ２は、０である。 In one aspect, p2 is zero.

一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２’は、３である。 In one aspect, p2 may be an integer of 1 to 3, an integer of 2 to 3, or 3 independently for each (CR ³¹ _p2 R ³² _q2 R ³³ _r2 ) unit. In a preferred embodiment, p2' is 3.

一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。 In one aspect, q2 is an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, more preferably 3 for each (CR ³¹ _p2 R ³² _q2 R ³³ _r2 ) unit.

一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。 In one embodiment, p2 is 0 and q2 is independently an integer of 1 to 3, preferably an integer of 2 to 3, for each (CR ³¹ _p2 R ³² _q2 R ³³ _r2 ) unit. 3 is preferred.

上記Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。 Each occurrence of R ^e1 above is independently —Z ³ —SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 . Such —Z ³ —SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 has the same meaning as described for R ^32′ above.

上記Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。 Each occurrence of R ^f1 above is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, or a monovalent organic group. Such a monovalent organic group is a monovalent organic group excluding the above hydrolyzable group.

上記Ｒ^ｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。 In R ^f1 above, the monovalent organic group is preferably a C _1-20 alkyl group, more preferably a C _1-6 alkyl group, still more preferably a methyl group.

一の態様において、Ｒ^ｆ１は、水酸基である。 In one aspect, R ^f1 is a hydroxyl group.

別の態様において、Ｒ^ｆ１は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。 In another aspect, R ^f1 is a monovalent organic group, preferably a C _1-20 alkyl group, more preferably a C _1-6 alkyl group.

上記ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２およびｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３である。 k2 above independently at each occurrence is an integer of 0 to 3, l2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3, m2 is independently at each occurrence, An integer from 0 to 3. The sum of k2, l2 and m2 is 3 in units of (CR ^d1 _k2 R ^e1 _l2 R ^f1 _m2 ).

一の態様において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、ｎ２が１～３、好ましくは２または３、より好ましくは３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位は、式（１ａ）および式（１ｂ）の各末端部分において、２個以上、例えば２～２７個、好ましくは２～９個、より好ましくは２～６個、さらに好ましくは２～３個、特に好ましくは３個存在する。 In one aspect, when R ^Si is a group represented by formula (S4), n2 is 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 (SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 ) units is 2 or more, for example 2 to 27, preferably 2 to 9, more preferably 2 to 6, still more preferably 2 to 3, at each terminal portion of formula (1a) and formula (1b), Especially preferably, there are three.

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２’において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。 In a preferred embodiment, in formula (S4), at least one, preferably all R ^{32 '} , if present, n2 is an integer from 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably is 3.

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。 In a preferred embodiment, in formula (S4), at least one, preferably all R ³² , if present, n2 is an integer from 1 to 3, ^preferably 2 or 3, more preferably 3 is.

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^ｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。 In a preferred embodiment, in formula (S4), if R ^e1 is present, at least one, preferably all R ^a1 , n2 is an integer from 1 to 3, preferably 2 or 3, more preferably 3 is.

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２または３、好ましくは３であり、ｎ２は、２または３、好ましくは３である。 In a preferred embodiment, k2 is 0, l2 is 2 or 3, preferably 3, and n2 is 2 or 3, preferably 3, in formula (S4).

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、高い表面滑り性を有する表面処理層を形成することができる。 In one aspect, R ^Si is a group represented by formula (S2), (S3) or (S4). These compounds can form a surface treatment layer having high surface lubricity.

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に複数の加水分解性基を有することから、基材に強く密着し、高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。 In one aspect, R ^Si is a group represented by formula (S1), (S3) or (S4). Since these compounds have a plurality of hydrolyzable groups at one end, they can form a surface treatment layer that strongly adheres to a substrate and has high friction durability.

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に、一のＳｉ原子またはＣ原子から分岐した複数の加水分解性基を有し得ることから、さらに高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。 In one aspect, R ^Si is a group represented by formula (S3) or (S4). Since these compounds can have a plurality of hydrolyzable groups branched from one Si atom or C atom at one end, they can form a surface treatment layer with even higher friction durability.

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）で表される基である。 In one aspect, R ^Si is a group represented by formula (S1).

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である。 In one aspect, R ^Si is a group represented by formula (S2).

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表される基である。 In one aspect, R ^Si is a group represented by formula (S3).

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される基である。 In one aspect, R ^Si is a group represented by formula (S4).

（組成物）
以下、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）について説明する。 (Composition)
Compositions (eg, surface treatment agents) of the present disclosure are described below.

本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（１ａ）または式（１ｂ）で表される少なくとも１つのフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する。 The composition (eg, surface treatment agent) of the present disclosure contains at least one fluoropolyether group-containing silane compound represented by Formula (1a) or Formula (1b).

一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（１ａ）および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含み得る。 In one aspect, the compositions (eg, surface treatment agents) of the present disclosure can include fluoropolyether group-containing silane compounds represented by formulas (1a) and (1b).

一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（１ａ）および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物に対する、式（１ａ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（１ａ）および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物に対する、式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは０．３５、より好ましくは０．３０、さらに好ましくは０．２０、さらにより好ましくは０．１５または０．１０であり得る。式（１ａ）および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物に対する、式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）は、好ましくは０．００１以上０．３０以下、より好ましくは０．００１以上０．２０以下、さらに好ましくは０．００２以上０．２０以下、さらにより好ましくは０．００５以上０．２０以下、特に好ましくは０．０１以上０．２０以下、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）または０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。上記範囲で含むことにより、本開示の組成物は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。 In one aspect, for the fluoropolyether group-containing silane compounds represented by formulas (1a) and (1b) contained in the composition (e.g., surface treatment agent) of the present disclosure, represented by formula (1a) The lower limit of the ratio (molar ratio) of the fluoropolyether group-containing silane compound is preferably 0.001, more preferably 0.002, still more preferably 0.005, still more preferably 0.01, particularly preferably It may be 0.02, especially 0.05. The upper limit of the ratio (molar ratio) of the fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (1b) to the fluoropolyether group-containing silane compound represented by formulas (1a) and (1b) is preferably It can be 0.35, more preferably 0.30, more preferably 0.20, even more preferably 0.15 or 0.10. The ratio (molar ratio) of the fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (1b) to the fluoropolyether group-containing silane compounds represented by formulas (1a) and (1b) is preferably 0.001. 0.30 or less, more preferably 0.001 or more and 0.20 or less, still more preferably 0.002 or more and 0.20 or less, still more preferably 0.005 or more and 0.20 or less, particularly preferably 0.01 or more 0.20 or less, for example, 0.02 or more and 0.20 or less (specifically 0.15 or less) or 0.05 or more and 0.20 or less (specifically 0.15 or less). By containing within the above range, the composition of the present disclosure can contribute to the formation of a cured layer with good friction durability.

本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、撥水性、撥油性、防汚性、表面滑り性、摩擦耐久性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。 The composition (e.g., surface treatment agent) of the present disclosure can impart water repellency, oil repellency, antifouling properties, surface slipperiness, and friction durability to a substrate, and is not particularly limited. can be suitably used as an antifouling coating agent or a waterproof coating agent.

本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、溶媒、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等をさらに含み得る。 The compositions (e.g., surface treatment agents) of the present disclosure include solvents, (non-reactive) fluoropolyether compounds, preferably perfluoro(poly)ether compounds (hereinafter collectively “containing fluorine oil"), a (non-reactive) silicone compound that can be understood as silicone oil (hereinafter referred to as "silicone oil"), a catalyst, a surfactant, a polymerization inhibitor, a sensitizer, etc. .

上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。 Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, and mineral spirits; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, naphthalene, and solvent naphtha. ; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, n-butyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate, carbitol acetate, diethyl oxalate, ethyl pyruvate, ethyl-2-hydroxybutyrate , ethyl acetoacetate, amyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 2-hydroxyisobutyrate, ethyl 2-hydroxyisobutyrate and other esters; acetone, methyl ethyl ketone, Ketones such as methyl isobutyl ketone, 2-hexanone, cyclohexanone, methylaminoketone, 2-heptanone; ethyl cellosolve, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol Glycol ethers such as monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, dipropylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoalkyl ether; methanol, ethanol, iso-propanol, n-butanol, alcohols such as isobutanol, tert-butanol, sec-butanol, 3-pentanol, octyl alcohol, 3-methyl-3-methoxybutanol, tert-amyl alcohol; glycols such as ethylene glycol and propylene glycol; tetrahydrofuran, tetrahydro Cyclic ethers such as pyran and dioxane; amides such as N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide; ether alcohols such as methyl cellosolve, cellosolve, isopropyl cellosolve, butyl cellosolve, and diethylene glycol monomethyl ether; diethylene glycol monoethyl ether Acetate; 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane, 1,2-dichloro-1,1,2,2-tetrafluoroethane, dimethylsulfoxide, 1,1-dichloro-1,2 , 2,3,3-pentafluoropropane (HCFC225), Zeorola H, HFE7100, HFE7200, HFE7300 and other fluorine-containing solvents. Alternatively, a mixed solvent of two or more of these may be used.

含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’－Ｒｆ^６ ・・・（３）
式中、Ｒｆ^５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。 Examples of the fluorine-containing oil include, but are not limited to, compounds represented by the following general formula (3) (perfluoro(poly)ether compounds).
^Rf5- ( _OC4F8 ) _a' -( _OC3F6 ) _b' -( _OC2F4 ) _{c '} -( _OCF2 ) _d'- ^Rf6 _{( 3} )
In the formula, Rf ⁵ represents a C 1-16 alkyl group (preferably a C _1-16 perfluoroalkyl group) optionally substituted with one or more fluorine atoms, and Rf ⁶ is represents a C 1-16 alkyl group optionally substituted with one or more fluorine atoms (preferably a C _1-16 perfluoroalkyl group), a fluorine atom or a hydrogen atom, and Rf ⁵ and Rf ⁶ , more preferably each independently a C _1-3 perfluoroalkyl group.
a', b', c' and d' each represent the number of four types of repeating units of perfluoro(poly)ether constituting the main skeleton of the polymer, and are independently integers of 0 or more and 300 or less, , a′, b′, c′ and d′ are at least 1, preferably 1-300, more preferably 20-300. The order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with subscript a', b', c' or d' is arbitrary in the formula. Among these repeating units, -(OC ₄ F ₈ )- is -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ CF ₂ )-, -(OCF(CF ₃ )CF ₂ CF ₂ )-, -(OCF ₂ CF(CF ₃ ) CF ₂ )-,-(OCF ₂ CF ₂ CF(CF ₃ ))-,-(OC(CF ₃ ) ₂ CF ₂ )-,-(OCF ₂ C(CF ₃ ) ₂ )-,-(OCF (CF ₃ )CF(CF ₃ ))-, -(OCF(C ₂ F ₅ )CF ₂ )- and (OCF ₂ CF(C ₂ F ₅ ))-, preferably - (OCF ₂ CF ₂ CF ₂ CF ₂ )-. -(OC ₃ F ₆ )- may be any of -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ )-, -(OCF(CF ₃ )CF ₂ )- and (OCF ₂ CF(CF ₃ ))- , preferably -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ )-. -(OC ₂ F ₄ )- may be either -(OCF ₂ CF ₂ )- or (OCF(CF ₃ ))-, but is preferably -(OCF ₂ CF ₂ )-.

上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－Ｒｆ^６ ・・・（３ａ）
Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”－（ＯＣＦ_２）_ｄ”－Ｒｆ^６ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”及びｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”及びｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。 Examples of perfluoro(poly)ether compounds represented by the general formula (3) include compounds represented by any of the following general formulas (3a) and (3b) (one or a mixture of two or more) may be used).
Rf ⁵ -(OCF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _b″ -Rf ⁶ (3a)
^Rf5- ( _{OCF2CF2CF2CF2 ) a"} -( _{OCF2CF2CF2 ) b" -} ( _{OCF2CF2 ) c "} -( _OCF2 ) _{d" -Rf6} ^... (3b )
In these formulas, Rf ⁵ and Rf ⁶ are as described above; in formula (3a), b″ is an integer of 1 or more and 100 or less; is an integer of 0 or more and 30 or less, and c" and d" are each independently an integer of 1 or more and 300 or less. The order of existence of each repeating unit is arbitrary in the formula.

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３－Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。 From another point of view, the fluorine-containing oil may be a compound represented by the general formula Rf ³ —F (wherein Rf ³ is a C _5-16 perfluoroalkyl group). It may also be a chlorotrifluoroethylene oligomer.

上記含フッ素オイルは、５００～１０，０００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。 The fluorine-containing oil may have an average molecular weight of 500-10,000. The molecular weight of the fluorine-containing oil can be measured using GPC.

含フッ素オイルは、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の組成物は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。 The fluorine-containing oil may be included in an amount of, for example, 0 to 50% by mass, preferably 0 to 30% by mass, more preferably 0 to 5% by mass, based on the composition (eg, surface treatment agent) of the present disclosure. In one aspect, the compositions of the present disclosure are substantially free of fluorinated oils. “Substantially free of fluorine-containing oil” means that it does not contain fluorine-containing oil at all, or may contain a very small amount of fluorine-containing oil.

含フッ素オイルは、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。 The fluorine-containing oil contributes to improving the surface lubricity of the layer formed by the composition (eg, surface treatment agent) of the present disclosure.

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。 As the silicone oil, for example, linear or cyclic silicone oil having 2,000 or less siloxane bonds can be used. Linear silicone oils may be so-called straight silicone oils and modified silicone oils. Examples of straight silicone oils include dimethylsilicone oil, methylphenylsilicone oil, and methylhydrogensilicone oil. Modified silicone oils include those obtained by modifying straight silicone oils with alkyl, aralkyl, polyether, higher fatty acid ester, fluoroalkyl, amino, epoxy, carboxyl, alcohol and the like. Cyclic silicone oil includes, for example, cyclic dimethylsiloxane oil.

本開示の組成物（例えば、表面処理剤）中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。 In the composition (e.g., surface treatment agent) of the present disclosure, such silicone oil is a total of 100 parts by mass of the fluoropolyether group-containing silane compound of the present disclosure (if two or more, the total of these, the same below) ), for example 0 to 300 parts by weight, preferably 50 to 200 parts by weight.

シリコーンオイルは、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。 Silicone oil contributes to improving the surface lubricity of the layer formed by the composition (eg, surface treatment agent) of the present disclosure.

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。 Examples of the catalyst include acids (eg, acetic acid, trifluoroacetic acid, etc.), bases (eg, ammonia, triethylamine, diethylamine, etc.), transition metals (eg, Ti, Ni, Sn, etc.), and the like.

触媒は、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）により形成される層の形成を促進する。 The catalyst promotes hydrolysis and dehydration condensation of the fluoropolyether group-containing silane compound of the present disclosure and promotes formation of a layer formed by the composition (eg, surface treatment agent) of the present disclosure.

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。 Other components include, in addition to the above, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, methyltriacetoxysilane, and the like.

本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用いることができる。 The composition of the present disclosure can be used as a surface treatment agent for surface treatment of substrates.

本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。 The surface treatment agent of the present disclosure can be formed into pellets by impregnating a porous material such as a porous ceramic material, metal fiber such as steel wool into a flocculated material. The pellet can be used, for example, for vacuum deposition.

（物品）
以下、本開示の物品について説明する。 (Goods)
Articles of the present disclosure are described below.

本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物またはフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤（以下、これらを代表して単に「本開示の表面処理剤」という）より形成された層（表面処理層）とを含む。 The article of the present disclosure includes a base material and a surface treatment agent containing the fluoropolyether group-containing silane compound or the fluoropolyether group-containing silane compound of the present disclosure on the surface of the base material (hereinafter simply referred to as "this disclosure" on behalf of these and a layer (surface treatment layer) formed from a surface treatment agent”).

本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。 Substrates that can be used in the present disclosure include, for example, glass, resins (natural or synthetic resins, such as common plastic materials, and may be in the form of plates, films, or other forms), metals, ceramics, It can be made of any suitable material, such as semiconductors (silicon, germanium, etc.), fibers (fabric, non-woven fabric, etc.), fur, leather, wood, ceramics, stone, etc., building materials, and the like.

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。 For example, when the article to be manufactured is an optical member, the material forming the surface of the substrate may be a material for optical members, such as glass or transparent plastic. Moreover, when the article to be manufactured is an optical member, some layer (or film) such as a hard coat layer or an antireflection layer may be formed on the surface (outermost layer) of the substrate. The antireflection layer may be either a single antireflection layer or a multi-layer antireflection layer. Examples of inorganic materials _that can be used for _the antireflection layer include _SiO2 , SiO, _ZrO2 , _TiO2 , _TiO , _Ti2O3 , _Ti2O5 , _Al2O3 , _Ta2O5 , _CeO2 , MgO _. , Y ₂ O ₃ , SnO ₂ , MgF ₂ , WO ₃ and the like. These inorganic substances may be used alone or in combination of two or more (for example, as a mixture). In the case of a multilayer antireflection layer, it is preferable to use SiO ₂ and/or SiO for the outermost layer. When the article to be manufactured is an optical glass component for a touch panel, a thin film using a transparent electrode such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide is provided on part of the surface of the substrate (glass). may be In addition, depending on the specific specifications of the base material, an insulating layer, an adhesive layer, a protective layer, a decorative frame layer (I-CON), an atomized film layer, a hard coating film layer, a polarizing film, a phase retardation film, and a liquid crystal display module.

基材の形状は特に限定されない。また、本開示の表面処理剤によって形成された層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。 The shape of the substrate is not particularly limited. In addition, the surface region of the substrate on which the layer formed by the surface treatment agent of the present disclosure is to be formed may be at least a part of the substrate surface, depending on the application and specific specifications of the article to be manufactured. It can be determined as appropriate.

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。 At least the surface portion of such a substrate may be made of a material that originally has hydroxyl groups. Examples of such materials include glass, metals (particularly base metals), ceramics, and semiconductors on which a natural oxide film or thermal oxide film is formed. Alternatively, in the case where the base material does not have sufficient hydroxyl groups or does not originally have hydroxyl groups, such as resins, hydroxyl groups are introduced onto the surface of the base material by subjecting the base material to some pretreatment. can be increased or increased. Examples of such pretreatment include plasma treatment (eg, corona discharge) and ion beam irradiation. Plasma treatment can introduce or increase hydroxyl groups on the substrate surface, and can also be suitably used to clean the substrate surface (remove foreign matter and the like). Further, as another example of such a pretreatment, an interfacial adsorbent having a carbon-carbon unsaturated bond group is preliminarily formed on the substrate surface by a monomolecular film by the LB method (Langmuir-Blodgett method), a chemical adsorption method, or the like. A method in which the unsaturated bond is cleaved in an atmosphere containing oxygen, nitrogen, or the like is exemplified.

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。 Alternatively, such a substrate may consist, at least in its surface portion, of a material containing another reactive group, such as a silicone compound having one or more Si—H groups, or an alkoxysilane.

次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。 Next, a layer of the surface treating agent of the present disclosure is formed on the surface of such a substrate, and this layer is post-treated as necessary to form a layer from the surface treating agent of the present disclosure.

本開示の表面処理剤の層形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。 Layer formation of the surface treatment agent of the present disclosure can be carried out by applying the above surface treatment agent to the surface of the substrate so as to coat the surface. A coating method is not particularly limited. For example, wet coating methods and dry coating methods can be used.

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。 Examples of wet coating methods include dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, roll coating, gravure coating and similar methods.

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。 Examples of dry coating methods include vapor deposition (usually vacuum deposition), sputtering, CVD and similar methods. Specific examples of vapor deposition methods (usually vacuum vapor deposition methods) include resistance heating, electron beams, high-frequency heating using microwaves, ion beams, and similar methods. Examples of CVD methods include plasma-CVD, optical CVD, thermal CVD and similar methods.

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。 Furthermore, coating by the atmospheric pressure plasma method is also possible.

湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）が特に好ましい。 When using wet coating methods, the surface treatment agents of the present disclosure may be diluted with a solvent prior to application to the substrate surface. From the viewpoint of the stability of the surface treatment agent of the present disclosure and the volatility of the solvent, the following solvents are preferably used: perfluoroaliphatic hydrocarbons having 5 to 12 carbon atoms (e.g., perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane and perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane); polyfluoroaromatic hydrocarbons (eg bis(trifluoromethyl)benzene); polyfluoroaliphatic hydrocarbons (eg C ₆ F ₁₃ CH ₂ CH ₃ (eg Asahiklin (registered trademark) AC-6000 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane (for example, Zeorora (registered trademark) H manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) hydrofluoroethers ₍ HFE) (e.g., perfluoropropyl methyl ether ( _C3F7OCH3 ) (e.g., Sumitomo 3M Novec™ ₇₀₀₀ ), perfluorobutyl methyl ether ( _C4F9OCH ) _{; 3} ) (e.g. Novec (trademark) 7100 manufactured by Sumitomo 3M), perfluorobutyl ethyl ether ( _C4F9OC2H5 ) ( _{e.g. Novec} (trademark) ₇₂₀₀ manufactured by Sumitomo 3M), Per _Alkyl perfluoroalkyl _{ethers (} perfluoroalkyl _{groups and} alkyl groups are may be linear or branched), or CF ₃ CH ₂ OCF ₂ CHF ₂ (for example, Asahiklin (registered trademark) AE-3000 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), etc. These solvents alone are Alternatively, _it can be _used as _{a mixture} of two or _{more .} H ₅ ) is particularly preferred.

乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。 When using a dry coating method, the surface treatment agents of the present disclosure may be subjected to the dry coating method as is, or may be diluted with the solvents described above and then subjected to the dry coating method.

表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。 Layering of the surface treatment agent is preferably carried out such that the surface treatment agent of the present disclosure is present in the layer together with a catalyst for hydrolysis and dehydration condensation. Conveniently, when the wet coating method is used, the catalyst may be added to the diluted solution of the surface treatment agent of the present disclosure after the surface treatment agent of the present disclosure has been diluted with a solvent, just prior to application to the substrate surface. In the case of the dry coating method, the surface treatment agent of the present disclosure to which the catalyst has been added is vapor-deposited (usually, vacuum deposition) as it is, or the surface treatment agent of the present disclosure to which the catalyst is added is applied to a metal porous body such as iron or copper. A vapor deposition (usually vacuum vapor deposition) process may be performed using a pellet-shaped material impregnated with .

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。 Any suitable acid or base can be used for the catalyst. Examples of acid catalysts that can be used include acetic acid, formic acid, and trifluoroacetic acid. Moreover, as a basic catalyst, for example, ammonia, organic amines, and the like can be used.

上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。 As described above, a layer derived from the surface treatment agent of the present disclosure is formed on the surface of the substrate to produce the article of the present disclosure. The layer thus obtained has both high surface slipperiness and high friction durability. In addition to high friction durability, the layer has water repellency, oil repellency, antifouling properties (for example, to prevent the adhesion of stains such as fingerprints), and waterproof properties, depending on the composition of the surface treatment agent used. (prevents water from penetrating into electronic parts, etc.), surface lubricity (or lubricity, e.g., wiping off of fingerprints and other stains, excellent tactile sensation on fingers), etc., and is suitable as a functional thin film can be utilized.

すなわち本開示はさらに、本開示の表面処理剤に由来する層を最外層に有する光学材料にも関する。 That is, the present disclosure further relates to an optical material having a layer derived from the surface treatment agent of the present disclosure as the outermost layer.

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。 As optical materials, in addition to optical materials related to displays and the like as exemplified later, a wide variety of optical materials are preferably exemplified: for example, cathode ray tubes (CRT; e.g., personal computer monitors), liquid crystal displays, plasma displays, organic EL. Displays such as displays, inorganic thin film EL dot matrix displays, rear projection displays, fluorescent display tubes (VFD), field emission displays (FED; Field Emission Display), protective plates for these displays, or antireflection films on their surfaces processed.

本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。 Articles having layers obtained by the present disclosure may be, but are not limited to, optical members. Examples of optical members include the following: lenses for eyeglasses; front protective plates, antireflection plates, polarizing plates, anti-glare plates for displays such as PDP and LCD; touch panel sheets; disc surfaces of optical discs such as Blu-ray (registered trademark) discs, DVD discs, CD-Rs, and MOs; optical fibers;

また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。 Articles having layers provided by the present disclosure may also be medical devices or medical materials.

さらに、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車の内外装、例えばヘッドライトカバー、サイドミラー、サイドウインドウ、内装加飾フィルム、センターコンソール、メーターパネル、カメラレンズカバーなどであってもよい。 Furthermore, articles having layers obtained by the present disclosure may be automobile interior and exterior, such as headlight covers, side mirrors, side windows, interior decorative films, center consoles, meter panels, camera lens covers, and the like.

上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。 The thickness of the layer is not particularly limited. In the case of optical members, the thickness of the layer is preferably in the range of 1 to 50 nm, 1 to 30 nm, preferably 1 to 15 nm, from the viewpoint of optical performance, surface slipperiness, friction durability and antifouling properties. .

以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。 Although the embodiments have been described above, it will be appreciated that various changes in form and detail may be made without departing from the spirit and scope of the claims.

以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示す。また、ポリエーテル基を構成する繰り返し単位（ＯＣＦ_２）および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）の存在順序は任意である。以下において、「Ｍｅ」はＣＨ_３を、「Ｂｏｃ」はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を、「ＢＯＰ」はベンゾトリアゾール－１－イルオキシ－トリスジメチルアミノホスホニウム塩を、「ｍＸＨＦ」はメタキシレンヘキサフロライドをそれぞれ表す。 Hereinafter, the present disclosure will be described in Examples, but the present disclosure is not limited to the following Examples. In addition, in the present examples, all the chemical formulas shown below indicate average compositions. Moreover, the order of existence of the repeating units (OCF ₂ ) and (OCF ₂ CF ₂ ) constituting the polyether group is arbitrary. In the following, "Me" is _CH3 , "Boc" is the tert-butoxycarbonyl group, "BOP" is benzotriazol-1-yloxy-trisdimethylaminophosphonium salt, and "mXHF" is meta-xylene hexafluoride. represent each.

（合成例１）
（合成例１－１）

２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン １．５ｇをジクロロメタン ２０ｍＬに溶解した後、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＥＡ） ３．３ｍＬ、化合物１ａ １．７５ｇ、ＢＯＰ ４．８２ｇを添加し、室温で一晩撹拌した。炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物２ａを２．９３ｇ得た。

化合物２ａ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.45 (s, 9H), 2.00-2.05 (m, 6H), 3.17 (d, 2H), 3.74 (d, 2H), 5.05-5.15 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 3H), 6.36 (br s, 1H).
(Synthesis example 1)
(Synthesis Example 1-1)

After dissolving 1.5 g of 2,2-diallyl-4-pentenylamine in 20 mL of dichloromethane, 3.3 mL of N,N-diisopropylethylamine (DIEA), 1.75 g of compound 1a, and 4.82 g of BOP were added, and the mixture was stirred at room temperature. Stir overnight. After washing with an aqueous sodium hydrogencarbonate solution, the extract was dried using anhydrous sodium sulfate and concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 2.93 g of compound 2a.

Compound 2a
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 1.45 (s, 9H), 2.00-2.05 (m, 6H), 3.17 (d, 2H), 3.74 (d, 2H), 5.05-5.15 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 3H), 6.36 (br s, 1H).

（合成例１－２）

合成例１－１で得た化合物２ａ １ｇをジクロロメタン １０ｍＬに溶解した後、氷浴に浸け、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ） ３．５ｍＬを添加して２時間撹拌した。水酸化ナトリウム水溶液を加え、水相を除去した後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮乾固した。シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物３ａを０．６９ｇ得た。

化合物３ａ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.46 (br s, 2H), 2.00-2.08 (m, 6H), 3.18 (d, 2H), 3.30-3.60 (m, 2H), 5.05-5.15 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 3H), 7.50 (br s, 1H).
(Synthesis Example 1-2)

After dissolving 1 g of compound 2a obtained in Synthesis Example 1-1 in 10 mL of dichloromethane, the solution was immersed in an ice bath, added with 3.5 mL of trifluoroacetic acid (TFA), and stirred for 2 hours. An aqueous sodium hydroxide solution was added, and the aqueous phase was removed, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated to dryness. Purification by silica gel column chromatography gave 0.69 g of compound 3a.

Compound 3a
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 1.46 (br s, 2H), 2.00-2.08 (m, 6H), 3.18 (d, 2H), 3.30-3.60 (m, 2H), 5.05-5.15 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 3H), 7.50 (br s, 1H).

（合成例１－３）

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５） ２．４ｇに対して、合成例１－２で得た化合物３ａ ０．２６７ｇとｍＸＨＦ ２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン １０ｍＬを入れ、アセトン １０ｍＬで洗浄し、濃縮乾固することで、化合物４ａを２．４３５ｇ得た。

化合物４ａ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.30-2.45 (m, 6H), 3.61 (d, 2H), 4.36 (d, 2H), 5.38-5.45 (m, 6H), 6.10-6.26 (m, 3H), 6.30-6.34 (m, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.
(Synthesis Example 1-3)

CF ₃ CF ₂ CF ₂ (OCF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _n OCF ₂ CF ₂ CO ₂ Me (n=25) 0.267 g of compound 3a obtained in Synthesis Example 1-2 and 2 mL of mXHF are added to 2.4 g. was added and stirred overnight at room temperature. 2.435 g of compound 4a was obtained by adding 10 mL of perfluorohexane, washing with 10 mL of acetone, and concentrating to dryness.

Compound 4a
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.30-2.45 (m, 6H), 3.61 (d, 2H), 4.36 (d, 2H), 5.38-5.45 (m, 6H), 6.10-6.26 (m, 3H) , 6.30-6.34 (m, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.

（合成例１－４）

合成例１－３で得た化合物４ａ １．３３ｇをｍＸＨＦ １ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン ２．６１μｌ、トリクロロシラン ０．２５２ｍｌ、カールシュテット触媒 ３１．６μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、残渣にｍＸＨＦ １ｍＬ、オルトギ酸トリメチル ０．９２ｍＬ、およびメタノール ５１μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、濃縮乾固することで、化合物５ａ（ｎ＝２５）を１．０９ｇ得た。

化合物５ａ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 3.62 (d, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 4.37 (d, 2H), 6.75-6.78 (m, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.
(Synthesis Example 1-4)

After dissolving 1.33 g of compound 4a obtained in Synthesis Example 1-3 in 1 mL of mXHF, 2.61 μl of triacetoxymethylsilane, 0.252 ml of trichlorosilane, and 31.6 μl of Karstedt's catalyst were added, and the mixture was heated at 60° C. for 3 hours. Stirred. After concentration to dryness, 1 mL of mXHF, 0.92 mL of trimethyl orthoformate and 51 μl of methanol were added dropwise to the residue, and the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours. This liquid was filtered and then concentrated to dryness to obtain 1.09 g of compound 5a (n=25).

Compound 5a
¹ H NMR (mXHF, 400MHz) δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 3.62 (d, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 4.37 (d, 2H), 6.75-6.78 (m, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.

（合成例２）
（合成例２－１）

２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン １．５ｇをジクロロメタン ２０ｍＬに溶解した後、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン ３．３２ｍＬ、化合物１ｂ １．７５ｇ、ＢＯＰ ４．８２ｇを添加し、室温で一晩撹拌した。炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物２ｂを２．８１ｇ得た。

化合物２ｂ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.42 (s, 9H), 2.00-2.05 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 3.17-3.20 (m, 2H), 3.35-3.40 (m, 2H), 5.05-5.15 (m, 7H) , 5.65 (br s, 1H), 5.80-5.90 (m, 3H).
(Synthesis example 2)
(Synthesis Example 2-1)

After dissolving 1.5 g of 2,2-diallyl-4-pentenylamine in 20 mL of dichloromethane, 3.32 mL of N,N-diisopropylethylamine, 1.75 g of compound 1b, and 4.82 g of BOP were added and stirred overnight at room temperature. bottom. After washing with an aqueous sodium hydrogencarbonate solution, the extract was dried using anhydrous sodium sulfate and concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 2.81 g of compound 2b.

Compound 2b
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 1.42 (s, 9H), 2.00-2.05 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 3.17-3.20 (m, 2H), 3.35-3.40 (m , 2H), 5.05-5.15 (m, 7H) , 5.65 (br s, 1H), 5.80-5.90 (m, 3H).

（合成例２－２）

合成例２－１で得た化合物２ｂ １．０９ｇをジクロロメタン ３ｍＬに溶解した後、氷浴に浸け、トリフルオロ酢酸 ３．０ｍＬを添加して４時間撹拌した。水酸化ナトリウム水溶液を加え、水相を除去した後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物３ｂを０．５９７ｇ得た。

化合物３ｂ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.41 (br s, 2H), 1.95-2.08 (m, 6H), 2.30 (t, 2H), 3.00 (t, 2H), 3.15-3.20 (m, 2H), 5.05-5.15 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 3H), 7.42 (br s, 1H).
(Synthesis Example 2-2)

After dissolving 1.09 g of compound 2b obtained in Synthesis Example 2-1 in 3 mL of dichloromethane, the solution was immersed in an ice bath, added with 3.0 mL of trifluoroacetic acid, and stirred for 4 hours. Aqueous sodium hydroxide solution was added and the aqueous phase was removed, dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography to obtain 0.597 g of compound 3b.

Compound 3b
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 1.41 (br s, 2H), 1.95-2.08 (m, 6H), 2.30 (t, 2H), 3.00 (t, 2H), 3.15-3.20 (m, 2H) , 5.05-5.15 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 3H), 7.42 (br s, 1H).

（合成例２－３）

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５） ２．１２ｇに対して、合成例２－２で得た化合物３ｂ ０．２５ｇとｍＸＨＦ ２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン １０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄した後、濃縮乾固後することで、化合物４ｂを２．２３ｇ得た。

化合物４ｂ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.30-2.50 (m, 8H), 3.17-3.20 (m, 2H), 3.55-3.65 (m, 2H), 5.38-5.50 (m, 6H), 6.10-6.28 (m, 3H), 6.30-6.40 (br s, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.
(Synthesis Example 2-3)

CF ₃ CF ₂ CF ₂ (OCF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _n OCF ₂ CF ₂ CO ₂ Me (n=25) 0.25 g of compound 3b obtained in Synthesis Example 2-2 and 2 mL of mXHF are added to 2.12 g. was added and stirred overnight at room temperature. After adding 10 mL of perfluorohexane, washing with acetone, and concentrating to dryness, 2.23 g of compound 4b was obtained.

Compound 4b
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.30-2.50 (m, 8H), 3.17-3.20 (m, 2H), 3.55-3.65 (m, 2H), 5.38-5.50 (m, 6H), 6.10-6.28 ( m, 3H), 6.30-6.40 (br s, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.

（合成例２－４）

合成例２－３で得た化合物４ｂ １．５２ｇをｍＸＨＦ １ｍＬに溶解後、室温下、トリアセトキシメチルシラン ２．９８μｌ、トリクロロシラン ０．４７９ｍｌ、カールシュテット触媒 ３６．１μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、その残渣にｍＸＨＦ １ｍＬ、オルトギ酸トリメチル １．１０ｍＬ、およびメタノール ５８μｌ滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、濃縮乾固することで、化合物５ｂ（ｎ＝２５）を１．２９ｇ得た。

化合物５ｂ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 3.17-3.20 (m, 2H), 3.62 (d, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 6.75-6.78 (m, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.
(Synthesis Example 2-4)

After dissolving 1.52 g of compound 4b obtained in Synthesis Example 2-3 in 1 mL of mXHF, 2.98 μl of triacetoxymethylsilane, 0.479 ml of trichlorosilane, and 36.1 μl of Karstedt's catalyst were added at room temperature, and the mixture was heated to 60°C. and stirred for 3 hours. After concentration to dryness, 1 mL of mXHF, 1.10 mL of trimethyl orthoformate, and 58 μl of methanol were added dropwise to the residue, and the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours. This liquid was filtered and concentrated to dryness to obtain 1.29 g of compound 5b (n=25).

Compound 5b
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 3.17-3.20 ( m, 2H), 3.62 (d, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 6.75-6.78 (m, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.

（合成例３）
（合成例３－１）

２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン １．７９ｇをジクロロメタン ２０ｍＬに溶解した後、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン ３．６８ｍＬ、化合物１ｃ ２．０ｇ、ＢＯＰ ５．２２ｇを添加し、室温で一晩撹拌した。濃縮乾固後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物２ｃを３．４５ｇ得た。

化合物２ｃ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.42 (s, 9H), 1.75-1.80 (m, 2H), 2.00-2.05 (m, 6H), 2.15-2.20 (m, 2H), 3.15-3.20 (m, 4H), 4.74 (br s, 1H), 5.05-5.15 (m, 6H) , 5.80-5.90 (m, 3H), 6.33 (br s, 1H).
(Synthesis Example 3)
(Synthesis Example 3-1)

After dissolving 1.79 g of 2,2-diallyl-4-pentenylamine in 20 mL of dichloromethane, 3.68 mL of N,N-diisopropylethylamine, 2.0 g of compound 1c and 5.22 g of BOP were added and stirred overnight at room temperature. bottom. 3.45g of compounds 2c were obtained by refine|purifying with silica gel column chromatography after concentration-drying.

Compound 2c
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 1.42 (s, 9H), 1.75-1.80 (m, 2H), 2.00-2.05 (m, 6H), 2.15-2.20 (m, 2H), 3.15-3.20 (m , 4H), 4.74 (br s, 1H), 5.05-5.15 (m, 6H) , 5.80-5.90 (m, 3H), 6.33 (br s, 1H).

（合成例３－２）

合成例３－１で得た化合物２ｃ １．０７ｇをジクロロメタン ３ｍＬに溶解した後、氷浴に浸け、トリフルオロ酢酸 ４．０ｍＬを添加して４時間撹拌した。水酸化ナトリウム水溶液を加え、水相を除去した後、無水硫酸ナトリウム用いて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物３ｃを０．６２ｇ得た。

化合物３ｃ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.21 (br s, 2H), 1.70-1.78 (m, 2H), 1.95-2.05 (m, 6H), 2.20-2.30 (m, 2H), 2.65-2.80 (m, 2H), 3.15-3.25 (m, 2H), 5.05-5.30 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 4H).
(Synthesis Example 3-2)

After dissolving 1.07 g of compound 2c obtained in Synthesis Example 3-1 in 3 mL of dichloromethane, the solution was immersed in an ice bath, added with 4.0 mL of trifluoroacetic acid, and stirred for 4 hours. An aqueous sodium hydroxide solution was added, the aqueous phase was removed, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated. 0.62g of compound 3c was obtained by refine|purifying a residue with silica gel column chromatography.

Compound 3c
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 1.21 (br s, 2H), 1.70-1.78 (m, 2H), 1.95-2.05 (m, 6H), 2.20-2.30 (m, 2H), 2.65-2.80 ( m, 2H), 3.15-3.25 (m, 2H), 5.05-5.30 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 4H).

（合成例３－３）

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５） ２．２ｇに対して、合成例３－２で得た化合物３ｃ ０．２８ｇとｍＸＨＦ ３ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン １０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、濃縮乾固することで、化合物４ｃを２．３２ｇ得た。

化合物４ｃ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.25-2.28 (m, 6H), 2.36-2.80 (m, 6H), 3.50-3.60 (m, 2H), 3.75-3.85 (m, 2H), 5.39-5.45 (m, 6H), 6.05-6.10 (m, 1H), 6.13-6.30 (m, 3H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.
(Synthesis Example 3-3)

CF ₃ CF ₂ CF ₂ (OCF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _n OCF ₂ CF ₂ CO ₂ Me (n=25) 0.28 g of compound 3c obtained in Synthesis Example 3-2 and 3 mL of mXHF are added to 2.2 g. was added and stirred overnight at room temperature. 2.32 g of compound 4c was obtained by adding 10 mL of perfluorohexane, washing with acetone, and concentrating to dryness.

Compound 4c
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.25-2.28 (m, 6H), 2.36-2.80 (m, 6H), 3.50-3.60 (m, 2H), 3.75-3.85 (m, 2H), 5.39-5.45 ( m, 6H), 6.05-6.10 (m, 1H), 6.13-6.30 (m, 3H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.

（合成例３－４）

合成例３－３で得た化合物４ｃ １．１０ｇをｍＸＨＦ １ｍＬに溶解後、室温下、トリアセトキシメチルシラン ２．１６μｌ、トリクロロシラン ０．３４７ｍｌ、カールシュテット触媒 ３６．１μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、ｍＸＨＦ １ｍＬ、オルトギ酸トリメチル ０．７６ｍＬ、およびメタノール ４２μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、ろ液を濃縮乾固することで、化合物５ｃ（ｎ＝２５）を０．９２２ｇ得た。

化合物５ｃ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 2.76-2.78 (m, 2H), 3.53-3.55 (m, 2H), 3.84-3.86 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 6.75-6.78 (m, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.
(Synthesis Example 3-4)

After dissolving 1.10 g of compound 4c obtained in Synthesis Example 3-3 in 1 mL of mXHF, 2.16 μl of triacetoxymethylsilane, 0.347 ml of trichlorosilane, and 36.1 μl of Karstedt's catalyst were added at room temperature, and the mixture was heated to 60°C. and stirred for 3 hours. After concentration to dryness, 1 mL of mXHF, 0.76 mL of trimethyl orthoformate, and 42 μl of methanol were added dropwise, and the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours. After filtering this liquid, the filtrate was concentrated to dryness to obtain 0.922 g of compound 5c (n=25).

Compound 5c
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 2.76-2.78 ( m, 2H), 3.53-3.55 (m, 2H), 3.84-3.86 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 6.75-6.78 (m, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.

（合成例３－５）

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝５０） ４．４ｇに対して、合成例３－２で得た化合物３ｃ ０．２８ｇとｍＸＨＦ ３ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン ２０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、濃縮乾固することで、化合物４ｃ’を４．６ｇ得た。

化合物４ｃ’
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.25-2.28 (m, 6H), 2.36-2.80 (m, 6H), 3.50-3.60 (m, 2H), 3.75-3.85 (m, 2H), 5.39-5.45 (m, 6H), 6.05-6.10 (m, 1H), 6.13-6.30 (m, 3H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.
(Synthesis Example 3-5)

CF ₃ CF ₂ CF ₂ (OCF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _n OCF ₂ CF ₂ CO ₂ Me (n=50) 0.28 g of compound 3c obtained in Synthesis Example 3-2 and 3 mL of mXHF are added to 4.4 g. was added and stirred overnight at room temperature. 20 mL of perfluorohexane was added, washed with acetone, dried with anhydrous sodium sulfate, and concentrated to dryness to obtain 4.6 g of compound 4c'.

Compound 4c'
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.25-2.28 (m, 6H), 2.36-2.80 (m, 6H), 3.50-3.60 (m, 2H), 3.75-3.85 (m, 2H), 5.39-5.45 ( m, 6H), 6.05-6.10 (m, 1H), 6.13-6.30 (m, 3H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.

（合成例３－６）

合成例３－５で得た化合物４ｃ’ ２．２０ｇをｍＸＨＦ ２ｍＬに溶解後、室温下、トリアセトキシメチルシラン ２．１６μｌ、トリクロロシラン ０．３４７ｍｌ、カールシュテット触媒 ３６．１μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、その残渣にｍＸＨＦ １ｍＬ、オルトギ酸トリメチル ０．７６ｍＬ、およびメタノール ４２μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、ろ液を濃縮乾固することで、化合物５ｃ’（ｎ＝５０）を１．８２ｇ得た。

化合物５ｃ’
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 2.76-2.78 (m, 2H), 3.53-3.55 (m, 2H), 3.84-3.86 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 6.75-6.78 (m, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.
(Synthesis Example 3-6)

After dissolving 2.20 g of compound 4c′ obtained in Synthesis Example 3-5 in 2 mL of mXHF, 2.16 μl of triacetoxymethylsilane, 0.347 ml of trichlorosilane, and 36.1 μl of Karstedt catalyst were added at room temperature. C. for 3 hours. After concentration to dryness, 1 mL of mXHF, 0.76 mL of trimethyl orthoformate and 42 μl of methanol were added dropwise to the residue, and the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours. After filtering this liquid, 1.82g of compounds 5c' (n=50) were obtained by concentrating and drying a filtrate.

Compound 5c'
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 2.76-2.78 ( m, 2H), 3.53-3.55 (m, 2H), 3.84-3.86 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 6.75-6.78 (m, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.

（合成例４）
（合成例４－１）

ＢＯＰ ５．３３ｇをジクロロメタン ２０ｍＬに溶解し、化合物１ｄ ２．５７ｇおよびトリエチルアミン １．７５ｍＬを添加し、２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン ２．１２ｍｌを加え、室温で一晩撹拌させた。濃縮乾固後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物２ｄを３．５２ｇ得た。

化合物２ｄ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.20-1.25 (m, 4H), 1.40-1.44 (m, 11H), 2.00-2.05 (m, 6H), 2.15-2.20 (m, 4H), 3.00-3.20 (m, 4H), 4.50 (br s, 1H), 5.05-5.15 (m, 6H) , 5.56 (br s, 1H), 5.75-5.90 (m, 3H).
(Synthesis Example 4)
(Synthesis Example 4-1)

5.33 g of BOP was dissolved in 20 mL of dichloromethane, 2.57 g of compound 1d and 1.75 mL of triethylamine were added, 2.12 mL of 2,2-diallyl-4-pentenylamine was added, and the mixture was stirred overnight at room temperature. 3.52g of compound 2d was obtained by refine|purifying with silica gel column chromatography after concentration-drying.

Compound 2d
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 1.20-1.25 (m, 4H), 1.40-1.44 (m, 11H), 2.00-2.05 (m, 6H), 2.15-2.20 (m, 4H), 3.00-3.20 (m, 4H), 4.50 (br s, 1H), 5.05-5.15 (m, 6H) , 5.56 (br s, 1H), 5.75-5.90 (m, 3H).

（合成例４－２）

合成例４－１で得た化合物２ｄ １．４０ｇをジクロロメタン ８ｍＬに溶解し、氷浴に浸け、トリフルオロ酢酸 ８．０ｍＬを添加して４時間撹拌した。濃縮乾固し、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物３ｄを１．０４ｇ得た。

化合物３ｄ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.30-1.50 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 6H), 2.10-2.20 (m, 2H), 2.60-2.70 (m, 2H), 3.15-3.20 (m, 2H), 5.05-5.15 (m, 6H) , 5.51 (br s, 1H), 5.80-5.90 (m, 3H).
(Synthesis Example 4-2)

1.40 g of compound 2d obtained in Synthesis Example 4-1 was dissolved in 8 mL of dichloromethane, immersed in an ice bath, added with 8.0 mL of trifluoroacetic acid, and stirred for 4 hours. 1.04g of compound 3d was obtained by concentration-drying and refine|purifying with silica gel column chromatography.

compound 3d
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 1.30-1.50 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 6H), 2.10-2.20 (m, 2H), 2.60-2.70 (m, 2H), 3.15-3.20 (m, 2H), 5.05-5.15 (m, 6H) , 5.51 (br s, 1H), 5.80-5.90 (m, 3H).

（合成例４－３）

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５） ２．３６ｇに対して、合成例４－２で得た化合物３ｄ ０．３４５ｇとｍＸＨＦ ３ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン １０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮乾固後することで、化合物４ｄを２．４７ｇ得た。

化合物４ｄ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 1.60-1.80 (m, 4H), 1.90-1.95 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.35-2.39 (m, 6H), 2.50-2.57 (m, 6H), 3.50-3.61 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 2H), 5.30-5.45 (m, 6H), 5.90-5.95 (m, 1H), 6.15-6.35 (m, 3H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.
(Synthesis Example 4-3)

CF ₃ CF ₂ CF ₂ (OCF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _n OCF ₂ CF ₂ CO ₂ Me (n=25) 0.345 g of compound 3d obtained in Synthesis Example 4-2 and 3 mL of mXHF are added to 2.36 g. was added and stirred overnight at room temperature. 2.47 g of compound 4d was obtained by adding 10 mL of perfluorohexane, washing with acetone, drying with anhydrous sodium sulfate, and concentrating to dryness.

Compound 4d
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.60-1.80 (m, 4H), 1.90-1.95 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.35-2.39 (m, 6H), 2.50-2.57 ( m, 6H), 3.50-3.61 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 2H), 5.30-5.45 (m, 6H), 5.90-5.95 (m, 1H), 6.15-6.35 (m, 3H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.

（合成例４－４）

合成例４－３で得た化合物４ｄ １．６３ｇをｍＸＨＦ １ｍＬに溶解後、室温下、トリアセトキシメチルシラン ３．２０μｌ、トリクロロシラン ０．５１４ｍｌ、カールシュテット触媒 ３８．７μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、その残渣にｍＸＨＦ １ｍＬ、オルトギ酸トリメチル １．１ｍＬおよびメタノール ６２μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、ろ液を濃縮乾固することで、化合物５ｄ（ｎ＝２５）を１．４２ｇ得た。

化合物５ｄ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.88 (m, 14H), 1.91-1.95 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.50-2.57 (m, 6H), 3.50-3.61 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 5.90-5.95 (m, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.
(Synthesis Example 4-4)

After dissolving 1.63 g of compound 4d obtained in Synthesis Example 4-3 in 1 mL of mXHF, 3.20 μl of triacetoxymethylsilane, 0.514 ml of trichlorosilane, and 38.7 μl of Karstedt's catalyst were added at room temperature, and the mixture was heated to 60°C. and stirred for 3 hours. After concentration to dryness, 1 mL of mXHF, 1.1 mL of trimethyl orthoformate and 62 μl of methanol were added dropwise to the residue, and the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours. After filtering this liquid, the filtrate was concentrated to dryness to obtain 1.42 g of compound 5d (n=25).

compound 5d
¹ H NMR (mXHF, 400MHz) δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.88 (m, 14H), 1.91-1.95 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.50-2.57 ( m, 6H), 3.50-3.61 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 5.90-5.95 (m, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.

（合成例５－１）

ＣＦ_３（ＯＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｍ＝４０，ｎ＝２４） ４．０７ｇに対して、合成例１－２で得た化合物３ａ ０．２４５ｇとｍＸＨＦ ３ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン ２０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮乾固することで、化合物６ａを３．７５ｇ得た。

化合物６ａ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.30-2.45 (m, 6H), 3.61 (d, 2H), 4.36 (d, 2H), 5.38-5.45 (m, 6H), 6.10-6.26 (m, 3H), 6.30-6.34 (m, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.
(Synthesis Example 5-1)

CF ₃ (OCF ₂ ) _m (OCF ₂ CF ₂ ) _n OCF ₂ CO ₂ Me (m = 40, n = 24) 0.245 g of compound 3a obtained in Synthesis Example 1-2 and mXHF 3 mL was added and stirred overnight at room temperature. 3.75 g of compound 6a was obtained by adding 20 mL of perfluorohexane, washing with acetone, drying with anhydrous sodium sulfate, and concentrating to dryness.

Compound 6a
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.30-2.45 (m, 6H), 3.61 (d, 2H), 4.36 (d, 2H), 5.38-5.45 (m, 6H), 6.10-6.26 (m, 3H) , 6.30-6.34 (m, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, -85.6, -83.2, -81.6, -79.9, - 74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（合成例５－２）

合成例５－１で得た化合物６ａ ３．７５ｇをｍＸＨＦ ３ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン ７．３５μｌ、トリクロロシラン １．１８ｍｌ、カールシュテット触媒 ８９．１μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、その残渣にｍＸＨＦ ３ｍＬ、オルトギ酸トリメチル ２．６ｍＬ、およびメタノール １４０μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、ろ液を濃縮乾固することで、化合物７ａ（ｍ＝４０，ｎ＝２４）を３．５４ｇ得た。

化合物７ａ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 3.62 (d, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 4.37 (d, 2H), 6.75-6.78 (m, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.
(Synthesis Example 5-2)

After dissolving 3.75 g of compound 6a obtained in Synthesis Example 5-1 in 3 mL of mXHF, 7.35 μl of triacetoxymethylsilane, 1.18 ml of trichlorosilane, and 89.1 μl of Karstedt's catalyst were added, and the mixture was heated at 60° C. for 3 hours. Stirred. After concentration to dryness, 3 mL of mXHF, 2.6 mL of trimethyl orthoformate and 140 μl of methanol were added dropwise to the residue, and the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours. After filtering this liquid, the filtrate was concentrated to dryness to obtain 3.54 g of compound 7a (m=40, n=24).

Compound 7a
¹ H NMR (mXHF, 400MHz) δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 3.62 (d, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 4.37 (d, 2H), 6.75-6.78 (m, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, -85.6, -83.2, -81.6, -79.9, - 74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（合成例６－１）

ＣＦ_３（ＯＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｍ＝４０，ｎ＝２４） ２．０ｇに対して、合成例３－２で得た化合物３ｃ ０．１４７ｇをとｍＸＨＦ ２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン ２０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、濃縮乾固することで、化合物６ｃを１．６８ｇ得た。

化合物６ｃ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.25-2.28 (m, 6H), 2.36-2.80 (m, 6H), 3.50-3.60 (m, 2H), 3.75-3.85 (m, 2H), 5.39-5.45 (m, 6H), 6.05-6.10 (m, 1H), 6.13-6.30 (m, 3H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.
(Synthesis Example 6-1)

0.147 g of compound 3c obtained in Synthesis Example 3-2 was added to 2.0 g of CF ₃ (OCF ₂ ) _m (OCF ₂ CF ₂ ) _n OCF ₂ CO ₂ Me (m=40, n=24). 2 mL of mXHF was added and stirred overnight at room temperature. After adding 20 mL of perfluorohexane, washing with acetone, drying with anhydrous sodium sulfate, and concentrating to dryness, 1.68 g of compound 6c was obtained.

Compound 6c
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.25-2.28 (m, 6H), 2.36-2.80 (m, 6H), 3.50-3.60 (m, 2H), 3.75-3.85 (m, 2H), 5.39-5.45 ( m, 6H), 6.05-6.10 (m, 1H), 6.13-6.30 (m, 3H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, -85.6, -83.2, -81.6, -79.9, - 74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（合成例６－２）

合成例６－１で得た化合物６ｃ １．６８ｇをｍＸＨＦ １ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン ２．８２μｌ、トリクロロシラン ０．４５４ｍｌ、カールシュテット触媒 ３４．２μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、その残渣にｍＸＨＦ １ｍＬ、オルトギ酸トリメチル ０．９９ｍＬ、およびメタノール ５５μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、ろ液を濃縮乾固することで、化合物７ｃ（ｍ＝４０，ｎ＝２４）を１．６４ｇ得た。

化合物７ｃ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 2.76-2.78 (m, 2H), 3.53-3.55 (m, 2H), 3.84-3.86 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 6.75-6.78 (m, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.
(Synthesis Example 6-2)

After dissolving 1.68 g of compound 6c obtained in Synthesis Example 6-1 in 1 mL of mXHF, 2.82 μl of triacetoxymethylsilane, 0.454 ml of trichlorosilane, and 34.2 μl of Karstedt's catalyst were added, and the mixture was heated at 60° C. for 3 hours. Stirred. After concentration to dryness, 1 mL of mXHF, 0.99 mL of trimethyl orthoformate, and 55 μl of methanol were added dropwise to the residue, and the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours. After filtering this liquid, the filtrate was concentrated to dryness to obtain 1.64 g of compound 7c (m=40, n=24).

Compound 7c
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 2.76-2.78 ( m, 2H), 3.53-3.55 (m, 2H), 3.84-3.86 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 6.75-6.78 (m, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, -85.6, -83.2, -81.6, -79.9, - 74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（合成例７－１）

ＣＦ_３（ＯＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｍ＝４０，ｎ＝２４） ３．５０ｇに対して、合成例４－２で得た化合物３ｄ ０．２７７ｇとｍＸＨＦ ３ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン ２０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮乾固することで、化合物６ｄを３．３７ｇ得た。

化合物６ｄ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 1.60-1.80 (m, 4H), 1.90-1.95 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.35-2.39 (m, 6H), 2.50-2.57 (m, 6H), 3.50-3.61 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 2H), 5.30-5.45 (m, 6H), 5.90-5.95 (m, 1H), 6.15-6.35 (m, 3H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.
(Synthesis Example 7-1)

CF ₃ (OCF ₂ ) _m (OCF ₂ CF ₂ ) _n OCF ₂ CO ₂ Me (m = 40, n = 24) 0.277 g of compound 3d obtained in Synthesis Example 4-2 and mXHF 3 mL was added and stirred overnight at room temperature. 3.37 g of compound 6d was obtained by adding 20 mL of perfluorohexane, washing with acetone, drying with anhydrous sodium sulfate, and concentrating to dryness.

Compound 6d
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 1.60-1.80 (m, 4H), 1.90-1.95 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.35-2.39 (m, 6H), 2.50-2.57 ( m, 6H), 3.50-3.61 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 2H), 5.30-5.45 (m, 6H), 5.90-5.95 (m, 1H), 6.15-6.35 (m, 3H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, -85.6, -83.2, -81.6, -79.9, - 74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（合成例７－２）

合成例７－１で得た化合物６ｄ ３．３７ｇをｍＸＨＦ ３ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン ５．６６μｌ、トリクロロシラン ０．９１１ｍｌ、カールシュテット触媒 ６８．７μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、その残渣にｍＸＨＦ ３ｍＬ、オルトギ酸トリメチル ２．００ｍＬ、およびメタノール １１０μｌを滴下、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、ろ液を濃縮乾固することで、化合物７ｄ（ｍ＝４０，ｎ＝２４）を２．７７ｇ得た。

化合物７ｄ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.88 (m, 14H), 1.91-1.95 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.50-2.57 (m, 6H), 3.50-3.61 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 5.90-5.95 (m, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.
(Synthesis Example 7-2)

After dissolving 3.37 g of compound 6d obtained in Synthesis Example 7-1 in 3 mL of mXHF, 5.66 μl of triacetoxymethylsilane, 0.911 ml of trichlorosilane, and 68.7 μl of Karstedt's catalyst were added, and the mixture was heated at 60° C. for 3 hours. Stirred. After concentration to dryness, 3 mL of mXHF, 2.00 mL of trimethyl orthoformate, and 110 μl of methanol were added dropwise to the residue, and the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours. After filtering this liquid, the filtrate was concentrated to dryness to obtain 2.77 g of compound 7d (m=40, n=24).

Compound 7d
¹ H NMR (mXHF, 400MHz) δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.88 (m, 14H), 1.91-1.95 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.50-2.57 ( m, 6H), 3.50-3.61 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 5.90-5.95 (m, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, -85.6, -83.2, -81.6, -79.9, - 74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（合成例８）
（合成例８－１）

化合物８ａ ５ｇをジクロロメタン １０ｍＬに溶解した後、氷浴に浸け、２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン ４．５５ｇを滴下した後、室温で一晩撹拌させた。濃縮乾固後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物９ａを４．４６ｇ得た。

化合物９ａ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 2.00-2.20 (m, 6H), 3.20-3.31 (m, 2H), 3.94 (s, 3H), 5.05-5.20 (m, 6H), 5.80-5.70 (m, 3H), 6.61 (br s, 0.5H), 6.84 (br s, 0.5H).
(Synthesis Example 8)
(Synthesis Example 8-1)

After dissolving 5 g of compound 8a in 10 mL of dichloromethane, the solution was immersed in an ice bath, 4.55 g of 2,2-diallyl-4-pentenylamine was added dropwise, and the mixture was stirred overnight at room temperature. After concentration to dryness, purification by silica gel column chromatography gave 4.46 g of compound 9a.

Compound 9a
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 2.00-2.20 (m, 6H), 3.20-3.31 (m, 2H), 3.94 (s, 3H), 5.05-5.20 (m, 6H), 5.80-5.70 (m , 3H), 6.61 (br s, 0.5H), 6.84 (br s, 0.5H).

（合成例８－２）

合成例８－１で得た化合物９ａ １．５４ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ） ６ｍＬに溶解した後、Ｎ－Ｂｏｃ－エチレンジアミン １．７３ｍＬを滴下し、室温で３日間撹拌させた。濃縮乾固した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物１０ａを２．１ｇ得た。

化合物１０ａ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.43 (s, 9H), 2.00-2.16 (m, 6H), 3.22 (d, 2H), 3.25-3.50 (m, 4H), 5.00-5.18 (m, 6H), 5.80-5.90 (m, 3H), 6.87 (br s, 1H), 7.50 (br s, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: -119.56, -119.64, -120.08, -120.11.
(Synthesis Example 8-2)

After 1.54 g of compound 9a obtained in Synthesis Example 8-1 was dissolved in 6 mL of tetrahydrofuran (THF), 1.73 mL of N-Boc-ethylenediamine was added dropwise and stirred at room temperature for 3 days. After concentration to dryness, purification by silica gel column chromatography gave 2.1 g of compound 10a.

Compound 10a
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 1.43 (s, 9H), 2.00-2.16 (m, 6H), 3.22 (d, 2H), 3.25-3.50 (m, 4H), 5.00-5.18 (m, 6H ), 5.80-5.90 (m, 3H), 6.87 (br s, 1H), 7.50 (br s, 1H);
¹⁹ F NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: -119.56, -119.64, -120.08, -120.11.

（合成例８－３）

合成例８－２で得た化合物１０ａ １．１ｇをジクロロメタン １０ｍＬに溶解した後、氷浴に浸け、トリフルオロ酢酸 １０ｍＬを添加して５時間撹拌した。濃縮乾固した後、シリカゲルカラムにて精製することで、化合物１１ａを０．８７ｇ得た。

化合物１１ａ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 2.01-2.07 (m, 6H), 2.85-2.90 (m, 2H), 3.24-3.28 (m, 2H), 3.36-3.40 (m, 2H), 5.09-5.18 (m, 6H), 5.80-5.89 (m, 3H), 6.85 (br s, 1H), 7.12 (br s, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: -119.33, -119.55.
(Synthesis Example 8-3)

After 1.1 g of compound 10a obtained in Synthesis Example 8-2 was dissolved in 10 mL of dichloromethane, the solution was immersed in an ice bath, 10 mL of trifluoroacetic acid was added, and the mixture was stirred for 5 hours. After concentrating to dryness, 0.87 g of compound 11a was obtained by purifying with a silica gel column.

Compound 11a
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 2.01-2.07 (m, 6H), 2.85-2.90 (m, 2H), 3.24-3.28 (m, 2H), 3.36-3.40 (m, 2H), 5.09-5.18 (m, 6H), 5.80-5.89 (m, 3H), 6.85 (br s, 1H), 7.12 (br s, 1H);
¹⁹ F NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: -119.33, -119.55.

（合成例８－４）

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５） １．７ｇに対して、合成例８－３で得た化合物１１ａ ０．３７ｇとｍＸＨＦ ２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン １０ｍＬを入れ、クロロホルムで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮乾固することで、化合物１２ａを１．６１ｇ得た。

化合物１２ａ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.36-2.51 (m, 6H), 3.18 (s, 2H), 3.36-3.40 (m, 4H), 5.41-5.45 (m, 6H), 6.13-6.20 (m, 3H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.14, -85.60 - -86.60, -87.00, -87.21 - -87.34, -123.22 - -123.40, -124.90 - -124.96, -125.78, -131.36 - -131.50, -132.41.
(Synthesis Example 8-4)

CF ₃ CF ₂ CF ₂ (OCF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _n OCF ₂ CF ₂ CO ₂ Me (n=25), 0.37 g of compound 11a obtained in Synthesis Example 8-3 and 2 mL of mXHF. was added and stirred overnight at room temperature. 10 mL of perfluorohexane was added, washed with chloroform, dried with anhydrous sodium sulfate, and concentrated to dryness to obtain 1.61 g of compound 12a.

Compound 12a
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.36-2.51 (m, 6H), 3.18 (s, 2H), 3.36-3.40 (m, 4H), 5.41-5.45 (m, 6H), 6.13-6.20 (m, 3H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.14, -85.60 - -86.60, -87.00, -87.21 - -87.34, -123.22 - -123.40, -124.90 - -124.96, -125.78, -131.36 - -131.50, - 132.41.

（合成例８－５）

合成例８－４で得た化合物１２ａ １．１２ｇをｍＸＨＦ ３ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン ３μｌ、トリクロロシラン ０．２５２ｍｌ、カールシュテット触媒 ３４μｌを添加し、４時間撹拌した。濃縮乾固した後、ｍＸＨＦ ３ｍＬ、オルトギ酸トリメチル ０．９５ｍＬ、およびメタノール ６０μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、濃縮乾固することで、化合物１３ａを１．２ｇ得た。

化合物１３ａ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.08 (m, 6H), 1.55-1.67 (m, 6H), 1.77-1.95 (m, 6H), 3.36-3.40 (m, 4H), 3.63 (s, 2H), 3.85-4.13 (m, 27H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.01 - -84.25, -84.50 - -86.00, -86.61, -87.12, -122.67, -124.79, -125.50, -131.20 - -131.73, -132.41.
(Synthesis Example 8-5)

After dissolving 1.12 g of compound 12a obtained in Synthesis Example 8-4 in 3 mL of mXHF, 3 μl of triacetoxymethylsilane, 0.252 ml of trichlorosilane and 34 μl of Karstedt's catalyst were added and stirred for 4 hours. After concentration to dryness, 3 mL of mXHF, 0.95 mL of trimethyl orthoformate, and 60 μl of methanol were added dropwise, and the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours. This liquid was filtered and then concentrated to dryness to obtain 1.2 g of compound 13a.

Compound 13a
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.95-1.08 (m, 6H), 1.55-1.67 (m, 6H), 1.77-1.95 (m, 6H), 3.36-3.40 (m, 4H), 3.63 (s, 2H), 3.85-4.13 (m, 27H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.01 - -84.25, -84.50 - -86.00, -86.61, -87.12, -122.67, -124.79, -125.50, -131.20 - -131.73, -132.41.

（合成例９）
（合成例９－１）

化合物８ｂ ６ｇをジクロロメタン １０ｍＬに溶解した後、氷浴に浸け、２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン ２．８５ｇを滴下した後、室温で一晩撹拌させた。濃縮乾固後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物９ｂを２．４３ｇ得た。

化合物９ｂ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 2.00-2.10 (m, 6H), 3.23-3.33 (m, 2H), 3.97 (s, 3H), 5.04-5.20 (m, 6H), 5.70-5.95 (m, 3H), 6.58 (br s, 1H).
(Synthesis Example 9)
(Synthesis Example 9-1)

After 6 g of compound 8b was dissolved in 10 mL of dichloromethane, the solution was immersed in an ice bath, 2.85 g of 2,2-diallyl-4-pentenylamine was added dropwise, and the mixture was stirred overnight at room temperature. After concentration to dryness, purification by silica gel column chromatography gave 2.43 g of compound 9b.

Compound 9b
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 2.00-2.10 (m, 6H), 3.23-3.33 (m, 2H), 3.97 (s, 3H), 5.04-5.20 (m, 6H), 5.70-5.95 (m , 3H), 6.58 (br s, 1H).

（合成例９－２）

合成例９－１で得た化合物９ｂ ２．９２ｇをＴＨＦ １２ｍＬに溶解した後、Ｎ－Ｂｏｃ－エチレンジアミン ４ｍＬを滴下し、５０℃で一晩撹拌した。濃縮乾固した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物１０ｂを２．７４ｇ得た。

化合物１０ｂ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.43 (s, 9H), 2.00-2.16 (m, 6H), 3.27 (d, 2H), 3.30-3.50 (m, 4H), 5.00 (br s, 1H), 5.10-5.20 (m, 6H) , 5.75-5.90 (m, 3H), 6.81 (br s, 1H), 7.69 (br s, 1H).
(Synthesis Example 9-2)

After 2.92 g of the compound 9b obtained in Synthesis Example 9-1 was dissolved in 12 mL of THF, 4 mL of N-Boc-ethylenediamine was added dropwise and the mixture was stirred at 50° C. overnight. After concentration to dryness, purification by silica gel column chromatography gave 2.74 g of compound 10b.

Compound 10b
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 1.43 (s, 9H), 2.00-2.16 (m, 6H), 3.27 (d, 2H), 3.30-3.50 (m, 4H), 5.00 (br s, 1H) , 5.10-5.20 (m, 6H) , 5.75-5.90 (m, 3H), 6.81 (br s, 1H), 7.69 (br s, 1H).

（合成例９－３）

合成例９－２で得た化合物１０ｂ １．２ｇをジクロロメタン ５ｍＬに溶解した後、氷浴に付け、トリフルオロ酢酸 ５ｍＬを添加して５時間撹拌した。濃縮乾固した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物１１ｂを０．８５３ｇ得た。

化合物１１ｂ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 2.00-2.10 (m, 6H), 2.80-2.92 (m, 2H), 3.20-3.30 (m, 2H), 3.40-3.50 (m, 2H), 5.00-5.18 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 3H), 6.82 (br s, 1H).
(Synthesis Example 9-3)

After dissolving 1.2 g of the compound 10b obtained in Synthesis Example 9-2 in 5 mL of dichloromethane, the solution was placed in an ice bath, 5 mL of trifluoroacetic acid was added, and the mixture was stirred for 5 hours. After concentrating to dryness, 0.853 g of compound 11b was obtained by purifying with silica gel column chromatography.

Compound 11b
¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ: 2.00-2.10 (m, 6H), 2.80-2.92 (m, 2H), 3.20-3.30 (m, 2H), 3.40-3.50 (m, 2H), 5.00-5.18 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 3H), 6.82 (br s, 1H).

（合成例９－４）

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５） ２．０ｇに対して、合成例８－３で得た化合物１１ｂ ０．４２９ｇとｍＸＨＦ ２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン １０ｍＬを入れ、クロロホルムで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、濃縮乾固することで、化合物１２ｂを２．２ｇ得た。

化合物１２ｂ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.39-2.48 (m, 6H), 3.70 (d, 2H), 3.80-4.00 (m, 4H), 5.40-5.52 (m, 6H), 6.13-6.26 (m, 3H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.13 - -84.17, -85.60 - -86.60, -87.29, -87.33 - -87.36, -121.82, -122.50, -125.11 - -125.15, -129.46, -131.35 - -131.40, -132.41.
(Synthesis Example 9-4)

CF ₃ CF ₂ CF ₂ (OCF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _n OCF ₂ CF ₂ CO ₂ Me (n=25) 0.429 g of compound 11b obtained in Synthesis Example 8-3 and 2 mL of mXHF per 2.0 g was added and stirred overnight at room temperature. After adding 10 mL of perfluorohexane, washing with chloroform, drying with anhydrous sodium sulfate, and concentrating to dryness, 2.2 g of compound 12b was obtained.

Compound 12b
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.39-2.48 (m, 6H), 3.70 (d, 2H), 3.80-4.00 (m, 4H), 5.40-5.52 (m, 6H), 6.13-6.26 (m, 3H);
¹⁹ F NMR (MXHF, 400MHz) δ: -84.13 -84.17, -85.60 -86.60, -87.36, -87.36, -121.82, -122.50, -129.46, -131.35- - 131.40, -132.41.

（合成例９－５）

合成例９－４で得た化合物１２ｂ １．２５ｇをｍＸＨＦ １．５ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン ３μｌ、トリクロロシラン ０．２５２ｍｌ、カールシュテット触媒 ３４μｌを添加し、４時間撹拌した。濃縮乾固した後、ｍＸＨＦ １．５ｍＬ、オルトギ酸トリメチル ０．９５ｍＬ、およびメタノール ６０μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌させた。この液を濾過した後、濃縮乾固することで、化合物１３ｂを１．１ｇ得た。

化合物１３ｂ
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.90-1.10 (m, 6H), 1.60-1.70 (m, 6H), 1.75-1.95 (m, 6H), 3.68 (d, 2H), 3.90-4.10 (m, 31H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.13 - -84.27, -85.10 - -85.76, -86.78, -87.36, -120.78, -121.86, -124.90, -128.85, -131.35 - -131.50, -132.40.
(Synthesis Example 9-5)

After dissolving 1.25 g of compound 12b obtained in Synthesis Example 9-4 in 1.5 mL of mXHF, 3 μl of triacetoxymethylsilane, 0.252 ml of trichlorosilane and 34 μl of Karstedt's catalyst were added and stirred for 4 hours. After concentration to dryness, 1.5 mL of mXHF, 0.95 mL of trimethyl orthoformate and 60 μl of methanol were added dropwise and stirred at 60° C. for 3 hours. This liquid was filtered and concentrated to dryness to obtain 1.1 g of compound 13b.

Compound 13b
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.90-1.10 (m, 6H), 1.60-1.70 (m, 6H), 1.75-1.95 (m, 6H), 3.68 (d, 2H), 3.90-4.10 (m, 31H);
¹⁹ F NMR (MXHF, 400MHz) Delta: -84.13 -84.27, -85.10 -85.76, -86.36, -120.78, -121.86, -121.86, -128.90, -132.40, -132.40, -132.40, -132.40, -132.40 .

（比較例１）
（比較例１－１）

ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５） ３．０ｇに対して、２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン ０．２０７ｇとｍＸＨＦ ２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン １０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、濃縮乾固することで、化合物１４を２．８９ｇ得た。

化合物１４
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.39 (d, 6H), 3.66 (d, 2H), 5.42-5.46 (m, 6H), 6.15-6.25 (m, 3H), 7.02 (brs, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -125.4, -131.4, -132.4.
(Comparative example 1)
(Comparative Example 1-1)

CF ₃ CF ₂ CF ₂ (OCF ₂ CF ₂ CF ₂ ) _n OCF ₂ CF ₂ CO ₂ Me (n=25) 0.207 g 2,2-diallyl-4-pentenylamine 0.207 g and mXHF 2 mL was added and stirred overnight at room temperature. After adding 10 mL of perfluorohexane, washing with acetone, drying with anhydrous sodium sulfate, and concentrating to dryness, 2.89 g of compound 14 was obtained.

Compound 14
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.39 (d, 6H), 3.66 (d, 2H), 5.42-5.46 (m, 6H), 6.15-6.25 (m, 3H), 7.02 (brs, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.2, -85.5, -86.6, -125.4, -131.4, -132.4.

（比較例１－２）

比較例１－１で得た化合物１４ ２．８９ｇをｍＸＨＦ １．５ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン ５．６７μｌ、トリクロロシラン ０．９１１ｍｌ、カールシュテット触媒 ６８．７μｌを添加し、４時間撹拌した。濃縮乾固した後、ｍＸＨＦ １．５ｍＬ、オルトギ酸トリメチル ２．０ｍＬ、およびメタノール １１０μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌させた。この液を濾過した後、濃縮乾固することで、化合物１５を２．５０ｇ得た。

化合物１５
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.96-1.02 (m, 6H), 1.58-1.67 (m, 6H),1.82-1.86 (m, 6H) 3.61 (d, 2H), 3.90-4.05 (m, 27H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.
(Comparative Example 1-2)

After dissolving 2.89 g of compound 14 obtained in Comparative Example 1-1 in 1.5 mL of mXHF, 5.67 μl of triacetoxymethylsilane, 0.911 ml of trichlorosilane, and 68.7 μl of Karstedt's catalyst were added and stirred for 4 hours. bottom. After concentration to dryness, 1.5 mL of mXHF, 2.0 mL of trimethyl orthoformate, and 110 μl of methanol were added dropwise, and the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours. After filtering this liquid, 2.50g of compound 15 was obtained by concentrating and drying.

Compound 15
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.96-1.02 (m, 6H), 1.58-1.67 (m, 6H), 1.82-1.86 (m, 6H) 3.61 (d, 2H), 3.90-4.05 (m, 27H) );
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.

（比較例２）
（比較例２－１）

ＣＦ_３（ＯＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｍ＝４０，ｎ＝２４） ２．０ｇに対して、２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン ０．１５８ｇとｍＸＨＦ ２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン １０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、濃縮乾固することで、化合物１６を１．９１ｇ得た。

化合物１６
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.39 (d, 6H), 3.66 (d, 2H), 5.42-5.46 (m, 6H), 6.15-6.25 (m, 3H), 7.02 (brs, 1H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.
(Comparative example 2)
(Comparative Example 2-1)

To 2.0 g of CF ₃ (OCF ₂ ) _m (OCF ₂ CF ₂ ) _n OCF ₂ CO ₂ Me (m=40, n=24), 0.158 g of 2,2-diallyl-4-pentenylamine and mXHF 2 mL was added and stirred overnight at room temperature. After adding 10 mL of perfluorohexane, washing with acetone, drying with anhydrous sodium sulfate, and concentrating to dryness, 1.91 g of compound 16 was obtained.

compound 16
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 2.39 (d, 6H), 3.66 (d, 2H), 5.42-5.46 (m, 6H), 6.15-6.25 (m, 3H), 7.02 (brs, 1H);
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, -85.6, -83.2, -81.6, -79.9, - 74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（比較例２－２）

比較例２－１で得た化合物１６ １．９１ｇをｍＸＨＦ １．５ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン ３．２１μｌ、トリクロロシラン ０．５１６ｍｌ、カールシュテット触媒 ３８．９μｌを添加し、４時間撹拌した。濃縮乾固した後、ｍＸＨＦ １．５ｍＬ、オルトギ酸トリメチル １．１ｍＬ、およびメタノール ６２μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌させた。この液を濾過した後、濃縮乾固することで、化合物１７を１．７７ｇ得た。

化合物１７
^１Ｈ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.96-1.02 (m, 6H), 1.58-1.67 (m, 6H),1.82-1.86 (m, 6H) 3.61 (d, 2H), 3.90-4.05 (m, 27H);
^１９Ｆ ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.
(Comparative Example 2-2)

After dissolving 1.91 g of compound 16 obtained in Comparative Example 2-1 in 1.5 mL of mXHF, 3.21 μl of triacetoxymethylsilane, 0.516 ml of trichlorosilane, and 38.9 μl of Karstedt's catalyst were added and stirred for 4 hours. bottom. After concentration to dryness, 1.5 mL of mXHF, 1.1 mL of trimethyl orthoformate, and 62 μl of methanol were added dropwise, and the mixture was stirred at 60° C. for 3 hours. After filtering this liquid, 1.77g of compounds 17 were obtained by concentrating and drying.

compound 17
¹ H NMR (mXHF, 400 MHz) δ: 0.96-1.02 (m, 6H), 1.58-1.67 (m, 6H), 1.82-1.86 (m, 6H) 3.61 (d, 2H), 3.90-4.05 (m, 27H) );
¹⁹ F NMR (mXHF, 400 MHz) δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, -85.6, -83.2, -81.6, -79.9, - 74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（表面処理剤の調製）
合成例１－４、４－４、５－２、７－２、および比較例１、２で得られたフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（５ａ、５ｄ、７ａ、７ｄ、１５、１７）を、それぞれ、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエムジャパン株式会社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤を調製した。 (Preparation of surface treatment agent)
The fluoropolyether group-containing silane compounds (5a, 5d, 7a, 7d, 15, 17) obtained in Synthesis Examples 1-4, 4-4, 5-2, 7-2 and Comparative Examples 1 and 2 were Each of these was dissolved in hydrofluoroether (Novec HFE-7200, manufactured by 3M Japan Ltd.) so as to have a solid content concentration of 0.1% by mass to prepare a surface treatment agent.

（表面処理層の形成）
表面処理剤を、スピンコーターを用いて、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に塗布した。
スピンコートの条件は、３００回転／分で３秒間、２０００回転／分で３０秒であった。
塗布後のガラスを、大気下、恒温槽内で１５０℃３０分間加熱し、表面処理層を形成した。 (Formation of surface treatment layer)
The surface treatment agent was applied onto a chemically strengthened glass (“Gorilla” glass manufactured by Corning, thickness 0.7 mm) using a spin coater.
The spin coating conditions were 300 rpm for 3 seconds and 2000 rpm for 30 seconds.
The coated glass was heated at 150° C. for 30 minutes in a constant temperature bath in the atmosphere to form a surface treatment layer.

（表面処理層の特性評価）
得られた表面処理層の特性を以下のように評価した。 (Characteristic evaluation of surface treatment layer)
The properties of the obtained surface treatment layer were evaluated as follows.

＜静的接触角＞
（初期評価）
まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。 <Static contact angle>
(Initial evaluation)
First, as an initial evaluation, after forming the surface treatment layer, the static contact angle of water was measured while nothing was touching the surface.

＜耐消しゴム摩耗性試験＞
表面処理層の形成されたガラスを水平配置し、ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で荷重をかけた消しゴムを表面処理層の表面にて往復させた。往復回数（摩擦回数）２５００回毎に水の接触角を測定し、水の接触角が１００°未満となるまで試験を続けた。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨであった。 <Eraser abrasion resistance test>
The glass on which the surface treatment layer was formed was placed horizontally, and an eraser was reciprocated on the surface of the surface treatment layer using a rubbing tester (manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.) under the following conditions. The contact angle of water was measured every 2500 times of reciprocation (number of frictions), and the test was continued until the contact angle of water became less than 100°. The test environmental conditions were 25° C. and 40% RH.

消しゴム：Ｒａｂｅｒ Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
接地面積：６ｍｍφ
移動距離（片道）：３０ｍｍ
移動速度：３，６００ｍｍ／分
荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ Eraser: Rubber Eraser (manufactured by Minoan)
Contact area: 6mmφ
Travel distance (one way): 30mm
Movement speed: 3,600mm/min Load: 1kg/6mmφ

結果を下表に示す。以下の表において「－」は測定していないことを示す。 The results are shown in the table below. In the table below, "-" indicates not measured.

本開示の表面処理剤は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。 The surface treatment agent of the present disclosure can be suitably used to form a surface treatment layer on the surface of various substrates, particularly optical members that require transparency.

Claims (13)

式（１ａ）または式（１ｂ）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、または（ｆ５）：
－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－ （ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは、１である。］
－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－ （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
αは、１であり；
βは、１であり；
γは、１であり；
Ｘ^Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、－（Ｘ^２１）_ｓ２１－［（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２２）］_ｓ１１－（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２１）_ｓ２２－であり；
Ｘ^Ｎは、アミド結合を表し；
ｓ１１は、１～３の整数であり；
Ｘ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ^２１１－、または、－（Ｒ^２１１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２１２）_ｓ３２－であり；
Ｒ^２１１およびＲ^２１２は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１０アルキレン基であり；
前記Ｃ_１－１０アルキレン基の水素原子は、置換されていてもよく；
Ｘ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、または－ＮＲ^５４－であり；
Ｒ^５４は、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基であり；
ｓ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ｓ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｒ^２２１－、または、－（Ｒ^２２１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２２２）_ｓ３２－であり；
Ｒ^２２１およびＲ^２２２は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１０アルキレン基であり；
少なくとも１つの－Ｒ ^２２１ －において、前記Ｃ_１－１０アルキレン基の少なくとも１つの水素原子がハロゲン原子に置換されており；
ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１であり；
ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１であり；
Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ１）、（Ｓ３）または（Ｓ４）：

［式中：
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１－２０アルキル基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または－Ｒ^２８－（Ｏ）_ｘ－Ｒ^２９－であり；
Ｒ^２８およびＲ^２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合またはＣ_１－２０アルキレン基であり；
ｘは０または１であり；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１－６アルキル基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
Ｒ^１４は、水素原子、ハロゲン原子または－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基または炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子またはＣ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数である）であり；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１－２０アルキル基であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ_１－２０アルキル基であり；
ｋ１は、２～３の整数であり；
ｌ１は、０～１の整数であり；
ｍ１は、０～１の整数であり；
Ｒ ^ｄ１ は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ ^２ －ＣＲ ^３１ _ｐ２ Ｒ ^３２ _ｑ２ Ｒ ^３３ _ｒ２ であり；
Ｚ ^２ は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、Ｃ _１－６ アルキレン基、－（ＣＨ _２ ） _ｚ５ －Ｏ－（ＣＨ _２ ） _ｚ６ －（式中、ｚ５は、０～６の整数、ｚ６は、０～６の整数である）または－（ＣＨ _２ ） _ｚ７ －フェニレン－（ＣＨ _２ ） _ｚ８ －（式中、ｚ７は、０～６の整数、ｚ８は、０～６の整数である）であり；
Ｒ ^３１ は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ ^２’ －ＣＲ ^３２’ _ｑ２’ Ｒ ^３３’ _ｒ２’ であり；
Ｚ ^２’ は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、Ｃ _１－６ アルキレン基、－（ＣＨ _２ ） _ｚ５’ －Ｏ－（ＣＨ _２ ） _ｚ６’ －（式中、ｚ５’は、０～６の整数、ｚ６’は、０～６の整数である）または－（ＣＨ _２ ） _ｚ７’ －フェニレン－（ＣＨ _２ ） _ｚ８’ －（式中、ｚ７’は、０～６の整数、ｚ８’は、０～６の整数である）であり；
Ｒ ^３２’ は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ ^３ －ＳｉＲ ^３４ _ｎ２ Ｒ ^３５ _３－ｎ２ であり；
Ｚ ^３ は、単結合、酸素原子、Ｃ _１－６ アルキレン基、－（ＣＨ _２ ） _ｚ５” －Ｏ－（ＣＨ _２ ） _ｚ６” －（式中、ｚ５”は、０～６の整数、ｚ６”は、０～６の整数である）または－（ＣＨ _２ ） _ｚ７” －フェニレン－（ＣＨ _２ ） _ｚ８” －（式中、ｚ７”は、０～６の整数、ｚ８”は、０～６の整数である）であり；
Ｒ ^３４ は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ ^３５ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ _１－２０ アルキル基であり；
ｎ２は、（ＳｉＲ ^３４ _ｎ２ Ｒ ^３５ _３－ｎ２ ）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
Ｒ ^３３’ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基またはＣ _１－２０ アルキル基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ ^３２ は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ ^３ －ＳｉＲ ^３４ _ｎ２ Ｒ ^３５ _３－ｎ２ であり；
Ｒ ^３３ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基またはＣ _１－２０ アルキル基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基またはＣ_１－２０アルキル基であり；
ｋ２は、０であり；
ｌ２は、２～３の整数であり；
ｍ２は、０～１の整数である。］
で表される基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。 Formula (1a) or Formula (1b):

[In the formula:
R ^F1 is independently at each occurrence Rf ¹ -R ^F -O _q -;
R ^F2 is -Rf ² _p -R ^F -O _q -;
Rf ¹ is independently at each occurrence a C _1-16 alkyl group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
Rf ² is a C _1-6 alkylene group optionally substituted by one or more fluorine atoms;
R ^F is independently at each occurrence of formula (f1), (f2), or (f5):
-(OC ₃ F ₆ ) _d -(OC ₂ F ₄ ) _e - (f1)
[Wherein, d is an integer of 1 to 200, and e is 1. ]
-(OC ₄ F ₈ ) _c -(OC ₃ F ₆ ) _d -(OC ₂ F ₄ ) _e -(OCF ₂ ) _f - (f2)
[Wherein, c and d are each independently an integer of 0 or more and 30 or less, e and f are each independently an integer of 1 or more and 200 or less,
the sum of c, d, e and f is greater than or equal to 2;
The order of existence of each repeating unit bracketed with subscript c, d, e or f is arbitrary in the formula. ]
- (OC ₆ F ₁₂ ) _a - (OC ₅ F ₁₀ ) _b - (OC ₄ F ₈ ) _c - (OC ₃ F ₆ ) _d - (OC ₂ F ₄ ) _e - (OCF ₂ ) _f - (f5)
[Wherein, f is an integer of 1 or more and 200 or less, a, b, c, d and e are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and a, b, c, d, e and f are at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the formula. ]
is a group represented by;
p is 0 or 1;
q is independently 0 or 1 at each occurrence;
α is 1;
β is 1;
γ is 1;
X ^A is independently at each occurrence -(X ²¹ ) _s21 -[(X ^N )-(X ²² )] _s11 -(X ^N )-(X ²¹ ) _s22 -;
X ^N represents an amide bond;
s11 is an integer from 1 to 3;
X ²¹ is independently at each occurrence -R ²¹¹ - or -(R ²¹¹ ) _s31 -X ³¹ -(R ²¹² ) _s32 -;
R ²¹¹ and R ²¹² are each independently a C _1-10 alkylene group;
hydrogen atoms of said C _1-10 alkylene group may be substituted;
each occurrence of X ³¹ is independently —O— or —NR ⁵⁴ —;
R ⁵⁴ is a hydrogen atom, a phenyl group or a C _1-6 alkyl group;
s31 is independently 0 or 1 at each occurrence ;
s32 is independently 0 or 1 at each occurrence ;
X ²² is independently at each occurrence -R ²²¹ - or -(R ²²¹ ) _s31 -X ³¹ -(R ²²² ) _s32 -;
R ²²¹ and R ²²² are each independently a C _1-10 alkylene group;
in at least one -R ²²¹ -, at least one hydrogen atom of said C _1-10 alkylene group is substituted with a halogen atom ;
each s 21 is independently 0 or 1;
each s22 is independently 0 or 1;
R ^Si is independently at each occurrence represented by formula (S1) , ( S3) or (S4):

[In the formula:
R ¹¹ is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R ¹² is independently at each occurrence a hydrogen atom or a C _1-20 alkyl group;
n1 is an integer of 1 to 3 independently for each (SiR ¹¹ _n1 R ¹² _3-n1 ) unit;
X ¹¹ is independently at each occurrence a single bond or -R ²⁸ -(O) _x -R ²⁹ -;
R ²⁸ and R ²⁹ are each independently at each occurrence a single bond or a C _1-20 alkylene group;
x is 0 or 1;
R ¹³ is independently at each occurrence a hydrogen atom or a C _1-6 alkyl group;
t is independently at each occurrence an integer greater than or equal to 2;
R ¹⁴ is a hydrogen atom, a halogen atom or —X ¹¹ —SiR ¹¹ _n1 R ¹² _3-n1 ;
each occurrence of R ¹⁵ is independently a single bond, an oxygen atom, an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkyleneoxy group having 1 to 6 carbon atoms;
R ^a1 is independently at each occurrence -Z ¹ -SiR ²² _q1 R ²³ _r1 ;
Z ¹ is independently at each occurrence an oxygen atom or a C _1-6 alkylene group, —(CH ₂ ) _z1 —O—(CH ₂ ) _z2 — (wherein z1 is an integer of 0 to 6 and z2 is an integer from 0 to 6) or -(CH ₂ ) _z3 -phenylene-(CH ₂ ) _z4 - (wherein z3 is an integer from 0 to 6 and z4 is from 0 to is an integer of 6);
R ²² is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R ²³ is independently at each occurrence a hydrogen atom or a C _1-20 alkyl group;
q1 is independently at each occurrence an integer from 1 to 3;
r1 is independently at each occurrence an integer from 0 to 2;
R ^b1 is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R ^c1 is independently at each occurrence a hydrogen atom or a C _1-20 alkyl group;
k1 is an integer from 2 to 3;
l1 is an integer from 0 to 1;
m1 is an integer from 0 to 1;
R ^d1 is independently at each occurrence -Z ² -CR ³¹ _p2 R ³² _q2 R ³³ _r2 ;
Z ² is each independently at each occurrence a single bond, an oxygen atom, a C _1-6 alkylene group, —(CH ₂ ) _z5 —O—(CH ₂ ) _z6 — (wherein z5 is 0 to 6 z6 is an integer of 0 to 6) or -(CH ₂ ) _z7 -phenylene-(CH ₂ ) _z8 - (wherein z7 is an integer of 0 to 6 and z8 is an integer of 0 to 6 is an integer);
R ³¹ is independently at each occurrence -Z ^2' -CR ^32' _q2' R ^33' _r2' ;
Each occurrence of Z ^2′ is independently a single bond, an oxygen atom, a C _1-6 alkylene group, —(CH ₂ ) _z5′ —O—(CH ₂ ) _z6′ — (wherein z5′ is , an integer from 0 to 6, and z6′ is an integer from 0 to 6) or —(CH ₂ ) _z7′ —phenylene-(CH ₂ ) _z8′ —, wherein z7′ is an integer from 0 to 6 , z8′ is an integer from 0 to 6);
R ^32′ is independently at each occurrence —Z ³ —SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 ;
Z ³ is a single bond, an oxygen atom, a C _1-6 alkylene group, —(CH ₂ ) _z5″ —O—(CH ₂ ) _z6″ — (wherein z5″ is an integer of 0 to 6, z6″ is an integer from 0 to 6) or —(CH ₂ ) _z7″ —phenylene-(CH ₂ ) _z8″ —, where z7″ is an integer from 0 to 6, z8″ is an integer from 0 to 6 is an integer);
R ³⁴ is independently at each occurrence a hydroxyl group or a hydrolyzable group;
R ³⁵ is independently at each occurrence a hydrogen atom or a C _1-20 alkyl group;
n2 is an integer of 1 to 3 independently for each (SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 ) unit;
R ^33′ at each occurrence is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a C _1-20 alkyl group;
q2' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r2' is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
R ³² is independently at each occurrence -Z ³ -SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 ;
R ³³ is independently at each occurrence a hydrogen atom, a hydroxyl group or a C _1-20 alkyl group;
p2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
q2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
r2 is independently at each occurrence an integer from 0 to 3;
R ^e1 is independently at each occurrence —Z ³ —SiR ³⁴ _n2 R ³⁵ _3-n2 ;
R ^f1 at each occurrence is independently a hydrogen atom, a hydroxyl group or a C _1-20 alkyl group;
k2 is 0;
l2 is an integer from 2 to 3;
m2 is an integer from 0 to 1; ]
is a group represented by ]
A fluoropolyether group-containing silane compound represented by ｎ１は、３である、請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。 2. The fluoropolyether group-containing silane compound according to claim 1, wherein n1 is 3. ｋ１は、３であり、ｑ１は１～３の整数である、請求項１または２に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。 3. The fluoropolyether group-containing silane compound according to claim 1, wherein k1 is 3 and q1 is an integer of 1-3. ｌ２は、３であり、ｎ２は１～３の整数である、請求項１～３のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。 The fluoropolyether group-containing silane compound according to any one of claims 1 to 3, wherein l2 is 3 and n2 is an integer of 1-3. 請求項１～４のいずれか１項に記載の式（１ａ）または式（１ｂ）で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。 A surface treatment agent containing at least one fluoropolyether group-containing silane compound represented by formula (1a) or (1b) according to any one of claims 1 to 4. 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項５に記載の表面処理剤。 6. The surface treatment agent according to claim 5, further comprising one or more other components selected from fluorine-containing oils, silicone oils, and catalysts. さらに溶媒を含む、請求項５または６に記載の表面処理剤。 The surface treatment agent according to claim 5 or 6, further comprising a solvent. 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項５～７のいずれか１項に記載の表面処理剤。 The surface treatment agent according to any one of claims 5 to 7, which is used as an antifouling coating agent or a waterproof coating agent. 真空蒸着用である、請求項５～８のいずれか１項に記載の表面処理剤。 The surface treatment agent according to any one of claims 5 to 8, which is for vacuum deposition. 湿潤被覆処理用である、請求項５～８のいずれか１項に記載の表面処理剤。 The surface treatment agent according to any one of claims 5 to 8, which is for wet coating treatment. 請求項５～９のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。 A pellet containing the surface treatment agent according to any one of claims 5 to 9. 基材と、該基材の表面に、請求項１～４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、または、請求項５～１０のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。 A substrate and, on the surface of the substrate, the fluoropolyether group-containing silane compound according to any one of claims 1 to 4, or the surface treatment agent according to any one of claims 5 to 10. A layer formed from the article. 光学部材である、請求項１２に記載の物品。 13. The article according to claim 12, which is an optical member.