JP2022092544A - ニオブ粉末、ニオブ粉末製造用部材及びこれらの製造方法並びにニオブ部材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、プラズマアトマイズ法によるニオブ粉末の製造の報告もあるが、高純度なニオブ粉末は得られていないのが現状である(非特許文献2、3)。
また、残留比抵抗比RRRが300以上のニオブ粉末製造用部材を、3×10-2Pa以下の高真空下での、プラズマアトマイズ法又はアークアトマイズ法により粉末化したものである。
ここで、残留比抵抗比RRRが300以上である。
ここで、円相当による平均粒径が20~200μmであるニオブ粉末を得る。
本発明のニオブ粉末は、不純物金属元素としてのMg、V、Mn、Cu、Mo、B、BeおよびHfのそれぞれの含有量が30ppm以下、かつZrが100ppm以下、Taが1000ppm以下、Wが70ppm以下、Niが30ppm以下、Fe、Si、TiおよびAlのそれぞれが50ppm以下、Cr+Coの総量が50ppm以下で、不純物ガス成分元素としての酸素、窒素、炭素、および水素のそれぞれの含有量が300ppm以下である。
ここで、冷間とは、特に加熱することなく塑性加工を行うことで有り、常温で塑性加工を行えばよいが、加工温度が100℃を超えるような場合には、不活性ガスなどにより100℃以下に冷却して行う必要がある。
(ニオブ粉末製造用部材の製造)
表3の不純物含有量のニオブインゴットを用い、室温の環境下で冷間で塑性加工を繰り返し、直径2mmの線状体(ワイヤ)を製造し、実施例1のニオブ粉末製造用部材とした。
分析値の評価について、金属成分は島津製作所製ICPS-8100または日立ハイテクサイエンス製SPS3520UVによるICP発光分光分析法を用いて評価した。OとN元素はLECO製TC600による不活性ガス融解―赤外線吸収法を用いて評価した。C元素はLECO製CS844による非分散型赤外線吸収法を用いて評価した。H元素はLECO製RH404による不活性ガス融解-熱伝導度法を用いて評価した。
なお、残留抵抗比RRRの測定は、サンプルを冷凍機で冷却しながら温度と4端子法による抵抗値を測定し、9.3Kと293Kの時の抵抗値で293Kの抵抗値を基準とした抵抗比をRRR値とした。
表3の不純物含有量のニオブインゴットを用い、インゴット温度が300~500℃の環境下で塑性加工を繰り返し、直径2mmの線状体(ワイヤ)を製造し、比較例1のニオブ粉末製造用部材とした。
線状体の不純物含有量は表4のとおりである。
RRRは54であった。
(ニオブ粉末の製造)
実施例1のニオブ粉末製造用部材を用い、アークアトマイズ法により、ニオブ粉末を得た。アークアトマイズ法は、2.7×10-2Paの環境で行い、アークアトマイズの条件は、電圧20V、Arガス純度4N、Arガス圧0.6MPa、ワイヤ送り速度4.4m/minとした。
得られたニオブ粉末の不純物含有量は表4の通りである。
また、円相当による平均粒径は62μmであった。
なお、実施例2のニオブ粉末の粉末表面と粉末断面の拡大写真を図1に示す。
実施例1のニオブ粉末製造用部材を用い、アークアトマイズ法により、ニオブ粉末を得た。アークアトマイズ法は、9.3Paの環境で行い、アークアトマイズの条件は、電圧20V、Arガス純度4N、Arガス圧0.6MPa、ワイヤ送り速度4.4m/minとした。
得られたニオブ粉末の不純物含有量は表4の通りである。
また、円相当による平均粒径は73μmであった。
(ニオブ部材の製造)
実施例2のニオブ粉末を用い、3Dプリンターによる部材製作を行った。部材の形状は2×2×50mmの角棒であり、成形後、チタンゲッタリングによる脱ガス処理を行った。
チタンゲッタリングによる脱ガス処理は、1×10-4Paの真空環境で、1200℃の環境、処理時間50時間の条件で行った。チタンゲッタリング後の部材の不純物含有量は表5の通りである。
製造したニオブ部材のRRRは、351であった。また、チタンゲッタリング前のRRRは6.3であった。
チタンゲッタリングを行わなかった以外は実施例3と同様に行った。
製造したニオブ部材のRRRは6.3であった。
Claims (9)
- 不純物金属元素としてのMg、V、Mn、Cu、Mo、B、BeおよびHfのそれぞれの含有量が30ppm以下、かつZrが100ppm以下、Taが1000ppm以下、Wが70ppm以下、Niが30ppm以下、Fe、Si、TiおよびAlのそれぞれが50ppm以下、Cr+Coの総量が50ppm以下で、不純物ガス成分元素としての酸素、窒素、炭素、および水素のそれぞれの含有量が300ppm以下であることを特徴とするニオブ粉末。
- 円相当径による平均粒径が20~200μmであることを特徴とする請求項1記載のニオブ粉末。
- 残留比抵抗比RRRが300以上のニオブ粉末製造用部材を、3×10-2Pa以下の真空下での、プラズマアトマイズ法又はアークアトマイズ法により粉末化したものであることを特徴とする請求項1又は2記載のニオブ粉末。
- ニオブ粉末を製造するニオブ粉末製造用部材であって、不純物金属元素としてのMg、V、Mn、Cu、Mo、B、BeおよびHfのそれぞれの含有量が30ppm以下、かつZrが100ppm以下、Taが1000ppm以下、Wが70ppm以下、Niが30ppm以下、Fe、Si、TiおよびAlのそれぞれが50ppm以下、Cr+Coの総量が50ppm以下で、不純物ガス成分元素の含有量が、酸素が40ppm以下、窒素が30ppm以下、炭素が30ppm以下、および水素が5ppm以下であることを特徴とするニオブ粉末製造用部材。
- 残留比抵抗比RRRが300以上であることを特徴とする請求項4記載のニオブ粉末製造用部材。
- ニオブ粉末を製造するニオブ粉末製造用部材の製造方法であって、不純物金属元素としてのMg、V、Mn、Cu、Mo、B、BeおよびHfのそれぞれの含有量が30ppm以下、かつZrが100ppm以下、Taが1000ppm以下、Wが70ppm以下、Niが30ppm以下、Fe、Si、Ti、Al、CrおよびCoのそれぞれが50ppm以下のニオブインゴットを、冷間で塑性加工することにより、不純物金属元素としてのMg、V、Mn、Cu、Mo、B、BeおよびHfのそれぞれの含有量が30ppm以下、かつZrが100ppm以下、Taが1000ppm以下、Wが70ppm以下、Niが30ppm以下、Fe、Si、TiおよびAlのそれぞれが50ppm以下、Cr+Coの総量が50ppm以下で、不純物ガス成分元素の含有量が、酸素が40ppm以下、窒素が30ppm以下、炭素が30ppm以下、および水素が5ppm以下であるニオブ粉末製造用部材を得ることを特徴とするニオブ粉末製造用部材の製造方法。
- 請求項4又は5のニオブ粉末製造用部材を原料とし、3×10-2Pa以下の真空下で、プラズマアトマイズ法又はアークアトマイズ法により、不純物金属元素としてのMg、V、Mn、Cu、Mo、B、BeおよびHfのそれぞれの含有量が30ppm以下、かつZrが100ppm以下、Taが1000ppm以下、Wが70ppm以下、Niが30ppm以下、Fe、Si、TiおよびAlのそれぞれが50ppm以下、Cr+Coの総量が50ppm以下で、不純物ガス成分元素としての酸素、窒素、炭素、および水素のそれぞれの含有量が300ppm以下であるニオブ粉末を得ることを特徴とするニオブ粉末の製造方法。
- 円相当による平均粒径が20~200μmであるニオブ粉末を得ることを特徴とする請求項7記載のニオブ粉末の製造方法。
- ニオブ粉末を用いて積層造形法、又は噴霧法によってニオブ部材を製作するニオブ部材の製造方法であって、請求項1~3の何れか一項記載のニオブ粉末を原料として成形し、脱ガス処理を行うことにより、不純物金属元素としてのMg、V、Mn、Cu、Mo、B、BeおよびHfのそれぞれの含有量が30ppm以下、かつZrが100ppm以下、Taが1000ppm以下、Wが70ppm以下、Niが30ppm以下、Fe、Si、TiおよびAlのそれぞれが50ppm以下、Cr+Coの総量が50ppm以下で、不純物ガス成分元素の含有量が、酸素が40ppm以下、窒素が30ppm以下、炭素が30ppm以下、および水素が5ppm以下であり、残留比抵抗比RRRが300以上であるニオブ部材を製造することを特徴とするニオブ部材の製造方法。
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