JP2022075379A

JP2022075379A - 第一級および第二級アミン化合物の製造方法

Info

Publication number: JP2022075379A
Application number: JP2020186123A
Authority: JP
Inventors: 典之内海; Noriyuki Uchiumi; 武昭片山; Takeaki Katayama
Original assignee: Kanto Chemical Co Inc
Current assignee: Kanto Chemical Co Inc
Priority date: 2020-11-06
Filing date: 2020-11-06
Publication date: 2022-05-18

Abstract

【課題】本発明の目的は、アルデヒド化合物から第一級および第二級アミン化合物を選択的に合成することができ、かつ反応操作性に優れた第一級および第二級アミン化合物の実用的な製造方法を提供することである。【解決手段】特定のアミノアルコールをアミン源とした有機イリジウム錯体触媒によるアルデヒド化合物の還元的アミノ化反応と、酸化的な脱保護反応を組み合わせることによる第一級および第二級アミン化合物の製造方法。【選択図】なし

Description

本発明は、第一級および第二級アミン化合物の実用性に優れた製造方法に関する。

アルデヒド化合物から第一級または第二級アミン化合物を合成する方法としては、一般的にはアルデヒド化合物を対応する原料アミン化合物の存在下に還元する合成法が知られている（非特許文献１，２）。しかしながら、この方法では生成した第一級または第二級アミン化合物の求核性が原料アミン化合物より高いため、実際にはこれが更に反応した望まない第二級および／または第三級アミン化合物の副生を抑制することは難しく、実用的な方法ではなかった。

第一級アミン化合物への選択性を高めた方法としては、アルデヒド化合物とヒドロキシルアミンからまずオキシムを合成し、これを接触水素化して第一級アミン化合物を製造する方法が知られている（特許文献１）。しかしながら、この方法ではまずオキシムを事前に調製する必要がある上、オキシムの還元反応を１ＭＰａの高圧水素雰囲気下で実施し耐圧釜などの特別な反応容器を必要とすることから、簡便な方法ではなかった。また、アルデヒド化合物とカルバミド酸エステル化合物からトリクロロシランを還元剤として用いる還元的アミノ化反応によりカルバミド酸エステル誘導体を合成した後、これを例えば加水分解などにより脱保護して第一級アミン化合物を製造する方法も知られている（特許文献２）。しかしながら、この方法では還元剤として沸点が低く湿気に対して不安定であるトリクロロシランを必要とし、取り扱いが困難であることから簡便な方法ではなかった。

特開２０００－２７３０６９号公報特許第４２１２４６６号

Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９６，６１，３８４９．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２０１０，７５，５４７０．

本発明の目的は、アルデヒド化合物から第一級および第二級アミン化合物を選択的に合成することができ、かつ反応操作性に優れた第一級および第二級アミン化合物の実用的な製造方法を提供することである。

本発明者らは、カルボニル化合物とアミン化合物との還元的アミノ化反応を研究する中で、アルデヒド化合物からアンモニア等価体をアミン源として用いて還元的アミノ化する方法では、過アルキル化などの問題により、第一級アミン化合物を選択的に合成することが困難である課題に直面した。また、特定のアルデヒド化合物においては、メチルアミン等の第一級アミンをアミン源として用いて還元的アミノ化する方法でも、同様に過アルキル化により第二級アミン化合物を選択的に合成することが困難となる場合があった。

鋭意研究を進める中で、アミン源として特定のアミノアルコールを、触媒として有機イリジウム錯体を用いると、生成物である窒素上に２－ヒドロキシエチル骨格を有するアミンは、そのかさ高さから過アルキル化を起こし難く、選択的に第二級または第三級アミン化合物を合成できることを見出した。さらに、このアミノアルコールから合成された窒素上に２－ヒドロキシエチル骨格を有するアミン化合物は、窒素上の２－ヒドロキシエチル骨格を有する置換基を耐圧釜などの特別な反応容器を必要とせず簡便な操作で酸化的に脱保護することが出来るため、これらを組み合わせることで目的の第一級または第二級アミン化合物を選択的に合成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。

すなわち、本発明は以下に関する。
［１］第一級または第二級アミン化合物の製造方法であって、
下記一般式（１）

式中、Ｒ^１は、水素原子、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基であり、
Ｗは、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であり、２以上のＷは、一緒になって１または２以上の環を形成してもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、環員数６～２０のアラルキル基、環員数６～２０のヘテロアラルキル基、環員数６～２０のアルキルアリール基または環員数６～２０のアルキルヘテロアリール基であり、
Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基であり、
ｎは１または２であり、
ｎが２の場合、Ｒ^１は存在しない、
で表されるアミノアルコールと、
下記一般式（２）

式中、Ｒ^６は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のカルボキシル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するエステル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するアミド基、Ｃ１～Ｃ２０のアシル基であり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
で表されるアルデヒドとを、
下記一般式（３）

式中、Ａｒは、１または２以上の水素原子が前期置換基Ｗで置換されていてもよい、シクロペンタジエニル基であり、
Ｘは、ヒドリド基またはアニオン性基であり、
Ｒ^７およびＲ^８は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
ｊおよびｋは、互いに同一または異なり、０～３までの整数であり、
Ｒ^７またはＲ^８が結合していないキノリン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｊが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、
下記一般式（４）

式中、Ａｒ、ＸおよびＲ^７は前記と同じ意味を有し、
Ｒ^９は、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
ｌは０～４までの整数であり、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、
下記一般式（５）

式中、Ａｒ、Ｘ、Ｒ^７、ｌは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^１０およびＲ^１１は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１０とＲ^１１とが一緒になって環を形成していてもよく、
Ｒ^１２は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａまたは－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、または、
下記一般式（６）

式中、Ａｒ、Ｘは前記と同じ意味を有し、
Ａは、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよい、少なくとも２つの窒素原子を含む飽和または不飽和の含窒素複素環カルベンであり、
Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５，Ｒ^１６およびＲ^１７は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１８は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｓ）－ＮＲａＲｂ、Ｃ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
で表される有機イリジウム化合物存在下において、水素を供与する化合物と反応させる工程、および
反応生成物における以下の一般式（Ａ）

式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびｎは一般式（１）と同じ意味を有する、
で表される部位を酸化的に脱保護する工程、
を含むことを特徴とする、前記方法。

［２］第一級または第二級アミン化合物の製造方法であって、
下記一般式（１）

式中、Ｒ^６は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のカルボキシル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するエステル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するアミド基、Ｃ１～Ｃ２０のアシル基であり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
で表されるアルデヒドとを、
下記一般式（７）

式中、Ａｒは、１または２以上の水素原子が前期置換基Ｗで置換されていてもよい、シクロペンタジエニル基であり、
Ｘは、ヒドリド基またはアニオン性基である、
で表される有機イリジウム化合物と、
下記一般式（８）

式中、Ｒ^７およびＲ^８は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
ｊおよびｋは、互いに同一または異なり、０～３までの整数であり、
Ｒ^７またはＲ^８が結合していないキノリン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｊが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、
下記一般式（９）

式中、Ｒ^７は前記と同じ意味を有し、
Ｒ^９は、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
ｌは０～４までの整数であり、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、
下記一般式（１０）

式中、Ｒ^７およびｌは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^１０およびＲ^１１は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１０とＲ^１１とが一緒になって環を形成していてもよく、
Ｒ^１２は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａまたは－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、または
下記一般式（１１）

式中、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５，Ｒ^１６およびＲ^１７は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１８は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｓ）－ＮＲａＲｂ、Ｃ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよい、
Ａ’は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよい、少なくとも２つの窒素原子を含む飽和または不飽和の含窒素複素環カルベン前駆体であり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
Ｙはアニオン性基である、
で表される有機化合物との存在下において、水素を供与する化合物と反応させる工程、および
反応生成物における以下の一般式（Ａ）

［３］第一級および第二級アミン化合物の製造方法であって、
下記一般式（１）

式中、Ｒ^６は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のカルボキシル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するエステル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するアミド基、Ｃ１～Ｃ２０のアシル基であり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
で表されるアルデヒドから調製されたヘミアミナールエーテル、イミン、またはエナミンを、
下記一般式（３）

［４］第一級および第二級アミン化合物の製造方法であって、
下記一般式（１）

式中、Ｒ^１は、水素原子、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基であり、
Ｗは、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であり、２以上のＷは、一緒になって１または２以上の環を形成してもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、環員数６～２０のアラルキル基、環員数６～２０のヘテロアラルキル基、環員数６～２０のアルキルアリール基または環員数６～２０のアルキルヘテロアリール基であり、
Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基であり、
ｎは１または２であり、
ｎが２の場合、Ｒ^１は存在しない、で表されるアミノアルコールと、
下記一般式（２）

式中、Ｒ^６は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のカルボキシル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するエステル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するアミド基、Ｃ１～Ｃ２０のアシル基であり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
で表されるアルデヒドから調製されたヘミアミナールエーテル、イミン、またはエナミンを、
下記一般式（７）

式中、
Ａｒは、１または２以上の水素原子が前期置換基Ｗで置換されていてもよい、シクロペンタジエニル基であり、
Ｘは、ヒドリド基またはアニオン性基である、
で表される有機イリジウム化合物と、
下記一般式（８）

式中、
Ｒ^７およびｌは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^１０およびＲ^１１は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１０とＲ^１１とが一緒になって環を形成していてもよく、
Ｒ^１２は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａまたは－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、または
下記一般式（１１）

［５］一般式（１）で表されるアミノアルコールが、２－アミノエタノール、２－アミノ－１－プロパノール、２－アミノ－１－ブタノール、バリノール、フェニルグリシノールである前記［１］～［４］のいずれかに記載の方法。
［６］酸化的な脱保護を、過ヨウ素酸、過ヨウ素酸塩または四酢酸鉛を酸化剤として用いて実施する前記［１］～［５］のいずれかに記載の方法。

［７］水素を供与する化合物が、ギ酸またはギ酸塩である前記［１］～［６］のいずれかに記載の方法。

本発明によれば、特定のアミノアルコールをアミン源として、有機イリジウム錯体を触媒として用いることにより、アルデヒド化合物の還元的アミノ化反応が、過アルキル化を起こすことなく進行する。更に、特定のアミノアルコールを用いたことにより、窒素上の２－ヒドロキシエチル骨格を有する置換基が簡便な操作で酸化的に脱保護され、第一級または第二級アミン化合物を選択的に合成することができる。これにより、従来用いられてきた、アンモニア等価体や第一級アミン化合物をアミン源として用いるアルデヒド化合物の還元的アミノ化反応では困難であった、選択的な第一級または第二級アミン化合物の製造を行うことが可能となった。また、ヒドロキシルアミンをアミン源として用いるオキシムの還元反応では、反応を高圧水素雰囲気下で実施するため、耐圧釜などの特別な反応容器を必要とするのに対し、本発明により、還元反応、脱保護反応の両方に特別な反応容器を必要とせず、簡便な操作で実施することが可能となった。

本発明の製造方法の例を示す反応式である。本発明の製造方法で用いるイリジウム化合物の例を示す構造式である。

以下、本発明を、好適な実施態様に基づいて詳細に説明する。
本発明は、前記一般式（１）で表されるアミノアルコールと一般式（２）で表されるアルデヒド化合物とを、前記一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）または一般式（６）で表される有機イリジウム化合物の存在下において、水素を供与する化合物と反応させる工程、および窒素上の２－ヒドロキシエチル骨格を有する置換基を酸化的に脱保護する工程を含む、第一級または第二級アミン化合物を製造する方法である。
本発明において「窒素上の２－ヒドロキシエチル骨格を有する置換基」は前記一般式（Ａ）で表される部位を意味する。

本発明で用いられるアミノアルコールは、一般式（１）

で表される。
式中、Ｒ^１は、水素原子、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基である。
なお、本明細書において、炭化水素基とは、炭素骨格およびそれに結合する水素原子からなる基を意味し、飽和もしくは不飽和の鎖状もしくは環状の炭化水素基を含む。例えば、飽和または不飽和の鎖状炭化水素基としては、直鎖または分枝鎖アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が、飽和または不飽和の環状炭化水素としては、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルキニル基、アリール基およびこれら環状炭化水素基の１または２以上の水素原子が、飽和または不飽和の鎖状炭化水素基により置換されたもの、例えば、アラルキル基、アリールアルキル基などが挙げられる。

また、本明細書においてアルキル基、アルケニル基およびアルキニル基は、これらの直鎖または分枝鎖のものを含む。
置換基Ｗは、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基である。

また、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、環員数６～２０のアラルキル基、環員数６～２０のヘテロアラルキル基、環員数６～２０のアルキルアリール基または環員数６～２０のアルキルヘテロアリール基である。Ｒａ、ＲｂおよびＲｃの具体例としては、これに限定するものではないが、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ－ブチル基、２－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロへキシル基、シクロヘキシレン基、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、ナフチル基、ピリジル基、フラニル基、チエニル基、ピロリジル基、ピペリジル基、ベンジル基、ピリジルメチル基などが挙げられる。

Ｗの具体例としては、これに限定するものではないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ－ブチル基、２－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロへキシル基、ベンジル基、シクロヘキシレン基、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、ナフチル基、ピリジル基、フラニル基、チエニル基、ピロリジル基、ピペリジル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ベンジルオキシ基、アセチル基、プロピオニル基、シクロヘキサンカルボニル基、ベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ヒドロキシル基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、

カルバモイル基、Ｎ－メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル基、Ｎ－アセチルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－アセチルアミノ基、Ｎ－ベンゾイルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－ベンゾイルアミノ基、Ｎ－ヒドロキシルアミノ基、Ｎ－メトキシアミノ基、ニトロ基、シアノ基、ジフェニルホスフィノ基、ジシクロへキシルホスフィノ基、シクロプロピルホスフィノ基、シクロブチルホスフィノ基、シクロペンチルホスフィノ基、シクロへキシルホスフィノ基、メタンスルフェニル基、エタンスルフェニル基、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、メチルシリル基、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、フッ素基、臭素基、塩素基、ヨウ素基、トリフルオロメチル基などが挙げられる。

また、２以上のＷは、一緒になって１または２以上の環を形成してもよく、形成する環の具体例としては、これに限定するものではないが、例えばシクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタンなどのシクロアルカン、ベンゼン、ナフタレン、アントラセンなどの芳香環、インダン、テトラリンなどのアリール縮合シクロアルカン、ピロール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、チオフェン、フラン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、キノリン、ベンゾチオフェン、ベンゾフランなどのヘテロ芳香環、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ピロリジン、ピペリジン、クマラン、クロマン、インドリン、テトラヒドロキノリンなどの複素環式化合物などが挙げられ、これらの環の１または２以上の水素原子はさらに置換基Ｗによって置換されていてもよい。

Ｒ^１の具体例としては、これに限定するものではないが、例えば水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル等の直鎖または分枝鎖アルキル基、トリフルオロメチル基などのフルオロアルキル基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル等のシクロアルキル基、ビニル、アリルなどの不飽和炭化水素、ベンジルなどのアラルキル基、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、インデニル基などの単環または多環式アリール基、チエニル、フリル、ピラニル、キサンテニル、ピリジル、ピロリル、イミダゾリニル、インドリル、カルバゾイル、フェナントロニリル、ピロリジル、ピペリジルなどの単環または多環式ヘテロシクリル基などが挙げられ、好ましくは水素原子である。

Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基である。具体的には、これに限定するものではないが、例えば水素原子およびアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアラルキル、アリール並びにヘテロアリールなどの炭化水素基が挙げられる。好ましくは水素原子、飽和鎖状炭化水素基、アラルキル基、ヘテロアラルキル基、芳香族炭化水素基または複素芳香族炭化水素基であり、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、２－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ベンジル基、（１Ｈ－イミダゾール－４－イル）メチル基、（３－インドリル）メチル基またはフェニル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、およびフェニル基である。
ｎは１または２であり、ｎが２である場合、Ｒ^１は存在しないことを意味する。ｎは１であることが好ましい。

一般式（１）で表されるアミノアルコールは、より具体的には、例えば２－アミノエタノール、２－アミノ－１－プロパノール、２－アミノ－１－ブタノール、バリノール、ロイシノール、イソロイシノール、ｔｅｒｔ－ロイシノール、フェニルアラニノール、フェニルグリシノールであり、好ましくは２－アミノエタノール、２－アミノ－１－プロパノール、２－アミノ－１－ブタノール、バリノール、フェニルグリシノールである。

アルデヒド化合物は、一般式（２）

で表される。
式中、Ｒ^６は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のカルボキシル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するエステル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するアミド基、Ｃ１～Ｃ２０のアシル基である。

具体的には、これに限定するものではないが、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、へキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル等の直鎖または分枝鎖アルキル基、トリフルオロメチル基などのフルオロアルキル基、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル等のシクロアルキル基、ビニル、アリルなどの不飽和炭化水素、ベンジルなどのアラルキル基、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、インデニル基などの単環または多環式アリール基、チエニル、フリル、ピラニル、キサンテニル、ピリジル、ピロリル、イミダゾリニル、インドリル、カルバゾイル、フェナントロニリル、ピロリジル、ピペリジルなどの単環または多環式ヘテロシクリル基、フェロセニル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などのエステル基、カルバモイル基、Ｎ－メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル基などのアミド基、アセチル基、ベンゾイル基などのアシル基などが挙げられる。好ましくは前記置換基Ｗを有していてもよい、分枝鎖アルキル基、アリール基、ヘテロシクリル基である。

また、本発明は、一般式（１）で表されるアミノアルコールと一般式（２）で表されるアルデヒドから調製されたヘミアミナールエーテル、イミン、またはエナミンを、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）または一般式（６）で表される有機イリジウム化合物存在下において、水素を供与する化合物と反応させた後、窒素上の２－ヒドロキシエチル骨格を有する置換基を酸化的に脱保護して、第一級または第二級アミン化合物を製造してもよい。
ヘミアミナールエーテル、イミンまたはエナミンは、前述の一般式（１）で表されるアミノアルコールと一般式（２）で表されるアルデヒド化合物を原料として、系中で生成または独立して合成したものであってもよい。

本発明で用いられる有機イリジウム化合物は、本法において触媒として機能するものである。有機イリジウム化合物は、一般式（３）

で表される。
上記一般式（３）中、Ａｒは、１または２以上の水素原子が前期置換基Ｗで置換されていてもよい、シクロペンタジエニル基である。

Ａｒの具体例としては、これに限定するものではないが、例えば無置換のシクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニル基、イソプロピルシクロペンタジエニル基、フェニルシクロペンタジエニル基、ベンジルシクロペンタジエニル基、１，２－ジメチルシクロペンタジエニル基、１，３－ジメチルシクロペンタジエニル基、１，２，３－トリメチルシクロペンタジエニル基、１，２，４－トリメチルシクロペンタジエニル基、１，２，３，４－テトラメチルシクロペンタジエニル基、１，２，３，４，５－ペンタメチルシクロペンタジエニル基（Ｃｐ^＊）、１，２，３，４，５－ペンタフェニルシクロペンタジエニル基などが挙げられる。これらの内、好ましくは１，２，３，４，５－ペンタメチルシクロペンタジエニル基（Ｃｐ^＊）および１，２，３，４，５－ペンタフェニルシクロペンタジエニル基である。

Ｘは、ヒドリド基またはアニオン性基である。Ｘの具体例としては、これに限定するものではないが、例えば、ヒドリド基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、架橋したオキソ基、フッ素基、塩素基、臭素基、ヨウ素基、テトラフルオロボラート基、テトラヒドロボラート基、テトラキスペンタフルオロフェニルボラート基、テトラキス［３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボラート基、ヘキサフルオロホスフェート基、ヘキサフルオロアンチモネート基、ヘキサクロロアンチモネート基、ヘキサフルオロアーセネート基、パークロレート基、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、（２，６－ジヒドロキシベンゾイル）オキシ基、（２，５－ジヒドロキシベンゾイル）オキシ基、（３－アミノベンゾイル）オキシ基、（２，６－ジメトキシベンゾイル）オキシ基、（２，４，６－トリイソプロピルベンゾイル）オキシ基、

１－ナフタレンカルボン酸基、２－ナフタレンカルボン酸基、トリフルオロアセトキシ基、トリフルオロメタンスルホンイミド基、ニトロメチル基、ニトロエチル基、トルエンスルホナート基、メタンスルホナート基、エタンスルホナート基、ｎ－プロパンスルホナート基、イソプロパンスルホナート基、ｎ－ブタンスルホナート基、フルオロスルホナート基、フルオロメタンスルホナート基、ジフルオロメタンスルホナート基、トリフルオロメタンスルホナート基、ペンタフルオロエタンスルホナート基、ホスフェート基、（Ｓ）－２,２′－ジヒドロキシ－１,１′－ビナフチルホスフェート基、（Ｒ）－２,２′－ジヒドロキシ－１,１′－ビナフチルホスフェート基などが挙げられる。これらの内、好ましくはヒドリド基、塩素基、臭素基、ヨウ素基、テトラフルオロボラート基、テトラヒドロボラート基またはトリフルオロメタンスルホナート基である。

また、Ｉｒにはヒドリド基またはアニオン性基であるＸ以外に、配位性の中性分子が配位していてもよい。Ｉｒに配位する中性分子の具体例としては、水やメタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、２－プロパノールあるいは２－メトキシエタノールなどのアルコール類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテルあるいはｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテルなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトン、クロロホルム、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ピリジン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィンあるいはトリシクロヘキシルホスフィンなどのトリアルキルホスフィンまたはトリフェニルホスフィンなどのトリアリールホスフィンが挙げられる。このような中性分子は配位するとカチオン性錯体を形成し、これによりアニオン性基はカウンターアニオンとして存在することとなる。

Ｒ^７およびＲ^８は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよい。

Ｒ^７およびＲ^８は複数個導入されていてもよく、置換数ｊおよびｋは、互いに同一または異なり、０～３までの整数であり、ここでｊが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよく、例えばフェナントリジン環、アクリジン環などを形成してもよい。さらに、Ｒ^７またはＲ^８が結合していないキノリン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、例えばナフチリジン環、キノキサリン環、シンノリン環、キナゾリン環、フタラジン環などを形成してもよい。

Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、Ｒ^７およびＲ^８の具体例としては、これに限定するものではないが、例えば、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ－ブチル基、２－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロへキシル基、シクロヘキシレン基、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、ナフチル基、ピリジル基、フラニル基、チエニル基、ピロリジル基、ピペリジル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ベンジルオキシ基、アセチル基、プロピオニル基、シクロヘキサンカルボニル基、ベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ヒドロキシル基、

メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、カルバモイル基、Ｎ－メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル基、Ｎ－アセチルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－アセチルアミノ基、Ｎ－ベンゾイルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－ベンゾイルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、ジフェニルホスフィノ基、ジシクロへキシルホスフィノ基、シクロプロピルホスフィノ基、シクロブチルホスフィノ基、シクロペンチルホスフィノ基、シクロへキシルホスフィノ基、メタンスルフェニル基、エタンスルフェニル基、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、メチルシリル基、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、

フッ素基、臭素基、塩素基、ヨウ素基、トリフルオロメチル基などが挙げられる。Ｒ^７およびＲ^８は、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、フェニル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ベンジルオキシ基、ヒドロキシル基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、フッ素基、トリフルオロメチル基であり、特に好ましくは、水素原子、メチル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、ヒドロキシル基、ジメチルアミノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基である。

また、本発明で用いられる有機イリジウム化合物は、一般式（４）

で表される。
式中、Ａｒ、ＸおよびＲ^７は前記と同じ意味を有する。

Ｒ^７は複数個導入されていてもよく、置換数ｌは０～４までの整数であり、ここでｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよく、例えばキノリン環、イソキノリン環などを形成してもよい。さらに、Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、例えばピリダジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環などを形成してもよい。

Ｒ^９は、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよい。

Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、Ｒ^９の具体例としては、これに限定するものではないが、例えば水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ－ブチル基、２－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロへキシル基、シクロヘキシレン基、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、ジエチルフェニル基、ジイソプロピルフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－ジメチルアミノフェニル基、４－ヒドロキシフェニル基、ナフチル基、ピリジル基、フラニル基、チエニル基、ピロリジル基、ピペリジル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ベンジルオキシ基、アセチル基、プロピオニル基、シクロヘキサンカルボニル基、ベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ヒドロキシル基、

メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、カルバモイル基、Ｎ－メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル基、Ｎ－アセチルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－アセチルアミノ基、Ｎ－ベンゾイルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－ベンゾイルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、ジフェニルホスフィノ基、ジシクロへキシルホスフィノ基、シクロプロピルホスフィノ基、シクロブチルホスフィノ基、シクロペンチルホスフィノ基、シクロへキシルホスフィノ基、メタンスルフェニル基、エタンスルフェニル基、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、メチルシリル基、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、フッ素基、臭素基、塩素基、ヨウ素基、トリフルオロメチル基などが挙げられる。

好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、ジイソプロピルフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－ジメチルアミノフェニル基、４－ヒドロキシフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－シアノフェニル基、４－フルオロフェニル基、４－ニトロフェニル基であり、特に好ましくは、水素原子、メチル基、フェニル基、ｐ－トルイル基、２，６－キシリル基、２，６－ジイソプロピルフェニル基、４－メトキシフェニル基、４－ジメチルアミノフェニル基、４－ヒドロキシフェニル基、４－トリフルオロメチルフェニル基、４－ニトロフェニル基である。

本発明で用いられる有機イリジウム化合物は、一般式（５）

で表される。
式中、Ａｒ、Ｘ、Ｒ^７、ｌは前記と同じ意味を有する。

Ｒ^７は複数個導入されていてもよく、置換数ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよく、例えばキノリン環、イソキノリン環などを形成してもよい。さらに、Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、例えばピリダジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環などを形成してもよい。

Ｒ^１０およびＲ^１１は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよい。

Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、Ｒ^１０およびＲ^１１の具体例としては、これに限定するものではないが、例えば水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ－ブチル基、２－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロへキシル基、２，６－ジメチルシクロヘキシル基、２，２，６，６－テトラメチルシクロヘキシル基、シクロヘキシレン基、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、メシチル基、

ペンタメチルフェニル基、４－メトキシフェニル基、３，５－ジメトキシフェニル基、２，６－ジメトキシフェニル基、４－ジメチルアミノフェニル基、４－ヒドロキシフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、インデニル基、ピリジル基、フラニル基、チエニル基、ピロリジル基、ピペリジル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ベンジルオキシ基、アセチル基、プロピオニル基、シクロヘキサンカルボニル基、ベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ヒドロキシル基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、

カルバモイル基、Ｎ－メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル基、Ｎ－アセチルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－アセチルアミノ基、Ｎ－ベンゾイルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－ベンゾイルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、ジフェニルホスフィノ基、ジシクロへキシルホスフィノ基、シクロプロピルホスフィノ基、シクロブチルホスフィノ基、シクロペンチルホスフィノ基、シクロへキシルホスフィノ基、メタンスルフェニル基、エタンスルフェニル基、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、メチルシリル基、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、

フッ素基、臭素基、塩素基、ヨウ素基、トリフルオロメチル基などが挙げられる。好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロへキシル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、メシチル基、ペンタメチルフェニル基、４－メトキシフェニル基、３，５－ジメトキシフェニル基、２，６－ジメトキシフェニル基、４－ジメチルアミノフェニル基、４－ヒドロキシフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、インデニル基であり、特に好ましくは、水素原子、メチル基、イソプロピル基、フェニル基、ｐ－トルイル基、３，５－キシリル基、２，６－キシリル基、２，４，６－メシチル基、ペンタメチルフェニル基である。Ｒ^１０とＲ^１１とは一緒になって環を形成していてもよい。

Ｒ^１２は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａまたは－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよい。Ｒ^１２の具体例としては、これに限定するものではないが、例えば、メタンスルホニル基（Ｍｓ）、エタンスルホニル基（Ｅｓ）、ｎ－プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ｎ－ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｎ－ペンチルスルホニル基、シクロペンチルスルホニル基、１－オクタンスルホニル基、１－ヘキサデカンスルホニル基、ｏ－トルエンスルホニル基、ｍ－トルエンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基（Ｔｓ）、ベンゼンスルホニル基、２，６－ジメチルベンゼンスルホニル基、３，５－ジメチルベンゼンスルホニル基、２，４，６－トリメチルベンゼンスルホニル基、２，４，６－トリイソプロピルベンゼンスルホニル基、

４－シアノベンゼンスルホニル基、２－ニトロベンゼンスルホニル基、３－ニトロベンゼンスルホニル基、４－ニトロベンゼンスルホニル基、２，４－ジニトロベンゼンスルホニル基、２－（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホニル基、４－（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホニル基、３，５－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホニル基、４－クロロベンゼンスルホニル基、２，４－ジクロロベンゼンスルホニル基、４－フルオロベンゼンスルホニル基、３，４，５－トリフルオロベンゼンスルホニル基、２，３，４，５，６－ペンタフルオロベンゼンスルホニル基、４－メトキシベンゼンスルホニル基、（＋）－１０－カンファースルホニル基、（－）－１０－カンファースルホニル基、ピリジン－３－スルホニル基、トリクロロメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、２，２，２－トリフルオロエタンスルホニル基、４－ヒドロキシベンゼンスルホニル基、４－ビフェニルベンゼンスルホニル基、ベンジルスルホニル基（－ＳＯ_２Ｂｎ）、

アセチル基、プロピオニル基、イソプロピルカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、３，３，３－トリフルオロプロピオニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ）、フェノキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ－メチルカルバモイル基、Ｎ－エチルカルバモイル基、Ｎ－イソプロピルカルバモイル基、Ｎ－ｔｅｒｔ－ブチルカルボニル基、Ｎ－トリフルオロメチルカルバモイル基、Ｎ－フェニルカルバモイル基、Ｎ－（４－フルオロフェニル）カルバモイル基、Ｎ－（４－シアノフェニル）カルバモイル基、Ｎ－（４－ニトロフェニル）カルバモイル基、Ｎ－（４－トリフルオロメチルフェニル）カルバモイル基、Ｎ－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）カルバモイル基、Ｎ－（３，５－ジフルオロフェニル）カルバモイル基、Ｎ－（３，４，５－トリフルオロフェニル）カルバモイル基などが挙げられ、好ましくは、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンジルスルホニル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、Ｎ－フェニルカルバモイル基であり、特に好ましくはメタンスルホニル基である。

さらに、本発明で用いられる有機イリジウム化合物は、一般式（６）

で表せられる。
式中、Ａｒ、Ｘは前記と同じ意味を有し、

Ａは、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよい、少なくとも２つの窒素原子を含む飽和または不飽和の含窒素複素環カルベンである。
Ａを構成する複素環は、少なくともカルベン構造を有する複素環を含んで構成される。カルベン構造を有する複素環は、環員として２つの窒素原子と１以上の炭素原子を含み、２つの窒素原子が１つの炭素原子を挟み、当該炭素原子がカルベン構造を形成するように構成される。これにより、Ａは、カルベン配位子としてＩｒに配位することができる。
Ａは、単環式基であってもよいし、多環式基であってもよい。
Ａが単環式基である場合、Ａは、上述したカルベン構造を有する複素環のみを環構造として有する複素単環式基である。
一方で、Ａが多環式基である場合、Ａは、上述したカルベン構造を有する複素環に加え、さらに１または２以上の環を含む。この場合、それぞれの環は、スピロ結合または縮合により互いに結合するか、他の環を架橋することにより形成されることができる。好ましくは、それぞれの環は、縮合により互いに結合している。

カルベン構造を有する複素環は、飽和または不飽和であることができる。
また、カルベン構造を有する複素環は、２つの窒素原子と１以上の炭素原子を含んで構成されるが、環員原子としてさらに１以上のヘテロ原子を含んでいてもよい。このようなヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が挙げられる。
カルベン構造を有する複素環としては、これに限定されないが、例えば、イミダゾール環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環、１，２，４－トリアゾール環、テトラゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサゾリジン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアゾリジン環等のカルベン化した環が挙げられる。特に、Ａが、カルベン構造を有する複素環として、イミダゾール環、イミダゾリン環またはイミダゾリジン環を含んで構成される単環または多環式カルベンであることが好ましい。

また、Ａ中のカルベン構造を有する複素環以外の環は、それぞれ、飽和または不飽和であることができる。
また、Ａ中のカルベン構造を有する複素環以外の環は、それぞれ、炭化水素環であってもよいし、複素環であってもよい。複素環である場合、当該環は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選択される１または２以上のヘテロ原子を含む。
また、Ａを構成する各環の環員数は、これに限定するものではないが、例えば、４～８であり、好ましくは４～６である。特に、カルベン構造を有する複素環の環員数は、好ましくは４～６であり、より好ましくは５である。

Ａの具体例としては、例えば、イミダゾール環、１，２，４－トリアゾール環、テトラゾール環などの単環式複素芳香族環、イミダゾリン環、イミダゾリジン環などの単環式複素非芳香族環、ベンゾイミダゾール環、プリン環、プテリジン環などの多環式複素芳香族環などのカルベン化した環が挙げられる。
上述した中でも、反応性、および、触媒活性の観点から、イミダゾール環、イミダゾリン環のカルベン化した環が好ましく、イミダゾール環のカルベン化した環がより好ましい。

Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６およびＲ^１７は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよい。

Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６およびＲ^１７の具体例としては、これに限定するものではないが、例えば水素原子、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ－ブチル基、２－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、シクロペンチル基、ｎ－ヘキシル基、シクロへキシル基、２，６－ジメチルシクロヘキシル基、２，２，６，６－テトラメチルシクロヘキシル基、シクロヘキシレン基、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、メシチル基、ペンタメチルフェニル基、４－メトキシフェニル基、３，５－ジメトキシフェニル基、２，６－ジメトキシフェニル基、４－ジメチルアミノフェニル基、４－ヒドロキシフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、インデニル基、ピリジル基、フラニル基、チエニル基、ピロリジル基、ピペリジル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ベンジルオキシ基、アセチル基、プロピオニル基、シクロヘキサンカルボニル基、ベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、

ヒドロキシル基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ－プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジｎ－プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、カルバモイル基、Ｎ－メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル基、Ｎ－アセチルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－アセチルアミノ基、Ｎ－ベンゾイルアミノ基、Ｎ－メチル－Ｎ－ベンゾイルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、ジフェニルホスフィノ基、ジシクロへキシルホスフィノ基、シクロプロピルホスフィノ基、シクロブチルホスフィノ基、シクロペンチルホスフィノ基、シクロへキシルホスフィノ基、メタンスルフェニル基、エタンスルフェニル基、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、メチルシリル基、ジメチルシリル基、トリメチルシリル基、フッ素基、臭素基、塩素基、ヨウ素基、トリフルオロメチル基などが挙げられる。

好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロへキシル基、フェニル基、トルイル基、キシリル基、メシチル基、ペンタメチルフェニル基、４－メトキシフェニル基、３，５－ジメトキシフェニル基、２，６－ジメトキシフェニル基、４－ジメチルアミノフェニル基、４－ヒドロキシフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、インデニル基であり、特に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、フェニル基、ｐ－トルイル基、３，５－キシリル基、２，６－キシリル基、２，４，６－メシチル基、ペンタメチルフェニル基である。

Ｒ^１８は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｓ）－ＮＲａＲｂ、Ｃ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよい。Ｒ^１８の具体例としては、これに限定するものではないが、例えば、メタンスルホニル基（Ｍｓ）、エタンスルホニル基（Ｅｓ）、ｎ－プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ｎ－ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｎ－ペンチルスルホニル基、シクロペンチルスルホニル基、１－オクタンスルホニル基、１－ヘキサデカンスルホニル基、ｏ－トルエンスルホニル基、ｍ－トルエンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基（Ｔｓ）、ベンゼンスルホニル基、２，６－ジメチルベンゼンスルホニル基、３，５－ジメチルベンゼンスルホニル基、２，４，６－トリメチルベンゼンスルホニル基、２，４，６－トリイソプロピルベンゼンスルホニル基、４－シアノベンゼンスルホニル基、２－ニトロベンゼンスルホニル基、３－ニトロベンゼンスルホニル基、４－ニトロベンゼンスルホニル基、２，４－ジニトロベンゼンスルホニル基、２－（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホニル基、４－（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホニル基、３，５－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホニル基、４－クロロベンゼンスルホニル基、２，４－ジクロロベンゼンスルホニル基、４－フルオロベンゼンスルホニル基、３，４，５－トリフルオロベンゼンスルホニル基、２，３，４，５，６－ペンタフルオロベンゼンスルホニル基、４－メトキシベンゼンスルホニル基、（＋）－１０－カンファースルホニル基、（－）－１０－カンファースルホニル基、ピリジン－３－スルホニル基、トリクロロメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、２，２，２－トリフルオロエタンスルホニル基、４－ヒドロキシベンゼンスルホニル基、４－ビフェニルベンゼンスルホニル基、ベンジルスルホニル基（－ＳＯ_２Ｂｎ）、

アセチル基、プロピオニル基、イソプロピルカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、３，３，３－トリフルオロプロピオニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ）、フェノキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ－メチルカルバモイル基、Ｎ－エチルカルバモイル基、Ｎ－イソプロピルカルバモイル基、Ｎ－ｔｅｒｔ－ブチルカルボニル基、Ｎ－トリフルオロメチルカルバモイル基、Ｎ－フェニルカルバモイル基、Ｎ－（４－フルオロフェニル）カルバモイル基、Ｎ－（４－シアノフェニル）カルバモイル基、Ｎ－（４－ニトロフェニル）カルバモイル基、Ｎ－（４－トリフルオロメチルフェニル）カルバモイル基、Ｎ－（３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル）カルバモイル基、Ｎ－（３，５－ジフルオロフェニル）カルバモイル基、Ｎ－（３，４，５－トリフルオロフェニル）カルバモイル基、チオカルバモイル基、Ｎ－メチルチオカルバモイル基、Ｎ－フェニルチオカルバモイル基、

トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、フェニル基、４－ニトロフェニル基、４－シアノフェニル基、４－フルオロフェニル基、３，５－ジフルオロフェニル基、３、４，５－トリフルオロフェニル基、４－（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、ペンタフルオロフェニル基などが挙げられ、好ましくは、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ｐ－トルエンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンジルスルホニル基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、Ｎ－フェニルカルバモイル基である。

上述した各置換基の内、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７およびＲ^１８からなる群から選択される２以上の基は、一緒になって１または２以上の環を形成していてもよい。このようにして形成される環としては特に限定されないが、例えば、シクロアルカン環、シクロアルケン環、シクロアルキン環、芳香族環、ヘテロ環、環状ケトン、ラクトン環、ラクタム環、カルバミン酸エステル環、尿素環、チオ尿素環等が挙げられる。また、これらの基の１または２以上の水素原子は前記置換基Ｗで置換されていてもよい。これらの環の環員数としては、特に限定されないが、例えば３～２０、好ましくは、３～１２、より好ましくは４～８とすることができる。

このような環の具体例としては、特に限定されないが、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロペンタノン環、シクロヘキサノン環、シクロヘプタノン環、シクロオクタノン環、ベンゼン環、ピラン環、フラン環、ピロール環、イミダゾリン環、イミダゾール環、イミダゾリジン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、β－ラクタム、γ－ラクタム、δ－ラクタム、２－オキサゾリジノン環、２－イミダノリジノン環、テトラヒドロ－２－ピリミジノン環、２－イミダゾリジチオン環、テトラヒドロ－２－ピリミジンチオン環等が挙げられる。

特に、Ｒ^１６および／またはＲ^１７とＲ^１８が、すなわち、Ｒ^１６とＲ^１８、Ｒ^１７とＲ^１８またはＲ^１６とＲ^１７とＲ^１８が、一緒になって環を形成していることが好ましい。このような場合、形成される環は、好ましくは、ラクタム環、ヘテロ環、カルバミン酸エステル環、尿素環、チオ尿素環であり、より好ましくは、γ－ラクタム、２－オキサゾリジノン環、２－イミダゾリジノン環、テトラヒドロ－２－ピリミジノン環、２－イミダゾリジチオン環、テトラヒドロ－２－ピリミジンチオン環である。

本発明では、前述の一般式（１）で表されるアミノアルコールと一般式（２）で表されるアルデヒド化合物とを、後述する一般式（７）で表される有機イリジウム化合物と、一般式（８）、一般式（９）、一般式（１０）または一般式（１１）で表される有機化合物存在下において、水素を供与する化合物と反応させた後、窒素上の２－ヒドロキシエチル骨格を有する置換基を酸化的に脱保護することにより、第一級または第二級アミン化合物を製造することも可能である。

さらに、前述の一般式（１）で表されるアミノアルコールと一般式（２）で表されるアルデヒド化合物から調製されたヘミアミナールエーテル、イミンまたはエナミンを、後述する一般式（７）で表される有機イリジウム化合物と、一般式（８）、一般式（９）、一般式（１０）または一般式（１１）で表される有機化合物存在下において、水素を供与する化合物と反応させた後、窒素上の２－ヒドロキシエチル骨格を有する置換基を酸化的に脱保護することにより、第一級または第二級アミン化合物を製造することも可能である。
すなわち、一般式（７）で表される有機イリジウム化合物と、一般式（８）、一般式（９）、一般式（１０）または一般式（１１）で表される有機化合物が、反応系内でそれぞれ一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）または一般式（６）に相当する有機イリジウム化合物を形成し、触媒として機能するものである。

本発明で用いられる有機イリジウム化合物は一般式（７）

で表され、Ａｒ、Ｘは前記と同じ意味を有する。
本発明で用いられる有機化合物は、一般式（８）、

一般式（９）、

一般式（１０）、

または一般式（１１）

で表される。

これらの式中、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、ｊ、ｋ、ｌは前記と同じ意味を有する。
Ａ’は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよい、少なくとも２つの窒素原子を含む飽和または不飽和の含窒素複素環カルベン前駆体であり、２つの窒素原子で挟まれた炭素原子上のプロトンが脱離することにより、前述した飽和または不飽和の含窒素複素環カルベンＡとなる。すなわち、Ａ’は、前述したＡにおけるカルベンを、カルベン前駆体へ読み替えたものと同じ意味を有する。

Ｙは、アニオン性基であり、具体例としては、これに限定するものではないが、例えば、フッ素基、塩素基、臭素基、ヨウ素基、テトラフルオロボラート基、テトラヒドロボラート基、テトラキスペンタフルオロフェニルボラート基、テトラキス［３，５－ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボラート基、ヘキサフルオロホスフェート基、ヘキサフルオロアンチモネート基、ヘキサクロロアンチモネート基、ヘキサフルオロアーセネート基、パークロレート基、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、（２，６－ジヒドロキシベンゾイル）オキシ基、（２，５－ジヒドロキシベンゾイル）オキシ基、（３－アミノベンゾイル）オキシ基、（２，６－ジメトキシベンゾイル）オキシ基、（２，４，６－トリイソプロピルベンゾイル）オキシ基、１－ナフタレンカルボン酸基、２－ナフタレンカルボン酸基、トリフルオロアセトキシ基、トリフルオロメタンスルホンイミド基、トルエンスルホナート基、メタンスルホナート基、エタンスルホナート基、ｎ－プロパンスルホナート基、イソプロパンスルホナート基、ｎ－ブタンスルホナート基、フルオロスルホナート基、フルオロメタンスルホナート基、ジフルオロメタンスルホナート基、トリフルオロメタンスルホナート基、ペンタフルオロエタンスルホナート基、ホスフェート基、（Ｓ）－２,２′－ジヒドロキシ－１,１′－ビナフチルホスフェート基、（Ｒ）－２,２′－ジヒドロキシ－１,１′－ビナフチルホスフェート基などが挙げられる。これらの内、好ましくは塩素基、臭素基、ヨウ素基、テトラフルオロボラート基、テトラヒドロボラート基、ｐ－トルエンスルホナート基、メタンスルホナート基、またはトリフルオロメタンスルホナート基である。

本発明における水素を供与する化合物は、熱的作用によって、または触媒作用によって水素を供与することのできる化合物を意味しており、このような水素供与性の化合物については特にその種類に限定されない。好適な水素を供与する化合物としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、イソブチルアルコール、１－ペンタノール、シクロペンチルアルコール、１－へキサノール、シクロへキシルアルコール、ベンジルアルコール、ギ酸、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、ギ酸リチウム、ギ酸アンモニウムなどが挙げられ、単独または複数種組み合わせて用いることができる。反応性や経済性という点で、好ましくはギ酸、ギ酸塩、メタノール、エタノール、２－プロパノールである。

用いられる水素を供与する化合物の量は、アルデヒド化合物に対し、１～３０当量で用いることができるが、反応性や経済性の点から、好ましくは１～１０当量で用いる。水素を供与する化合物としてギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、ギ酸リチウム、ギ酸アンモニウムなどのギ酸塩を用いる場合は、必要に応じて相間移動触媒を添加して反応を実施してもよい。用い得る相間移動触媒としては、長鎖アルキルアンモニウムカチオンを有する塩であれば何でもよいが、反応性や経済性の点から好ましくはテトラブチルアンモニウム塩である。相間移動触媒の添加によっては、多くの場合、反応速度が向上する効果が認められる。添加する相間移動触媒の量としては、アルデヒド化合物に対して通常０．００１～１０モル当量の範囲で用いるが、反応性や経済性の点から好ましくは０．０１～０．１モル当量用いるのが望ましい。

用いられるアミノアルコールの量は、アルデヒド化合物に対し、通常１～３０当量で用いることができるが、反応性や経済性の点から好ましくは１～１０当量で用いる。また、アミノアルコール塩としても用いることができる。

用いられる有機イリジウム化合物の量は、有機イリジウム化合物に対するアルデヒド化合物の物質量比をＳ／Ｃ（基質／触媒モル比）で表記すると、アルデヒド化合物の構造、有機イリジウム化合物の種類、濃度、反応温度、水素を供与する化合物の種類などによって大きく変動するが、Ｓ／Ｃ＝１０～１０，０００，０００の範囲で、好ましくはＳ／Ｃ＝１００～１，０００，０００の範囲で用いることができる。

本発明における第一工程の反応である、アミノアルコールとアルデヒド化合物との反応、またはヘミアミナールエーテル、イミンもしくはエナミンの反応においては、基質や生成物、有機イリジウム化合物、水素を供与する化合物の物理的性質や化学的性質を考慮し、適宜反応溶媒を用いることができる。プロトン性溶媒、非プロトン性溶媒、イオン性液体、水および緩衝液を単独で、もしくは複数組み合わせて用いることができる。反応性、経済性の面で、好ましくは水、メタノール、エタノール、２－プロパノール、エチレングリコール、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン、ｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、アセトニトリル、トルエン、クロロホルム、塩化メチレンである。

第一工程の反応温度は、基質や生成物の溶解度、反応性、および経済性を考慮して、好ましくは－２０℃～１００℃程度で実施することができるが、さらに好ましくは２０℃～８０℃である。反応時間は、Ｓ／Ｃ、基質濃度、温度などの反応条件によって異なるが、数分から１００時間で反応が完結する。

本発明における第二工程の反応である、窒素上の２－ヒドロキシエチル骨格を有する置換基、すなわち第一工程の反応生成物における下記一般式（Ａ）

式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびｎは一般式（１）と同じ意味を有する、で表される部位、の酸化的な脱保護反応は、２－アミノ－１－エタノール骨格の炭素炭素結合が酸化開裂した後、加水分解することによって達成される。この反応を駆動する酸化剤としては、１，２－ジオール類の酸化開裂で用いられる酸化剤を使用することができ、特にその種類に限定されないが、例えば、過ヨウ素酸、過ヨウ素酸ナトリウム、過ヨウ素酸カリウム、過ヨウ素酸アンモニウムなどの過ヨウ素酸塩、四酢酸鉛、（ジアセトキシヨード）ベンゼンやＤｅｓｓ－Ｍａｒｔｉｎペルヨージナンなどの超原子価ヨウ素化合物、次亜塩素酸ナトリウムなどを単独で、もしくは複数組み合わせて用いることができる。反応性、経済性を考慮して、好ましくは過ヨウ素酸、過ヨウ素酸塩、四酢酸鉛、Ｄｅｓｓ－Ｍａｒｔｉｎペルヨージナンである。

用いられる酸化剤の量は、アルデヒド化合物に対して１～３０当量で用いることができるが、反応性や経済性の点から、好ましくは１～１０当量で用いる。

第二工程においても、基質や生成物、酸化剤の物理的性質や化学的性質を考慮し、適宜反応溶媒を用いることができる。特に用いた酸化剤の性質によって使い分けるのが好ましく、プロトン性溶媒、非プロトン性溶媒、イオン性液体、水および緩衝液を単独で、もしくは複数組み合わせて用いることができる。

第二工程の反応温度も、基質や生成物、酸化剤の物理的性質、化学的性質、反応性、および経済性を考慮して、適宜選択される。特に用いた酸化剤の性質に応じて選択するのが好ましい。通常－７８℃～１００℃程度で実施することができる。反応時間は、酸化剤の性質、量、基質濃度、温度などの反応条件によって異なるが、数分から１００時間で反応が完結する。

生成した第一級または第二級アミン化合物の精製は、酸－塩基抽出、カラムクロマトグラフィー、蒸留、塩化、再結晶等の公知の方法により、または適宜それらの組み合わせにより行なうことができる。
また、上記反応の反応形式は、特に限定されず、バッチ式、連続式あるいはフロー反応装置のいずれにおいても実施することができる。

以下、実施例を示しさらに詳しく本発明について説明する。もちろん、本発明は以下の実施例によって限定されるものではない。なお、下記の実施例において、反応に使用した基質、触媒、反応剤、溶媒などは、特に記載のない限り試薬購入品を用いた。
また、ＮＭＲは、ＪＮＭ－ＥＣＸ４００Ｐ（４００ＭＨｚ，日本電子）を用いて測定した。^１Ｈ－ＮＭＲはテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を内部標準物質に用い、その信号をδ＝０（δは化学シフト）とした。
ＧＣは、７８９０Ｂ（ＡｇｉｌｅｎｔＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ）を用いて測定した。カラムはＨＰ－５（３０ｍ×０．３２ｍｍ×０．２５μｍ，ＡｇｉｌｅｎｔＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ）を用いた。
Ｃｐ^＊ＩｒＣｌ（Ｎ－（４－ジメチルアミノフェニル）－４－ジメチルアミノピリジン－２－カルボン酸アミダート）（Ｉｒ－ＰＡ）、Ｃｐ^＊ＩｒＣｌ（８－キノリノラート）（Ｉｒ－ＱＮ１）およびＣｐ^＊ＩｒＣｌ（４－ジメチルアミノ－８－キノリノラート）（Ｉｒ－ＱＮ２）は、試薬を購入し、使用した。
Ｃｐ^＊ＩｒＣｌ（Ｎ－（（２，４，６－メシチル）（２－ピリジル）メチル）メタンスルホンアミダート）（Ｉｒ－ＰＳＡ）およびＣｐ^＊ＩｒＣｌ（５－（（３，４，５－トリエチル－４－イミダゾリン－２－イリデン－1－イル）メチル）－１－ピロリジナート－２－オン）（Ｉｒ－ＣＡ）は、それぞれ特許第６２２７８８９号および特許第６２５４８１１号に記載の方法を参考に合成した。

［比較例１］４－メトキシベンジルアミンのシアノ水素化ホウ素ナトリウムによる合成
アルゴン置換したシュレンク管に、パラアニスアルデヒド（０．１３６ｇ，１ｍｍｏｌ）、酢酸アンモニウム（１．９３ｇ，２５ｍｍｏｌ）、２８％アンモニア水（８ｍＬ）、エタノール（２０ｍＬ）を仕込んだ。シアノ水素化ホウ素ナトリウム（０．１８６ｇ，３ｍｍｏｌ）を加えて、反応液を還流温度で１９時間攪拌した。反応液に約５％水酸化ナトリウム水溶液を加えて攪拌し、塩化メチレンで３回抽出した。塩化メチレン相を合わせて水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して生成物を得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、目的の４－メトキシベンジルアミンは４６％しか生成しておらず、残りは二量体および三量体であった。

［比較例２］Ｎ－メチル－４－メトキシベンジルアミンのナトリウムトリアセトキシボロヒドリドによる合成
アルゴン置換したシュレンク管に、パラアニスアルデヒド（０．６８１ｇ，５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２５ｍＬ）を仕込んだ。ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド（１．５９ｇ，７．５ｍｍｏｌ）を加えて、反応液を室温付近で２０時間攪拌した。反応液に約５％水酸化ナトリウム水溶液を加えて攪拌し、ジエチルエーテルで２回抽出した。ジエチルエーテル相を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して生成物を得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、目的のＮ－メチル－４－メトキシベンジルアミンは６４％しか生成しておらず、残りは二量体であった。

［比較例３］パラアニスアルデヒドとアンモニア等価体との触媒的還元的アミノ化反応
Ｉｒ－ＰＡ（１．２９ｍｇ，２μｍｏｌ）、ギ酸アンモニウム（３．７８ｇ，６０ｍｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール（２０ｍＬ）、パラアニスアルデヒド（２．７３ｇ，２０ｍｍｏｌ）、酢酸（２．３ｍＬ，４０ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で１８時間激しく攪拌した。反応液に水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、ジエチルエーテルで抽出した。ジエチルエーテル相を水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、生成物を得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、４－メトキシベンジルアミンは全く生成しておらず、二量体および三量体が生成していた。

［実施例１］Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－４－メトキシベンジルアミンの合成
Ｉｒ－ＰＡ（０．５３ｍｇ，０．８２３μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール（４１ｍＬ）、パラアニスアルデヒド（５．６０ｇ，４１．１ｍｍｏｌ）、２－アミノエタノール（３．０２ｇ，４９．４ｍｍｏｌ）、ギ酸（５．６８ｇ，１２３ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２４時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去した後、約１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物６．８８ｇを得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、９９％のＮ－（２－ヒドロキシエチル）－４－メトキシベンジルアミンが、収率９２％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ２．０（ｂｒ，１Ｈ），２．７９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．６４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），３．７４（ｓ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），６．８７（ｍ，２Ｈ），７．２３（ｍ，２Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ５０．４，５２．９，５５．３，１１３．８，１２９．３，１３２．２，１５８．７．

［実施例２］４－メトキシベンジルアミンの合成
アルゴン置換した４つ口フラスコに、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－４－メトキシベンジルアミン（５．７１ｇ，３１．５ｍｍｏｌ）を仕込んだ。メタノール９５ｍＬ、水９５ｍＬ、４０％メチルアミン水溶液３２ｍＬ、過ヨウ素酸ナトリウム（１７．５ｇ，８１．９ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１８時間激しく攪拌した。不溶物をろ別し、メタノールで洗浄した後、メタノールを減圧下留去した。５％水酸化ナトリウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物３．７５ｇを得た。ＮＭＲ分析により、４－メトキシベンジルアミンが、収率８７％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．５（ｂｒ，２Ｈ），３．８０（ｓ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），６．８７（ｍ，２Ｈ），７．２３（ｍ，２Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ４５．９，５５．３，１１３．９，１２８．２，１３５．６，１５８．４．

［実施例３］Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）ベンジルアミンの合成
Ｉｒ－ＰＡ（１．２９ｍｇ，２μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール（２０ｍＬ）、ベンズアルデヒド（２．１２ｇ，２０ｍｍｏｌ）、２－アミノエタノール（１．４７ｇ，２４ｍｍｏｌ）、ギ酸（２．７６ｇ，６０ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で３時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去した後、約１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物２．２４ｇを得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、９４％のＮ－（２－ヒドロキシエチル）ベンジルアミンが、収率７０％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ２．１（ｂｒ，１Ｈ），２．８０（ｍ，２Ｈ），３．６５（ｍ，２Ｈ），３．８０（ｓ，２Ｈ），７．２４－７．３５（ｍ，５Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ５０．５，５３．５，６０．９，１２７．１，１２８．１，１２８．４，１４０．１．

［実施例４］ベンジルアミンの合成
アルゴン置換した４つ口フラスコに、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）ベンジルアミン（０．５０９ｇ，３．４ｍｍｏｌ）を仕込んだ。メタノール１０ｍＬ、水１０ｍＬ、４０％メチルアミン水溶液３．４ｍＬ、オルト過ヨウ素酸（２ｇ，８．７５ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１８時間激しく攪拌した。反応液に５％水酸化ナトリウム水溶液を加えた後、塩化メチレンで２回抽出した。塩化メチレン相を合わせて、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物を得た。ＮＭＲ分析により、ベンジルアミンが生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．５（ｂｒ，２Ｈ），３．８７（ｓ，２Ｈ），７．２２－７．３９（ｍ，５Ｈ）．

［実施例５］Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－３－ブロモベンジルアミンの合成
Ｉｒ－ＰＡ（０．６５ｍｇ，１０μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール（５０ｍＬ）、３－ブロモベンズアルデヒド（９．２５ｇ，５０ｍｍｏｌ）、２－アミノエタノール（３．６７ｇ，６０ｍｍｏｌ）、ギ酸（６．９１ｇ，１５０ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２４時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去した後、約１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物１１．１ｇを得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、９１％のＮ－（２－ヒドロキシエチル）－３－ブロモベンジルアミンが、収率８８％で生成していた
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ２．１（ｂｒ，１Ｈ），２．７９（ｍ，２Ｈ），３．６６（ｍ，２Ｈ），３．７８（ｓ，２Ｈ），７．１７－７．２５（ｍ，２Ｈ），７．３９（ｍ，１Ｈ），７．４８（ｓ，１Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ５０．５，５２．９，６１．０，１２２．５，１２６．６，１３０．０，１３０．１，１３１．１，１４２．４．

［実施例６］３－ブロモベンジルアミンの合成
アルゴン置換した４つ口フラスコに、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－３－ブロモベンジルアミン（２．７７ｇ，１１．８ｍｍｏｌ）を仕込んだ。メタノール３５ｍＬ、水３５ｍＬ、４０％メチルアミン水溶液１２ｍＬ、過ヨウ素酸ナトリウム（６．５５ｇ，３０．６ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２０時間激しく攪拌した。不溶物をろ別し、メタノールで洗浄した後、メタノールを減圧下留去した。５％水酸化ナトリウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物２．０６ｇを得た。ＮＭＲ分析により、３－ブロモベンジルアミンが、収率９４％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．６（ｂｒ，２Ｈ），３．８５（ｓ，２Ｈ），７．１８－７．２５（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｍ，１Ｈ）、７．４８（ｓ，１Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ４５．９，１２２．６，１２５．６，１２９．８，１３０．１，１３０．１，１４５．５．

［実施例７］Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－４－シアノベンジルアミンの合成
Ｉｒ－ＰＡ（１．２９ｍｇ，２．０μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール（２０ｍＬ）、４－シアノベンズアルデヒド（２．６２ｇ，２０ｍｍｏｌ）、２－アミノエタノール（１．４７ｇ，２４ｍｍｏｌ）、ギ酸（２．７６ｇ，６０ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２４時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去した後、約１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物２．９２ｇを得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、９１％のＮ－（２－ヒドロキシエチル）－４－シアノベンジルアミンが、収率７５％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ２．２（ｂｒ，１Ｈ），２．８０（ｍ，２Ｈ），３．６８（ｍ，２Ｈ），３．８８（ｓ，２Ｈ），７．４５（ｍ，２Ｈ），７．６１（ｍ，２Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ５０．６，５３．０，６１．０，１１０．７，１１８．８，１２８．６，１３２．２，１４５．７．

［実施例８］４－シアノベンジルアミンの合成
アルゴン置換した４つ口フラスコに、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－４－シアノベンジルアミン（１．４６ｇ，８．３ｍｍｏｌ）を仕込んだ。メタノール２５ｍＬ、水２５ｍＬ、４０％メチルアミン水溶液８．３ｍＬ、過ヨウ素酸ナトリウム（４．６２ｇ，２１．６ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２０時間激しく攪拌した。不溶物をろ別し、メタノールで洗浄した後、メタノールを減圧下留去した。５％水酸化ナトリウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物０．８９ｇを得た。ＮＭＲ分析により、４－シアノベンジルアミンが、収率８１％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．５（ｂｒ，２Ｈ），３．９６（ｓ，２Ｈ），７．４５（ｍ，２Ｈ），７．６３（ｍ，２Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ４６．０，１１０．６，１１９．０，１２７．７，１３２．３，１４８．４．

［実施例９］Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－２－フェニルプロピルアミンの合成
Ｉｒ－ＰＡ（１．２９ｍｇ，２．０μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール（２０ｍＬ）、２－フェニルプロピオンアルデヒド（２．６８ｇ，２０ｍｍｏｌ）、２－アミノエタノール（１．４７ｇ，２４ｍｍｏｌ）、ギ酸（２．７６ｇ，６０ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２２時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去した後、約５％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物３．２８ｇを得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、９１％のＮ－（２－ヒドロキシエチル）－２－フェニルプロピルアミンが、収率８３％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．２７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），２．７３（ｍ，２Ｈ），２．７９（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝０．８，７．２Ｈｚ），２．９１（ｍ，１Ｈ），３．５５（ｍ，２Ｈ），７．２０－７．３４（ｍ，５Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ１９．９，４０．１，５０．７，５６．４，６０．６，１２６．４，１２７．１，１２７．２，１２８．６，１４５．２．

［実施例１０］２－フェニルプロピルアミンの合成
アルゴン置換した４つ口フラスコに、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－２－フェニルプロピルアミン（２．３８ｇ，１３．３ｍｍｏｌ）を仕込んだ。メタノール４０ｍＬ、水４０ｍＬ、４０％メチルアミン水溶液１３．５ｍＬ、過ヨウ素酸ナトリウム（７．３７ｇ，３４．５ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２３時間激しく攪拌した。不溶物をろ別し、メタノールで洗浄した後、メタノールを減圧下留去した。５％水酸化ナトリウム水溶液を加えた後、ＭＴＢＥで３回抽出した。ＭＴＢＥ相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物１．６１ｇを得た。ＮＭＲ分析により、２－フェニルプロピルアミンが、収率９０％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．１（ｂｒ，２Ｈ），１．２５（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），２．７４（ｍ，１Ｈ），２．８５（ｍ，２Ｈ），７．２０－７．３４（ｍ，５Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ１９．３，４３．６，４９．５，１２６．３，１２７．３，１２８．５，１４５．０．

［実施例１１］Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）シクロヘキシルメチルアミンの合成
Ｉｒ－ＰＡ（１．２９ｍｇ，２μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール（２０ｍＬ）、シクロヘキサンカルボキシアルデヒド（２．２４ｇ，２０ｍｍｏｌ）、２－アミノエタノール（１．４７ｇ，２４ｍｍｏｌ）、ギ酸（２．７６ｇ，６０ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２２時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去した後、約１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物２．８７ｇを得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、９７％のＮ－（２－ヒドロキシエチル）シクロヘキシルメチルアミンが、収率８８％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ０．８６－０．９６（ｍ，２Ｈ），１．１１－１．３０（ｍ，３Ｈ），１．４４（ｍ，１Ｈ），１．６６－１．７６（ｍ，５Ｈ），２．２（ｂｒ，１Ｈ），２．４５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．７５（ｍ，２Ｈ），３．６２（ｍ，２Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ２６．０，２６．６，３１．４，３８．０，５１．１，５６．２，６０．７．

［実施例１２］シクロヘキシルメチルアミンの合成
アルゴン置換した４つ口フラスコに、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）シクロヘキシルメチルアミン（１．３６ｇ，８．６６ｍｍｏｌ）を仕込んだ。メタノール２６ｍＬ、水２６ｍＬ、４０％メチルアミン水溶液８．７ｍＬ、過ヨウ素酸ナトリウム（４．８１ｇ，２２．５ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２１時間激しく攪拌した。不溶物をろ別し、メタノールで洗浄した後、メタノールを減圧下留去した。５％水酸化ナトリウム水溶液を加えた後、ジエチルエーテルで３回抽出した。ジエチルエーテル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物を得た。ＮＭＲ分析により、シクロヘキシルメチルアミンが生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．５（ｂｒ，２Ｈ），３．８０（ｓ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），６．８７（ｍ，２Ｈ），７．２３（ｍ，２Ｈ）．

［実施例１３］Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－３－ベンゾチエニルメチルアミンの合成
Ｉｒ－ＰＡ（１．２９ｍｇ，２μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール（２ｍＬ）、３－ベンゾチオフェンカルボキシアルデヒド（０．３２４ｇ，２ｍｍｏｌ）、２－アミノエタノール（０．１４７ｇ，２．４ｍｍｏｌ）、ギ酸（０．２７６ｇ，６ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去した後、約１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、ジエチルエーテルで２回抽出した。ジエチルエーテル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物０．３７ｇを得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、９６％のＮ－（２－ヒドロキシエチル）－３－ベンゾチエニルメチルアミンが、収率８３％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．５（ｂｒ，１Ｈ），２．９０（ｍ，２Ｈ），３．６９（ｍ，２Ｈ），４．０８（ｓ，２Ｈ），７．３１－７．４１（ｍ，３Ｈ），７．８２－７．８８（ｍ，２Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ４７．２，５０．７，６１．０，１２１．７，１２３．０，１２３．１，１２４．１，１２４．４，１３５．０，１３８．３，１４０．７．

［実施例１４］３－ベンゾチエニルメチルアミンの合成
アルゴン置換した４つ口フラスコに、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－３－ベンゾチエニルメチルアミン（０．３５ｇ，１．７ｍｍｏｌ）を仕込んだ。メタノール５ｍＬ、水５ｍＬ、４０％メチルアミン水溶液１．８ｍＬ、過ヨウ素酸ナトリウム（０．９５ｇ，４．４ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１７時間激しく攪拌した。不溶物をろ別し、メタノールで洗浄した後、メタノールを減圧下留去した。５％水酸化ナトリウム水溶液を加えた後、塩化メチレンで３回抽出した。塩化メチレン相を併せて、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物を得た。ＮＭＲ分析により、３－ベンゾチエニルメチルアミンが生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．６（ｂｒ，２Ｈ），４．１４（ｓ，２Ｈ），７．３０－７．４２（ｍ，３Ｈ），７．７７－７．８８（ｍ，２Ｈ）．

表１に結果をまとめたものを示す。

［実施例１５］Ｎ－（２－（１－ヒドロキシ）ブチル）－４－メトキシベンジルアミンの合成
Ｉｒ－ＰＡ（０．５３ｍｇ，０．８２μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール４１ｍＬ、４－メトキシベンズアルデヒド（５．６ｇ，４１．１ｍｍｏｌ）、２－アミノ－１－ブタノール（４．４ｇ，４９．４ｍｍｏｌ）、ギ酸（５．６８ｇ，１２３ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２４時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去した後、約１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物８．７７ｇを得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、９６％のＮ－（２－（１－ヒドロキシ）ブチル）－４－メトキシベンジルアミンが、収率８８％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ０．９２（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．３９－１．６０（ｍ，２Ｈ），２．６２（ｍ，１Ｈ），３．３１（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．４，１０．５Ｈｚ），３．６５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．７，１０．５Ｈｚ），３．６８－３．７８（ｍ，２Ｈ），３．８０（ｓ，３Ｈ），６．８７（ｍ，２Ｈ），７．２４（ｍ，２Ｈ）．
構造式は下記のとおりである。

［実施例１６］４－メトキシベンジルアミンの合成
アルゴン置換した４つ口フラスコに、Ｎ－（２－（１－ヒドロキシ）ブチル）－４－メトキシベンジルアミン（５．０８ｇ，２４．３ｍｍｏｌ）を仕込んだ。メタノール７３ｍＬ、水７３ｍＬ、４０％メチルアミン水溶液２４ｍＬ、過ヨウ素酸ナトリウム（１３．５ｇ，６３．１ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１８時間激しく攪拌した。不溶物をろ別し、メタノールで洗浄した後、メタノールを減圧下留去した。５％水酸化ナトリウム水溶液を加えた後、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物３．３９ｇを得た。ＮＭＲ分析により、４－メトキシベンジルアミンが、収率８１％で生成していた。

［実施例１７］Ｎ，Ｎ－ジ（２－ヒドロキシエチル）－３－フェニルプロピルアミンの合成
Ｉｒ－ＱＮ２（１．１ｍｇ，２μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール２０ｍＬ、３－フェニルプロピオンアルデヒド（２．６８ｇ，２０ｍｍｏｌ）、ジエタノールアミン（２．５２ｇ，２４ｍｍｏｌ）、ギ酸（２．７６ｇ，６０ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２１時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去した後、約１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物３．９９ｇを得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、９３％のＮ，Ｎ－ジ（２－ヒドロキシエチル）－３－フェニルプロピルアミンが、収率８３％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．８１（ｍ，２Ｈ），２．５６－２．６４（ｍ，４Ｈ），２．６５（ｍ，４Ｈ），３．６０（ｍ，４Ｈ），７．１７－７．３０（ｍ，５Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ２８．７，３３．５，５４．２，５６．０，５９．７，１２５．９，１２８．３，１２８．４，１４１．８．
構造式は下記のとおりである。

［実施例１８］Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－Ｎ－メチル－３－フェニルプロピルアミンの合成
Ｉｒ－ＱＮ２（１．１ｍｇ，２μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール２０ｍＬ、３－フェニルプロピオンアルデヒド（２．６８ｇ，２０ｍｍｏｌ）、Ｎ－メチル－２－アミノエタノール（１．８ｇ，２４ｍｍｏｌ）、ギ酸（２．７６ｇ，６０ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２１時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去した後、約１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物３．５４ｇを得た。ＮＭＲ、ＧＣ分析により、９０％のＮ－（２－ヒドロキシエチル）－Ｎ－メチル－３－フェニルプロピルアミンが、収率８２％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ１．８１（ｍ，２Ｈ），２．２４（ｓ，３Ｈ），２．４４（ｍ，２Ｈ），２．５２（ｍ，２Ｈ），２．６３（ｍ，２Ｈ），２．９（ｂｒ，１Ｈ），３．５７（ｍ，２Ｈ），７．１８－７．３０（ｍ，５Ｈ）．
^１３Ｃ｛^１Ｈ｝ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１００ＭＨｚ）：δ２９．０，３３．５，４１．４，５７．１，５８．３，５８．７，１２５．８，１２８．３，１２８．３，１４２．１．
構造式は下記のとおりである。

［実施例１９］Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－４－メトキシベンジルアミンの合成
Ｉｒ－ＱＮ１（１．０１ｍｇ，２μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール（２ｍＬ）、パラアニスアルデヒド（０．２７ｇ，２ｍｍｏｌ）、２－アミノエタノール（０．１５ｇ，２．４ｍｍｏｌ）、ギ酸（０．２８ｇ，６ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２４時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去した後、約１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物０．２７ｇを得た。ＮＭＲ分析により、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－４－メトキシベンジルアミンが、収率７３％で生成していた。

［実施例２０］Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－４－メトキシベンジルアミンの合成
Ｉｒ－ＰＳＡ（１．３３ｍｇ，２μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール（２ｍＬ）、パラアニスアルデヒド（０．２７ｇ，２ｍｍｏｌ）、２－アミノエタノール（０．１５ｇ，２．４ｍｍｏｌ）、ギ酸（０．２８ｇ，６ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２４時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去し、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－４－メトキシベンジルアミンが生成していた。

［実施例２１］Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－４－メトキシベンジルアミンの合成
Ｉｒ－ＣＡ（１．２３ｍｇ，２μｍｏｌ）をシュレンク管に仕込み、アルゴン置換した。メタノール（２ｍＬ）、パラアニスアルデヒド（０．２７ｇ，２ｍｍｏｌ）、２－アミノエタノール（０．１５ｇ，２．４ｍｍｏｌ）、ギ酸（０．２８ｇ，６ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２４時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去し、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－４－メトキシベンジルアミンが生成していた。

［実施例２２］２－（４－メトキシフェニル）オキサゾリジンの合成
アルゴン置換したシュレンク管に、モレキューラーシーブ３Ａ（４．６ｇ）を仕込んだ。トルエン２５ｍＬ、４－メトキシベンズアルデヒド（３．４０ｇ，２５ｍｍｏｌ）、２－アミノエタノール（１．８３ｇ，３０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１８時間攪拌した。不溶物をろ別し、トルエンで洗浄した後、トルエンを減圧下留去して、目的物４．４８ｇを得た。ＮＭＲ分析により、２－（４－メトキシフェニル）オキサゾリジンが、収率９９％で生成していた。
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）：δ２．１（ｂｒ，１Ｈ），３．７３（ｍ，２Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），３．９０（ｍ，２ｈ），６．９３（ｍ，２Ｈ），７．６８（ｍ，２Ｈ），８．２８（ｓ，１Ｈ）．

［実施例２３］Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）－４－メトキシベンジルアミンの合成
アルゴン置換したシュレンク管中の２－（４－メトキシフェニル）オキサゾリジン（２．６６ｇ，１５ｍｍｏｌ）に、Ｉｒ－ＰＡ（０．１９ｍｇ，０．３μｍｏｌ）、メタノール（１５ｍＬ）、ギ酸（２．１ｇ，４５ｍｍｏｌ）を加えた。反応液を４０℃で２４時間激しく攪拌した。反応液を減圧下で濃縮しメタノールを留去した後、約１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで３回抽出した。酢酸エチル相を併せて、水次いで飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を留去して、目的物を得た。ＮＭＲ分析により、８９％のＮ－（２－ヒドロキシエチル）－４－メトキシベンジルアミンが生成していた。

Claims

第一級または第二級アミン化合物の製造方法であって、
下記一般式（１）

式中、Ｒ^１は、水素原子、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基であり、
Ｗは、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であり、２以上のＷは、一緒になって１または２以上の環を形成してもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、環員数６～２０のアラルキル基、環員数６～２０のヘテロアラルキル基、環員数６～２０のアルキルアリール基または環員数６～２０のアルキルヘテロアリール基であり、
Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基であり、
ｎは１または２であり、
ｎが２の場合、Ｒ^１は存在しない、
で表されるアミノアルコールと、
下記一般式（２）

式中、Ｒ^６は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のカルボキシル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するエステル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するアミド基、Ｃ１～Ｃ２０のアシル基であり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
で表されるアルデヒドとを、
下記一般式（３）

式中、Ａｒは、１または２以上の水素原子が前期置換基Ｗで置換されていてもよい、シクロペンタジエニル基であり、
Ｘは、ヒドリド基またはアニオン性基であり、
Ｒ^７およびＲ^８は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
ｊおよびｋは、互いに同一または異なり、０～３までの整数であり、
Ｒ^７またはＲ^８が結合していないキノリン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｊが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、
下記一般式（４）

式中、Ａｒ、ＸおよびＲ^７は前記と同じ意味を有し、
Ｒ^９は、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
ｌは０～４までの整数であり、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、
下記一般式（５）

式中、Ａｒ、Ｘ、Ｒ^７、ｌは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^１０およびＲ^１１は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１０とＲ^１１とが一緒になって環を形成していてもよく、
Ｒ^１２は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａまたは－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、または、
下記一般式（６）

式中、Ａｒ、Ｘは前記と同じ意味を有し、
Ａは、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよい、少なくとも２つの窒素原子を含む飽和または不飽和の含窒素複素環カルベンであり、
Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５，Ｒ^１６およびＲ^１７は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１８は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｓ）－ＮＲａＲｂ、Ｃ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
で表される有機イリジウム化合物存在下において、水素を供与する化合物と反応させる工程、および
反応生成物における以下の一般式（Ａ）

式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびｎは一般式（１）と同じ意味を有する、
で表される部位を酸化的に脱保護する工程、
を含むことを特徴とする、前記方法。
第一級または第二級アミン化合物の製造方法であって、
下記一般式（１）

式中、Ｒ^１は、水素原子、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基であり、
Ｗは、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であり、２以上のＷは、一緒になって１または２以上の環を形成してもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、環員数６～２０のアラルキル基、環員数６～２０のヘテロアラルキル基、環員数６～２０のアルキルアリール基または環員数６～２０のアルキルヘテロアリール基であり、
Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基であり、
ｎは１または２であり、
ｎが２の場合、Ｒ^１は存在しない、
で表されるアミノアルコールと、
下記一般式（２）

式中、Ｒ^６は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のカルボキシル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するエステル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するアミド基、Ｃ１～Ｃ２０のアシル基であり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
で表されるアルデヒドとを、
下記一般式（７）

式中、Ａｒは、１または２以上の水素原子が前期置換基Ｗで置換されていてもよい、シクロペンタジエニル基であり、
Ｘは、ヒドリド基またはアニオン性基である、
で表される有機イリジウム化合物と、
下記一般式（８）

式中、Ｒ^７およびＲ^８は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
ｊおよびｋは、互いに同一または異なり、０～３までの整数であり、
Ｒ^７またはＲ^８が結合していないキノリン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｊが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、
下記一般式（９）

式中、Ｒ^７は前記と同じ意味を有し、
Ｒ^９は、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
ｌは０～４までの整数であり、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、
下記一般式（１０）

式中、Ｒ^７およびｌは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^１０およびＲ^１１は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１０とＲ^１１とが一緒になって環を形成していてもよく、
Ｒ^１２は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａまたは－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、または
下記一般式（１１）

式中、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５，Ｒ^１６およびＲ^１７は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１８は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｓ）－ＮＲａＲｂ、Ｃ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよい、
Ａ’は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよい、少なくとも２つの窒素原子を含む飽和または不飽和の含窒素複素環カルベン前駆体であり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
Ｙはアニオン性基である、
で表される有機化合物との存在下において、水素を供与する化合物と反応させる工程、および
反応生成物における以下の一般式（Ａ）

式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびｎは一般式（１）と同じ意味を有する、
で表される部位を酸化的に脱保護する工程、
を含むことを特徴とする、前記方法。
第一級および第二級アミン化合物の製造方法であって、
下記一般式（１）

式中、Ｒ^１は、水素原子、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基であり、
Ｗは、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であり、２以上のＷは、一緒になって１または２以上の環を形成してもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、環員数６～２０のアラルキル基、環員数６～２０のヘテロアラルキル基、環員数６～２０のアルキルアリール基または環員数６～２０のアルキルヘテロアリール基であり、
Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基であり、
ｎは１または２であり、
ｎが２の場合、Ｒ^１は存在しない、
で表されるアミノアルコールと、
下記一般式（２）

式中、Ｒ^６は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のカルボキシル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するエステル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するアミド基、Ｃ１～Ｃ２０のアシル基であり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
で表されるアルデヒドから調製されたヘミアミナールエーテル、イミン、またはエナミンを、
下記一般式（３）

式中、Ａｒは、１または２以上の水素原子が前期置換基Ｗで置換されていてもよい、シクロペンタジエニル基であり、
Ｘは、ヒドリド基またはアニオン性基であり、
Ｒ^７およびＲ^８は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
ｊおよびｋは、互いに同一または異なり、０～３までの整数であり、
Ｒ^７またはＲ^８が結合していないキノリン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｊが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、
下記一般式（４）

式中、Ａｒ、ＸおよびＲ^７は前記と同じ意味を有し、
Ｒ^９は、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
ｌは０～４までの整数であり、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、
下記一般式（５）

式中、Ａｒ、Ｘ、Ｒ^７、ｌは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^１０およびＲ^１１は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１０とＲ^１１とが一緒になって環を形成していてもよく、
Ｒ^１２は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａまたは－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、または、
下記一般式（６）

式中、Ａｒ、Ｘは前記と同じ意味を有し、
Ａは、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよい、少なくとも２つの窒素原子を含む飽和または不飽和の含窒素複素環カルベンであり、
Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５，Ｒ^１６およびＲ^１７は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１８は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｓ）－ＮＲａＲｂ、Ｃ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
で表される有機イリジウム化合物存在下において、水素を供与する化合物と反応させる工程、および
反応生成物における以下の一般式（Ａ）

式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびｎは一般式（１）と同じ意味を有する、
で表される部位を酸化的に脱保護する工程、
を含むことを特徴とする、前記方法。
第一級および第二級アミン化合物の製造方法であって、
下記一般式（１）

式中、Ｒ^１は、水素原子、１または２以上の水素原子が置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基であり、
Ｗは、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であり、２以上のＷは、一緒になって１または２以上の環を形成してもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、環員数６～２０のアラルキル基、環員数６～２０のヘテロアラルキル基、環員数６～２０のアルキルアリール基または環員数６～２０のアルキルヘテロアリール基であり、
Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２２のアリール基であり、
ｎは１または２であり、
ｎが２の場合、Ｒ^１は存在しない、で表されるアミノアルコールと、
下記一般式（２）

式中、Ｒ^６は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよいＣ１～Ｃ２０の飽和または不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のカルボキシル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するエステル基、Ｃ１～Ｃ２０の炭素原子で結合するアミド基、Ｃ１～Ｃ２０のアシル基であり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
で表されるアルデヒドから調製されたヘミアミナールエーテル、イミン、またはエナミンを、
下記一般式（７）

式中、Ａｒは、１または２以上の水素原子が前期置換基Ｗで置換されていてもよい、シクロペンタジエニル基であり、
Ｘは、ヒドリド基またはアニオン性基である、
で表される有機イリジウム化合物と、
下記一般式（８）

式中、Ｒ^７およびＲ^８は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
ｊおよびｋは、互いに同一または異なり、０～３までの整数であり、
Ｒ^７またはＲ^８が結合していないキノリン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｊが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、
下記一般式（９）

式中、Ｒ^７は前記と同じ意味を有し、
Ｒ^９は、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
ｌは０～４までの整数であり、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、
下記一般式（１０）

式中、
Ｒ^７およびｌは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^１０およびＲ^１１は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１０とＲ^１１とが一緒になって環を形成していてもよく、
Ｒ^１２は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａまたは－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂであって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有し、
Ｒ^７が結合していないピリジン環中の炭素原子が窒素原子によって置き換えられていてもよく、
ｌが２以上の場合、２以上のＲ^７は、一緒になって１または２以上の環を形成してもよい、または
下記一般式（１１）

式中、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５，Ｒ^１６およびＲ^１７は、互いに同一または異なり、水素原子、Ｃ１～Ｃ２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基、環員数３～２０のヘテロシクリル基、Ｃ１～Ｃ２０のアルコキシ基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒａ、ヒドロキシル基、－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－ＮＲａ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒｂ、ニトロ基、シアノ基、－ＰＲａＲｂ、Ｃ１～２０のスルフェニル基、Ｃ１～２０のスルホニル基、スルホ基、メルカプト基、－ＳｉＲａＲｂＲｃ、ハロゲン基またはＣ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよく、
Ｒ^１８は、Ｃ１～Ｃ２０のスルホニル基、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲａ、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲａＲｂ、－Ｃ（＝Ｓ）－ＮＲａＲｂ、Ｃ１～Ｃ２０のフルオロアルキル基または炭素原子がヘテロ原子で置き換えられていてもよい環員数６～２０のアリール基であって、これらの基の１もしくは２以上の水素原子は前記置換基Ｗによって置換されていてもよい、
Ａ’は、１または２以上の水素原子が前記置換基Ｗで置換されていてもよい、少なくとも２つの窒素原子を含む飽和または不飽和の含窒素複素環カルベン前駆体であり、
Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは前記と同じ意味を有する、
Ｙはアニオン性基である、
で表される有機化合物との存在下において、水素を供与する化合物と反応させる工程、および
反応生成物における以下の一般式（Ａ）

式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５およびｎは一般式（１）と同じ意味を有する、
で表される部位を酸化的に脱保護する工程、
を含むことを特徴とする、前記方法。
一般式（１）で表されるアミノアルコールが、２－アミノエタノール、２－アミノ－１－プロパノール、２－アミノ－１－ブタノール、バリノール、フェニルグリシノールである請求項１～４のいずれかに記載の方法。
酸化的な脱保護を、過ヨウ素酸、過ヨウ素酸塩または四酢酸鉛を酸化剤として用いて実施する請求項１～５のいずれか一項に記載の方法。
水素を供与する化合物が、ギ酸またはギ酸塩である請求項１～６のいずれか一項に記載の方法。