JP2022049955A - 現像装置および現像方法 - Google Patents
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Abstract
Description
3 第1現像部(一次供給部)
4 第2現像部(二次供給部)
7 基板搬送部(搬送部)
8 制御部(噴射制御部)
41 エアノズル(気体噴射ノズル)
42 スリットノズル(二次供給ノズル)
84 流量制御機構(噴射制御部)
322 (スリットノズル32の)吐出口(一次供給部の液体吐出口)
412 (エアノズル41の)吐出口(気体吐出口)
422 (スリットノズル42の)吐出口(液体吐出口)
P 液膜
S 基板
X 搬送方向
Y 幅方向
Claims (10)
- 露光されたフォトレジスト膜を表面に有する基板を、前記フォトレジスト膜を上にして水平姿勢に支持しつつ水平方向に搬送する搬送部と、
前記搬送部に支持される前記基板の上面に現像液を供給して、前記基板の上面を前記現像液の液膜で覆う一次供給部と、
前記基板の搬送方向において前記一次供給部よりも下流側で、搬送される前記基板の上面に前記現像液を追加的に供給する二次供給部と
を備え、
前記二次供給部は、
前記基板の上面に対し前記現像液を吐出する液体吐出口を有する二次供給ノズルと、
前記搬送方向において前記一次供給部よりも下流側かつ前記液体吐出口よりも上流側で前記液体吐出口に近接配置された気体吐出口から前記基板上の前記液膜に向けて気体を噴射して、前記搬送方向に直交する幅方向に延びるエアカーテンを形成する気体噴射ノズルと、
前記気体噴射ノズルからの前記気体の噴射量を制御する噴射制御部と
を有し、
前記噴射制御部は、一の前記基板に対する前記気体の噴射量を経時的に変化させる現像装置。 - 前記噴射制御部は、予め定められた処理レシピに応じて前記噴射量を変化させる請求項1に記載の現像装置。
- 前記噴射制御部は、前記噴射量を経時的に減少させる請求項1または2に記載の現像装置。
- 前記噴射制御部は、一の前記基板に対する前記気体の前記噴射量を最終的にゼロにする請求項1ないし3のいずれかに記載の現像装置。
- 前記二次供給ノズルは、前記基板の前記幅方向の全体に亘り一様に前記現像液を吐出する請求項1ないし4のいずれかに記載の現像装置。
- 前記気体噴射ノズルは、前記基板の前記幅方向の全体に亘り一様に前記気体を噴射する請求項1ないし5のいずれかに記載の現像装置。
- 前記一次供給部は、前記搬送部により搬送される前記基板の上面に対し前記現像液を吐出する液体吐出口を有し、該液体吐出口と前記気体吐出口との最短の距離が、前記搬送方向における前記基板の長さよりも大きい請求項1ないし6のいずれかに記載の現像装置。
- 露光された基板表面のフォトレジスト膜を現像液により現像する現像方法において、
前記フォトレジスト膜を上にして水平姿勢に支持された前記基板の上面に現像液を一次供給して、前記基板の上面を前記現像液の液膜で覆う工程と、
前記液膜が形成された前記基板を水平方向に搬送する工程と、
搬送される前記基板上の前記液膜に向けて気体を噴射し、前記基板の搬送方向に直交する幅方向に延びるエアカーテンを形成する工程と、
前記気体が吹き付けられた前記基板の上面に対し前記現像液を二次供給する工程と
を備え、
一の前記基板に対する前記気体の噴射量を経時的に変化させる現像方法。 - 前記噴射量を経時的に減少させる請求項8に記載の現像方法。
- 前記基板を一定速度で搬送しつつ、前記液膜の形成、前記気体の噴射および前記現像液の二次供給を順番に実行する請求項8または9に記載の現像方法。
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JP2003100623A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-04-04 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
JP2006202893A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Toshiba Corp | 現像方法及び現像装置 |
JP2014017316A (ja) * | 2012-07-06 | 2014-01-30 | Tokyo Electron Ltd | 現像処理装置及び現像処理方法 |
JP2016051713A (ja) * | 2014-08-28 | 2016-04-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像方法、現像装置、及び記憶媒体 |
JP2019216170A (ja) * | 2018-06-12 | 2019-12-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2003100623A (ja) * | 2001-07-05 | 2003-04-04 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置および液処理方法 |
JP2006202893A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Toshiba Corp | 現像方法及び現像装置 |
JP2014017316A (ja) * | 2012-07-06 | 2014-01-30 | Tokyo Electron Ltd | 現像処理装置及び現像処理方法 |
JP2016051713A (ja) * | 2014-08-28 | 2016-04-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像方法、現像装置、及び記憶媒体 |
JP2019216170A (ja) * | 2018-06-12 | 2019-12-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
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