JP2022040936A - 着色層を有するガラスおよびその製造方法 - Google Patents
着色層を有するガラスおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022040936A JP2022040936A JP2020145896A JP2020145896A JP2022040936A JP 2022040936 A JP2022040936 A JP 2022040936A JP 2020145896 A JP2020145896 A JP 2020145896A JP 2020145896 A JP2020145896 A JP 2020145896A JP 2022040936 A JP2022040936 A JP 2022040936A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- colored layer
- content
- colored
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 347
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 22
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 71
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 51
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 39
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 36
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 claims description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 28
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 54
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 45
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 32
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 26
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 19
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 17
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 15
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 13
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 10
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 229910018879 Pt—Pd Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- -1 hydrogen ions Chemical class 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 5
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N Tritium Chemical compound [3H] YZCKVEUIGOORGS-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008395 clarifying agent Substances 0.000 description 2
- 239000006103 coloring component Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006063 cullet Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 2
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005341 metaphosphate group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052705 radium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/02—Compositions for glass with special properties for coloured glass
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
- C03C17/09—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/16—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
- C03C3/21—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing titanium, zirconium, vanadium, tungsten or molybdenum
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/003—General methods for coating; Devices therefor for hollow ware, e.g. containers
- C03C17/004—Coating the inside
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/25—Metals
- C03C2217/251—Al, Cu, Mg or noble metals
- C03C2217/254—Noble metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/25—Metals
- C03C2217/261—Iron-group metals, i.e. Fe, Co or Ni
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/25—Metals
- C03C2217/27—Mixtures of metals, alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/32—After-treatment
- C03C2218/328—Partly or completely removing a coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/36—Underside coating of a glass sheet
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/365—Coating different sides of a glass substrate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
【課題】 着色層を有するガラスおよびその製造方法を提供すること。【解決手段】 Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、およびBiイオンからなる群から選択される1以上のガラス成分を含み、任意形状の着色層を有する、ガラス。【選択図】図10
Description
本発明は、着色層を有するガラスに関する。
特許文献1には酸化性雰囲気中または非酸化性雰囲気中でガラスを熱処理することによりガラスの透過率を変化させる発明が開示されている。しかしながら、特許文献1にはガラスに着色層を形成することは開示されていない。
特許文献2には光と透過する透光部と透光部の外周を取り囲むように形成され、光の一部を遮光する遮光部を備えた透明基板が開示されている。この透明基板は、例えば固体撮像素子を収納するパッケージの前面に取り付けられ、固体撮像素子を保護すると共に透光窓として使用されるカバーガラスなどに適している。遮光部は迷光により生じるフレアやゴーストを抑制する機能を果たす。Cr(クロム)、Ta(タンタル)、Mo(モリブデン)、Ni(ニッケル)、Ti(チタン)、Cu(銅)、Al(アルミニウム)などの金属材料の膜や、カーボンなどの黒色顔料が分散された樹脂材料や光透過性を有する複数色の着色層が積層された樹脂材料などの膜を透明基板の表面に形成して遮光部とする例が開示されているが、ガラス自体を着色させて遮光性を付与することについては開示していない。
本発明は、着色層を有するガラスおよびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明の要旨は以下のとおりである。
(1)Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、およびBiイオンからなる群から選択される1以上のガラス成分を含み、
任意形状の着色層を有する、ガラス。
(1)Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、およびBiイオンからなる群から選択される1以上のガラス成分を含み、
任意形状の着色層を有する、ガラス。
(2)板状であり、
片面または両面に着色層を有する、(1)に記載のガラス。
片面または両面に着色層を有する、(1)に記載のガラス。
(3)板状であり、
第1主面および第2主面に着色層を有し、
平面視において、第1主面の着色層は、第2主面の着色層と重ならない、(1)に記載のガラス。
第1主面および第2主面に着色層を有し、
平面視において、第1主面の着色層は、第2主面の着色層と重ならない、(1)に記載のガラス。
(4)板状であり、
第1主面および第2主面に着色層を有し、
平面視において、第1主面の着色層の一部または全部が、第2主面の着色層の一部または全部と重なる、(1)に記載のガラス。
第1主面および第2主面に着色層を有し、
平面視において、第1主面の着色層の一部または全部が、第2主面の着色層の一部または全部と重なる、(1)に記載のガラス。
(5)上記(1)~(4)のいずれかに記載のガラスからなる光学素子。
(6)遮光部と透光部とを有し、
上記遮光部および上記透光部のガラス組成が同じであり、
上記遮光部が着色層からなる、
(1)~(4)のいずれかに記載のガラスからなるカバーガラス。
上記遮光部および上記透光部のガラス組成が同じであり、
上記遮光部が着色層からなる、
(1)~(4)のいずれかに記載のガラスからなるカバーガラス。
(7)ガラス表面に任意形状の金属膜を形成する工程、および
還元雰囲気で熱処理する工程を含む、
Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、およびBiイオンからなる群から選択される1以上のガラス成分を含み、任意形状の着色層を有するガラスの製造方法。
還元雰囲気で熱処理する工程を含む、
Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、およびBiイオンからなる群から選択される1以上のガラス成分を含み、任意形状の着色層を有するガラスの製造方法。
本発明によれば、着色層を有するガラスおよびその製造方法を提供できる。
本実施形態では、カチオン%表示での各成分の含有比率に基づいて本発明に係るガラスを説明する。したがって、以下、各含有量は特記しない限り、「%」は「カチオン%」を意味する。
カチオン%表示とは、全てのカチオン成分の含有量の合計を100%としたときのモル百分率をいう。また、合計含有量とは、複数種のカチオン成分の含有量(含有量が0%である場合も含む)の合計量をいう。また、カチオン比とは、カチオン%表示において、カチオン成分同士の含有量(複数種のカチオン成分の合計含有量も含む)の割合(比)をいう。
ガラス成分の含有量は、公知の方法、例えば、誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP-AES)、誘導結合プラズマ質量分析法(ICP-MS)等の方法で定量できる。また、本明細書および本発明において、構成成分の含有量が0%とは、この構成成分を実質的に含まないことを意味し、該成分が不可避的不純物レベルで含まれることを許容する。
また、本明細書では、屈折率は、特記しない限り、黄色ヘリウムのd線(波長587.56nm)における屈折率ndをいう。
以下、本発明の実施形態について詳しく説明する。
本実施形態に係るガラスは、任意形状の着色層を有する。着色層は、ガラス自体が着色された部分であり、好ましくはガラス表面から内に向かって層状に存在する。
着色層はガラスに入射する光に関し透過率の小さい部分である。したがって、本実施形態に係るガラスにおいて、ガラスに入射する光のうち、着色層に入射する光は一部または全部が吸収され、着色層に入射しない光に比べて透過光の強度が減衰する。すなわち、本実施形態に係るガラスは、透過率が小さい部分と大きい部分を有することができる。
本実施形態に係るガラスでは、着色層は、研削または研磨により除去できる。本実施形態に係るガラスでは、着色層を除去した後のガラスの透過率は、着色層を除去する前の透過率よりも大きくなる。
本実施形態に係るガラスは、任意形状の着色層を有する。すなわち、本実施形態に係るガラスは、ガラスの1以上の面において、その全面に着色層を有してもよく、または、任意形状にパターニングした着色層を有してもよい。パターニングする場合には、例えば、模様、文字、数字、図形、絵柄、識別コードなどの形状でもよく、直線や曲線で描かれる形状でもよい。図1のように、模様や絵柄を自由にパターニングした着色層を形成してもよい。図1は、実施態様に係るガラスの平面図であり、黒色部分が着色層で、その他の部分は非着色部である。本実施形態に係るガラスでは、着色層と着色されていない非着色部とのコントラストが明瞭であり、任意形状にパターニングされた着色層を形成することが可能である。
本実施形態に係るガラスは、側面および/または主表面に任意形状の着色層を有するガラスでもよい。すなわち、本実施形態に係るガラスは、側面において、その全面に着色層を有してもよく、任意形状にパターニングされた着色層を有してもよい。同様に、本実施形態に係るガラスは、主表面において、その全面に着色層を有してもよく、任意形状にパターニングされた着色層を有してもよい。そして、本実施形態に係るガラスは、側面および主表面において、任意形状の着色層を有してもよい。例えば、図2のように、ガラスの側面全体に着色層を形成し、主表面には任意形状にパターニングされた着色層を形成できる。このようなガラスは、フィルターガラスとして用いることができる。
本実施形態に係るガラスは、板状のガラスであって、片面または両面に任意形状の着色層を有してもよい。片面または両面の全面に着色層を有してもよく、任意形状にパターニングされた着色層を有してもよい。ガラスの厚さは特に制限されないが、ガラスの両面に着色層を形成する場合、ガラスの厚さが小さいと、一方の面に形成した着色層と他方の面に形成した着色層とが厚さ方向で重なり合うことがある。この場合、着色層は、ガラスの厚さ方向に貫通するように形成されることもある。
また、厚さの小さいガラスでは、着色層の形成により、ガラスに反りなどの変形が生じることがある。この原因は特に限定されないが、着色層を形成することでガラス内に何らかの応力が生じることに起因すると考えられる。ガラスの片面のみに着色層を設けて反りが生じる場合には、ガラスの両面に着色層を設けて、ガラス内に生じる応力を相殺できることもある。着色層の形状は特に限定されない。着色層に起因する反りや変形は、ガラスの厚さが1mm以下である場合に生じやすい。
本実施形態に係るガラスは、板状のガラスであって、第1主面および第2主面に着色層を有し、平面視において、第1主面の着色層が、第2主面の着色層と重ならないガラスでもよい。このように着色層を設けることで、着色層の形成により生じるガラスの反りや変形を低減できる。例えば、図3のように、ガラスの第1主面および第2主面とで、異なる位置に着色層を設けることで、ガラスの反りや変形を低減できる場合がある。
または、本実施形態に係るガラスは、板状のガラスであって、第1主面および第2主面に着色層を有し、平面視において、第1主面の着色層の一部または全部が、第2主面の着色層の一部または全部と重なるガラスでもよい。このようなガラスでも、ガラスの反りや変形を低減できる。例えば、図4のように、板状のガラスにおいて、ガラスの第1主面および第2主面で、同じ形状の着色層を平面視において同じ位置に形成できる。この場合、第1主面および第2主面に形成したそれぞれの着色層において、着色の程度が小さくても、平面視では、第1主面の着色層と第2主面の着色層とが重なって見えるため、濃く着色しているように見える。着色の程度が小さい場合には、反りや変形の程度も小さくなる。そして、着色の程度が小さくてよい場合には、後述する還元雰囲気での熱処理時間を短縮できる。還元雰囲気での熱処理時間が短縮されると、着色層以外の非着色部における透過率を高いまま維持できる。その結果、平面視において着色層と非着色部とのコントラストをより明瞭にすることができる。
本実施形態に係るガラスは、板状のガラスであって、平面視において中央部が非着色部で、その非着色部を取り囲むように着色層を設けたガラスでもよい。このようなガラスは、カバーガラスの機能を有する光学素子として用いることができる。
カバーガラスとは、特許文献2に開示されているように固体撮像素子の前面に配置される光学素子であって、特に、固体撮像素子を収納するパッケージの前面に取り付けられ、固体撮像素子を保護すると共に透光窓として使用される。近年、CCDやCMOSなどの固体撮像素子を内蔵した撮像モジュールが携帯電話や情報携帯端末機器等に使用されている。このような撮像モジュールは、固体撮像素子を収容するセラミックや樹脂製の枡形のパッケージと、パッケージの周縁部に紫外線硬化型接着剤で固着され、固体撮像素子を封止するカバーガラスとを備えている。しかしながら、このようなカバーガラス等の光学部品を固体撮像素子の前面(つまり、固体撮像素子に向かう光の光路中)に配置すると、カバーガラスの側面等で反射した光が固体撮像素子の撮像面に入射することにより、フレアやゴースト等が発生するといった問題が生ずる。
そのため、従来、カバーガラスと固体撮像素子との間に遮光板を設け、ゴースト等の原因となる光の光路を遮断する構成が提案されている。例えば、特許文献(特開2006-141726)では、Cr(クロム)等の黒色の金属をカバーガラスに蒸着することにより、遮光板はカバーガラスと一体に形成されている。Crをカバーガラスに蒸着する方法としては、いわゆるフォトリソグラフィ法が用いられている。
しかしながら、このようにエッチングによって遮光板を形成する場合、ガラス全体を比較的長時間に亘ってエッチング液に浸さなければならないため、エッチング液によってCrのみならずガラスの表面が削られ、粗面化してしまうといった問題がある。そして、ガラスの表面が粗面化すると、固体撮像素子に向かう光がガラスの表面で乱れてしまい、透過率の低下、フレアの発生、解像度の低下、といった問題が発生する。
また、従来では、カバーガラス表面に黒色インクを塗布し、遮光性を持たせる方法も用いられている。しかしながら、この方法では、黒色インクが塗布されている部分と黒色インクが塗布されていない部分の境界において、黒色インクの表面で光の反射が生じ、迷光が生じるという問題がある。また、インクは温度が上昇すると脱ガスを生じ、カバーガラス表面の曇りの原因となる。
本実施形態に係るガラスでは、着色層が遮光の機能を有する。そのため、本実施形態に係るガラスをカバーガラスとして用いる場合には、着色層により、カバーガラスの側面等で反射した光に起因するフレアやゴースト等の発生を抑制できる。また、着色層は、後述するとおり還元雰囲気での熱処理により形成されるため、ガラスの表面が粗面化するといった問題も生じない。さらに、着色層は、非着色部と同じガラス組成を有するため、温度が上昇した場合でも脱ガスの発生はない。
本実施形態に係るガラスは、板状のガラスであって、平面視において中央部が非着色部で、その非着色部を取り囲むように着色層が設けられ、さらにガラスの縁部は非着色部であるガラスでもよい。着色層は、片面または両面に形成できる。このようなガラスも、カバーガラスの機能を有する光学素子として用いることができる。そして、カバーガラスとして用いる場合には、着色層により、カバーガラスの側面等で反射した光に起因するフレアやゴースト等の発生を抑制できる。具体的には、図4に示すように着色層を有するガラスが挙げられる。
非着色部は、着色層と比べて十分に光を透過する。したがって、非着色部から光を透過させて、紫外線硬化型接着剤などの光硬化性樹脂を重合、硬化することが可能である。すなわち、光硬化性樹脂を使用する部位を非着色部とすることで、光硬化性樹脂による接着が可能となる。ガラスの縁部を非着色部とする場合には、この縁部から光を透過できる。そのため、このようなガラスをカバーガラスとして使用する場合には、縁部から光を透過してガラス自体またはその他の撮像素子を光硬化性樹脂などで固定できる。
上述のように、本実施形態に係るガラスをカバーガラスとして用いる場合、着色層は遮光部、非着色部は透光部(透光窓)として機能できる。ここで、本実施形態では、後述するとおり還元雰囲気での熱処理により金属膜と接触するガラス表面が選択的に着色されるが、金属膜と接触していないガラス表面(非着色部)も僅かに着色することがある。しかし、還元雰囲気での熱処理時間を短縮にすることにより非着色部における望ましくない着色を低減することができる。例えば、図4のように、板状のガラスにおいて、ガラスの第1主面および第2主面に着色層を形成する場合、熱処理時間を半分にすることにより第1主面および第2主面の着色層のそれぞれのOD(optical density)もおよそ半分になるが、ガラスの第1主面および第2主面に同形状かつ平面視における同じ位置に着色層を形成することにより、第1主面の着色層のODと第2主面の着色層のODとの合計を遮光部のODとすることができる。また、非着色部においては、還元雰囲気での熱処理時間を半分にすることで、熱処理による着色は半減し十分に低減される。その結果、着色層は遮光部として十分な遮光性を確保し、非着色部は透光部として十分な透光性を確保できる。なお、非着色部における透光性の確保と着色層の十分な遮光性の確保とを両立できる範囲内であれば、第1主面の着色層と第2主面の着色層とは厳密に同形状でなくてもよいし、2つの着色層の平面視における位置は厳密に同じでなくてもよい。
本実施形態に係るガラスは、板状のガラスであって、側面に任意形状の着色層を有してもよい。本実施形態に係るガラスは、側面において、その全面に着色層を有してもよく、任意形状にパターニングされた着色層を有してもよい。着色層は遮光の機能を有する。したがって、本実施形態に係るガラスをカバーガラスとして用いる場合には、側面に任意形状の着色層を設けることで、固体撮像素子周辺のリードフレーム等の側面からの迷光を抑制することができる。
上述のとおり、本実施形態に係るガラスは、板状のガラスであって、第1主面および第2主面に着色層を有することで、カバーガラスとして用いる場合には、カバーガラスの正面からの迷光を防止できる。さらに、本実施形態に係るガラスは、板状のガラスであって、第1主面、第2主面、および側面に任意形状の着色層を有してもよい。このようなガラスをカバーガラスとして用いることで、正面および側面で発生する迷光を抑制できる。
本実施形態に係るガラスにおいて、ガラスが板状である場合には、ガラスの厚さは特に制限されないが、1mm以下、0.7mm以下、または0.5mm以下でもよい。本実施形態に係るガラスは、上記範囲の厚さを有する板状であって、着色層を上述のとおり適宜配置することで、カバーガラスの機能を有する光学素子として用いることができる。
本実施形態に係るガラスは、貫通孔を有し、貫通孔の内周部に任意形状の着色層を有してもよい。例えば、図5のように、チューブ状のガラスであって、貫通孔の内周部に着色層を形成したガラスでもよい。貫通孔の位置や長さには特に制限はない。例えば板状のガラスにおいて、任意の位置に貫通孔を設け、その貫通孔の内周部に任意形状の着色層を形成してもよい。また、貫通孔の内周部以外の部位では、着色層を形成してもよく、形成しなくてもよい。
本実施形態に係るガラスは、凹部を有し、凹部の内壁面に任意形状の着色層を有してもよい。例えば、1以上の凹部において、その凹部の内壁面の全面に着色層を有してもよく、内壁面に任意形状にパターニングされた着色層を有してもよい。凹部の形状、位置および大きさに特に制限はない。例えば図6のように、複数の凹部の内壁面に着色層を設けることができる。
本実施形態に係るガラスは、凸部を有し、その凸部に任意形状の着色層を有してもよい。例えば、1以上の凸部において、その全面に着色層を有してもよく、凸部に任意形状にパターニングされた着色層を有してもよい。凸部の形状、位置および大きさに特に制限はない。
本実施形態に係るガラスは光学素子として使用することができる。光学素子として使用する観点からは、本実施形態に係るガラスが光学ガラスであることが好ましい。ただし、本実施形態に係るガラスは、着色層の装飾性を活かして、装飾品、小型電子機器の外装等として使用できるから、光学ガラスに限定されるものではない。
本実施形態に係るガラスにおいて、着色層と非着色部とでは、ガラス成分組成は同じである。ただし、着色層と非着色部とでは、ガラス成分(カチオン)の価数が異なる場合がある。
着色層の着色は、好ましくはガラス成分に起因する還元色であり、より好ましくは遷移金属に起因する還元色である。遷移金属としては、例えばTi、Nb、WおよびBiが挙げられる。したがって、本実施形態に係るガラスは、Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、およびBiイオンからなる群から選択される1以上のガラス成分を含み、好ましくは、Biイオンを含む。
従来、ガラスに遮光性を付与するためには、吸収させる光の波長域に合わせてCuO、CoO、およびV2O5等の着色成分をガラス成分として含有させていた(例えば、国際公開2015/125565号)。そのため、吸収させる光の波長域によって含有すべきガラス成分を調整する必要があり、例えばカバーガラスの遮光部として用いるには、さまざまな着色成分を含有させる必要があった。一方で、カバーガラスの透光部は、可視域から赤外域といった幅広い波長域で十分な透光性を有することが求められる。その結果、遮光部として用いるガラスと、透光部として用いるガラスとでは、必然的に組成を大きく変える必要があった。一般に、ガラスの化学的および物理的特性はガラス組成に大きく依存する。すなわち、ガラス組成が異なると、ガラスの膨張係数など特性に相違が生じる。そのため、組成が異なるガラス同士を融着等の手法で接合しようとすると、残留応力に起因する歪みや変形が生じたり、接合したガラスの強度が低下するなどの問題があった。また、融着して一体化する場合には、ガラスを流動変形させて接合させる必要があり、そのためにガラスを適当な形状に加工する工程が必要となる。さらに、ガラスを流動変形させるため、接合するガラスの形状を高い精度で制御することは困難であった。
これに対して、本実施形態では、ガラスの一部に着色層を形成できるから、着色層と非着色部とでガラス組成は同じであり、接合することなしに着色層と非着色部とを1つのガラスに併せ持つことができる。また、本実施形態において、着色層は十分な遮光性を有しており、非着色部は十分な透光性を有している。さらに、本実施形態では、任意形状の着色層を形成でき、着色層と非着色部とのコントラストは明瞭であるから、高い精度で着色層の形状を制御できる。そして、本実施形態に係るガラスでは、着色層と非着色部とで屈折率がほぼ同じであるから、カバーガラスとして用いる場合には、着色層と非着色部との界面反射を抑え、迷光を効果的に抑制できる。
したがって、本実施形態に係るガラスは、遮光部と透光部とを有し、該遮光部および該透光部のガラス組成が同じであるカバーガラスとして用いることができる。このとき、遮光部は着色層からなり、透光部は非着色部である。遮光部は任意形状とすることができる。遮光部および透光部の組成を同じにすることで、遮光部および透光部の屈折率をほぼ同じにできるので、遮光部と透光部との界面反射を抑え、迷光を効果的に抑制できる。
(着色層の厚み)
着色層の厚みは特に制限されないが、好ましくは1~300μmであり、より好ましくは20~200μmで、更に好ましくは30~150μmである。
着色層の厚みは特に制限されないが、好ましくは1~300μmであり、より好ましくは20~200μmで、更に好ましくは30~150μmである。
(OD)
本実施形態に係るガラスにおいて、可視域(400nm~760nmの波長域)から赤外域にかけての波長域における着色層の分光透過率は、波長が長くなるにつれて増加傾向を示す。一方、着色層のODは、波長が長くなるにつれて減少傾向を示す。ODとは、光学密度または光学濃度(optical density)であり、下記式で示すように、入射光強度I0と透過光強度Iの比の常用対数に負号(マイナス)を付けた数値として表される。
OD=-log10(I/Io)
本実施形態に係るガラスにおいて、可視域(400nm~760nmの波長域)から赤外域にかけての波長域における着色層の分光透過率は、波長が長くなるにつれて増加傾向を示す。一方、着色層のODは、波長が長くなるにつれて減少傾向を示す。ODとは、光学密度または光学濃度(optical density)であり、下記式で示すように、入射光強度I0と透過光強度Iの比の常用対数に負号(マイナス)を付けた数値として表される。
OD=-log10(I/Io)
本実施形態に係るガラスが、着色層と、可視域の透過率の大きい非着色部とからなる場合、着色層のODは大きい一方で、非着色部のODは小さくなる。ODの測定において、測定光が着色層と非着色部との両方を通過する場合、非着色部のODは十分小さいので、着色層のODが支配的となる。
本実施形態に係るガラスにおいて、着色層を有する部分の波長1100nmにおけるODは、好ましくは0.3以上であり、さらには0.4以上、0.5以上、0.7以上、1.0以上、1.5以上の順により好ましい。一方、非着色部の波長1100nmにおけるODは、好ましくは0.15以下であり、より好ましくは0.1以下である。
通常、CCDやCMOSセンサーなどの光学センサーの感度域は可視域から1100nm付近にまで及ぶ。上記範囲のODを有する着色層を設けることで、光学センサーの感度域全域にわたり遮光できるガラスが得られる。したがって、本実施形態に係るガラスは、可視域から1100nmの波長域の光線に対し、透過率を制御できるものであることが好ましい。
なお、向かい合う2つの面を有するガラスにおいて、同じ厚みおよび同じ着色の程度を有する着色層をその両面に設ける場合のODは、同じ着色層を片面のみに設ける場合の約2倍となる。
また、本実施形態に係るガラスでは、可視域から近赤外域にかけての波長域において、波長の増加とともにODは減少する。そのため、着色層を有する部分おいて、たとえば波長780nmにおけるODは、波長1100nmにおけるODよりも大きくなる。
したがって、遮光したい波長領域がある場合には、その波長領域における長波長側の波長でのODが高くなるように設計する。可視光のみを遮光するガラスを設計する場合は、可視光領域の長波長側(例えば、780nm)においてODが高くなるように設定すればよい。また、可視域から近赤外域を遮光するガラスを設計する場合には、近赤外域の波長(例えば波長1100nm)においてODが高くなるように設定すればよい。ODは、着色層の厚さや着色の程度を調整することにより制御できる。
なお、本実施形態に係るガラスにおいて、非着色部は、好ましくは可視域から赤外域の波長域の光線に対し高い透過率を有し、より好ましくは可視域から1100nmの波長域の光線に対し高い透過率を有す。特に、非着色部の厚さ1mmにおける透過率は、波長400~800nmの光線に対して好ましくは50%以上であり、さらには60%以上、70%以上、75%以上、77%以上、80%以上の順により好ましい。また、非着色部のλ70は、好ましくは550nm以下であり、さらには500nm以下、480nm以下、460nm以下、450nm以下の順により好ましい。なお、λ70とは、厚さ10.0mm±0.1mmのガラス試料について分光透過率を測定し、外部透過率が70%となる波長である。
(屈折率)
本実施形態に係るガラスにおいて、屈折率ndは、好ましくは1.70以上であり、さらには1.73以上、1.75以上、1.76以上、1.77以上、1.78以上、1.79以上、1.80以上の順により好ましい。屈折率ndの上限は、特に限定されないが、通常2.5であり、好ましくは2.3である。
本実施形態に係るガラスにおいて、屈折率ndは、好ましくは1.70以上であり、さらには1.73以上、1.75以上、1.76以上、1.77以上、1.78以上、1.79以上、1.80以上の順により好ましい。屈折率ndの上限は、特に限定されないが、通常2.5であり、好ましくは2.3である。
(ガラス組成)
本実施形態に係るガラスの組成について、以下に非制限的な例を示す。
本実施形態に係るガラスの組成について、以下に非制限的な例を示す。
本実施形態に係るガラスは、リン酸塩ガラスであることが好ましい。リン酸塩ガラスとは、ガラスのネットワーク形成成分として主にP5+を含有するガラスをいう。ガラスのネットワーク形成成分として、P5+、B3+、Si4+、Al3+等が知られている。ここで、ガラスのネットワーク形成成分として主にリン酸塩を含むとは、P5+の含有量が、B3+、Si4+、Al3+のいずれの含有量よりも多いことを意味する。リン酸塩ガラスであることで、着色層における着色の程度を高めることができる。
本実施形態に係るガラスにおいて、P5+の含有量の下限は、好ましくは10%であり、さらには13%、15%、17%、20%の順により好ましい。また、P5+の含有量の上限は、好ましくは50%であり、さらには45%、40%、38%、35%、33%、30%の順により好ましい。
P5+は、ガラスのネットワーク形成成分である。一方、P5+を過剰に含むと熔融性が悪化する。そのため、P5+の含有量は上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、B3+の含有量の上限は、好ましくは30%であり、さらには25%、20%、15%、13%、10%の順により好ましい。また、B3+の含有量の下限は、好ましくは0.1%であり、さらには0.5%、1%、3%、5%の順により好ましい。B3+の含有量は0%であってもよい。
B3+は、ガラスのネットワーク形成成分であり、ガラスの熔融性を改善する働きを有する。一方、B3+の含有量が多すぎると、化学的耐久性が低下する傾向がある。そのため、B3+の含有量は上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、P5+の含有量に対するB3+の含有量のカチオン比[B3+/P5+]の上限は、好ましくは0.70であり、さらには0.60、0.55、0.50の順により好ましい。カチオン比[B3+/P5+]は0であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Si4+の含有量の上限は、好ましくは10%であり、さらには7%、5%、3%、2%、1%の順により好ましい。また、Si4+の含有量の下限は、好ましくは0.1%であり、さらには0.2%、0.3%、0.4%、0.5%の順により好ましい。Si4+の含有量は0%であってもよい。
Si4+は、ガラスのネットワーク形成成分であり、ガラスの熱的安定性、化学的耐久性、耐候性を改善する働きを有する。一方、Si4+の含有量が多すぎると、ガラスの熔融性が低下し、ガラス原料が熔け残る傾向がある。そのため、Si4+の含有量は上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Al3+の含有量の上限は、好ましくは10%であり、さらには7%、5%、3%、1%の順により好ましい。Al3+の含有量は0%であってもよい。
Al3+は、ガラスの化学的耐久性、耐候性を改善する働きを有する。一方、Al3+の含有量が多すぎると、ガラスの熱的安定性が低下し、ガラス転移温度Tgが上昇して、熔融性が低下しやすい。そのため、Al3+の含有量は上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、P5+、B3+、Si4+およびAl3+の合計含有量[P5++B3++Si4++Al3+]の下限は、好ましくは10%であり、さらには15%、18%、20%、23%、25%の順により好ましい。また、合計含有量[P5++B3++Si4++Al3+]の上限は、好ましくは60%であり、さらには50%、45%、40%、37%、35%の順により好ましい。
本実施形態に係るガラスは、ガラス成分として、好ましくは遷移金属を有し、より好ましくはTiイオン、Nbイオン、BiイオンおよびWイオンからなる群から選択される少なくとも1つのガラス成分を有し、さらに好ましくはBiイオンを含有する。
本実施形態に係るガラスにおいて、Tiイオンの含有量の下限は、好ましくは1%であり、さらには2%、3%の順により好ましい。また、Tiイオンの含有量の上限は、好ましくは45%であり、さらには40%、35%、30%、25%、20%、15%、12%の順により好ましい。ここで、Tiイオンは、Ti4+、Ti3+の他、価数の異なる全てのTiイオンを含むものとする。
Tiイオンは、Nbイオン、WイオンおよびBiイオンと同様に、高屈折率化に大きく寄与し、また、ガラスの着色を増大する働きを有する。一方、Tiイオンの含有量が多すぎると、ガラスの熔融性が低下し、ガラス原料が熔け残る傾向がある。そのため、Tiイオンの含有量は上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Nbイオンの含有量の下限は、好ましくは1%であり、さらには5%、10%、15%の順により好ましい。また、Nbイオンの含有量の上限は、好ましくは45%であり、さらには40%、35%、30%、25%、23%、20%の順により好ましい。Nbイオンは、Nb5+の他、価数の異なる全てのNbイオンを含むものとする。
Nbイオンは、高屈折率化に寄与し、ガラスの着色を増大する成分である。また、ガラスの熱的安定性および化学的耐久性を改善する働きを有する。一方、Nbイオンの含有量が多すぎると、ガラスの熱的安定性が低下する傾向がある。そのため、Nbイオンの含有量は上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Wイオンの含有量の上限は、好ましくは30%であり、さらには25%、20%、15%、13%の順により好ましい。また、Wイオンの含有量の下限は、好ましくは0.5%であり、さらには1%、2%、3%の順により好ましい。Wイオンは、W6+の他、価数の異なる全てのWイオンを含むものとする。
Wイオンは、高屈折率化に寄与し、また、ガラスの着色を増大する働きを有する。そのため、Wイオンの含有量は上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Biイオンの含有量の上限は、好ましくは40%であり、さらには35%、30%、28%、25%の順により好ましい。また、Biイオンの含有量の下限は、好ましくは0.5%であり、さらには1%、2%、2.5%の順により好ましい。Biイオンは、Bi3+の他、価数の異なる全てのBiイオンを含むものとする。
Biイオンは、高屈折率化に寄与し、また、ガラスの着色を増大する働きを有する。そのため、Biイオンの含有量は上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Tiイオン、NbイオンおよびWイオンの合計含有量[Ti+Nb+W]の下限は、好ましくは1%であり、さらには5%、10%、15%、20%、23%の順により好ましい。また、合計含有量[Ti+Nb+W]の上限は、好ましくは60%であり、さらには55%、50%、45%、40%、38%、35%の順により好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Tiイオン、Nbイオン、WイオンおよびBiイオンの合計含有量[Ti+Nb+W+Bi]の上限は、好ましくは80%であり、さらには75%、70%、68%、65%の順により好ましい。また、合計含有量[Ti+Nb+W+Bi]の下限は、好ましくは1%であり、さらには5%、10%、15%、20%、23%、25%の順により好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、P5+、B3+およびSi4+の合計含有量に対するTiイオン、Nbイオン、WイオンおよびBiイオンの合計含有量のカチオン比[(Ti+Nb+W+Bi)/(P5++B3++Si4+)]の下限は、好ましくは0.1であり、さらには0.3、0.5、0.6、0.7の順により好ましい。また、カチオン比[(Ti+Nb+W+Bi)/(P5++B3++Si4+)]の上限は、好ましくは4.0であり、さらには3.5、3.0、2.7、2.5の順により好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Ta5+の含有量の上限は、好ましくは5%であり、さらには3%、2%、1%の順により好ましい。Ta5+の含有量は0%であってもよい。
Ta5+は、ガラスの熱的安定性を改善する働きを有する。一方、Ta5+の含有量が多すぎると、ガラスが低屈折率化し、また熔融性が低下する傾向がある。そのため、Ta5+の含有量は上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Li+の含有量の上限は、好ましくは35%であり、さらには30%、27%、25%、23%、20%の順により好ましい。また、Li+の含有量の下限は、好ましくは1%であり、さらには2%、3%、5%、8%の順により好ましい。Li+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Na+の含有量の上限は、好ましくは40%であり、さらには35%、30%、25%、20%、18%の順により好ましい。また、Na+の含有量の下限は、好ましくは0.5%であり、さらには1%、1.5%、3%、5%の順により好ましい。Na+の含有量は0%であってもよい。
ガラスがLi+またはNa+を含有することで、ガラスに化学強化を施すことが容易となる。一方、Li+またはNa+の含有量が多すぎると、ガラスの熱的安定性が低下するおそれがある。そのため、Li+およびNa+の各含有量はそれぞれ上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Li+およびNa+の合計含有量[Li++Na+]の上限は、好ましくは45%であり、さらには43%、40%、38%の順により好ましい。また、合計含有量[Li++Na+]の下限は、好ましくは1%であり、さらには5%、10%、15%、20%の順により好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、K+の含有量の上限は、好ましくは20%であり、さらには15%、13%、10%、8%、5%、3%の順により好ましい。また、K+の含有量の下限は、好ましくは0.1%であり、さらには0.5%、1.0%、1.2%の順により好ましい。K+の含有量は0%であってもよい。
K+は、ガラスの熱的安定性を改善する働きを有する。一方、K+の含有量が多すぎると、熱的安定性が低下する傾向がある。したがって、K+の含有量は上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Rb+の含有量の上限は、好ましくは5%であり、さらには3%、1%、0.5%の順により好ましい。Rb+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Cs+の含有量の上限は、好ましくは5%であり、さらには3%、1%、0.5%の順により好ましい。Cs+の含有量は0%であってもよい。
Rb+およびCs+は、ガラスの熔融性を改善する働きを有する。一方、これらの含有量が多すぎると、屈折率ndが低下し、また熔解中にガラス成分の揮発が増加するおそれがある。そのため、Rb+およびCs+の各含有量は、それぞれ上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Mg2+の含有量の上限は、好ましくは15%であり、さらには10%、5%、3%、1%の順により好ましい。Mg2+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Ca2+の含有量の上限は、好ましくは15%であり、さらには10%、5%、3%、1%の順により好ましい。Ca2+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Sr2+の含有量の上限は、好ましくは15%であり、さらには10%、5%、3%、1%の順により好ましい。Sr2+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Ba2+の含有量の上限は、好ましくは25%であり、さらには20%、18%、15%、10%、5%の順により好ましい。Ba2+の含有量は0%であってもよい。
Mg2+、Ca2+、Sr2+およびBa2+は、いずれもガラスの熱的安定性、熔融性を改善させる働きを有する。一方、これらの含有量が多すぎると、高屈折率性が損なわれ、また、ガラスの熱的安定性が低下するおそれがある。そのため、これらガラス成分の各含有量は、それぞれ上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Mg2+、Ca2+、Sr2+およびBa2+の合計含有量[Mg2++Ca2++Sr2++Ba2+]の上限は、好ましくは30%であり、さらには25%、20%、18%、15%、10%、5%の順により好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Zn2+の含有量の上限は、好ましくは15%であり、さらには10%、8%、5%、3%、1%の順により好ましい。また、Zn2+の含有量の下限は、好ましくは0.1%であり、さらには0.3%、0.5%の順により好ましい。Zn2+の含有量は0%であってもよい。
Zn2+は、ガラスの熱的安定性を改善する働きを有する。一方、Zn2+の含有量が多すぎると、熔融性が悪化するおそれがある。そのため、Zn2+の含有量は上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Zr4+の含有量の上限は、好ましくは5%であり、さらには3%、2%、1%の順により好ましい。Zr4+の含有量は0%であってもよい。
Zr4+は、ガラスの熱的安定性を改善する働きを有する。一方、Zr4+の含有量が多すぎると、ガラスの熱的安定性および熔融性が低下する傾向がある。そのため、Zr4+の含有量は上記範囲であることが好ましい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Ga3+の含有量の上限は、好ましくは3%であり、さらには2%、1%の順により好ましい。また、Ga3+の含有量の下限は、好ましくは0%である。Ga3+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、In3+の含有量の上限は、好ましくは3%であり、さらには2%、1%の順により好ましい。また、In3+の含有量の下限は、好ましくは0%である。In3+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Sc3+の含有量の上限は、好ましくは3%であり、さらには2%、1%の順により好ましい。また、Sc3+の含有量の下限は、好ましくは0%である。Sc3+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Hf4+の含有量の上限は、好ましくは3%であり、さらには2%、1%の順により好ましい。また、Hf4+の含有量の下限は、好ましくは0%である。Hf4+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Lu3+の含有量の上限は、好ましくは3%であり、さらには2%、1%の順により好ましい。また、Lu3+の含有量の下限は、好ましくは0%である。Lu3+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Ge4+の含有量の上限は、好ましくは3%であり、さらには2%、1%の順により好ましい。また、Ge4+の含有量の下限は、好ましくは0%である。Ge4+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、La3+の含有量の上限は、好ましくは5%であり、さらには4%、3%の順により好ましい。また、La3+の含有量の下限は、好ましくは0%である。La3+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Gd3+の含有量の上限は、好ましくは5%であり、さらには4%、3%の順により好ましい。また、Gd3+の含有量の下限は、好ましくは0%である。Gd3+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Y3+の含有量の上限は、好ましくは5%であり、さらには4%、3%の順により好ましい。また、Y3+の含有量の下限は、好ましくは0%である。Y3+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスにおいて、Yb3+の含有量の上限は、好ましくは3%であり、さらには2%、1%の順により好ましい。また、Yb3+の含有量の下限は、好ましくは0%である。Yb3+の含有量は0%であってもよい。
本実施形態に係るガラスのカチオン成分は、主として上述の成分、すなわち、P5+、B3+、Si4+、Al3+、Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、Biイオン、Ta5+、Li+、Na+、K+、Rb+、Cs+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Zn2+、Zr4+、Ga3+、In3+、Sc3+、Hf4+、Lu3+、Ge4+、La3+、Gd3+、Y3+およびYb3+で構成されていることが好ましく、上述の成分の合計含有量は、95%よりも多くすることが好ましく、98%よりも多くすることがより好ましく、99%よりも多くすることがさらに好ましく、99.5%よりも多くすることが一層好ましい。
本実施形態に係るガラスは、アニオン成分として、F-およびO2-以外の成分を含んでいてもよい。F-およびO2-以外のアニオン成分として、Cl-、Br-、I-を例示できる。しかし、Cl-、Br-、I-は、いずれもガラスの熔融中に揮発しやすい。これらの成分の揮発によって、ガラスの特性が変動する、ガラスの均質性が低下する、熔融設備の消耗が著しくなる等の問題が生じる。したがって、Cl-の含有量は、5アニオン%未満であることが好ましく、より好ましくは3アニオン%未満、さらに好ましくは1アニオン%未満、特に好ましくは0.5アニオン%未満、一層好ましくは0.25アニオン%未満である。また、Br-およびI-の合計含有量は、5アニオン%未満であることが好ましく、より好ましくは3アニオン%未満、さらに好ましくは1アニオン%未満、特に好ましくは0.5アニオン%未満、一層好ましくは0.1アニオン%未満、より一層好ましくは0アニオン%である。
なお、アニオン%とは、全てのアニオン成分の含有量の合計を100%としたときのモル百分率である。
本実施形態に係るガラスは、基本的に上記成分により構成されることが好ましいが、本発明の作用効果を妨げない範囲において、その他の成分を含有させることも可能である。
例えば、本実施形態に係るガラスは、さらに、ガラスに近赤外光吸収特性を付与するために、ガラス成分として適量の銅(Cu)を含有してもよい。その他にも、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Pr,Nd、Pm、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ce等を含有してもよい。これらは、ガラスの着色を増大させ、蛍光の発生源となり得る。
また、本発明において、不可避的不純物の含有を排除するものではない。
<その他の成分組成>
Pb、As、Cd、Tl、Be、Seは、いずれも毒性を有する。そのため、本実施形態のガラスはこれら元素をガラス成分として含有しないことが好ましい。
Pb、As、Cd、Tl、Be、Seは、いずれも毒性を有する。そのため、本実施形態のガラスはこれら元素をガラス成分として含有しないことが好ましい。
U、Th、Raはいずれも放射性元素である。そのため、本実施形態のガラスはこれら元素をガラス成分として含有しないことが好ましい。
Sb3+、Sn4+、およびCe4+は清澄剤として機能する、任意に添加可能なガラス成分である。このうち、Sb3+は、清澄効果の大きな清澄剤である。
Sb3+の含有量は、Sb2O3に換算し、外割りの質量%表示とする。ここで外割り表示とはSb3+、Sn4+、およびCe4+以外のカチオン成分の含有比率をSb2O3と同様、酸化物に換算し、Sb3+、Sn4+、およびCe4+以外の全てのカチオン成分の含有比率の合計が100質量%になるようにしたときのSb2O3の含有量を質量%で表示することである。Sb2O3の含有量は、好ましくは2質量%未満、より好ましくは1質量%未満、さらに好ましくは0.5質量%未満、一層好ましくは0.2質量%未満、0.1質量%未満、0.05質量%未満である。Sb2O3の含有量を上記範囲とすることによりガラスの清澄性を改善できる。
Sn4+およびCe4+の各含有量も、酸化物換算し外割り表示とする。すなわち、Sb3+、Sn4+、およびCe4+以外のカチオン成分の含有比率を酸化物に換算し、Sb3+、Sn4+、およびCe4+以外の全てのカチオン成分の含有比率の合計が100質量%になるようにしたときのSnO2の含有量、CeO2の含有量を質量%で表示する。SnO2およびCeO2の各含有量は、それぞれ好ましくは2質量%未満、より好ましくは1質量%未満、さらに好ましくは0.5質量%未満、一層好ましくは0.1質量%未満である。SnO2およびCeO2の各含有量は0質量%であってもよい。SnO2およびCeO2の各含有量をそれぞれ上記範囲とすることによりガラスの清澄性を改善できる。
(ガラスの製造)
本実施形態に係るガラスは、着色の無いガラスを調製し、そこに任意形状の着色層を形成することで得られる。着色の無いガラスは、公知のガラス製造方法に従って作製すればよい。例えば、複数種の化合物を調合し、十分混合してバッチ原料とし、バッチ原料を熔融容器中に入れて熔融、清澄、均質化した後に熔融ガラスを成形し、徐冷してガラスを得る。あるいは、バッチ原料を熔融容器中に入れて粗熔解(ラフメルト)する。粗熔解によって得られた熔融物を急冷、粉砕してカレットを作製する。さらにカレットを熔融容器中に入れて加熱、再熔融(リメルト)して熔融ガラスとし、さらに清澄、均質化した後に熔融ガラスを成形し、徐冷してガラスを得ることもできる。熔融ガラスの成形、徐冷には、公知の方法を適用すればよい。
本実施形態に係るガラスは、着色の無いガラスを調製し、そこに任意形状の着色層を形成することで得られる。着色の無いガラスは、公知のガラス製造方法に従って作製すればよい。例えば、複数種の化合物を調合し、十分混合してバッチ原料とし、バッチ原料を熔融容器中に入れて熔融、清澄、均質化した後に熔融ガラスを成形し、徐冷してガラスを得る。あるいは、バッチ原料を熔融容器中に入れて粗熔解(ラフメルト)する。粗熔解によって得られた熔融物を急冷、粉砕してカレットを作製する。さらにカレットを熔融容器中に入れて加熱、再熔融(リメルト)して熔融ガラスとし、さらに清澄、均質化した後に熔融ガラスを成形し、徐冷してガラスを得ることもできる。熔融ガラスの成形、徐冷には、公知の方法を適用すればよい。
さらに、本実施形態に係るガラスの製造工程には、熔融ガラス中の水分量を高める工程が含まれてもよい。熔融ガラス中の水分量を高める工程としては、熔融雰囲気に水蒸気を付加する工程、熔融物内に水蒸気を含むガスをバブリングする工程が挙げられる。その中でも、熔融雰囲気に水蒸気を付加する工程を含むことが好ましい。熔融ガラス中の水分量を高める工程を含むことで、ガラスのβOH値を高めることができる。βOH値を高めることで、より透明性の高いガラスが得られる。
(着色層の形成)
本実施形態に係るガラスにおいて、着色層は、ガラス表面に任意形状の金属膜を形成する工程、および、還元雰囲気で熱処理をする工程により形成できる。
本実施形態に係るガラスにおいて、着色層は、ガラス表面に任意形状の金属膜を形成する工程、および、還元雰囲気で熱処理をする工程により形成できる。
金属膜を構成する金属としては、雰囲気中の水素イオンを吸蔵し、さらに水素イオンおよび電子の授受によりガラスに含まれるガラス成分を還元する働きを有する金属が好ましい。ガラス成分の中でも遷移金属を還元する働きを有する金属がより好ましい。具体的には、Ni、Au、Ag、Pt、Pd、およびPt-Pd合金など前記金属を含む合金が挙げられる。
着色層の形成には、上記のような金属膜を構成する金属を含む金属ペーストを用いてもよい。また、ガラス表面に金属膜を形成する方法としては、ガラス表面に金属膜が密着できれば特に制限されず、例えば、蒸着、スパッタリング、メッキ、スクリーン印刷、または塗布等が挙げられる。
還元雰囲気は、還元力を有するガスを含んでいればよい。還元力を有するガスとしては、例えば水素が挙げられる。よって、還元雰囲気として水素含有ガスを用いることが好ましく、水素を含有するフォーミングガスを用いてもよい。フォーミングガスとは、水素と窒素とからなる混合ガスであり、通常、水素を3~5体積%程度含む。
熱処理では、ガラス転移温度Tgより200℃低い温度(Tg-200)以上、軟化点温度以下で加熱する。熱処理時間は、目的とする着色の程度、着色層の範囲、着色層の厚み等によって適宜調整できる。
熱処理後、金属膜をガラス表面から剥離する。剥離する方法としては、特に制限されないが、研磨や、酸性の液体で溶解して除去する方法等が挙げられる。
還元雰囲気における熱処理によって、金属膜と接触しているガラス表面から内部にわたって、着色層が形成される。
上記方法により着色層が形成されるメカニズムは、特に限定されないが、以下にように考えられる。
本実施形態において形成される着色層の着色は、ガラス成分に起因する還元色と考えられ、特に遷移金属に起因する還元色であると考えられる。通常、ガラス成形体を、水素を3~5体積%程度の低濃度で含む雰囲気中で熱処理しても、ガラスはほとんど還元色を呈しない。しかし、上記金属膜は、雰囲気中の水素イオンを吸蔵するため、ガラスの金属膜と接触する部分は、金属膜と接触していない部分と比べて、水素イオンが多く供給され、その結果、還元反応が速く進行する。そのため、ガラスの金属膜と接触する部分は濃く着色する。金属膜による水素イオンの吸蔵量は大きく、金属膜の吸蔵により雰囲気中の水素濃度が低下するほどである。このこともあって、金属膜と接触していない部分は還元反応が進行しにくい。
本実施形態において形成される着色層の着色は、ガラス成分に起因する還元色と考えられ、特に遷移金属に起因する還元色であると考えられる。通常、ガラス成形体を、水素を3~5体積%程度の低濃度で含む雰囲気中で熱処理しても、ガラスはほとんど還元色を呈しない。しかし、上記金属膜は、雰囲気中の水素イオンを吸蔵するため、ガラスの金属膜と接触する部分は、金属膜と接触していない部分と比べて、水素イオンが多く供給され、その結果、還元反応が速く進行する。そのため、ガラスの金属膜と接触する部分は濃く着色する。金属膜による水素イオンの吸蔵量は大きく、金属膜の吸蔵により雰囲気中の水素濃度が低下するほどである。このこともあって、金属膜と接触していない部分は還元反応が進行しにくい。
ここで、着色の要因となるガラス成分の還元反応は、金属膜と接触する部分からあらゆる方向に進行する。すなわち、着色層は、ガラスの断面から観察すると、金属膜と接触するガラス表面から厚さ方向に形成され、ガラスの表面から観察すると、金属膜と接触する部分から放射状に形成される。
上記方法によれば、より濃く着色された着色層を形成できる。したがって、着色層の厚みが小さくても、透過率は十分に低減できる。着色層の厚みが小さい場合、ガラスの表面から観察される、金属膜と接触していた部分から放射状に形成される着色層の範囲も小さくなる。つまり、本実施形態によれば、着色層の形成条件を調整することで、ガラス表面から観察した場合に、金属膜と略同形状の着色層を形成できる。
(光学素子等の製造)
本実施形態に係るガラスからなる光学素子は、着色の無い光学素子を調製し、そこに任意形状の着色層を形成することで得られる。着色の無い光学素子は、公知の製造方法に従って作製すればよい。例えば、熔融ガラスを鋳型に流し込んで板状に成形し、ガラス素材を作製する。得られたガラス素材を適宜、切断、研削、研磨し、プレス成形に適した大きさ、形状のカットピースを作製する。カットピースを加熱、軟化して、公知の方法でプレス成形(リヒートプレス)し、光学素子の形状に近似する光学素子ブランクを作製する。光学素子ブランクをアニールし、公知の方法で研削、研磨して光学素子を作製する。
本実施形態に係るガラスからなる光学素子は、着色の無い光学素子を調製し、そこに任意形状の着色層を形成することで得られる。着色の無い光学素子は、公知の製造方法に従って作製すればよい。例えば、熔融ガラスを鋳型に流し込んで板状に成形し、ガラス素材を作製する。得られたガラス素材を適宜、切断、研削、研磨し、プレス成形に適した大きさ、形状のカットピースを作製する。カットピースを加熱、軟化して、公知の方法でプレス成形(リヒートプレス)し、光学素子の形状に近似する光学素子ブランクを作製する。光学素子ブランクをアニールし、公知の方法で研削、研磨して光学素子を作製する。
作成した光学素子に、上記方法により着色層を形成できる。また、光学素子を作製する途中の段階で着色層を形成してもよい。
作製した光学素子の光学機能面には使用目的に応じて、反射防止膜、全反射膜などをコーティングしてもよい。
本発明の一態様によれば、上記ガラスからなる光学素子を提供することができる。光学素子の種類としては、球面レンズ、非球面レンズ等のレンズ、プリズム等を例示することができる。レンズの形状としては、両凸レンズ、平凸レンズ、両凹レンズ、平凹レンズ、凸メニスカスレンズ、凹メニスカスレンズ等の諸形状を例示することができる。光学素子は、上記ガラスからなるガラス成形体を加工する工程を含む方法により製造することができる。加工としては、切断、切削、粗研削、精研削、研磨等を例示することができる。
また、光学素子の一例として、CCDやCMOSセンサーのようなイメージセンサーの受光面に斜入射する光を遮光するための光学素子が挙げられる。具体的には、イメージセンサーの受光面に斜入射光を遮断するカバーガラスが挙げられる。
また、本発明の一態様によれば、着色層の装飾性を活かして、装飾品、小型電子機器の外装等として使用できる。
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
表1に示すガラス組成を有するガラスサンプルを以下の手順で作製し、各種評価を行った。
[ガラスの製造]
ガラスの構成成分に対応する酸化物、水酸化物、メタリン酸塩、炭酸塩、および硝酸塩を原材料として準備し、得られるガラスの組成が、表1に示す各組成となるように上記原材料を秤量、調合して、原材料を十分に混合した。得られた調合原料(バッチ原料)を、白金坩堝に投入し、1100~1450℃で2~3時間加熱して熔融ガラスとした。熔融ガラスを攪拌して均質化を図り、清澄してから、熔融ガラスを適当な温度に予熱した金型に鋳込んだ。鋳込んだガラスを、ガラス転移温度Tg付近で1時間程度熱処理し、炉内で室温まで放冷した。縦40mm、横60mm、厚さ15mmの大きさに加工し、40mm×60mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)して、ガラスサンプルを得た。
ガラスの構成成分に対応する酸化物、水酸化物、メタリン酸塩、炭酸塩、および硝酸塩を原材料として準備し、得られるガラスの組成が、表1に示す各組成となるように上記原材料を秤量、調合して、原材料を十分に混合した。得られた調合原料(バッチ原料)を、白金坩堝に投入し、1100~1450℃で2~3時間加熱して熔融ガラスとした。熔融ガラスを攪拌して均質化を図り、清澄してから、熔融ガラスを適当な温度に予熱した金型に鋳込んだ。鋳込んだガラスを、ガラス転移温度Tg付近で1時間程度熱処理し、炉内で室温まで放冷した。縦40mm、横60mm、厚さ15mmの大きさに加工し、40mm×60mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)して、ガラスサンプルを得た。
[ガラス成分組成の確認]
得られたガラスサンプルについて、誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP-AES)で各ガラス成分の含有量を測定し、表1に示す各組成のとおりであることを確認した。
得られたガラスサンプルについて、誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP-AES)で各ガラス成分の含有量を測定し、表1に示す各組成のとおりであることを確認した。
[光学特性の測定]
得られたガラスサンプルについて、屈折率nd、比重およびガラス転移温度Tgを測定した。結果を表1に示す。
得られたガラスサンプルについて、屈折率nd、比重およびガラス転移温度Tgを測定した。結果を表1に示す。
(i)屈折率nd
JIS規格 JIS B 7071-1の屈折率測定法により、屈折率ndを測定した。
JIS規格 JIS B 7071-1の屈折率測定法により、屈折率ndを測定した。
(ii)比重
比重は、アルキメデス法により測定した。
比重は、アルキメデス法により測定した。
(iii)ガラス転移温度Tg
ガラス転移温度Tgは、MACサイエンス社製の熱機械分析装置(TMA4000S)を使用し、昇温速度4℃/分にて測定した。
ガラス転移温度Tgは、MACサイエンス社製の熱機械分析装置(TMA4000S)を使用し、昇温速度4℃/分にて測定した。
<実施例1-1>
得られたガラスサンプルのうち、No.1のガラス組成を有するガラスサンプルを縦20mm、横20mm、厚さ1.0mmの大きさに加工し、20mm×20mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)した。光学研磨面の一方の面に、スパッタリングにより任意形状の金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した(スパッタリング時の電流15mA、成膜時間900sec)。
得られたガラスサンプルのうち、No.1のガラス組成を有するガラスサンプルを縦20mm、横20mm、厚さ1.0mmの大きさに加工し、20mm×20mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)した。光学研磨面の一方の面に、スパッタリングにより任意形状の金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した(スパッタリング時の電流15mA、成膜時間900sec)。
金属膜を形成したガラスサンプルを、還元雰囲気としてフォーミングガス(水素3体積%、窒素97体積%)を0.2L/minの流量で供給しながら400℃で5時間熱処理した。
金属膜を研磨により剥離した。平面視において成膜した金属膜と略同形状の着色層を有するガラスサンプルを得た。
金属膜を研磨により剥離した。平面視において成膜した金属膜と略同形状の着色層を有するガラスサンプルを得た。
[透過率の測定]
波長300~2500nmにおける外部透過率を測定した。外部透過率は、ガラスサンプルの厚み方向に光を入射したときの、入射光強度に対する透過光強度の百分率[透過光強度/入射光強度×100]で定義される。なお、外部透過率には試料表面における光線の反射損失も含まれる。結果を図7に示す。図中、点線は着色層を有する部分の透過率であり、実線は同じ部分の着色層形成前(還元雰囲気での熱処理前)の透過率である。
波長300~2500nmにおける外部透過率を測定した。外部透過率は、ガラスサンプルの厚み方向に光を入射したときの、入射光強度に対する透過光強度の百分率[透過光強度/入射光強度×100]で定義される。なお、外部透過率には試料表面における光線の反射損失も含まれる。結果を図7に示す。図中、点線は着色層を有する部分の透過率であり、実線は同じ部分の着色層形成前(還元雰囲気での熱処理前)の透過率である。
[ODの測定]
着色層を有する部分について、波長1100nmにおける入射光強度I0および透過光強度Iを測定し、下記式によりOD(光学密度)を算出した。同じ部分について、着色層形成前(還元雰囲気での熱処理前)のODも同様に算出した。結果を表2に示す。
OD=-log10(I/I0)
着色層を有する部分について、波長1100nmにおける入射光強度I0および透過光強度Iを測定し、下記式によりOD(光学密度)を算出した。同じ部分について、着色層形成前(還元雰囲気での熱処理前)のODも同様に算出した。結果を表2に示す。
OD=-log10(I/I0)
[λ70の測定]
着色層形成前(還元雰囲気での熱処理前)のサンプルを、厚さ10mmで、互いに平行かつ光学研磨された平面を有するように加工し、分光透過率を測定した。光学研磨された一方の平面に垂直に入射する光線の強度を強度Aとし、他方の平面から出射する光線の強度を強度Bとして、分光透過率B/Aを算出した。分光透過率が70%になる波長をλ70とした。なお、分光透過率には試料表面における光線の反射損失も含まれる。結果を表3に示す。
着色層形成前(還元雰囲気での熱処理前)のサンプルを、厚さ10mmで、互いに平行かつ光学研磨された平面を有するように加工し、分光透過率を測定した。光学研磨された一方の平面に垂直に入射する光線の強度を強度Aとし、他方の平面から出射する光線の強度を強度Bとして、分光透過率B/Aを算出した。分光透過率が70%になる波長をλ70とした。なお、分光透過率には試料表面における光線の反射損失も含まれる。結果を表3に示す。
<実施例1-2>
No.2のガラス組成を有するガラスサンプルを用いた他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。結果を図8に示す。
実施例1-1と同様にODを測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。結果を表3に示す。
No.2のガラス組成を有するガラスサンプルを用いた他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。結果を図8に示す。
実施例1-1と同様にODを測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。結果を表3に示す。
<実施例1-3>
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて、430℃で9時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。結果を図9に示す。
実施例1-1と同様にODを測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。結果を表3に示す。
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて、430℃で9時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。結果を図9に示す。
実施例1-1と同様にODを測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。結果を表3に示す。
<実施例1-4>
No.4のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて、厚さ0.4mmに加工し、410℃で5時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率も測定した。結果を図10に示す。図中、破線が、還元雰囲気での熱処理後の非着色部の透過率である。
実施例1-1と同様にODを測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のODも測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のλ70も測定した。結果を表3に示す。
No.4のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて、厚さ0.4mmに加工し、410℃で5時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率も測定した。結果を図10に示す。図中、破線が、還元雰囲気での熱処理後の非着色部の透過率である。
実施例1-1と同様にODを測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のODも測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のλ70も測定した。結果を表3に示す。
<実施例1-5>
No.5のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて、440℃で12時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率も測定した。結果を図11に示す。図中、破線が、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率である。
実施例1-1と同様にODを測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のODも測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のλ70も測定した。結果を表3に示す。
No.5のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて、440℃で12時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率も測定した。結果を図11に示す。図中、破線が、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率である。
実施例1-1と同様にODを測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のODも測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のλ70も測定した。結果を表3に示す。
<実施例1-6>
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて、金属膜としてNi膜を成膜し、430℃で9時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率も測定した。結果を図12に示す。図中、破線が、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率である。
実施例1-1と同様にODを測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のODも測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のλ70も測定した。結果を表3に示す。
No.3のガラス組成を有するガラスサンプルを用いて、金属膜としてNi膜を成膜し、430℃で9時間熱処理した他は、実施例1-1と同様にして、着色層を有するガラスサンプルを得た。
実施例1-1と同様に透過率を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率も測定した。結果を図12に示す。図中、破線が、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)の透過率である。
実施例1-1と同様にODを測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のODも測定した。結果を表2に示す。
実施例1-1と同様にλ70を測定した。また、還元雰囲気での熱処理後の非着色部(着色層が形成されていない部分)のλ70も測定した。結果を表3に示す。
<実施例2-1>
表1のNo.3の組成を有するガラスサンプルを、直径30mm、厚さ2.0mmの円形に加工し、2つの主表面を精密研磨(光学研磨)した。一方の光学研磨面(主表面)に、金属ペーストを用いて、任意形状にパターニングされた金属膜(Ni膜)を成膜した。また同じサンプルの側面の全面に金属膜(Ni膜)を成膜した。
表1のNo.3の組成を有するガラスサンプルを、直径30mm、厚さ2.0mmの円形に加工し、2つの主表面を精密研磨(光学研磨)した。一方の光学研磨面(主表面)に、金属ペーストを用いて、任意形状にパターニングされた金属膜(Ni膜)を成膜した。また同じサンプルの側面の全面に金属膜(Ni膜)を成膜した。
金属膜を形成したサンプルを、還元雰囲気としてフォーミングガス(水素3体積%、窒素97体積%)を0.2L/minの流量で供給しながら430℃で9hr熱処理した。
金属膜を除去した。図2に示すような主表面及び側面に着色層を有するサンプルを得た。
<実施例2-2>
表1のNo.3の組成を有するガラスサンプルを、縦50mm、横50mm、厚さ1.0mmの四角形状に加工し、50mm×50mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)した。光学研磨面の一方の面(第1主面)に、金属ペーストを用いて、任意形状にパターニングされた金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した。また同じサンプルのもう一方の光学研磨面(第2主面)に、平面視において第1主面に形成した金属膜と重ならないように、金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した。
表1のNo.3の組成を有するガラスサンプルを、縦50mm、横50mm、厚さ1.0mmの四角形状に加工し、50mm×50mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)した。光学研磨面の一方の面(第1主面)に、金属ペーストを用いて、任意形状にパターニングされた金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した。また同じサンプルのもう一方の光学研磨面(第2主面)に、平面視において第1主面に形成した金属膜と重ならないように、金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した。
金属膜を形成したサンプルを、還元雰囲気としてフォーミングガス(水素3体積%、窒素97体積%)を0.2L/minの流量で供給しながら430℃で9hr熱処理した。
金属膜を除去した。図3に示すような、第1主面および第2主面に着色層を有するサンプルを得た。得られたサンプルは、特許文献2に開示されているようなCCDやCMOSセンサー(固体撮像素子)のカバーガラスとして好適に使用できることを確認した。
<実施例2-3>
表1のNo.3の組成を有するガラスサンプルを、縦50mm、横50mm、厚さ1.0mmの四角形状に加工し、50mm×50mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)した。光学研磨面の一方の面(第1主面)に金属ペーストを用いて、任意形状にパターニングされた金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した。また同じサンプルのもう一方の光学研磨面(第2主面)に、第1主面に形成した金属膜と第1主面に形成した金属膜と同じ形状かつ平面視において同じ位置に、金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した。そして、熱処理時間を4.5hrとした他は実施例2-2と同様にして、還元雰囲気で熱処理した。
表1のNo.3の組成を有するガラスサンプルを、縦50mm、横50mm、厚さ1.0mmの四角形状に加工し、50mm×50mmとなる2つ面を精密研磨(光学研磨)した。光学研磨面の一方の面(第1主面)に金属ペーストを用いて、任意形状にパターニングされた金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した。また同じサンプルのもう一方の光学研磨面(第2主面)に、第1主面に形成した金属膜と第1主面に形成した金属膜と同じ形状かつ平面視において同じ位置に、金属膜(Pt-Pd膜)を成膜した。そして、熱処理時間を4.5hrとした他は実施例2-2と同様にして、還元雰囲気で熱処理した。
金属膜を除去した。図4に示すような両面に着色層を有するサンプルを得た。得られたサンプルも実施例2-2のサンプルと同様、イメージセンサーのカバーガラスとして好適に使用できることを確認した。
Claims (7)
- Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、およびBiイオンからなる群から選択される1以上のガラス成分を含み、
任意形状の着色層を有する、ガラス。 - 板状であり、
片面または両面に着色層を有する、請求項1に記載のガラス。 - 板状であり、
第1主面および第2主面に着色層を有し、
平面視において、第1主面の着色層は、第2主面の着色層と重ならない、請求項1に記載のガラス。 - 板状であり、
第1主面および第2主面に着色層を有し、
平面視において、第1主面の着色層の一部または全部が、第2主面の着色層の一部または全部と重なる、請求項1に記載のガラス。 - 請求項1~4のいずれかに記載のガラスからなる光学素子。
- 遮光部と透光部とを有し、
前記遮光部および前記透光部のガラス組成が同じであり、
前記遮光部が着色層からなる、
請求項1~4のいずれかに記載のガラスからなるカバーガラス。 - ガラス表面に任意形状の金属膜を形成する工程、および
還元雰囲気で熱処理する工程を含む、
Tiイオン、Nbイオン、Wイオン、およびBiイオンからなる群から選択される1以上のガラス成分を含み、任意形状の着色層を有するガラスの製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020145896A JP2022040936A (ja) | 2020-08-31 | 2020-08-31 | 着色層を有するガラスおよびその製造方法 |
CN202180057223.XA CN116057021A (zh) | 2020-08-31 | 2021-04-08 | 具有着色层的玻璃及其制造方法 |
US18/020,535 US20230265006A1 (en) | 2020-08-31 | 2021-04-08 | Glass having colored layer and method for manufacturing same |
PCT/JP2021/014873 WO2022044416A1 (ja) | 2020-08-31 | 2021-04-08 | 着色層を有するガラスおよびその製造方法 |
TW110113359A TW202219005A (zh) | 2020-08-31 | 2021-04-14 | 具有著色層的玻璃及其製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020145896A JP2022040936A (ja) | 2020-08-31 | 2020-08-31 | 着色層を有するガラスおよびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022040936A true JP2022040936A (ja) | 2022-03-11 |
Family
ID=80354904
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020145896A Pending JP2022040936A (ja) | 2020-08-31 | 2020-08-31 | 着色層を有するガラスおよびその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230265006A1 (ja) |
JP (1) | JP2022040936A (ja) |
CN (1) | CN116057021A (ja) |
TW (1) | TW202219005A (ja) |
WO (1) | WO2022044416A1 (ja) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4122558B2 (ja) * | 1997-12-05 | 2008-07-23 | 旭硝子株式会社 | 高可視光透過紫外線吸収ガラスおよび紫外線吸収着色ガラス板 |
JPH11228184A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-08-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 熱線遮蔽着色膜被覆ガラス板 |
JP3565740B2 (ja) * | 1999-05-20 | 2004-09-15 | 富士通株式会社 | ガス放電表示パネル及び表示パネルの製造方法 |
JP2002201041A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-07-16 | Hoya Corp | ガラス成形品の製造方法、その方法で得られた光学素子およびガラスの処理方法 |
JP5792026B2 (ja) * | 2011-10-28 | 2015-10-07 | オリンパス株式会社 | 光学素子、および光学素子の製造方法 |
DE102012105572B4 (de) * | 2012-06-26 | 2019-05-29 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung einer Glaskeramik mit vorbestimmter Transmission |
WO2019065143A1 (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 積層体、及び、固体撮像素子 |
CN111556855B (zh) * | 2018-02-01 | 2023-01-31 | Hoya株式会社 | 着色玻璃及其制造方法 |
-
2020
- 2020-08-31 JP JP2020145896A patent/JP2022040936A/ja active Pending
-
2021
- 2021-04-08 WO PCT/JP2021/014873 patent/WO2022044416A1/ja active Application Filing
- 2021-04-08 US US18/020,535 patent/US20230265006A1/en active Pending
- 2021-04-08 CN CN202180057223.XA patent/CN116057021A/zh active Pending
- 2021-04-14 TW TW110113359A patent/TW202219005A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20230265006A1 (en) | 2023-08-24 |
TW202219005A (zh) | 2022-05-16 |
CN116057021A (zh) | 2023-05-02 |
WO2022044416A1 (ja) | 2022-03-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102332260B1 (ko) | 광학 유리 및 광학 소자 | |
JP7385334B2 (ja) | 光学素子及び光学装置 | |
JP7250106B2 (ja) | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | |
CN105985017B (zh) | 光学玻璃及光学元件 | |
JP2014034472A (ja) | 光学ガラス、光学素子、及びガラス成形体の製造方法 | |
WO2020230649A1 (ja) | ガラス | |
JP4433391B2 (ja) | 半導体パッケージの窓用ガラス、半導体パッケージ用ガラス窓および半導体パッケージ | |
WO2022044416A1 (ja) | 着色層を有するガラスおよびその製造方法 | |
TW201524930A (zh) | 光學玻璃、光學元件及玻璃成形體之製造方法 | |
US20220250968A1 (en) | Glass and optical element | |
WO2021060362A1 (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
JP2023098675A (ja) | ガラス | |
US20230202917A1 (en) | Glass | |
WO2022255336A1 (ja) | 光学ガラス、近赤外線カットフィルタ、プレス成形用ガラス素子、光学素子ブランク、および光学素子 | |
JP2021173874A (ja) | 光学素子及び光学装置 | |
JP2022021586A (ja) | 光学ガラスおよび光学素子 | |
TW202413300A (zh) | 光學玻璃及光學元件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230706 |