JP2022021863A - 自動分析装置 - Google Patents

Abstract

【課題】試薬が蒸発し濃縮が発生した場合でも、高い精度で測定をすることのできる自動分析装置を提供する。
【解決手段】自動分析装置は、既知の濃度の検出対象を含む標準試料に、前記試薬が添加された反応液を光学的に測定した測定結果に基づいて、濃度と吸光度との関係を表す第１検量線を生成する、第１検量線生成部と、前記第１検量線を生成した後に、前記標準試料と前記試薬を混合し、この混合した反応液を光学的に測定した測定結果と、前記第1検量線に関連するデータに基づいて 、第２検量線を生成する、第２検量線生成部と、を備える。
【選択図】図１

Description

本明細書及び図面に開示の実施形態は、自動分析装置に関する。

自動分析装置は、検出対象の成分を含む患者の血液等の被検試料に種々の検査項目に対応する試薬を添加し、被検試料に含まれる特定の成分に試薬を反応させる。自動分析装置は、この反応を、例えば光学的に測定することで、検査項目に対応した被検試料の成分を分析する。

このような自動分析装置においては、光学的な測定のために検量線が使用されることから、被検試料の測定の前に検量線を作成する新規キャリブレーション測定を行う。そして、例えば毎朝の測定開始前に、クオリティコントロール（ＱＣ）測定を行い、検量線の有効性を検証する。クオリティコントロール測定の結果が、所定の範囲に入らない場合、ユーザは、新規キャリブレーション測定を再度実行し、検量線の再作成を行ってから、その日の測定を開始する必要がある。

ところで、同一の試薬であっても、数日にわたり使用している場合には、試薬ボトルから水分が蒸発し、試薬濃縮が発生することがある。この試薬濃縮が発生すると、ブランク値や検量線の傾きに影響を与える。このため、試薬濃縮が発生した場合でも、測定精度を担保することが望まれている。

国際公開２０１２／０６６８９１号公報 国際公開２０１２／０１１３７１号公報 特開２０１９－１３３７９６号公報

本明細書及び図面に開示の実施形態が解決しようとする課題の１つは、試薬が蒸発し濃縮が発生した場合でも、高い精度で測定をすることのできる自動分析装置を提供することである。但し、本明細書及び図面の開示の実施形態により解決しようとする課題は上記課題に限られない。後述する実施形態に示す各構成による各効果に対応する課題を他の課題として位置づけることもできる。

実施形態に係る自動分析装置は、既知の濃度の検出対象を含む標準試料に、前記試薬が添加された反応液を光学的に測定した測定結果に基づいて、濃度と吸光度との関係を表す第１検量線を生成する、第１検量線生成部と、前記第１検量線を生成した後に、前記標準試料と前記試薬を混合し、この混合した反応液を光学的に測定した測定結果と、前記第1検量線に関連するデータに基づいて、第２検量線を生成する、第２検量線生成部と、を備える。

第１実施形態に係る自動分析装置の機能構成を示したブロック図。 図１に示す自動分析装置における分析機構の構成の一例を示す図。 第１実施形態に係る自動分析装置により実行される補正関数算出処理の内容を説明するフローチャートを示す図。 第１実施形態に係る自動分析装置で生成された検量線である第１検量線の一例を示す図。 第１実施形態に係る自動分析装置で生成された検量線である第２検量線の一例を示す図。 第１実施形態に係る自動分析装置により実行される補正検量線生成処理の愛用を説明するフローチャートを示す図。 第１実施形態に係る自動分析装置で生成された検量線である第３検量線の一例を第１検量線及び第２検量線とともに示す図。 第２実施形態に係る自動分析装置で生成された検量線である第３検量線の一例を第１検量線及び第２検量線とともに示す図。

以下、図面を参照しながら、本実施形態に係る自動分析装置を説明する。なお、以下の説明において、略同一の機能及び構成を有する構成要素については、同一符号を付し、重複説明は必要な場合にのみ行うこととする。

〔第１実施形態〕
（自動分析装置）
図１は、本実施形態に係る自動分析装置１の機能構成の例を示すブロック図である。図１に示される自動分析装置１は、例えば、分析機構２と、解析回路３と、駆動機構４と、入力インターフェース５と、出力インターフェース６と、通信インターフェース７と、記憶回路８と、制御回路９とを備えて構成されている。

自動分析装置１は、例えば、ラテックス凝集法を用いて試料等の濃度を測定する装置であり、試薬に添加する不溶性の担体としては、各種の担体粒子が利用可能である。担体粒子としては、例えば、ラテックス粒子、ポリスチレン、ポリスチレンラテックス、シリカ粒子等を用いることができる。無論、自動分析装置１において試料等の濃度を測定する手法は、これに限られるものではない。

分析機構２は、標準試料、又は、被検試料等の試料に、この試料に設定される各検査項目で用いられる試薬を添加する。分析機構２は、試料に試薬を添加して得られる反応液を測定し、例えば、標準データ、及び、被検データを生成する。本実施形態においては、標準データは、含まれる検出対象の濃度が既知の標準試料についての吸光度の測定データを表す。また、被検データは、被検試料についての吸光度の測定データを表す。

解析回路３は、分析機構２により生成される標準データ及び被検データを解析し、検量データ及び分析データ等を生成するプロセッサである。検量データは、例えば、標準データに基づいて生成された検量線に関する情報を含んでいる。また、分析データは、被検データを検量データに基づいて分析することで得られる、例えば、被検試料に含まれる検出対象の濃度に関する情報を含んでいる。

解析回路３は、記憶回路８に記憶されている動作プログラムを実行し、この動作プログラムに対応する機能を実現することで、検量データ及び分析データ等を生成する。例えば、解析回路３は、１）吸光度が既知で濃度が０の標準試料と、濃度が既知である１又は複数の標準試料とについて得られた標準データと、２）これらの標準試料について予め設定された濃度と、３）予め設定された測光タイミング等に基づき、検量線を生成し、この検量線に関する情報を含む検量データを算出する。また、解析回路３は、被検データと、この被検データに対応する検査項目の検量線を含む検量データと、予め設定された測光タイミング等に基づき、分析データを生成する。解析回路３は生成した検量データ及び分析データ等を制御回路９へ出力する。

駆動機構４は、制御回路９の制御に従い、分析機構２を駆動させる。例えば、駆動機構４は、ギア、ステッピングモータ、ベルトコンベア、及びリードスクリュー等により実現される。

入力インターフェース５は、例えば、ユーザから又は病院内ネットワークＮＷを介して、測定を依頼された試料に係る各検査項目の分析パラメータ等の設定を受け付ける。入力インターフェース５は、例えば、マウス、キーボード、及び、操作面へ触れることで指示が入力されるタッチパッド等により実現される。入力インターフェース５は、制御回路９に接続され、ユーザから入力される操作指示を電気信号へ変換し、この電気信号を制御回路９へ出力する。なお、本実施形態においては、入力インターフェース５は、マウス、及びキーボード等の物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、自動分析装置１とは別体に設けられた外部の入力機器から入力される操作指示に対応する電気信号を受け取り、この電気信号を制御回路９へ出力する電気信号の処理回路も入力インターフェース５の例に含まれる。

出力インターフェース６は、制御回路９に接続され、制御回路９から供給される信号を出力する。出力インターフェース６は、例えば、表示回路、及び印刷回路等により実現される。表示回路には、例えば、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、及びプラズマディスプレイ等が含まれる。なお、本実施形態においては、表示対象を表すデータをビデオ信号に変換し、ビデオ信号を外部へ出力する処理回路も表示回路に含まれる。印刷回路は、例えば、プリンタ等を含む。なお、本実施形態においては、印刷対象を表すデータを外部へ出力する出力回路も印刷回路に含まれる。

通信インターフェース７は、例えば、病院内ネットワークＮＷに接続されており、自動分析装置１を病院内ネットワークＮＷに接続する。通信インターフェース７は、病院内ネットワークＮＷを介してＨＩＳ（Hospital Information System）とデータ通信を行う。なお、通信インターフェース７は、病院内ネットワークＮＷと接続する検査部門システム（Laboratory Information System:ＬＩＳ）を介してＨＩＳとデータ通信を行っても構わない。

記憶回路８は、磁気的、若しくは、光学的記録媒体、又は、半導体メモリ等の、プロセッサにより読み取り可能な記録媒体等により構成されている。なお、記憶回路８は、必ずしも単一の記憶装置により実現される必要は無い。例えば、記憶回路８は、複数の記憶装置により実現することもできる。

また、記憶回路８は、解析回路３で実行される動作プログラム、及び、制御回路９で実行される動作プログラムを記憶している。記憶回路８は、分析機構２内に保持されている試薬に関する検量線に関する情報を記憶する。詳しくは後述するが、分析機構２で使用される試薬に関する検量線は、自動分析装置１にて生成され、検量データとして、記憶回路８に記憶される。また、記憶回路８に記憶される検量データには、例えば、試薬について予め設定された測光タイミングに関するデータも、検査項目毎に含まれている。

測光タイミングは、検量線を含む検量データを生成する際に用いる吸光度等の情報を取得する時点を表す。すなわち、測光タイミングは、例えば、検出対象と結合する成分が固定化された不溶性担体である担体粒子が含まれる試薬を標準試料に添加してからの経過時間を表している。また、測光タイミングは、分析データを生成する際に用いる吸光度等の情報を取得する時点を表す。すなわち、測光タイミングは、例えば、不溶性担体の粒子が含まれる試薬を被検試料に添加してからの経過時間を表している。

すなわち、記憶回路８は、解析回路３により生成される検量データを、検査項目毎に記憶する。また、記憶回路８は、解析回路３により生成される分析データを、被検試料毎に記憶する。

制御回路９は、自動分析装置１の中枢として機能するプロセッサである。制御回路９は、記憶回路８に記憶されている動作プログラムを実行することで、この動作プログラムに対応する機能を実現する。なお、制御回路９は、記憶回路８で記憶されているデータの少なくとも一部を記憶する記憶領域を備えていてもよい。

図２は、図１に示す分析機構２の構成の一例を示す模式図である。この図２に示すように、本実施形態に係る自動分析装置１の分析機構２は、反応ディスク２０１と、恒温部２０２と、サンプルディスク２０３と、第１試薬庫２０４と、第２試薬庫２０５とを備えて構成されている。

反応ディスク２０１は、反応容器２０１１を所定の経路に沿って搬送する。具体的には、反応ディスク２０１は、複数の反応容器２０１１を、環状に配列させて保持する。反応ディスク２０１は、駆動機構４により、既定の時間間隔で回動と停止とが交互に繰り返される。

反応容器２０１１は、例えば、ガラスにより形成されている。反応容器２０１１は、四角柱状をなしており、上部に開口部を有している。四角柱を形成する第１乃至第４側壁のうち、第１側壁の外面からは、測光ユニット２１４に設けられる光源から照射される光が入射される。第１乃至第４側壁のうち、第１側壁と対向する第２側壁の外面からは、第１側壁の外面から入射された光が出射される。

恒温部２０２は、所定の温度に設定された熱媒体を貯留する。恒温部２０２は、貯留する熱媒体に反応容器２０１１を浸漬させることで、反応容器２０１１に収容される反応液を所定の温度まで昇温し保温する。

サンプルディスク２０３は、試料を収容する試料容器を複数保持する。サンプルディスク２０３は、駆動機構４により回動される。本実施形態においては、検出対象の成分を含む試料を適宜、被検試料と言う。

第１試薬庫２０４は、標準試料及び被検試料に含まれる所定の成分と反応する第１試薬を収容する試薬容器を複数保冷する。第１試薬は、例えば、ウシ血清アルブミン（ＢＳＡ）等を含む緩衝液である。試薬容器には、試薬ラベルが貼付されている。試薬ラベルには、試薬情報を表す光学式マークが印刷されている。光学式マークには、例えば、１次元画素コード及び２次元画素コード等、任意の画素コードが用いられる。試薬情報は、試薬容器に収容される試薬に関する情報であり、例えば、試薬名、試薬メーカコード、試薬項目コード、ボトル種類、ボトルサイズ、容量、製造ロット番号、及び、有効期間等を含んでいる。

また、第１試薬庫２０４は、標準試料を収容する標準試料容器を複数保冷する。複数の標準試料容器のそれぞれには、濃度が異なる同一の成分の標準試料が収容されている。なお、標準試料容器は、サンプルディスク２０３に保持されていても構わない。

第１試薬庫２０４内には、試薬ラック２０４１が回転自在に設けられている。試薬ラック２０４１は、複数の試薬容器及び複数の標準試料容器を、円環状に配列して保持する。試薬ラック２０４１は、駆動機構４により回動される。また、第１試薬庫２０４内には、試薬容器に貼付されている試薬ラベルから試薬情報を読み取るリーダ（図示せず）が設けられている。読み取られた試薬情報は、記憶回路８で記憶される。

第１試薬庫２０４上の所定の位置には、第１試薬吸引位置が設定されている。第１試薬吸引位置は、例えば、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道と、試薬ラック２０４１に円環状に配列される試薬容器及び標準試料容器の開口部の移動軌道とが、交差する位置に設けられる。

第２試薬庫２０５は、２試薬系の第１試薬と対をなす第２試薬を収容する試薬容器を複数保冷する。第２試薬は、試料に含まれる所定の抗原又は抗体と、特異的抗原抗体反応により結合又は乖離する抗原又は抗体が固定化された不溶性担体、例えば、担体粒子を含む溶液である。特異的反応により結合又は乖離するものとして酵素、基質、アプタマー、受容体であっても良い。第２試薬庫２０５内には、試薬ラック２０５１が回転自在に設けられている。

試薬ラック２０５１は、複数の試薬容器を円環状に配列して保持する。なお、第２試薬庫２０５において、標準試料を収容する標準試料容器が保冷されていてもよい。試薬ラック２０５１は、駆動機構４により回動される。また、第２試薬庫２０５内には、試薬容器に貼付されている試薬ラベルから試薬情報を読み取るリーダ（図示せず）が設けられている。読み取られた試薬情報は、記憶回路８で記憶される。

第２試薬庫２０５上の所定の位置には、第２試薬吸引位置が設定されている。第２試薬吸引位置は、例えば、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道と、試薬ラック２０５１に円環状に配列される試薬容器の開口部の移動軌道とが、交差する位置に設けられる。

また、図２に示す自動分析装置１の分析機構２は、さらに、サンプル分注アーム２０６と、サンプル分注プローブ２０７と、第１試薬分注アーム２０８と、第１試薬分注プローブ２０９と、第２試薬分注アーム２１０と、第２試薬分注プローブ２１１と、第１攪拌ユニット２１２と、第２攪拌ユニット２１３と、測光ユニット２１４と、洗浄ユニット２１５を備えて構成されている。

サンプル分注アーム２０６は、反応ディスク２０１とサンプルディスク２０３との間に設けられている。サンプル分注アーム２０６は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。サンプル分注アーム２０６は、一端にサンプル分注プローブ２０７を保持する。

サンプル分注プローブ２０７は、サンプル分注アーム２０６の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、サンプルディスク２０３で保持される試料容器の開口部が位置するようになっている。また、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道上には、サンプル分注プローブ２０７が吸引した試料を反応容器２０１１へ吐出するためのサンプル吐出位置が設けられている。サンプル吐出位置は、サンプル分注プローブ２０７の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されている反応容器２０１１の移動軌道とが、交差する位置に設けられる。

サンプル分注プローブ２０７は、駆動機構４によって駆動され、サンプルディスク２０３で保持される試料容器の開口部の直上、又は、サンプル吐出位置において上下方向に移動する。また、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路９の制御に従い、直下に位置する試料容器から試料を吸引する。また、サンプル分注プローブ２０７は、制御回路９の制御に従い、吸引した試料を、サンプル吐出位置の直下に位置する反応容器２０１１へ吐出する。

第１試薬分注アーム２０８は、第１試薬庫２０４の外周近傍に設けられている。第１試薬分注アーム２０８は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。第１試薬分注アーム２０８は、一端に第１試薬分注プローブ２０９を保持している。

第１試薬分注プローブ２０９は、第１試薬分注アーム２０８の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、第１試薬吸引位置が設けられている。また、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道上には、第１試薬分注プローブ２０９が吸引した第１試薬又は標準試料を反応容器２０１１へ吐出するための第１試薬吐出位置が設定されている。第１試薬吐出位置は、第１試薬分注プローブ２０９の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されている反応容器２０１１の移動軌道とが、交差する位置に設けられる。

第１試薬分注プローブ２０９は、駆動機構４によって駆動され、回動軌道上の第１試薬吸引位置又は第１試薬吐出位置において上下方向に移動する。また、第１試薬分注プローブ２０９は、制御回路９の制御に従い、第１試薬吸引位置の直下に位置する試薬容器から第１試薬又は標準試料を吸引する。また、第１試薬分注プローブ２０９は、制御回路９の制御に従い、吸引した第１試薬又は標準試料を、第１試薬吐出位置の直下に位置する反応容器２０１１へ吐出する。

第２試薬分注アーム２１０は、第１試薬庫２０４の外周近傍に設けられている。第２試薬分注アーム２１０は、駆動機構４により、鉛直方向に上下動自在、かつ、水平方向に回動自在に設けられている。第２試薬分注アーム２１０は、一端に第２試薬分注プローブ２１１を保持している。

第２試薬分注プローブ２１１は、第２試薬分注アーム２１０の回動に伴い、円弧状の回動軌道に沿って回動する。この回動軌道上には、第２試薬吸引位置が設けられている。また、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道上には、第２試薬分注プローブ２１１が吸引した第２試薬を反応容器２０１１へ吐出するための第２試薬吐出位置が設定されている。第２試薬吐出位置は、第２試薬分注プローブ２１１の回動軌道と、反応ディスク２０１に保持されている反応容器２０１１の移動軌道とが、交点する位置に設けられる。

第２試薬分注プローブ２１１は、駆動機構４によって駆動され、回動軌道上の第２試薬吸引位置、又は第２試薬吐出位置において上下方向に移動する。また、第２試薬分注プローブ２１１は、制御回路９の制御に従い、第２試薬吸引位置の直下に位置する試薬容器から第２試薬を吸引する。また、第２試薬分注プローブ２１１は、制御回路９の制御に従い、吸引した第２試薬を、第２試薬吐出位置の直下に位置する反応容器２０１１へ吐出する。すなわち、第２試薬分注プローブ２１１は、本実施形態における吐出部の一例である。

第１攪拌ユニット２１２は、反応ディスク２０１の外周近傍に設けられている。第１攪拌ユニット２１２は、第１攪拌アーム２１２１を有し、また、この第１攪拌アーム２１２１の先端に設けられる第１攪拌子を有する。第１攪拌ユニット２１２は、第１攪拌子により、反応ディスク２０１上の第１攪拌位置に位置する反応容器２０１１内に収容されている標準試料と第１試薬との混合液を攪拌する。また、第１攪拌ユニット２１２は、第１攪拌子により、反応ディスク２０１上の第１攪拌位置に位置する反応容器２０１１内に収容されている被検試料と第１試薬との混合液を攪拌する。

第２攪拌ユニット２１３は、反応ディスク２０１の外周近傍に設けられている。第２攪拌ユニット２１３は、第２攪拌アーム２１３１を有し、また、この第２攪拌アーム２１３１の先端に設けられる第２攪拌子を有する。第２攪拌ユニット２１３は、第２攪拌子により、反応ディスク２０１上の第２攪拌位置に位置する反応容器２０１１内に収容されている標準試料、第１試薬、及び第２試薬の混合液を攪拌する。また、第２攪拌ユニット２１３は、第２攪拌子により、第２攪拌位置に位置する反応容器２０１１内に収容されている被検試料、第１試薬、及び第２試薬の混合液を攪拌する。

測光ユニット２１４は、反応容器２０１１内に吐出された試料、第１試薬、及び第２試薬の反応液を光学的に測定する。測光ユニット２１４は、光源、及び、光検出器を有する。測光ユニット２１４は、制御回路９の制御に従い、光源から光を照射する。照射された光は、反応容器２０１１の第１側壁から入射され、第１側壁と対向する第２側壁から出射される。測光ユニット２１４は、反応容器２０１１から出射された光を、光検出器により検出する。

具体的には、例えば、光検出器は、光源から反応容器２０１１に照射される光の光軸上の位置に配置されている。光検出器は、反応容器２０１１内の標準試料、第１試薬、及び第２試薬の反応液を透過した光を検出し、検出した光の強度に基づき、吸光度により表される標準データを生成する。また、光検出器は、反応容器２０１１内の被検試料、第１試薬、及び第２試薬の反応液を透過した光を検出し、検出した光の強度に基づき、吸光度により表される被検データを生成する。測光ユニット２１４は、生成した標準データ及び被検データを測定結果として解析回路３へ出力する。

洗浄ユニット２１５は、測光ユニット２１４で反応液の測定が終了した反応容器２０１１の内部を洗浄する。

図１に示すように、制御回路９は、記憶回路８に記憶されている動作プログラムを実行することで、当該プログラムに対応する機能を実現する。例えば、制御回路９は、動作プログラムを実行することで、システム制御機能９１、校正制御機能９２、及び測定制御機能９３を実現する。なお、本実施形態では、単一のプロセッサによってシステム制御機能９１、校正制御機能９２、及び測定制御機能９３が実現される場合を説明するが、これに限定されない。例えば、複数の独立したプロセッサを組み合わせて制御回路を構成し、各プロセッサが動作プログラムを実行することによりシステム制御機能９１、校正制御機能９２、及び測定制御機能９３を実現するようにしてもよい。

システム制御機能９１は、入力インターフェース５から入力される入力情報に基づき、自動分析装置１における各部を統括して制御する機能である。

校正制御機能９２は、標準データを生成するように、分析機構２及び駆動機構４を制御する機能である。具体的には、制御回路９は、所定のタイミングで校正制御機能９２を実行する。所定のタイミングとは、例えば、初期設定時、装置起動時、メンテナンス時、及びユーザから校正動作開始の指示が入力された際等である。

校正制御機能９２を実行すると制御回路９は、分析機構２及び駆動機構４を制御する。分析機構２及び駆動機構４が制御されることで、分析機構２では、標準データが生成される。具体的には、例えば、駆動機構４により駆動されることで、分析機構２の第１試薬分注プローブ２０９は、標準試料を第１試薬庫２０４から吸引し、吸引した標準試料を反応容器２０１１へ吐出する。続いて、第１試薬分注プローブ２０９は、第１試薬を第１試薬庫２０４から吸引し、吸引した第１試薬を、標準試料が吐出された反応容器２０１１へ吐出する。続いて、第１攪拌ユニット２１２は、標準試料に第１試薬が添加された溶液を撹拌する。

次に、第２試薬分注プローブ２１１は、第２試薬を第２試薬庫２０５から吸引し、吸引した第２試薬を、標準試料と第１試薬とが混合された混合液へ吐出する。続いて、第２攪拌ユニット２１３は、混合液に第２試薬が添加された溶液を撹拌する。測光ユニット２１４は、標準試料、第１試薬、及び第２試薬が撹拌されてなる反応液を光学的に測定することで、標準データを生成する。測光ユニット２１４は、生成した標準データを解析回路３へ出力する。測光ユニット２１４は、予め設定された周期で予め設定された回数、反応液の測定を繰り返し、生成した標準データを解析回路３へ出力する。分析機構２は、予め設定した複数の濃度の標準試料について上記動作を繰り返し、生成した標準データを解析回路３へ出力する。

測定制御機能９３は、被検データを生成するように、分析機構２及び駆動機構４を制御する機能である。具体的には、制御回路９は、所定の指示に応じて測定制御機能９３を実行する。所定の指示とは、例えば、ユーザから入力される測定動作開始の指示、及び予め設定した時刻に到達したことを表す指示等である。

測定制御機能９３を実行すると制御回路９は、分析機構２及び駆動機構４を制御する。分析機構２及び駆動機構４が制御されることで、分析機構２では、被検データが生成される。具体的には、駆動機構４により駆動されることで、分析機構２のサンプル分注プローブ２０７は、被検試料をサンプルディスク２０３から吸引し、吸引した被検試料を反応容器２０１１へ吐出する。続いて、第１試薬分注プローブ２０９は、第１試薬を第１試薬庫２０４から吸引し、吸引した第１試薬を、被検試料が吐出された反応容器２０１１へ吐出する。続いて、第１攪拌ユニット２１２は、被検試料に第１試薬が添加された溶液を撹拌する。

次に、第２試薬分注プローブ２１１は、第２試薬を第２試薬庫２０５から吸引し、吸引した第２試薬を、被検試料と第１試薬とが混合された混合液へ吐出する。続いて、第２攪拌ユニット２１３は、混合液に第２試薬が添加された溶液を撹拌する。続いて、測光ユニット２１４は、被検試料、第１試薬、及び第２試薬が撹拌されてなる反応液を光学的に測定することで、被検データを生成する。測光ユニット２１４は、生成した被検データを解析回路３へ出力する。測光ユニット２１４は、予め設定された周期で予め設定された回数、反応液の測定を繰り返し、生成した被検データを解析回路３へ出力する。

また、図１に示される解析回路３は、記憶回路８に記憶されている動作プログラムを実行することで、当該プログラムに対応する機能を実現する。例えば、解析回路３は、動作プログラムを実行することで、検量データ生成機能３１及び分析データ生成機能３２を実現する。なお、本実施形態では、単一のプロセッサによって検量データ生成機能３１、及び分析データ生成機能３２が実現される場合を説明するが、これに限定されない。例えば、複数の独立したプロセッサを組み合わせて解析回路を構成し、各プロセッサが動作プログラムを実行することにより検量データ生成機能３１、及び分析データ生成機能３２を実現するようにしてもよい。

検量データ生成機能３１は、分析機構２で生成された標準データに基づいて検量データを生成する機能である。具体的には、解析回路３は、分析機構２で生成された標準データを受信すると、検量データ生成機能３１を実行する。検量データ生成機能３１を実行すると解析回路３は、異なる複数の濃度の標準試料に関する吸光度を含む測定データである標準データに基づいて、検量線を生成する。この生成された検量線は、検量データとして記憶回路８に記憶される。

分析データ生成機能３２は、分析機構２で生成された被検データを解析することで分析データを生成する機能である。具体的には、解析回路３は、分析機構２で生成された被検データを受信すると、分析データ生成機能３２を実行する。分析データ生成機能３２を実行すると解析回路３は、検量線に関する情報を含む検量データを記憶回路８から読み出す。解析回路３は、これら被検データ及び検量データに基づき、被検試料の検出対象の濃度に関する情報を含む分析データを生成する。

（検量線の補正処理）
次に、本実施形態に係る自動分析装置１で行われる検量線の補正処理について詳細に説明する。本実施形態においては、新規キャリブレーション測定を、１）試薬満水時、すなわち、試薬ボトル開封時に行うとともに、２）１回目の新規キャリブレーション測定から所定の時間を経過したとき、すなわち、試薬濃縮が発生したときに行う。そして、この２回の新規キャリブレーション測定により得られたブランク値と検量線の傾きとを用いて、ブランク値と検量線の傾きの相関関係を表す補正関数における補正係数を求める。そして、定期的に行われる試薬のブランク測定で測定されたブランク値に基づいて検量線の傾きを補正し、この補正後の傾きと試薬のブランク測定で測定されたブランク値に基づいて、被検試料の測定に用いる検量線を補正することにより、試薬濃縮が発生しても高い精度で被検試料の濃度測定ができるようにしている。

以下では、例えば、病院等において、試薬のロット番号が異なる場合に、新規キャリブレーション測定を行い、１日１回又は自動分析装置１の起動時に、クオリティコントロール測定の前に試薬のブランク測定を行う運用がなされることを想定して、本実施形態を説明する。なお、新規キャリブレーション測定は、試薬の種類によっては、ロット番号が異なっていても新規キャリブレーション測定を行う必要のないものも存在する。このため、本実施形態においては、自動分析装置１はユーザの指示に基づいて、新規キャリブレーション測定を実行する。但し、自動分析装置１は、ロット番号が異なる新しい試薬ボトルが配置された場合には、自動的に新規キャリブレーション測定を実行するように構成することも可能である。なお、本実施形態に係る自動分析装置１は、新規キャリブレーション測定を行い、検量線を生成する際には、検量線生成装置としての役割を果たすこととなる。

図３は、本実施形態に係る自動分析装置１の制御回路９における補正関数算出機能９４により実行される補正関数算出処理の内容を説明するフローチャートを示す図である。すなわち、この補正関数算出処理は、制御回路９における補正関数算出機能９４の制御のもと、分析機構２と解析回路３と駆動機構４とが各機能を実行することにより実現される処理である。

この図３に示すように、制御回路９の補正関数算出機能９４は、まず、新規キャリブレーション測定を実行する指示が入力されたか否かを判断する（ステップＳ１０）。すなわち、ユーザは、新規キャリブレーション測定が必要な場合に、入力インターフェース５を介して、新規キャリブレーション測定の実行指示を入力する。本実施形態では、例えば、試薬を収容する試薬ボトルを新しいものに置き換えて、その試薬ボトルのロット番号がこれまで使用していた試薬ボトルのロット番号と異なる場合に、ユーザは、新規キャリブレーション測定の実行指示を入力する。

新規キャリブレーション測定の実行指示が入力されない場合（ステップＳ１０：Ｎｏ）には、制御回路９の補正関数算出機能９４は、このステップＳ１０の処理を繰り返して待機する。一方、新規キャリブレーション測定の実行指示が入力された場合（ステップＳ１０：Ｙｅｓ）には、制御回路９の補正関数算出機能９４は、新規キャリブレーション測定を実行して、濃度と吸光度との関係を表す検量線として、第１検量線を取得する（ステップＳ１２）。

すなわち、制御回路９の補正関数算出機能９４は、分析機構２と解析回路３と駆動機構４とを制御して、新規キャリブレーション測定を行う。新規キャリブレーション測定では、既知の濃度の検出対象を含む標準試料に、検出対象と結合する成分が固定化された不溶性担体である担体粒子が含まれる試薬を吐出し、標準試料に試薬が添加された反応液を光学的に測定する。具体的には、第１試薬と、この第１試薬と対をなす第２試薬とを標準試料に添加した反応液を、測光ユニット２１４で光学的に測定することにより、反応液の吸光度を求める。そして、これを濃度の異なる標準試料について繰り返し行い、使用した標準試料の濃度と吸光度との関係を表す検量線として、第１検量線を生成する。

図４は、本実施形態に係る自動分析装置１で生成された検量線である第１検量線の一例を示す図である。この図４に示す例においては、第１検量線におけるブランク値である第１ブランク値は、０．１である。ここでブランク値とは、検出対象の濃度がゼロである標準試料を用いた場合の吸光度を示す値である。一方、濃度が１００である標準試料を用いた場合の吸光度は、１．１である。ここで、濃度が１００とは、この自動分析装置１にセットされたキャリブレータが備える標準試料のセットの中で、検出対象の濃度が最大の標準試料を用いた場合の吸光度を示す値である。すなわち、濃度１００とは絶対的な値ではなく、相対的な値である。

ここで、本実施形態においては、検量線の傾きを、吸光度の変化量を基準とした濃度の変化量と定義する。すなわち、検量線の傾き＝濃度／吸光度である。図４に例示する第１検量線の傾きを第１傾きとすると、第１傾き＝（１００－０）／（１．１－０．１）＝１００と算出される。

次に、図３に示すように、制御回路９の補正関数算出機能９４は、２回目の新規キャリブレーション測定を実行する必要性の条件が満たされたか否かを判断する（ステップＳ１４）。すなわち、２回目の新規キャリブレーション測定を行い、再び検量線、つまり、第２検量線を生成する必要性の判定をする。第２検量線を生成する必要性の条件には、様々なものが考えられる。例えば、試薬を収容する試薬ボトルにおける試薬の残量が所定量以下になった場合に、この条件が満たされたと判定することができる。試薬の残量は、分析機構２において常時監視されており、この試薬の残量に基づいて、制御回路９の補正関数算出機能９４が判定を行う。例えば、試薬の残量が１０％以下になった場合に、第２検量線を生成する必要性の条件が満たされたと判定する。

或いは、第１検量線を生成した後、所定の時間が経過した場合に、第２検量線を生成する必要性の条件が満たされたと判定しても良い。この場合、制御回路９の補正関数算出機能９４が第１検量線を作成した日時を記憶しており、この第１検量線を作成した日時から例えば、３日経過した場合に、第２検量線を生成する必要性の条件が満たされたと判定する。また、例えば、第１検量線を作成した日時から、１００時間が経過した場合に、第２検量線を生成する必要性の条件が満たされたと判定してもよい。試薬の濃縮という観点からすれば、試薬ボトルを開封したときからの経過時間を判定基準とすべきであるが、試薬ボトルの開封時を厳密に特定することは難しいことから、本実施形態においては、第１検量線を生成してからの経過時間を基準としている。但し、ユーザに入力インターフェース５を介して試薬ボトルの開封日時を入力させたり、新しい試薬ボトルが自動分析装置１にセットされた日時を制御回路９が記憶したりして、これらの日時を基準として、所定の時間が経過したか否かを判定するようにしてもよい。

２回目の新規キャリブレーション測定を実行する必要性の条件が満たされていない場合（ステップＳ１４：Ｎｏ）には、このステップＳ１４を繰り返して待機する。一方、この２回目の新規キャリブレーション測定を実行する必要性の条件が満たされた場合（ステップＳ１４：Ｙｅｓ）には、制御回路９の補正関数算出機能９４は、再び新規キャリブレーション測定を実行して、濃度と吸光度との関係を表す検量線として、第２検量線を取得する（ステップＳ１６）。

すなわち、制御回路９の補正関数算出機能９４は、分析機構２と解析回路３と駆動機構４とを制御して、２回目の新規キャリブレーション測定を行う。２回目の新規キャリブレーション測定でも、１回目の新規キャリブレーション測定と同様に、既知の濃度の検出対象を含む標準試料に、検出対象と結合する成分が固定化された不溶性担体である担体粒子が含まれる試薬を吐出し、標準試料に試薬が添加された反応液を光学的に測定する。具体的には、第１試薬と、この第１試薬と対をなす第２試薬とを標準試料に添加した反応液を、測光ユニット２１４で光学的に測定することにより、反応液の吸光度を求める。そして、これを濃度の異なる標準試料について繰り返し行い、使用した標準試料の濃度と吸光度との関係を表す検量線として、第２検量線を生成する。

図５は、本実施形態に係る自動分析装置１で生成された検量線である第２検量線の一例を示す図である。この図５に示す例においては、第２検量線におけるブランク値である第２ブランク値は、０．２である。一方、濃度が１００である標準試料を用いた場合の吸光度は、２．２である。このため、図５に例示する第２検量線の傾きを第２傾きとすると、第２傾き＝（１００－０）／（２．２－０．２）＝５０と算出される。

次に、図３に示すように、制御回路９の補正関数算出機能９４は、検量線のブランク値と検量線の傾きとの相関関係を表す補正関数における補正係数を算出する（ステップＳ１８）。すなわち、第１検量線の第１ブランク値と第１傾き、及び、第２検量線の第２ブランク値と第２傾きとを用いて、補正係数を導出する。

本実施形態においては、補正係数を、（第２傾き－第１傾き）／（第２ブランク値－第１ブランク値）により算出する。上述した図４及び図５の例を用いると、補正係数は、（５０－１００）／（０．２－０．１）＝－５００と算出される。これは、この例示においては、ブランク値が１大きくなると、傾きが５００小さくなること、つまり、ブランク値が０．１大きくなると、傾きが５０小さくなることを意味している。

この算出された補正関数の補正係数は、制御回路９が記憶して保持しておいてもよいし、記憶回路８が記憶して保持しておいてもよい。このステップＳ１８を実行することにより、本実施形態に係る補正関数算出処理は終了する。

なお、測光ユニット２１４で反応液の吸光度を測定する光の波長は、１回目の新規キャリブレーション測定の測定結果と２回目の新規キャリブレーション測定の測定結果とを比較し、最も大きな変化があった光の波長を指標として採用するようにしてもよい。すなわち、測光ユニット２１４において、複数の光の波長で吸光度を測定し、それぞれ第１検量線と第２検量線を生成し、最も変化の大きかった光の波長により生成された第１検量線と第２検量線を用いて、補正関数の補正係数を算出するようにしてもよい。

また、本実施形態に係る自動分析装置１においては、制御回路９の補正関数算出機能９４がステップＳ１２を実行した際に、制御回路９の補正関数算出機能９４が第１検量線生成部を構成し、制御回路９の補正関数算出機能９４がステップＳ１６を実行した際に、制御回路９の補正関数算出機能９４が第２検量線生成部を構成し、制御回路９の補正関数算出機能９４がステップＳ１８を実行した際に、制御回路９の補正関数算出機能９４が補正係数算出部を構成する。

次に、上述した補正関数算出処理の処理が終了した後に実行される、補正検量線生成処理の処理内容を説明する。図６は、本実施形態に係る補正検量線生成処理のフローチャートを示す図である。この補正検量線生成処理は、制御回路９における補正検量線生成機能９５により実行される。すなわち、この補正検量線生成処理は、制御回路９における補正検量線生成機能９５の制御のもと、分析機構２と解析回路３と駆動機構４とが各機能を実行することにより実現される処理である。

この図６に示すように、制御回路９における補正検量線生成機能９５は、試薬のブランク測定の実行指示が入力されたか否かを判断する（ステップＳ２０）。すなわち、ユーザは、試薬のブランク測定が必要な場合に、入力インターフェース５を介して、試薬のブランク測定の実行指示を入力する。この試薬のブランク測定を行うタイミングは任意であるが、例えば、本実施形態では、この自動分析装置１が設置されている病院で、毎朝、被検試料の測定を開始する前に、クオリティコントロール測定が行われるが、このクオリティコントロール測定の前に試薬のブランク測定を行う。或いは、朝と昼の２回、被検試料の測定を開始する前に、クオリティコントロール測定が行われるが、このクオリティコントロール測定の前に試薬のブランク測定を行う。本実施形態においては、この試薬のブランク測定を行うことにより、被検試料の測定に用いられる検量線の有効性について検証することができる。

試薬のブランク測定の実行指示が入力されない場合（ステップＳ２０：Ｎｏ）には、制御回路９における補正検量線生成機能９５は、このステップＳ２０の処理を繰り返して待機する。一方、試薬のブランク測定の実行指示が入力された場合（ステップＳ２０：Ｙｅｓ）には、制御回路９における補正検量線生成機能９５は、試薬のブランク測定を実行して、その時点の試薬におけるブランク値として、第３ブランク値を取得する（ステップＳ２２）。

すなわち、制御回路９における補正検量線生成機能９５は、分析機構２と解析回路３と駆動機構４とを制御して、試薬のブランク測定を行う。試薬のブランク測定では、検出対象の濃度がゼロの標準試料に、検出対象と結合する成分が固定化された不溶性担体である担体粒子が含まれる試薬を吐出し、標準試料に試薬が添加された反応液を光学的に測定する。具体的には、第１試薬と、この第１試薬と対をなす第２試薬とを標準試料に添加した反応液を、測光ユニット２１４で光学的に測定することにより、反応液の吸光度を求める。この吸光度が第３ブランク値となる。

この際、検出対象濃度がゼロの標準試料の代わりに、この自動分析装置１が備える分注用の内部水や、生理食塩水を用いて、試薬のブランク測定を行うことも可能である。すなわち、検出対象の成分が実質的に含まれていない、濃度がゼロである何らかの液体を用いて、試薬のブランク測定を行うことが可能である。

次に、図６に示すように、制御回路９における補正検量線生成機能９５は、取得した第３ブランク値を用いて、被検試料の測定で用いる検量線である第３検量線の傾きである、第３傾きを算出する（ステップＳ２４）。すなわち、ステップＳ２２で取得した第３ブランク値と、ステップＳ１８で算出した補正数を、補正関数に代入することにより、第３検量性の傾きである第３傾きを算出する。

本実施形態においては、例えば、補正後の検量線の傾きである第３傾きは、第１傾き＋補正係数×（第３ブランク値－第１ブランク値）により算出される。上述した図４及び図５の例において、第３ブランク値が０．１５であったと仮定すると、補正後の傾きである第３傾きは、１００＋（－５００）×（０．１５－０．１）＝７５となる。

次に、図６に示すように、制御回路９における補正検量線生成機能９５は、ステップＳ２４で算出された補正後の傾きと、ステップＳ２２で取得した第３ブランク値とに基づいて、被検試料の測定に用いる検量線である第３検量線を生成する（ステップＳ２６）。すなわち、第１検量線と第２検量線と第３ブランク値とに基づいて、補正された第３検量線を生成する。

図７は、ステップＳ２６で生成された第３検量線のグラフを、第１検量線及び第２検量線とともに示す図である。この図７に示すように、本実施形態における自動分析装置１においては、検量線のブランク値と傾きの相関関係を用いて、試薬のブランク測定で測定されたブランク値に基づいて、被検試料の測定に用いる検量線のブランク値だけでなく、傾きも補正している。これにより、試薬濃縮が発生しても、より適切な検量線を用いて、被検試料の測定を行うことができる。

このステップＳ２６で生成された第３検量線は、制御回路９が記憶して保持してもよいし、記憶回路８が記憶して保持してもよい。このステップＳ２６の処理を実行することにより、この補正検量線生成処理が終了する。

本実施形態に係る自動分析装置１は、その後、ユーザの指示に基づいて、被検試料の測定を行う。例えば、本実施形態においては、制御回路９の測定制御機能９３の制御のもと、分析機構２と解析回路３と駆動機構４が各機能を実行することにより、被検試料の測定を行う。具体的には、被検対象を含む被検試料に試薬を吐出して、被検試料に試薬が添加された反応液を光学的に測定した測定結果と、第３検量線とに基づいて、被検試料における検出対象の濃度を算出する。

なお、本実施形態に係る自動分析装置１においては、制御回路９における補正検量線生成機能９５が補正検量線生成処理を実行した際に、制御回路９における補正検量線生成機能９５が第３検量線生成部を構成する。また、本実施形態に係る自動分析装置１においては、制御回路９における測定制御機能９３が、被検試料の測定を実行した際に、制御回路９における測定制御機能９３が被検試料濃度算出部を構成する。

以上のように、本実施形態に係る自動分析装置１によれば、１回目の新規キャリブレーション測定で得られた第１検量線と、１回目の新規キャリブレーション測定で得られた第２検量線とに基づいて、検量線のブランク値と傾きの相関関係を表す補正関数における補正係数を算出することとした。そして、その上で、試薬のブランク測定で測定されたブランク値を用いて、補正関数に基づいて、被検試料の測定に用いる検量線の傾きを補正することとした。このため、試薬ボトルにて試薬濃縮が発生しても、その濃縮を考慮した適切な検量線（第３検量線）で、試験試料の測定を行うことができ、測定精度を向上させることができる。

特に、試薬がなくなり、試薬ボトルを交換した場合でも、試薬の製造が同一のロット番号であれば、検量線の特性は変わらないと考えられることから、同一のロット番号の試薬ボトルを使用している間は、高い精度で検量線の補正を行い、被検試料の測定に用いる第３検量線を生成することができる。

また、試薬の特性として、ロット番号が変更されても検量線の特性があまり変わらないような試薬については、試薬ボトルのロット番号が変わっても、既に算出されている補正係数をそのまま用いることができ、依然として高い精度で検量線の補正を行い、被検試料の測定に用いる第３検量線を生成することができる。

〔第２実施形態〕
上述した第１実施形態においては、検量線としての第１検量線、第２検量線、及び、第３検量線が、線形である場合を例に、自動分析装置１の構成及び動作を説明したが、第２実施形態においては、検量線としての第１検量線、第２検量線、及び、第３検量線が、非線形である場合を例として、自動分析装置１の構成及び動作を説明する。

図８は、第２実施形態に係る自動分析装置１により生成される、第１検量線、第２検量線、及び、第３検量線のグラフを示す図であり、上述した第１実施形態にける図７に対応する図である。すなわち、第２実施形態における自動分析装置１においては、補正関数算出処理及び補正検量線生成処理は上述した第１実施形態と同様であるが、検量線が非線形である点が相違している。

この図８に示すように、本実施形態においては、制御回路９における補正関数算出機能９４が生成する第１検量線及び第２検量線は、ともに非線形であり、制御回路９における補正検量線生成機能９５が生成する第３検量線も、非線形である。ここで、非線形の検量線を生成する関数としては、例えば、Logit-4やスプラインなどがある。

本実施形態においても、補正関数算出処理におけるステップＳ１８では、補正係数を、（第２傾き－第１傾き）／（第２ブランク値－第１ブランク値）により算出する。図８の例を用いると、第１傾き＝（１００－０）／（１．１－０．１）＝１００と算出され、第２傾き＝（１００－０）／（２．２－０．２）＝５０と算出される。つまり、非線形の検量線を用いる場合、その非線形の検量線の全体的な傾きを、それぞれ第１傾き及び第２傾きとして、算出する。このため、ステップＳ１８では、補正係数は、（５０－１００）／（０．２－０．１）＝－５００と算出される。これは、この例示においては、ブランク値が１大きくなると、傾きが５００小さくなること、つまり、ブランク値が０．１大きくなると、傾きが５０小さくなることを意味している。

上述した第１実施形態と同様に、これら第１検量線及び第２検量線の２つから算出された補正関数の補正係数は、制御回路９が記憶して保持しておいてもよいし、記憶回路８が記憶して保持しておいてもよい。それ以外の構成及び動作は、上述した第１実施形態と同様である。つまり、ステップＳ１８で算出された補正係数を用いて、補正検量線生成処理にて、補正後の検量線である第３検量線が生成され、被検試料の測定に用いられる。

以上のように、本実施形態に係る自動分析装置１においては、検量線である第１検量線と第２検量線と第３検量線を線形ではなく非線形とすることができる。すなわち、非線形の検量線を用いる場合にも、２回の新規キャリブレーション測定により、検量線のブランク値と傾きの相関関係を表す補正関数における補正係数を算出し、その上で、試薬のブランク測定で測定されたブランク値を用いて、補正関数に基づいて、被検試料の測定に用いる検量線の傾きを補正することができる。このため、試薬ボトルにて試薬濃縮が発生しても、その濃縮を考慮した適切な検量線（第３検量線）で、試験試料の測定を行うことができ、測定精度を向上させることができる。

〔第３実施形態〕
上述した第１実施形態及び第２実施形態においては、補正関数における補正係数は１つであったが、補正関数における補正係数は必ずしも１つである必要はない。第３実施形態においては、２つの補正係数Ａ、Ｂを用いた場合を例に、本実施形態に係る自動分析装置１の構成及び動作を説明する。

第３実施形態に係る自動分析装置１においても、補正関数算出処理及び補正検量線生成処理は上述した第１実施形態及び第２実施形態と同様であるが、検量線のブランク値と検量線の傾きとの相関関係を表す補正関数が相違している。すなわち、補正関数が第１補正係数Ａと第２補正係数Ｂを含んでおり、第１検量線について、第１傾き×第１ブランク値＝第１補正係数Ａ＋第２補正係数Ｂ×第１ブランク値を導出し、第２検量線について、第２傾き×第２ブランク値＝第１補正係数Ａ＋第２補正係数Ｂ×第２ブランク値を導出し、この導出された２つの数式に基づいて、第１補正係数Ａと第２補正係数Ｂを算出する。

具体的には、図３の補正関数算出処理におけるステップＳ１８において、まず、ステップＳ１２で得られた第１検量線に基づいて、第１傾き×第１ブランク値＝第１補正係数Ａ＋第２補正係数Ｂ×第１ブランク値を導出する。続いて、ステップＳ１６で得られた第２検量線に基づいて、第２傾き×第２ブランク値＝第１補正係数Ａ＋第２補正係数Ｂ×第２ブランク値を導出する。そして、これら２つの数式による連立方程式を解くことにより、第１補正係数Ａと第２補正係数Ｂとを算出する。

例えば、第１検量線における第１傾きが１００であり、第１ブランク値が０．１であったと仮定すると、第１検量線に基づいて、１００×０．１＝第１補正係数Ａ＋第２補正係数Ｂ×０．１が導出される。続いて、第２検量線における第２傾きが９０であり、第２ブランク値が０．２であったと仮定すると、第２検量線に基づいて、９０×０．２＝第１補正係数Ａ＋第２補正係数Ｂ×０．２が導出される。この２つの数式を連立方程式として解くと、第１補正係数Ａが２となり、第２補正係数Ｂが８０となる。

上述した第１実施形態と同様に、この算出された補正関数の第１補正係数Ａ及び第２補正係数Ｂは、制御回路９が記憶して保持しておいてもよいし、記憶回路８が記憶して保持しておいてもよい。

図６に示す補正検量線生成処理のステップＳ２６においては、この第１補正係数Ａと第２補正係数Ｂとを用いて、補正関数により、検量線の傾きの補正を行い、第３検量線を生成する。すなわち、本実施形態においては、補正後の傾きを、第１補正係数／第３ブランク値＋第２補正係数により算出する。

例えば、試薬のブランク測定で測定した第３ブランク値が０．１５であった場合、補正後の傾きは、２／０．１５＋８０＝９３．３３３・・・となる。つまり、第３傾きが９３．３とし、第３ブランク値が０．１５の検量線を、被検試料の測定に用いる第３検量線とすることができる。

また、試薬のブランク測定で測定した第３ブランク値が０．３であった場合、補正後の傾きは、２／０．３＋８０＝８６．６６６・・・となる。つまり、第３傾きが８６．７とし、第３ブランク値が０．３の検量線を、被検試料の測定に用いる第３検量線とすることができる。この第３ブランク値が０．３という値は、０．１であった第１ブランク値と０．２であった第２ブランク値の値の範囲を超えている。つまり、外挿による補間で、第１ブランク値と第２ブランク値の範囲外の第３ブランク値に基づいて、補正後の傾きである第３傾きを算出することができる。

以上のように、本実施形態に係る自動分析装置１においても、２回の新規キャリブレーション測定により、検量線のブランク値と傾きの相関関係を表す補正関数における第１補正係数Ａ及び第２補正係数Ｂを算出し、その上で、クオリティコントロール測定前に試薬のブランク測定を行うことで、この測定されたブランク値を用いて、補正関数に基づいて、被検試料の測定に用いる検量線の傾きを補正することができる。このため、試薬ボトルにて試薬濃縮が発生しても、その濃縮を考慮した適切な検量線（第３検量線）で、試験試料の測定を行うことができ、測定精度を向上させることができる。

また、本実施形態に係る自動分析装置１によれば、２回の新規キャリブレーション測定により得られた２つのブランク値の範囲外の第３ブランク値が、試薬のブランク測定で測定されたとしても、補正後の傾きである第３傾きを算出することができ、被検試料の測定に用いる第３検量線を生成することができる。このため、幅広い範囲で検量線の傾きを補正することができる。

以上では、２つの補正係数を補正関数が有する場合を例に本実施形態を説明したが、３つ、４つ等の複数の補正係数を有する補正関数を用いることもできる。３つ、４つ等の複数の補正係数を補正関数が有する場合には、それぞれ、補正関数を算出するための検量線も３つ、４つ必要となる。つまり、補正関数が有する補正係数と同数の検量線を、新規キャリブレーション測定により生成する必要がある。

例えば補正関数が３つの補正係数を有する場合には、試薬の残量が、例えば１００％、５０％、１０％のときに新規キャリブレーション測定を行い、３つの検量線を生成する必要がある。そして、３つの検量線に基づいて、ブランク値と傾きの相関関係を表す補正関数における３つの補正係数の値を算出する。そして、試薬のブランク測定を行った際に、測定されたブランク値を補正関数に代入することにより、被検試料の測定に用いる検量線の傾きを算出する。

上記説明では、「プロセッサ」が各機能に対応するプログラムを記憶回路８から読み出して実行する例を説明したが、実施形態はこれに限定されない。「プロセッサ」という文言は、例えば、CPU（central processing unit）、GPU (Graphics Processing Unit)、特定用途向け集積回路（Application Specific Integrated Circuit：ＡＳＩＣ）、プログラマブル論理デバイス（例えば、単純プログラマブル論理デバイス（Simple Programmable Logic Device：ＳＰＬＤ）、複合プログラマブル論理デバイス（Complex Programmable Logic Device：ＣＰＬＤ）、及びフィールドプログラマブルゲートアレイ（Field Programmable Gate Array：ＦＰＧＡ））等の回路を意味する。プロセッサが例えばCPUである場合、プロセッサは記憶回路８に保存されたプログラムを読み出して実行することで機能を実現する。一方、プロセッサが例えばASICである場合、プログラムが記憶回路８に保存される代わりに、当該機能がプロセッサの回路内に論理回路として直接組み込まれる。なお、本実施形態の各プロセッサは、プロセッサごとに単一の回路として構成される場合に限らず、複数の独立した回路を組み合わせて１つのプロセッサとして構成し、その機能を実現するようにしてもよい。さらに、図１における複数の構成要素を１つのプロセッサへ統合してその機能を実現するようにしてもよい。

以上、いくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例としてのみ提示したものであり、発明の範囲を限定することを意図したものではない。本明細書で説明した新規な装置および方法は、その他の様々な形態で実施することができる。また、本明細書で説明した装置および方法の形態に対し、発明の要旨を逸脱しない範囲内で、種々の省略、置換、変更を行うことができる。添付の特許請求の範囲およびこれに均等な範囲は、発明の範囲や要旨に含まれるこのような形態や変形例を含むように意図されている。

１…自動分析装置、２…分析機構、３…解析回路、４…駆動機構、５…入力インターフェース、６…出力インターフェース、７…通信インターフェース、８…記憶回路、９…制御回路、３１…検量データ生成機能、３２…分析データ生成機能、９１…システム制御機能、９２…校正制御機能、９３…測定制御機能、９４…補正関数算出機能、９５…補正検量線生成機能、２０１…反応ディスク、２０２…恒温部、２０３…サンプルディスク、２０４…第１試薬庫、２０５…第２試薬庫、２０６…サンプル分注アーム、２０７…サンプル分注プローブ、２０８…第１試薬分注アーム、２０９…第１試薬分注プローブ、２１０…第２試薬分注アーム、２１１…第２試薬分注プローブ、２１２…第１攪拌ユニット、２１３…第２攪拌ユニット、２１４…測光ユニット、２１５…洗浄ユニット、２０１１…反応容器、２０４１…試薬ラック、２０５１…試薬ラック、２１２１…第１攪拌アーム、２１３１…第２攪拌アーム、ＮＷ…病院内ネットワーク

Claims (11)

1. 既知の濃度の検出対象を含む標準試料に、前記試薬が添加された反応液を光学的に測定した測定結果に基づいて、濃度と吸光度との関係を表す第１検量線を生成する、第１検量線生成部と、
   前記第１検量線を生成した後に、前記標準試料と前記試薬を混合し、この混合した反応液を光学的に測定した測定結果と、前記第1検量線に関連するデータに基づいて、第２検量線を生成する、第２検量線生成部と、
   を備える自動分析装置。
2. 前記第１検量線における前記検出対象の濃度がゼロである場合の吸光度であるブランク値である第１ブランク値と、前記第１検量線の傾きである第１傾きと、前記第２検量線における前記ブランク値である第２ブランク値と、前記第２検量線の傾きである第２傾きとに基づいて、前記検量線のブランク値と前記検量線の傾きとの相関関係を表す補正関数における補正係数を算出する、補正係数算出部と、をさらに備える請求項１に記載の自動分析装置。
3. 前記第２検量線生成部は、前記試薬を収容する試薬ボトルにおける試薬の残量が所定量以下になった場合に、前記第２検量線を生成する、請求項１又は請求項２に記載の自動分析装置。
4. 前記第２検量線生成部は、前記第１検量線を生成した後、所定の時間が経過した場合に、前記第２検量線を生成する、請求項１又は請求項２に記載の自動分析装置。
5. 前記補正係数算出部が前記補正係数を算出した後に行われた測定により得られた前記ブランク値である第３ブランク値と、算出された前記補正係数とを用いて、前記補正関数に基づいて、検量線の補正後の傾きを算出し、算出された補正後の傾きに基づいて、補正後の検量線である第３検量線を生成する、第３検量線生成部を、さらに備える請求項２に記載の自動分析装置。
6. 前記補正係数算出部は、（第２傾き－第１傾き）／（第２ブランク値－第１ブランク値）により、前記補正関数における補正係数を算出し、ここで、傾き＝濃度／吸光度で定義される、請求項５に記載の自動分析装置。
7. 前記補正後の傾きは、第１傾き＋補正係数×（第３ブランク値－第１ブランク値）により算出される、請求項６に記載の自動分析装置。
8. 前記補正係数は、第１補正係数と第２補正係数とを含んでおり、
   前記補正係数算出部は、前記第１検量線について、第１傾き×第１ブランク値＝第１補正係数＋第２補正係数×第１ブランク値を導出し、第２検量線について、第２傾き×第２ブランク値＝第１補正係数＋第２補正係数×第２ブランク値を導出し、この導出された２つの数式に基づいて、第１補正係数と第２補正係数を算出し、ここで、傾き＝濃度／吸光度で定義される、請求項５に記載の自動分析装置。
9. 前記補正後の傾きは、第１補正係数／第３ブランク値＋第２補正係数により算出される、請求項８に記載の自動分析装置。
10. 前記検出対象を含む前記被検試料に前記試薬を吐出して、前記被検試料に前記試薬が添加された反応液を光学的に測定した測定結果と、前記第３検量線とに基づいて、前記被検試料における前記検出対象の濃度を算出する、被検試料濃度算出部を、さらに備える請求項５乃至請求項９のいずれかに記載の自動分析装置。
11. 前記第１検量線、前記第２検量線、及び、前記第３検量線は、線形又は非線形の検量線である、請求項５乃至請求項１０のいずれかに記載の自動分析装置。

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