JP2021147705A - 蒸着マスク装置の製造方法および有機ｅｌ表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】フレームに対する蒸着マスクの位置合わせに要する時間を短縮させることができる、蒸着マスク装置の製造方法および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】フレーム準備工程と、マスク準備工程と、蒸着マスク２０の重なり部２１が平面視で第１壁面縁１７ｅに重なるとともに第１壁面縁１７ｅが蒸着マスク２０の第１マスク縁２０ｃから第２マスク縁２０ｄにわたって第１方向Ｄ１に一直線状に延びるようにフレーム１５に蒸着マスク２０を配置する配置工程と、配置工程の後蒸着マスク２０を第２方向Ｄ２に引っ張るとともにフレーム１５に押し付けながらフレーム１５に対して位置合わせするマスク位置合わせ工程と、マスク位置合わせ工程の後蒸着マスク２０を接合張力で第２方向Ｄ２に引っ張るとともにフレーム１５に押し付けながらフレーム１５に接合する接合工程とを備えた、蒸着マスク装置の製造方法。【選択図】図１０

Description

本開示は、蒸着マスク装置の製造方法および有機ＥＬ表示装置の製造方法に関する。

スマートフォンやタブレットＰＣ等の持ち運び可能なデバイスで用いられる表示装置の分野において、有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置などの有機半導体デバイスの製造方法及び製造装置として、所望のパターンで配列された貫通孔が形成された蒸着マスクを用いて、所望のパターンで画素を形成する方法及び装置が知られている。例えば、まず、有機ＥＬ表示装置用の被蒸着基板に、フレームに固定された状態の蒸着マスクを組み合わせる。続いて、有機材料を含む蒸着材料を、蒸着マスクの貫通孔を介して被蒸着基板に蒸着させる。このような蒸着工程を実施することにより、蒸着マスクの貫通孔に対応したパターンで、蒸着材料を含む蒸着層（又は有機ＥＬ表示装置の発光層）を画素として被蒸着基板上に形成することができる。

蒸着マスクを被蒸着基板に組み合わせる際には、蒸着マスクは、フレームに架張して固定されている（例えば、特許文献１参照）。この際、蒸着マスクの貫通孔がフレームに対して所望の位置に位置するように、蒸着マスクがフレームに対して位置合わせされる。

特許第５３８２２５９号公報

本開示は、フレームに対する蒸着マスクの位置合わせに要する時間を短縮させることができる蒸着マスク装置の製造方法および有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することを目的とする。

本開示による蒸着マスク装置の製造方法は、フレーム準備工程と、マスク準備工程と、配置工程と、マスク位置合わせ工程と、接合工程と、を備えている。フレーム準備工程においては、第1フレーム面と、第1フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、第１フレーム面から第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、フレーム開口よりも平面視で外側に位置し、第１フレーム面から第２フレーム面に向かって延びるフレーム壁面であって、第１フレーム面の側に位置する第１壁面縁と、第２フレーム面の側に位置する第２壁面縁と、を含むフレーム壁面と、第２壁面縁から平面視で外側に前記第２フレーム面に沿って延びる第３フレーム面と、を有するフレームを準備する。マスク準備工程においては、第１方向における一方の側縁に位置する第１マスク縁と、前記第１方向における他方の側縁に位置する第２マスク縁と、第１方向に直交する第２方向における両側に位置する一対の重なり部と、一対の重なり部の間に位置する貫通孔と、を有する蒸着マスクを準備する。配置工程においては、蒸着マスクの重なり部は、平面視で、第１壁面縁に重なるとともに、第１壁面縁が、蒸着マスクの第１マスク縁から第２マスク縁にわたって第１方向に一直線状に延びるように、フレームに蒸着マスクを配置する。マスク位置合わせ工程においては、配置工程の後、蒸着マスクを、接合張力で第２方向に引っ張るとともにフレームに押し付けながら、フレームに対して位置合わせする。接合工程においては、マスク位置合わせ工程の後、蒸着マスクを、前記接合張力で前記第２方向に引っ張るとともに前記フレームに押し付けながら、フレームに接合する。

本開示による有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上述の蒸着マスク装置の製造方法により蒸着マスク装置を準備する装置準備工程と、密着工程と、蒸着工程と、を備えている。密着工程においては、蒸着マスク装置の蒸着マスクを被蒸着基板に密着させる。蒸着工程においては、蒸着マスクの貫通孔を通して蒸着材料を被蒸着基板に蒸着させて蒸着層を形成する。

本開示による蒸着マスク装置は、フレームと、フレーム上に設けられた蒸着マスクと、を備えている。フレームは、第１フレーム面と、第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、第１フレーム面から第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、フレーム開口よりも平面視で外側に位置し、第１フレーム面から第２フレーム面に向かって延びるフレーム壁面であって、第１フレーム面の側に位置する第１壁面縁と、第２フレーム面の側に位置する第２壁面縁と、を含むフレーム壁面と、第２壁面縁から平面視で外側に第２フレーム面に沿って延びる第３フレーム面と、を有している。蒸着マスクは、第１方向における一方の側縁に位置する第１マスク縁と、前記第１方向における他方の側縁に位置する第２マスク縁と、第１方向に直交する第２方向における両側に位置し、第１フレーム面に重なる一対の重なり部と、一対の重なり部の間に位置する貫通孔と、を有している。蒸着マスクは、第２方向における両側であって第１壁面縁よりも内側に位置する一対のマスク端を有している。第１壁面縁は、蒸着マスクの第１マスク縁の延長線から第２マスク縁の延長線にわたって第２方向に一直線状に延びている。

本開示による蒸着マスク装置の中間体は、フレームと、フレーム上に設けられた蒸着マスクと、を備えている。フレームは、第１フレーム面と、第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、第１フレーム面から第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、フレーム開口よりも平面視で外側に位置し、第１フレーム面から第２フレーム面に向かって延びるフレーム壁面であって、第１フレーム面の側に位置する第１壁面縁と、第２フレーム面の側に位置する第２壁面縁と、を含むフレーム壁面と、第２壁面縁から平面視で外側に第２フレーム面に沿って延びる第３フレーム面と、を有している。蒸着マスクは、第１方向における一方の側縁に位置する第１マスク縁と、前記第１方向における他方の側縁に位置する第２マスク縁と、第１方向に直交する第２方向における両側に位置し、第１フレーム面に重なる一対の重なり部と、一対の重なり部の間に位置する貫通孔と、を有している。第１壁面縁は、平面視で蒸着マスクの重なり部に重なるとともに、蒸着マスクの第１マスク縁から第２マスク縁にわたって第２方向に一直線状に延びている。

本開示によれば、フレームに対する蒸着マスクの位置合わせに要する時間を短縮させることができる。

本開示の実施形態による蒸着マスク装置を備えた蒸着装置を示す図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置を示す平面図である。 図２のＡ−Ａ線に沿った断面を模式的に示す図である。 図３の部分拡大断面図である。 図４Ａの部分拡大断面図である。 図２の蒸着マスク装置を示す部分拡大平面図である。 図２の蒸着マスクの貫通孔群を示す拡大平面図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法における保持工程を示す図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法における配置工程を示す図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法におけるマスク位置合わせ工程の第１貫通孔確認工程を示す図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法におけるマスク位置合わせ工程の移動工程を示す図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法におけるマスク位置合わせ工程の張力調整工程を示す図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法のマスク位置合わせ工程において、蒸着マスク装置を示す部分拡大平面図である。 蒸着マスク装置の製造方法のマスク位置合わせ工程において、蒸着マスク装置を示す部分拡大平面図である。 図１１のＢ−Ｂ線に沿った断面を模式的に示す図である。 図１１のＣ−Ｃ線に沿った断面を模式的に示す図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法における接合工程を示す図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法における取り外し工程を示す図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法において、１つの蒸着マスクが接合されたフレームを示す平面図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法により得られる蒸着マスク装置の中間体を示す平面図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法における切断工程を示す図である。 本開示の実施形態による蒸着マスク装置の製造方法の切断工程において、蒸着マスク装置を示す部分拡大平面図である。 本開示の実施形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法により得られる有機ＥＬ表示装置を模式的に示す断面図である。 本開示の実施形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法における密着工程を示す図である。 本開示の実施形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法における蒸着工程を示す図である。

本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、「基板」や「基材」や「板」や「シート」や「フィルム」などのある構成の基礎となる物質を意味する用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。

本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」や「直交」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。

本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に」や「下に」、「上側に」や「下側に」、又は「上方に」や「下方に」とする場合、ある構成が他の構成に直接的に接している場合を含む。さらに、ある構成と他の構成との間に別の構成が含まれている場合、つまり間接的に接している場合も含む。また、特別な説明が無い限りは、「上」や「上側」や「上方」、又は、「下」や「下側」や「下方」という語句は、上下方向が逆転してもよい。

本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号又は類似の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する場合がある。また、図面の寸法比率は説明の都合上実際の比率とは異なる場合や、構成の一部が図面から省略される場合がある。

本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、矛盾の生じない範囲で、その他の実施形態や変形例と組み合わせられ得る。また、その他の実施形態同士や、その他の実施形態と変形例も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。また、変形例同士も、矛盾の生じない範囲で組み合わせられ得る。

本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、製造方法などの方法に関して複数の工程を開示する場合に、開示されている工程の間に、開示されていないその他の工程が実施されてもよい。また、開示されている工程の順序は、矛盾の生じない範囲で任意である。

本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、「〜」という記号によって表現される数値範囲は、「〜」という符号の前後に置かれた数値を含んでいる。例えば、「３４〜３８質量％」という表現によって画定される数値範囲は、「３４質量％以上且つ３８質量％以下」という表現によって画定される数値範囲と同一である。

本明細書及び本図面において、特別な説明が無い限りは、本明細書の一実施形態において、有機ＥＬ表示装置を製造する際に有機材料を所望のパターンで基板上にパターニングするために用いられる蒸着マスクやその製造方法に関した例をあげて説明する。ただし、このような適用に限定されることなく、種々の用途に用いられる蒸着マスクに対し、本実施形態を適用することができる。

以下、本開示の一実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は本開示の実施形態の一例であって、本開示はこれらの実施形態のみに限定して解釈されるものではない。

本開示の第１の態様は、
第1フレーム面と、前記第1フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、前記フレーム開口よりも平面視で外側に位置し、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に向かって延びるフレーム壁面であって、前記第１フレーム面の側に位置する第１壁面縁と、前記第２フレーム面の側に位置する第２壁面縁と、を含むフレーム壁面と、前記第２壁面縁から平面視で外側に前記第２フレーム面に沿って延びる第３フレーム面と、を有するフレームを準備するフレーム準備工程と、
第１方向における一方の側縁に位置する第１マスク縁と、前記第１方向における他方の側縁に位置する第２マスク縁と、前記第１方向に直交する第２方向における両側に位置する一対の重なり部と、一対の前記重なり部の間に位置する貫通孔と、を有する蒸着マスクを準備するマスク準備工程と、
前記蒸着マスクの前記重なり部は、平面視で、前記第１壁面縁に重なるとともに、当該第１壁面縁が、前記蒸着マスクの前記第１マスク縁から前記第２マスク縁にわたって前記第１方向に一直線状に延びるように、前記フレームに前記蒸着マスクを配置する配置工程と、
前記配置工程の後、前記蒸着マスクを、接合張力で前記第２方向に引っ張るとともに前記フレームに押し付けながら、前記フレームに対して位置合わせするマスク位置合わせ工程と、
前記マスク位置合わせ工程の後、前記蒸着マスクを、前記接合張力で前記第２方向に引っ張るとともに前記フレームに押し付けながら、前記フレームに接合する接合工程と、を備えた、蒸着マスク装置の製造方法、
である。

本開示の第２の態様として、上述した第１の態様による蒸着マスク装置の製造方法において、
前記マスク位置合わせ工程は、前記蒸着マスクに前記接合張力が付与されるとともに前記蒸着マスクを前記フレームに押し付けながら、前記フレームに対する前記貫通孔の位置を確認する第１確認工程を有している、
ようにしてもよい。

本開示の第３の態様として、上述した第２の態様による蒸着マスク装置の製造方法において、
前記マスク位置合わせ工程は、前記第１確認工程における前記貫通孔の位置確認結果に基づいて、前記蒸着マスクに前記接合張力が付与されるとともに前記蒸着マスクを前記フレームに押し付けながら、前記第１方向及び前記第２方向で画定される２次元平面内でのいずれかの方向に移動させる移動工程を有している、
ようにしてもよい。

本開示の第４の態様として、上述した第１の態様から上述した第３の態様のそれぞれによる蒸着マスク装置の製造方法において、
前記マスク位置合わせ工程は、前記移動工程の後、前記蒸着マスクに接合張力が付与されるとともに前記蒸着マスクを前記フレームに押し付けながら、前記フレームに対する前記貫通孔の位置を確認する第２確認工程を有している、
ようにしてもよい。

本開示の第５の態様として、上述した第１の態様による蒸着マスク装置の製造方法において、
前記マスク位置合わせ工程は、
前記蒸着マスクを前記フレームに押し付けながら前記フレームに対する前記貫通孔の位置を確認する第３確認工程と、
前記第３確認工程における前記貫通孔の位置確認結果に基づいて、前記蒸着マスクに付与される張力を調整する張力調整工程と、
前記張力調整工程の後、前記蒸着マスクに前記接合張力が付与されるとともに前記蒸着マスクを前記フレームに押し付けながら前記フレームに対する前記貫通孔の位置を確認する第４確認工程と、を有している、
ようにしてもよい。

本開示の第６の態様として、上述した第１の態様から上述した第５の態様のそれぞれによる蒸着マスク装置の製造方法において、
前記接合工程の後、前記蒸着マスクの前記重なり部を切断する切断工程を更に備え、
前記接合工程において、前記蒸着マスクの前記重なり部から前記フレームに延びる接合部が形成され、
前記切断工程において、前記蒸着マスクの前記重なり部のうち前記接合部よりも前記第２方向の外側の位置で前記蒸着マスクが切断され、切断位置よりも外側の部分が除去される、
ようにしてもよい。

本開示の第７の態様として、上述した第６の態様による蒸着マスク装置の製造方法において、
前記フレームの前記第１フレーム面に、前記第１方向に延びるフレーム溝が設けられ、
前記切断工程において、前記フレーム溝に沿って前記蒸着マスクが切断される、
ようにしてもよい。

本開示の第８の態様として、上述した第１の態様から上述した第７の態様のそれぞれによる蒸着マスク装置の製造方法において、
前記フレームに、前記第１方向に並んだ２つ以上の前記蒸着マスクが接合された場合、前記フレームの前記第１壁面縁は、一の前記蒸着マスクから他の前記蒸着マスクにわたって前記第１方向に一直線状に延びている、
ようにしてもよい。

本開示の第９の態様として、上述した第８の態様による蒸着マスク装置の製造方法において、
前記フレームの前記第１壁面縁は、前記第１方向において最も一側に位置する前記蒸着マスクから、当該蒸着マスクとは最も反対側に位置する前記蒸着マスクにわたって前記第１方向に一直線状に延びている、
ようにしてもよい。

なお、上述した第１の態様から上述した第９の態様はそれぞれ、第１の態様から第１０の態様のそれぞれの蒸着マスク装置の製造方法により製造された蒸着マスク装置であってもよい。

また、本開示の第１０の態様は、
上述した第１の態様から第９の態様のそれぞれの蒸着マスク装置の製造方法により前記蒸着マスク装置を準備する装置準備工程と、
前記蒸着マスク装置の前記蒸着マスクを被蒸着基板に密着させる密着工程と、
前記蒸着マスクの前記貫通孔を通して蒸着材料を前記被蒸着基板に蒸着させて蒸着層を形成する蒸着工程と、を備えた有機ＥＬ表示装置の製造方法、
である。

本開示の第１１の態様として、上述した第１０の態様による有機ＥＬ表示装置の製造方法において、
前記密着工程において、前記被蒸着基板は、上方から静電チャックで保持される、
ようにしてもよい。

なお、上述した第１０の態様から上述した第１１の態様はそれぞれ、第１０の態様から第１１の態様のそれぞれの有機ＥＬ表示装置の製造方法により製造された有機ＥＬ表示装置であってもよい。

本開示の第１２の態様は、
第１フレーム面と、前記第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、前記フレーム開口よりも平面視で外側に位置し、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に向かって延びるフレーム壁面であって、前記第１フレーム面の側に位置する第１壁面縁と、前記第２フレーム面の側に位置する第２壁面縁と、を含むフレーム壁面と、前記第２壁面縁から平面視で外側に前記第２フレーム面に沿って延びる第３フレーム面と、を有するフレームと、
前記フレーム上に設けられた蒸着マスクであって、第１方向における一方の側縁に位置する第１マスク縁と、前記第１方向における他方の側縁に位置する第２マスク縁と、前記第１方向に直交する第２方向における両側に位置し、前記第１フレーム面に重なる一対の重なり部と、一対の前記重なり部の間に位置する貫通孔と、を有する蒸着マスクと、を備え、
前記蒸着マスクは、前記第２方向における両側であって前記第１壁面縁よりも内側に位置する一対のマスク端を有し、
前記第１壁面縁は、前記蒸着マスクの前記第１マスク縁の延長線から前記第２マスク縁の延長線にわたって前記第２方向に一直線状に延びている、蒸着マスク装置、
である。

本開示の第１３の態様として、上述した第１２の態様による蒸着マスク装置において、
前記第１方向に並んだ２つ以上の前記蒸着マスクを備え、
前記第１壁面縁は、一の前記蒸着マスクから他の前記蒸着マスクにわたって前記第１方向に一直線状に延びている、
ようにしてもよい。

本開示の第１４の態様として、上述した第１３の態様による蒸着マスク装置において、
前記第１壁面縁は、前記第１方向において最も一側に位置する前記蒸着マスクから、当該蒸着マスクとは最も反対側に位置する前記蒸着マスクにわたって前記第１方向に一直線状に延びているようにしてもよい。

本開示の第１５の態様として、上述した第１２の態様から上述した第１４の態様のそれぞれによる蒸着マスク装置において、
前記フレームの前記第１フレーム面に、前記第１方向に延びるフレーム溝が設けられている、
ようにしてもよい。

また、本開示の第１６の態様は、
第１フレーム面と、前記第１フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、前記フレーム開口よりも平面視で外側に位置し、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に向かって延びるフレーム壁面であって、前記第１フレーム面の側に位置する第１壁面縁と、前記第２フレーム面の側に位置する第２壁面縁と、前記第２壁面縁から平面視で外側に前記第２フレーム面に沿って延びる第３フレーム面と、を有するフレームと、
前記フレーム上に設けられた蒸着マスクであって、第１方向における一方の側縁に位置する第１マスク縁と、前記第１方向における他方の側縁に位置する第２マスク縁と、前記第１方向に直交する第２方向における両側に位置し、前記第１フレーム面に重なる一対の重なり部と、一対の前記重なり部の間に位置する貫通孔と、を有する蒸着マスクと、を備え、
前記第１壁面縁は、平面視で前記蒸着マスクの前記重なり部に重なるとともに、前記蒸着マスクの前記第１マスク縁から前記第２マスク縁にわたって前記第２方向に一直線状に延びている、蒸着マスク装置の中間体、
である。

以下、本開示の一実施形態による蒸着マスク装置の製造方法、有機ＥＬ表示装置の製造方法、蒸着マスク装置、及び蒸着マスク装置の中間体について、図１〜図２２を参照して説明する。

まず、対象物に蒸着材料を蒸着させる蒸着処理を実施する蒸着装置８０について、図１を参照して説明する。

図１に示すように、蒸着装置８０は、蒸着源（例えばるつぼ８１）と、ヒータ８３と、蒸着マスク装置１０と、を備えていてもよい。また、蒸着装置８０は、蒸着装置８０の内部を真空雰囲気にするための排気手段（図示せず）を更に備えていてもよい。るつぼ８１は、蒸着装置８０の内部に設けられており、有機発光材料などの蒸着材料８２を収容するように構成されている。ヒータ８３は、るつぼ８１を加熱するように構成されている。真空雰囲気でるつぼ８１を加熱することにより、蒸着材料８２が蒸発する。

蒸着マスク装置１０は、るつぼ８１に対向するように蒸着装置８０内に配置されている。蒸着マスク装置１０は、るつぼ８１の上方に配置されていてもよい。この蒸着マスク装置１０の蒸着マスク２０に対面するように被蒸着基板９１が配置されている。被蒸着基板９１は、蒸着材料８２を付着させる対象物である。被蒸着基板９１は、蒸着マスク２０の上方に配置されていてもよい。被蒸着基板９１は、静電気力を利用する静電チャック８４に保持されていてもよい。この場合、静電チャック８４は、被蒸着基板９１の上方に配置される。るつぼ８１から飛来した蒸着材料は、蒸着マスク２０の後述する貫通孔２５を通って、被蒸着基板９１に付着する。

図１に示すように、蒸着装置８０は、静電チャック８４の上方に配置された磁石８５を備えていてもよい。磁石８５を設けることにより、磁力によって蒸着マスク２０を磁石８５の側に引き寄せて、蒸着マスク２０を被蒸着基板９１に密着させることができる。これにより、蒸着工程においてシャドー（後述）が発生することを抑制することができ、被蒸着基板９１に付着した蒸着材料８２によって形成される蒸着層（又は有機ＥＬ表示装置９０の発光層９２、図２０参照）の形状精度や位置精度を高めることができる。静電チャック８４と磁石８５との間には、蒸着時に被蒸着基板９１を冷却する冷却板（図示せず）が介在されていてもよい。なお、このような磁石８５を蒸着装置８０は備えていなくてもよい。この場合、上述した静電チャック８４の静電力によって、蒸着マスク２０を被蒸着基板９１に密着させてもよい。

次に、本実施形態による蒸着マスク装置１０について、図２〜図６を参照して説明する。

図２に示すように、本実施形態による蒸着マスク装置１０は、フレーム１５と、フレーム１５上に設けられた蒸着マスク２０と、を備えていてもよい。フレーム１５上には、第１方向Ｄ１に並んだ２つ以上の蒸着マスク２０が設けられていてもよい。本実施形態では、蒸着マスク２０は、第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２が長手方向となるように細長状に形成されており、第２方向Ｄ２に一列状に配置された複数の貫通孔群２６（又は複数の有効領域２７、いずれも後述）を有している。

フレーム１５は、蒸着マスク２０が撓んでしまうことを抑制するために、蒸着マスク２０を平面方向に引っ張った状態で支持する。すなわち、蒸着マスク２０はフレーム１５に架張して固定されている。

図３に示すように、フレーム１５は、蒸着マスク２０の側に位置する第１フレーム面１５ａと、第１フレーム面１５ａとは反対側に位置する第２フレーム面１５ｂと、を有していてもよい。第１フレーム面１５ａに、蒸着マスク２０の第２マスク面２０ｂ（後述）が接合されている。なお、図３は、図２のＡ−Ａ線断面を模式的に示した図であり、図面を明瞭にするために、後述する貫通孔群２６の個数及び貫通孔２５の個数を少なくしている。

図２に示すように、フレーム１５は、平面視で矩形の枠の形状に形成されていてもよい。また、フレーム１５は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂに延びて貫通するフレーム開口１６を有していてもよい。フレーム開口１６は、平面視で、蒸着マスク２０の貫通孔群２６に重なっており、貫通孔群２６を第２フレーム面１５ｂの側に露出している。図２に示す例では、フレーム開口１６は、平面視で、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に沿うように矩形の形状に形成されている。ここで、「平面視」とは、蒸着マスク２０の厚み方向Ｄ３で見ることを意味する用語であって、例えば、図２の紙面に垂直な方向で見ることを意味する用語とする。厚み方向Ｄ３は、第１方向Ｄ１に直交するとともに第２方向Ｄ２に直交する方向である。

図２及び図３に示すように、フレーム１５は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂに向かって延びる４つのフレーム壁面１７ａ〜１７ｄと、第３フレーム面１５ｃと、を有していてもよい。フレーム壁面１７ａ、１７ｂは、平面視で、第２方向Ｄ２におけるフレーム開口１６の両側であって外側に位置している。言い換えると、第２方向Ｄ２において、フレーム壁面１７ａとフレーム壁面１７ｂとの間にフレーム開口１６が位置している。また、フレーム壁面１７ｃ、１７ｄは、第１方向Ｄ１において、フレーム開口１６の両側であって外側に位置している。言い換えると、第１方向Ｄ１において、フレーム壁面１７ｃとフレーム壁面１７ｄとの間にフレーム開口１６が位置している。４つのフレーム壁面１７ａ〜１７ｄは、平面視で、フレーム開口１６に沿うように矩形の形状に形成されている。第１フレーム面１５ａは、平面視で、矩形の枠の形状に形成されている。ここで、「外側」とは、平面視において、フレーム開口１６の中心側（内側）とは反対側を意味している。例えば、第１方向Ｄ１における外側とは、図２における左側又は右側を意味し、第２方向Ｄ２における外側とは、図２における上側又は下側を意味している。

フレーム壁面１７ａ〜１７ｄは、第１フレーム面１５ａには接続されているが、第２フレーム面１５ｂには接続されていない。図３及び図４Ａに示すように、フレーム壁面１７ａ〜１７ｄは、厚み方向Ｄ３に沿う断面で見たときに、第１フレーム面１５ａとは交差する方向に延びている。代表的に、図３には、一対のフレーム壁面１７ａ、１７ｂが示されており、図４Ａには、フレーム壁面１７ａが示されている。フレーム壁面１７ａ、１７ｂは、第１フレーム面１５ａに垂直に形成されている例が示されているが、第１フレーム面１５ａに対して、第２フレーム面１５ｂに向かって進みながら徐々に外側に位置するように傾斜していてもよい。フレーム壁面１７ｃ、１７ｄについても同様である。

フレーム壁面１７ａ、１７ｂは、第１フレーム面１５ａの側の縁に位置する第１壁面縁１７ｅを含んでいる。第１壁面縁１７ｅは、後述する切断工程の前に、蒸着マスク２０の対応する重なり部２１（後述）と平面視で重なっている。また、図５に示すように、フレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅは、切断工程後の蒸着マスク２０の第１マスク縁２０ｃ（後述）の第１延長線２０ｅから第２マスク縁２０ｄの第２延長線２０ｆにわたって、第１方向Ｄ１に一直線状に延びている。ここで、第１壁面縁１７ｅが一直線状に延びているという用語は、第１壁面縁１７ｅが平面視において１本の直線をなしていることを意味しているが、厳密な意味にとらわれることはない。当該用語は、例えば、後述するマスク位置合わせ工程において、蒸着マスク２０がフレーム１５から受ける反力で蒸着マスク２０に生じる応力が集中することを抑制することができる範囲内で、第１壁面縁１７ｅが非直線状に形成されることを含む概念として用いる。

本実施形態においては、上述したように、フレーム１５には複数の蒸着マスク２０が接合されている。このことにより、図２及び図５に示すように、フレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅは、一の蒸着マスク２０から他の蒸着マスク２０にわたって第１方向Ｄ１に一直線状に延びていてもよい。また、図２に示すように、フレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅは、第１方向Ｄ１において最も一側に位置する蒸着マスク２０から、当該蒸着マスク２０とは最も反対側に位置する蒸着マスク２０にわたって、第１方向Ｄ１に一直線状に延びていてもよい。

図３に示すように、フレーム壁面１７ａ、１７ｂは、第２フレーム面１５ｂの側の縁に位置する第２壁面縁１７ｆを含んでいる。第３フレーム面１５ｃは、第２壁面縁１７ｆから外側に延びており、後述する外壁面１５ｄまで延びている。第３フレーム面１５ｃは、第２フレーム面１５ｂに沿って延びている。図３及び図４Ａにおいては、第３フレーム面１５ｃは、第２フレーム面１５ｂに平行に形成されている例が示されているが、外側に向かって進みながら徐々に第２フレーム面１５ｂに近づくように第２フレーム面１５ｂに対して傾斜していてもよい。

本実施形態においては、フレーム壁面１７ｃ、１７ｄも、フレーム壁面１７ａ、１７ｂと同様に、第１壁面縁１７ｅ及び第２壁面縁１７ｆを含んでいてもよい。第３フレーム面１５ｃは、フレーム壁面１７ｃ、１７ｄの第２壁面縁１７ｆからも外側に延びていてもよい。第３フレーム面１５ｃは、後述する外壁面１５ｄまで延びていてもよい。すなわち、図２に示すように、第３フレーム面１５ｃは、平面視で矩形の枠の形状に形成されていてもよい。

図４Ｂに示すように、厚み方向Ｄ３に沿う断面において、フレーム壁面１７ａが、第１フレーム面１５ａの側の部分に位置する湾曲部１７ｈを含んでいてもよい。湾曲部１７ｈは、湾曲の形状を有していてもよい。上述した第１壁面縁１７ｅは、湾曲部１７ｈのうち第１フレーム面１５ａの側の縁に位置する。言い換えると、第１壁面縁１７ｅは、湾曲部１７ｈと第１フレーム面１５ａとが交わる位置に位置している。湾曲部１７ｈは、例えば、円弧の一部をなす形状で形成されていてもよい。この場合、湾曲部１７ｈは、厚み方向Ｄ３に沿う断面であって、フレーム壁面１７ａに垂直な断面において、例えば、０．３ｍｍ以上の半径を有していてもよい。この場合の湾曲部１７ｈの半径の上限値は、フレーム壁面１７ａの厚み方向Ｄ３における寸法以下であってもよい。その他のフレーム壁面１７ｂ〜１７ｄも、同様に湾曲部１７ｈを含んでいてもよい。なお、フレーム壁面１７ａは、湾曲部１７ｈを含んでいなくてもよい。この場合、第１壁面縁１７ｅは、フレーム壁面１７ａと第１フレーム面１５ａとが交わる位置に位置する。

図４Ａに示すように、第１フレーム面１５ａに、第１方向Ｄ１に延びるフレーム溝１８が設けられていてもよい。フレーム溝１８は、フレーム壁面１７ａ、１７ｂよりも第２方向Ｄ２の内側に位置していてもよく、蒸着マスク２０を切断する切断手段（例えば、切断刃６２）が挿入可能になっていてもよい。フレーム溝１８は、平面視でフレーム開口１６とフレーム壁面１７ａ、１７ｂとの間に位置している。フレーム溝１８は、第１方向Ｄ１に直線状に延びていてもよい。フレーム溝１８は、第１方向において最も一側（例えば、図２における最も左側）に位置する蒸着マスク２０から、当該蒸着マスク２０とは最も反対側（例えば、図２における最も右側）に位置する蒸着マスク２０にわたって、第１方向Ｄ１に一直線状に延びていてもよい。

フレーム溝１８の横断面は、上述した切断刃６２が挿入可能であれば、任意の形状とすることができる。図４Ａにおいては、一例として、フレーム溝１８の横断面が、矩形の形状に形成されている例が示されている。

図２〜図４Ａに示すように、フレーム開口１６は、４つの内壁面１６ａによって画定されている。内壁面１６ａは、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂに延びており、第１フレーム面１５ａ及び第２フレーム面１５ｂに垂直に形成されていてもよい。

また、図２〜図４Ａに示すように、平面視におけるフレーム１５の外周縁は、４つの外壁面１５ｄによって画定されている。外壁面１５ｄは、第３フレーム面１５ｃから第２フレーム面１５ｂに延びており、第３フレーム面１５ｃ及び第２フレーム面１５ｂに垂直に形成されていてもよい。このようにして、フレーム１５は、平面視で矩形の枠の形状に形成されていてもよい。

図２に示すように、フレーム１５の第１フレーム面１５ａに、フレームアライメントマーク１９が設けられていてもよい。フレームアライメントマーク１９は、後述するアライメントマスク７０の位置合わせのため等に用いられる。フレームアライメントマーク１９は、例えば、図２に示すように４つ設けられていてもよく、フレーム開口１６の角部の近傍に位置していてもよい。フレームアライメントマーク１９は、光を照射させてマスクアライメントマーク７１との位置合わせを行う場合には、フレーム１５を貫通していてもよい。しかしながら、フレームアライメントマーク１９は、マスクアライメントマーク７１との位置合わせを行うことができれば、フレーム１５を貫通していなくてもよい。フレームアライメントマーク１９の平面形状は、任意であるが、図２では、一例として円形の形状としている。

フレーム１５は、後述する蒸着マスク２０を構成する材料と同じ材料で構成されていてもよい。しかしながら、このことに限られることはなく、蒸着マスク２０とは異なる材料で構成されていてもよい。

図３に示すように、フレーム１５は、第１フレーム面１５ａから第２フレーム面１５ｂにわたる厚みＨ１を有している。厚みＨ１は、例えば、１０ｍｍ以上であってもよく、１５ｍｍ以上であってもよく、２０ｍｍ以上であってもよく、２５ｍｍ以上であってもよい。厚みＨ１を１０ｍｍ以上とすることにより、架張した蒸着マスク２０から受ける張力によって変形することを抑制することができる。また、厚みＨ１は、例えば、２５ｍｍ以下であってもよく、４０ｍｍ以下であってもよく、４５ｍｍ以下であってもよく、５０ｍｍ以下であってもよい。厚みＨ１を５０ｍｍ以下とすることにより、重量の増大を抑制することができる。厚みＨ１の範囲は、１０ｍｍ、１５ｍｍ、２０ｍｍ及び２５ｍｍからなる第１グループ、及び／又は、２５ｍｍ、４０ｍｍ、４５ｍｍ及び５０ｍｍからなる第２グループによって定められてもよい。厚みＨ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。厚みＨ１の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。厚みＨ１の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、１０ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以上１５ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、１５ｍｍ以上２０ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、２０ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、２５ｍｍ以上４０ｍｍ以下であってもよく、４０ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよく、４０ｍｍ以上４５ｍｍ以下であってもよく、４５ｍｍ以上５０ｍｍ以下であってもよい。

次に、本開示の一実施形態による蒸着マスク２０について、図２、図３、図５及び図６を参照して説明する。蒸着マスク２０は、任意の製造方法により製造することができる。例えば、圧延材をエッチングすることにより製造されていてもよく、あるいは、めっき処理で製造されていてもよい。めっき処理で製造される場合には、蒸着マスク２０は、２つ以上の層で構成されていてもよい。この場合、後述する貫通孔２５は、これらの層を貫通するように形成される。

図３に示すように、蒸着マスク２０は、第１マスク面２０ａと、第２マスク面２０ｂとは反対側に位置する第２マスク面２０ｂと、を有していてもよい。第１マスク面２０ａは、蒸着時に被蒸着基板９１が密着する面であってもよい。第２マスク面２０ｂは、上述したフレーム１５の側の面であってもよい。

図２及び図５に示すように、蒸着マスク２０は、平面視で第１方向Ｄ１（蒸着マスク２０の幅方向）における両側に位置する第１マスク縁２０ｃ及び第２マスク縁２０ｄを有していてもよい。第１マスク縁２０ｃは、第１方向Ｄ１における一方（図２における左側）の側縁に位置し、後述する第１マスク端２０ｇから第２マスク端２０ｈまで延びている。第２マスク縁２０ｄは、第１方向Ｄ１における他方（図２における右側）の側縁に位置し、第１マスク端２０ｇから第２マスク端２０ｈまで延びている。各マスク縁２０ｃ、２０ｄは、第２方向Ｄ２に延びている。図５においては、第１マスク縁２０ｃを延長する第１延長線２０ｅが示されているとともに、第２マスク縁２０ｄを延長する第２延長線２０ｆが示されている。各延長線２０ｅ、２０ｆは、後述するマスク端２０ｇ、２０ｈから第２方向Ｄ２の外側に延びる線であり、対応するマスク縁２０ｃ、２０ｄから一直線状に延びる線であってもよい。

また、蒸着マスク２０は、第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２における両側に位置する第１マスク端２０ｇ及び第２マスク端２０ｈを有していてもよい。第１マスク端２０ｇは、第２方向Ｄ２における一方（図２における上側）の端に位置し、上述した第１マスク縁２０ｃから第２マスク縁２０ｄまで延びている。第２マスク端２０ｈは、第２方向Ｄ２における他方（図２における下側）の端に位置し、上述した第１マスク縁２０ｃから第２マスク縁２０ｄまで延びている。各マスク端２０ｇ、２０ｈは、第１方向Ｄ１に延びている。各マスク端２０ｇ、２０ｈは、平面視で、フレーム１５の対応するフレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅよりも第２方向Ｄ２の内側に位置している。より具体的には、第１マスク端２０ｇは、フレーム壁面１７ａの第１壁面縁１７ｅよりも第２方向Ｄ２の内側（図２における下側）に位置し、第２マスク端２０ｈは、フレーム壁面１７ｂの第１壁面縁１７ｅよりも第２方向Ｄ２の内側（図２における上側）に位置している。各マスク端２０ｇ、２０ｈは、後述する切断刃６２で蒸着マスク２０を切断することにより形成されており、対応するフレーム溝１８に平面視で重なる位置に位置している。

図３及び図５に示すように、蒸着マスク２０は、第２方向Ｄ２における両側に位置する、第１フレーム面１５ａに重なる一対の重なり部２１を有していてもよい。重なり部２１は、第１マスク縁２０ｃと第２マスク縁２０ｄとの間に位置するとともに、第２方向Ｄ２において、後述する貫通孔群２６よりも平面視で外側に位置している部分である。重なり部２１の一部は、後述する切断工程において切断されて、除去される。より具体的には、重なり部２１は、フレーム１５と溶接されて溶接部３０（後述）が形成されるマスク溶接部２２と、マスク溶接部２２よりも第２方向Ｄ２において平面視で外側に位置し、切断工程において切断されて除去される被除去部２３と、を含んでいる。被除去部２３は、後述するマスク位置合わせ工程において、マスク溶接部２２とともにフレーム１５に押し付けられる被押付部分２３ａと、後述するマスク用クランプ６０に保持される被保持部２３ｂと、により構成されている。図５においては、被除去部２３が二点鎖線で示されている。

図３に示すように、蒸着マスク２０は、２つ以上の貫通孔２５を有していてもよい。蒸着マスク２０は、２つ以上の貫通孔２５で構成される貫通孔群２６を有していてもよい。本実施形態では、図２に示すように、各蒸着マスク２０は、第２方向Ｄ２に並んだ２つ以上の貫通孔群２６を有している。貫通孔群２６は、第１方向Ｄ１において第１マスク縁２０ｃと第２マスク縁２０ｄとの間に位置し、第２方向Ｄ２において一対の重なり部２１の間に位置している。

図３に示すように、貫通孔２５は、第１マスク面２０ａから第２マスク面２０ｂに延びており、蒸着マスク２０を貫通している。図３においては、図面を簡略させるために、貫通孔２５の壁面が、第１マスク面２０ａから第２マスク面２０ｂに向かって中心軸線ＣＬから遠ざかるように中心軸線ＣＬに対して直線状に傾斜している例が示されている。このように、貫通孔２５の壁面は、第１マスク面２０ａにおける開口寸法が、第２マスク面２０ｂにおける開口寸法よりも小さくなるように形成されていてもよい。この場合、蒸着装置８０のるつぼ８１から飛来した蒸着材料８２が、被蒸着基板９１に到達する前に第２マスク面２０ｂに到達することや、貫通孔２５の壁面に到達して付着することを抑制できる。すなわち、被蒸着基板９１に形成される発光層９２の厚みが、貫通孔２５の壁面の近傍で薄くなることを抑制できる。このことにより、被蒸着基板９１への蒸着材料８２の付着が貫通孔２５の壁面によって阻害されること（シャドーとも称する）を抑制することができる。このため、被蒸着基板９１に付着した蒸着材料８２によって形成される発光層９２（図２１参照）の形状精度や位置精度を向上させることができ、発光層９２の精細度を高めることができる。なお、貫通孔２５の断面形状についてのより詳細な説明はここでは省略するが、蒸着マスク２０の製造方法に応じて、壁面の形状は湾曲の形状であってもよく、任意とすることができる。

図６に示すように、貫通孔２５は、上述した貫通孔群２６をなしていてもよい。貫通孔群２６は、上述したフレーム１５のフレーム開口１６（図２及び図３参照）に重なっており、フレーム開口１６から露出している。全ての貫通孔群２６が、フレーム開口１６に重なっていてもよい。図６に示すように、貫通孔群２６は、２つ以上の貫通孔２５が群をなすように構成されていてもよい。貫通孔群２６とは、規則的に配列された複数の貫通孔２５の集合体を意味する用語として用いている。１つの貫通孔群２６を構成する外縁の貫通孔２５は、同様に規則的に配列されている複数の貫通孔２５のうち最も外側に位置する貫通孔２５である。外縁の貫通孔２５の外側には、同様に規則的に配列されて蒸着材料８２の通過を意図する貫通孔２５は存在していなくてもよい。しかしながら、外縁の貫通孔２５の外側には、他の用途の貫通孔や凹部（いずれも図示せず）は形成されていてもよい。これらの他の用途の貫通孔や凹部は、貫通孔２５の配列の規則性を持たずに形成されていてもよく、貫通孔群２６には属していないと考えてもよい。

図２に示すように、複数の貫通孔群２６は、所定の間隔を開けて（所定のピッチで）配列されていてもよい。貫通孔群２６は、第２方向Ｄ２において所定の間隔を開けて配列されていてもよい。なお、図示しないが、貫通孔群２６は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２にそれぞれ配列されて、並列配列されていてもよい。すなわち、第１方向Ｄ１に沿った一の列を構成する各貫通孔群２６と、当該列と第２方向Ｄ２において隣り合う他の列を構成する各貫通孔群２６とは、第２方向Ｄ２において整列されていてもよい。

図６に示すように、一の貫通孔群２６において、複数の貫通孔２５は、所定の間隔を開けて（所定のピッチで）配列されていてもよい。貫通孔２５は、第１方向Ｄ１において所定の間隔（図６に示す符号Ｃ１）を開けて配列されると共に、第２方向Ｄ２において所定の間隔（図６に示す符号Ｃ２）を開けて配列されていてもよい。貫通孔２５の配列ピッチＣ１、Ｃ２は、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２で異なっていてもよいが、等しくてもよい。図６においては、第１方向Ｄ１の配列ピッチＣ１と第２方向Ｄ２の配列ピッチＣ２が等しい例を示している。図６に示すように、貫通孔２５は、並列配列されていてもよい。より具体的には、第１方向Ｄ１に沿った一の列を構成する各貫通孔２５と、当該列と第２方向Ｄ２において隣り合う他の列を構成する各貫通孔２５とは、第２方向Ｄ２において整列されていてもよい。貫通孔２５の配列ピッチＣ１、Ｃ２は、表示装置又は投影装置の画素密度に応じて、例えば以下のように定められていてもよい。
・画素密度が６００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは４２．３μｍ以下
・画素密度が１２００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは２１．２μｍ以下
・画素密度が３０００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは８．５μｍ以下
・画素密度が５０００ｐｐｉ以上の場合：ピッチは５．１μｍ以下

画素密度が６００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、眼球から１５ｃｍ程度の距離で画像や映像を表示するように用いられてもよく、例えば、スマートフォン用の有機ＥＬ表示装置として用いられてもよい。画素密度が１２００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、眼球から８ｃｍ程度の距離で画像や映像を表示するように用いられてもよく、例えば、仮想現実（いわゆるＶＲ）を表現するための画像や映像を表示又は投影するために用いられてもよい。画素密度が３０００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、眼球から３ｃｍ程度の距離で画像や映像を表示するように用いられてもよく、例えば、拡張現実（いわゆるＡＲ）を表現するための画像や映像を表示又は投影するために用いられてもよい。画素密度が５０００ｐｐｉの表示装置又は投影装置は、眼球から２ｃｍ程度の距離で画像や映像を表示するように用いられてもよく、例えば、拡張現実を表現するための画像や映像を表示又は投影するために用いられてもよい。

なお、一の貫通孔群２６における貫通孔２５は、並列配列ではなく、千鳥配列（図示せず）されていてもよい。すなわち、第１方向Ｄ１に沿った一の列を構成する各貫通孔２５と、当該列と第２方向Ｄ２において隣り合う他の列を構成する各貫通孔２５とは、第２方向Ｄ２において整列されていなくてもよい。一の列を構成する各貫通孔２５と、隣り合う他の列を構成する貫通孔２５とは、第１方向Ｄ１においてずれて配列されていてもよい。そのずれ量は、第１方向Ｄ１における配列ピッチＣ１の半分になっていてもよいが、ずれ量は任意である。

図６に示すように、貫通孔２５は、平面視において、略矩形形状の輪郭を有していてもよい。この場合、貫通孔２５の輪郭のうちの四隅は湾曲していてもよい。なお、輪郭の形状は、画素の形状に応じて任意に定められ得る。例えば、六角形、八角形などのその他の多角形の形状を有していてもよく、円形の形状を有していてもよい。また、輪郭の形状は、複数の形状の組み合わせであってもよい。また、貫通孔２５はそれぞれ、互いに異なる輪郭の形状を有していてもよい。貫通孔２５が多角形形状の輪郭を有する場合、貫通孔２５の開口寸法は、図６に示すように、多角形において対向する一対の辺の間隔としてもよい。

図３及び図６において、蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａにおける貫通孔２５の開口寸法が、符号Ｓ１で示されている。また、蒸着マスク２０の第２マスク面２０ｂにおける貫通孔２５の開口寸法が、符号Ｓ２で示されている。また、符号Ｓ３は、第１マスク面２０ａにおける互いに隣り合う貫通孔２５同士の間の距離を示している。図６においては、貫通孔２５の平面形状は正方形としているため、第１方向Ｄ１における貫通孔２５の開口寸法と第２方向Ｄ２における貫通孔２５の開口寸法は等しくなっている。代表的に第２方向Ｄ２における貫通孔２５の寸法を、符号Ｓ１、Ｓ２で示している。

寸法Ｓ１、寸法Ｓ２及び寸法Ｓ３は、表示装置又は投影装置の画素密度に応じて例えば以下の表１のように定められる。

ところで、貫通孔群２６は、有効領域２７と称することがある。有効領域２７の周囲に位置する領域は周囲領域２８と称することがある。本実施形態では、周囲領域２８は、１つの有効領域２７を囲んでいる。

蒸着マスク２０を用いて有機ＥＬ表示装置などの表示装置を作製する場合、１つの有効領域２７は、１つの有機ＥＬ表示装置の表示領域に対応する。このため、図２に示す蒸着マスク２０によれば、有機ＥＬ表示装置の多面付蒸着が可能である。なお、１つの有効領域２７が複数の表示領域に対応する場合もある。

有効領域２７は、例えば、図６に示すように、平面視において略矩形の形状の輪郭を有していてもよい。有効領域２７の輪郭は、対応する貫通孔群２６のうち最も外側に位置する貫通孔２５に外側から接する線によって画定されてもよい。より詳細には、有効領域２７の輪郭は、貫通孔２５の開口に接する線によって画定されていてもよい。図６に示す例では、貫通孔２５が並列配列されていることから、有効領域２７の輪郭は、略矩形の形状の輪郭となっている。なお、図示はしないが、各有効領域２７は、有機ＥＬ表示装置の表示領域の形状に応じて、様々な形状の輪郭を有することができる。例えば各有効領域２７は、円形の形状の輪郭を有していてもよい。

図３に示すように、蒸着マスク２０は、第１マスク面２０ａから第２マスク面２０ｂにわたる厚みＨ２を有している。厚みＨ２は、例えば、２μｍ以上であってもよく、５μｍ以上であってもよく、１０μｍ以上であってもよく、１５μｍ以上であってもよい。厚みＨ２を２μｍ以上とすることにより、蒸着マスク２０の機械的強度を確保することができる。また、厚みＨ２は、例えば、２０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよい。厚みＨ２を５０μｍ以下とすることにより、シャドーが発生することを抑制することができる。厚みＨ２の範囲は、２μｍ、５μｍ、１０μｍ及び１５μｍからなる第１グループ、及び／又は、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ及び５０μｍからなる第２グループによって定められてもよい。厚みＨ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の１つと、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の１つとの組み合わせによって定められてもよい。厚みＨ２の範囲は、上述の第１グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。厚みＨ２の範囲は、上述の第２グループに含まれる値のうちの任意の２つの組み合わせによって定められてもよい。例えば、２μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、２μｍ以上１０μｍ以下であってもよく、２μｍ以上５μｍ以下であってもよく、５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、５μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、５μｍ以上１０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、１０μｍ以上１５μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以上２０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、２０μｍ以上３０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上５０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上４０μｍ以下であってもよく、４０μｍ以上５０μｍ以下であってもよい。

蒸着マスク２０は、例えば、ニッケルを含む鉄合金で構成されていてもよい。鉄合金は、ニッケルに加えてコバルトを更に含んでいてもよい。例えば、蒸着マスク２０の材料として、ニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ５４質量％以下であり、且つコバルトの含有量が０質量％以上且つ６質量％以下である鉄合金を用いることができる。ニッケルを含む鉄合金の具体例としては、３４質量％以上且つ３８質量％以下のニッケルを含むインバー材、３８質量％以上且つ５４質量％以下のニッケルを含む低熱膨張Ｆｅ−Ｎｉ系めっき合金などを挙げることができる。ニッケル及びコバルトを含む鉄合金の具体例としては、３０質量％以上且つ３４質量％以下のニッケルに加えてさらにコバルトを含むスーパーインバー材などを挙げることができる。このような鉄合金を用いることにより、蒸着マスク２０の熱膨張係数を低くすることができる。例えば、被蒸着基板９１としてガラス基板が用いられる場合に、蒸着マスク２０の熱膨張係数を、ガラス基板と同等の低い値にすることができる。これにより、蒸着工程の際、被蒸着基板９１に形成される発光層９２の形状精度や位置精度が、蒸着マスク２０と被蒸着基板９１との間の熱膨張係数の差に起因して低下することを抑制することができる。

蒸着マスク２０を構成する材料としては、熱膨張係数をガラス基板と同等の低い値にしなくてもよい場合には、上述した鉄合金の代わりに、例えば、単体のニッケルで構成されていてもよく、又はコバルトを含むニッケル合金で構成されていてもよい。コバルトを含むニッケル合金で構成される場合には、蒸着マスク２０の材料として、コバルトの含有量が、８質量％以上且つ１０質量％以下であるニッケル合金を用いることができる。このようなニッケル又はニッケル合金を用いることにより、蒸着マスク２０をめっき処理で製造する場合には、蒸着マスク２０をなすめっき被膜を析出させるめっき液を安定させることができ、管理を容易にさせるとともに取扱性を向上させることができる。また、めっき被膜の成分を均等にさせることができ、蒸着マスク２０の品質を向上させることができる。

図３及び図４Ａに示すように、各蒸着マスク２０は、フレーム１５に接合されて固定されている。例えば、蒸着マスク２０は、溶接によってフレーム１５に接合されていてもよい。例えば、スポット溶接によって形成された溶接部３０によって、蒸着マスク２０がフレーム１５に接合されるようにしてもよい。図５に示すように、溶接部３０は、フレーム開口１６とフレーム溝１８との間の位置で、形成されていてもよい。図２に示すように、１つの蒸着マスク２０が、スポット状の複数の溶接部３０によってフレーム１５に接合されてもよい。この場合、複数の溶接部３０は、第１方向Ｄ１に並んでいてもよい。あるいは、図示しないが、第１方向Ｄ１に連続状に延びるように溶接部３０が形成されていてもよい。

図２に示すように、フレーム１５上に、２つのアライメントマスク７０が設けられていてもよい。一方のアライメントマスク７０は、最もフレーム壁面１７ｄの側に位置する蒸着マスク２０に対して、フレーム壁面１７ｄの側に位置している。他方のアライメントマスク７０は、最もフレーム壁面１７ｃの側に位置する蒸着マスク２０に対して、フレーム壁面１７ｃの側に位置している。図２においては、最も左側に位置する蒸着マスク２０の左側に一方のアライメントマスク７０が位置し、最も右側に位置する蒸着マスク２０の右側に他方のアライメントマスク７０が位置している。アライメントマスク７０は、フレーム１５の第１フレーム面１５ａに接合されている。アライメントマスク７０は、フレーム１５に架張して固定されていてもよい。

各アライメントマスク７０は、２つのマスクアライメントマーク７１を含んでいる。各マスクアライメントマーク７１は、対応するフレームアライメントマーク１９に平面視で重なる位置に位置している。マスクアライメントマーク７１は、光を照射させてフレームアライメントマーク１９との位置合わせを行う場合には、アライメントマスク７０を貫通していてもよい。しかしながら、マスクアライメントマーク７１は、フレームアライメントマーク１９との位置合わせを行うことができれば、アライメントマスク７０を貫通していなくてもよい。マスクアライメントマーク７１の平面形状は、任意であるが、図２では、一例として円形の形状としている。マスクアライメントマーク７１の直径は、フレームアライメントマーク１９の直径よりも小さくなっていてもよい。

次に、このような構成からなる本実施形態による蒸着マスク装置１０の製造方法について、図７〜図１８を参照して説明する。本実施形態による蒸着マスク装置１０の製造方法は、フレーム準備工程と、マスク準備工程と、保持工程と、配置工程と、マスク位置合わせ工程と、接合工程と、取り外し工程と、切断工程と、を備えていてもよい。

まず、フレーム準備工程として、上述したフレーム１５を準備する。フレーム１５は、任意の製造方法により製造することができる。例えば、図２〜図４Ｂに示すフレーム１５が、板材や鍛造材などを機械加工することにより製造されていてもよい。フレーム１５は、図示しない架張装置に取り付けられてもよい。その後、フレーム１５に、アライメントマスク７０（図２参照）が、架張して接合されてもよい。この際、アライメントマスク７０のマスクアライメントマーク７１が、フレーム１５のフレームアライメントマーク１９に対して位置合わせされる。

また、マスク準備工程として、上述した蒸着マスク２０を準備する。蒸着マスク２０は、上述したように、圧延材のエッチング処理やめっき処理など任意の製造方法により製造することができる。

続いて、保持工程として、蒸着マスク２０が、機械式のマスク用クランプ６０で保持される。この場合、図７に示すように、蒸着マスク２０の第２方向Ｄ２における両端部に位置する被除去部２３の被保持部２３ｂが、マスク用クランプ６０で把持されてもよい（図１０参照）。一の被保持部２３ｂは、第１方向Ｄ１において異なる位置で２つのマスク用クランプ６０で保持されてもよい。各マスク用クランプ６０には、駆動部６０Ｄが連結されていてもよい。駆動部６０Ｄは、各マスク用クランプ６０を個別に引張可能に構成されていてもよい。駆動部６０Ｄが、各マスク用クランプ６０を第２方向Ｄ２に引っ張ることにより、第２方向Ｄ２の第１張力Ｔ１が蒸着マスク２０に付与されてもよい。第１張力Ｔ１は、保持工程において蒸着マスク２０に付与される張力である。第１張力Ｔ１は、蒸着マスク２０が大きく撓むことを抑制できる程度の比較的小さな値であってもよい。ここで、蒸着マスク２０に付与される張力とは、マスク用クランプ６０から蒸着マスク２０に付与される張力であり、各マスク用クランプ６０が蒸着マスク２０を引っ張ることにより、その結果として、蒸着マスク２０に付与される張力であってもよい。蒸着マスク２０に付与される張力は、駆動部６０Ｄの表示部（図示せず）等で確認してもよい。蒸着マスク２０をフレーム１５に押し付けた場合には、蒸着マスク２０の有効領域２７における張力は、マスク用クランプ６０から蒸着マスク２０に付与される張力より小さくなる。

次に、配置工程として、図８に示すように、フレーム１５に蒸着マスク２０が配置される。より具体的には、まず、蒸着マスク２０が、フレーム１５の上方に配置され、その後、蒸着マスク２０を下降させて、フレーム１５に接触させる。この場合、蒸着マスク２０の重なり部２１は、図１０に示すように、平面視で、フレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅに重なるとともに、第１フレーム面１５ａに重なる。また、第１壁面縁１７ｅが、蒸着マスク２０の第１マスク縁２０ｃから第２マスク縁２０ｄにわたって第１方向Ｄ１に一直線状に延びるように配置される。蒸着マスク２０は、第１壁面縁１７ｅとフレーム溝１８に垂直な方向が長手方向となるように配置される。配置工程において、蒸着マスク２０は、保持工程から引き続いて、上述した第１張力Ｔ１が付与された状態であってもよい。

次に、マスク位置合わせ工程として、図９Ａ及び図９Ｂに示すように、蒸着マスク２０がフレーム１５に対して位置合わせされる。マスク位置合わせ工程においては、蒸着マスク２０が、第２張力Ｔ２で第２方向Ｄ２に引っ張られるとともに、蒸着マスク２０がフレーム１５に押し付けられる。第２張力Ｔ２は、マスク位置合わせ工程において蒸着マスク２０に付与される張力である。第２張力Ｔ２は、上述した第１張力Ｔ１よりも大きい値であってもよい。

マスク位置合わせ工程は、張力増大工程と、第１貫通孔確認工程と、移動工程と、第２貫通孔確認工程と、張力調整工程と、第３貫通孔確認工程と、を有していてもよい。第１貫通孔確認工程は、第１確認工程の一例である。第２貫通孔確認工程は、第２確認工程の一例であり、第３確認工程の一例でもある。第３貫通孔確認工程は、第４確認工程の一例である。

張力増大工程においては、蒸着マスク２０に付与される張力を増大させる。より具体的には、上述した駆動部６０Ｄ（図７参照）が、各マスク用クランプ６０の引張力を増大させる。このことにより、蒸着マスク２０に付与される張力が、第１張力Ｔ１から第２張力Ｔ２に増大する。

第１貫通孔確認工程においては、図９Ａに示すように、フレーム１５に対する貫通孔２５の位置が確認される。より具体的には、貫通孔２５の位置が、所望の位置に対して許容範囲内に位置づけられているか否かが確認されてもよい。例えば、任意に設定される原点に対する貫通孔２５の座標を測定し、その測定された座標と、当該貫通孔２５の目標座標とを比較してもよい。例えば、４つのマスクアライメントマーク７１（図２参照）の中心を原点として貫通孔２５の座標を測定してもよい。例えば、対角線上に位置する２つのマスクアライメントマーク７１の中心を通る２つの直線の交点を、原点としてもよい。マスクアライメントマーク７１の中心は、アライメントマスク７０の下方からカメラ６１で撮像して、画像解析することにより測定してもよい。貫通孔２５の座標は、平面視における貫通孔２５の中心点であってもよい。貫通孔２５の座標は、蒸着マスク２０の下方からカメラ６１で撮像して、画像解析することにより測定してもよい。座標の測定が複数の貫通孔２５で行われて、複数の貫通孔２５の位置を確認してもよい。これらの貫通孔２５の位置の確認結果に基づいて、位置ずれ量と位置ずれの方向を求めてもよい。第１貫通孔確認工程において、蒸着マスク２０に上述した第２張力Ｔ２が付与されるとともに蒸着マスク２０がフレーム１５に押し付けられていてもよい。

第１貫通孔確認工程における貫通孔２５の位置確認の結果、貫通孔２５が、所望の位置に対して許容範囲内に位置づけられている場合には、マスク位置合わせ工程を終了し、接合工程に移行してもよい。この場合、後述する移動工程等を不要にできる。貫通孔２５が許容範囲内に位置づけられている場合には、第１貫通孔確認工程において蒸着マスク２０に付与された第２張力Ｔ２が、後述する接合張力Ｔ４に等しくなる。一方、貫通孔２５の位置が、所望の位置に対して許容範囲内に位置づけられていない場合には、移動工程が行われる。

移動工程においては、図９Ｂに示すように、蒸着マスク２０を、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２で画定される２次元平面内でのいずれかの方向に移動させる。例えば、図１０における第１方向Ｄ１に蒸着マスク２０を移動させてもよく、第２方向Ｄ２に蒸着マスク２０を移動させてもよい。あるいは、蒸着マスク２０を、平面視で回動させてもよい。ここでは、各マスク用クランプ６０を移動させることによって、蒸着マスク２０をフレーム１５に対して移動させてもよい。移動工程においては、上述した第１貫通孔確認工程における貫通孔２５の位置確認結果に基づいて蒸着マスク２０を移動させてもよい。蒸着マスク２０の移動量は、第１貫通孔確認工程において求められた位置ずれ量に応じた値であってもよい。蒸着マスク２０の移動方向は、第１貫通孔確認工程において求められた位置ずれ方向に応じた方向であってもよい。移動工程においては、蒸着マスク２０は、上昇させることなく、フレーム１５に押し付けられながら、フレーム１５に対して移動する。このことにより、蒸着マスク２０を移動させるために上昇及び下降させることを不要にでき、マスク位置合わせ工程に要する時間を短縮させることができる。移動工程において、蒸着マスク２０には、上述した第２張力Ｔ２が付与されてもよい。

第２貫通孔確認工程においては、フレーム１５に対する貫通孔２５の位置が確認される。第２貫通孔確認工程は、第１貫通孔確認工程と同様に行ってもよい。

第２貫通孔確認工程における貫通孔２５の位置確認の結果、貫通孔２５が、所望の位置に対して許容範囲内に位置づけられている場合には、マスク位置合わせ工程を終了し、接合工程に移行してもよい。この場合、後述する張力調整工程を不要にできる。貫通孔２５が許容範囲内に位置づけられている場合には、第２貫通孔確認工程において蒸着マスク２０に付与された第２張力Ｔ２が、後述する接合張力Ｔ４に等しくなる。一方、貫通孔２５の位置が、所望の位置に対して許容範囲内に位置づけられていない場合には、張力調整工程が行われる。

張力調整工程においては、図９Ｃに示すように、第２貫通孔確認工程における貫通孔２５の位置確認結果に基づいて、蒸着マスク２０に付与される第２張力Ｔ２が調整される。より具体的には、各貫通孔２５が、所望の位置に対して許容範囲内に位置づけられるように、駆動部６０Ｄが各マスク用クランプ６０を引っ張る力が調整される。このことにより、貫通孔２５の位置を調整して、後述する密着工程において被蒸着基板９１の各第１電極９４に、対応する貫通孔２５を位置合わせすることができる。また、蒸着マスク２０のたわみ量を所望のたわみ量に調整することもできる。各マスク用クランプ６０の引張力を個別に調整することにより、蒸着マスク２０の全ての貫通孔２５のうちの一部の貫通孔２５の位置を調整することができ、各貫通孔２５を許容範囲内に位置づけることができる。張力調整工程においては、各マスク用クランプ６０は移動させることなく、張力を変更することにより、貫通孔２５の位置が調整されてもよい。各マスク用クランプ６０の引張力が個別に調整され、その結果として、蒸着マスク２０に付与される張力が調整される。調整後の張力を、第３張力Ｔ３とする。張力調整工程においても、蒸着マスク２０はフレーム１５に押し付けられていてもよい。第３張力Ｔ３と第２張力Ｔ２との差は、第１張力Ｔ１と第２張力との差よりも小さくてもよい。

その後、第３貫通孔確認工程が行われる。第３貫通孔確認工程においては、上述した第１貫通孔確認工程と同様にして、フレーム１５に対する貫通孔２５の位置が確認される。第３貫通孔確認工程においては、蒸着マスク２０に、上述した第３張力Ｔ３が付与されるとともに蒸着マスク２０がフレーム１５に押し付けられていてもよい。

第３貫通孔確認工程における貫通孔２５の位置確認の結果、貫通孔２５が、所望の位置に対して許容範囲内に位置づけられている場合には、マスク位置合わせ工程を終了し、接合工程に移行してもよい。この場合、第３貫通孔確認工程において蒸着マスク２０に付与された第３張力Ｔ３が、後述する接合張力Ｔ４に等しくなる。一方、貫通孔２５の位置が、所望の位置に対して許容範囲内に位置づけられていない場合には、再び張力調整工程および第３貫通孔確認工程が行われてもよい。貫通孔２５が、所望の位置に対して許容範囲内に位置づけられるまで、張力調整工程と第３貫通孔確認工程とが繰り返し行われてもよい。最後の第３貫通孔確認工程において蒸着マスク２０に付与された張力を、第３張力Ｔ３としてもよい。なお、第２貫通孔確認工程による位置確認結果によっては、再び移動工程が行われて、蒸着マスク２０をフレーム１５に対して移動させてもよい。第３貫通孔確認工程による位置確認結果によっては、再び移動工程が行われて、蒸着マスク２０をフレーム１５に対して移動させてもよい。

第１貫通孔確認工程による位置確認結果によっては、移動工程および第２貫通孔確認工程を省略して、張力調整工程を行ってもよい。言い換えると、位置合わせ工程として、第１貫通孔確認工程および移動工程を省略して、第２貫通孔確認工程、が行われてもよい。

上述したように、マスク位置合わせ工程においては、蒸着マスク２０が、フレーム１５に押し付けられている。この押付力は、蒸着マスク２０がフレーム１５から浮いてしまうことを抑制することができる程度の力であってもよい。例えば、図１０に示すように、蒸着マスク２０の第１方向Ｄ１における両側に位置する各被保持部２３ｂが、２つのマスク用クランプ６０で保持されている場合について説明する。マスク位置合わせ工程においては、一方の被保持部２３ｂに付与される第２方向Ｄ２の張力は上述した第２張力になる。他方の被保持部２３ｂに付与する張力も同様である。この張力を付与した状態で、マスク用クランプ６０を相対的に下降させることにより、張力が押付力に変換されて、蒸着マスク２０がフレーム１５に押し付けられる。例えば、マスク用クランプ６０に保持される被保持部２３ｂにおける第２マスク面２０ｂが、第１フレーム面１５ａから０．２５ｍｍ〜１．００ｍｍ下降させるようにしてもよい。この場合、蒸着マスク２０の厚みは２０μｍ、画素密度は６００ｐｐｉ（フルハイビジョン相当）、５．５インチの表示領域に対応する有効領域２７であってもよい。押付力は、マスク用クランプ６０が下方に変位することにより、蒸着マスク２０に付与される。このため、蒸着マスク２０は、フレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅから反力を受ける。しかしながら、図１０に示すように、第１壁面縁１７ｅが、蒸着マスク２０の第１マスク縁２０ｃから第２マスク縁２０ｄにわたって第１方向Ｄ１に一直線状に延びるように、蒸着マスク２０はフレーム１５上に配置されている。このことにより、蒸着マスク２０の幅方向にわたって、第１壁面縁１７ｅから受ける反力を均等にさせることができる。

ここで、後述する蒸着工程において、有機ＥＬ表示装置９０を構成する被蒸着基板９１が、機械式の基板用クランプ６３（図１３参照）で保持される場合について、図１１〜図１３を参照して説明する。この場合、被蒸着基板９１は、基板用クランプ６３で保持された状態で、蒸着マスク装置１０の蒸着マスク２０に密着される。蒸着マスク２０は、フレーム１５に接合されて固定されているため、フレーム１５の第１フレーム面１５ａには、基板用クランプ６３との干渉を回避するためのフレーム凹部４０が形成されている。このフレーム凹部４０は、図１１に示すように、平面視で、フレーム壁面１７ａ、１７ｂから内側に入り込むように矩形の形状に形成されている。フレーム凹部４０の第１フレーム面１５ａの側の凹部端縁４１も同様に、平面視で内側に入り込むように矩形の形状に形成されている。フレーム１５に固定される蒸着マスク２０の重なり部２１は、このフレーム凹部４０に部分的に重なるように配置される。図１１に示すフレーム１５は、フレーム凹部４０を有している点以外では、図２〜図４Ａ等に示すフレーム１５と同様の形状を有しているため、便宜上同一の符号を用いて説明する。

このようなフレーム凹部４０が設けられた第１フレーム面１５ａに蒸着マスク２０が押し付けられると、蒸着マスク２０は、フレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅから反力を受けるとともに、フレーム凹部４０の凹部端縁４１からも反力を受ける。第１壁面縁１７ｅの第２方向Ｄ２における位置は、凹部端縁４１の第２方向Ｄ２における位置よりも外側に位置している。すなわち、第１壁面縁１７ｅから反力を受ける位置は、図１２に示すように、第２方向Ｄ２において比較的外側（図１２における左側）に位置している。一方、凹部端縁４１から反力を受ける位置は、図１３に示すように、第２方向Ｄ２において比較的内側（図１３における右側）に位置している。このように、第１壁面縁１７ｅから反力を受ける位置と凹部端縁４１から反力を受ける位置とは、第２方向Ｄ２において異なっている。このため、蒸着マスク２０がフレーム１５から受ける反力は、蒸着マスク２０の幅方向に偏る傾向にある。

すなわち、フレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅから反力を受ける位置（図１２参照）が、フレーム凹部４０の凹部端縁４１から反力を受ける位置（図１３参照）よりも、マスク用クランプ６０に近くなる。このため、フレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅから受ける反力が、フレーム凹部４０の凹部端縁４１から受ける反力よりも大きくなり得る。特に、フレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅと、フレーム凹部４０の凹部端縁４１との交点の近傍（平面視における第１フレーム面１５ａの角部１５ｅ）で反力が大きくなり得る。このため、当該角部１５ｅで蒸着マスク２０に生じる応力が集中する傾向にある。この状態で、蒸着マスク２０をフレーム１５に押し付けながら移動させると、当該角部１５ｅで蒸着マスク２０に変形や破損を生じる可能性が考えられる。

このため、図１１に示すフレーム１５に蒸着マスク２０を位置合わせするために蒸着マスク２０を移動させる場合には、蒸着マスク２０をフレーム１５に押し付けながら移動させるのではなく、蒸着マスク２０を上昇させて第１フレーム面１５ａから離間させた状態で蒸着マスク２０を移動させる。そして、蒸着マスク２０の移動工程が終わると蒸着マスク２０を下降して再びフレーム１５に押し付けて、確認工程が行われる。このように、マスク位置合わせ工程において、蒸着マスク２０の上昇工程と下降工程とが追加されるため、蒸着マスク２０のマスク位置合わせ工程に多くの時間が費やされていた。

これに対して本実施形態においては、被蒸着基板９１は機械式の基板用クランプ６３を用いることなく、後述する図２１に示すように、静電チャック８４で保持される。静電チャック８４は、被蒸着基板９１よりも上方に位置するため、被蒸着基板９１よりも下方や側方に突出する部分が無い。このことにより、フレーム１５には、図１１に示すようなフレーム凹部４０を形成することを不要にできる。このため、蒸着マスク２０の重なり部２１に重なる第１壁面縁１７ｅを、蒸着マスク２０の第１マスク縁２０ｃから第２マスク縁２０ｄにわたって第１方向Ｄ１に一直線状に延びるように形成することができる。このため、蒸着マスク２０が、フレーム１５から受ける反力は、第１壁面縁１７ｅから蒸着マスク２０に付与され、第１壁面縁１７ｅから受ける反力を幅方向に均等にさせることができる。このため、蒸着マスク２０がフレーム１５から受ける反力で蒸着マスク２０に生じる応力が集中することを抑制することができる。

この状態で、蒸着マスク２０をフレーム１５に押し付けながら移動させたとしても、蒸着マスク２０に変形や破損が生じることを抑制できる。このため、蒸着マスク２０をフレーム１５に押し付けながら移動させることができ、マスク位置合わせ工程において、図１１〜図１３に示した例のような蒸着マスク２０の上昇工程と下降工程を不要にすることができる。従って、蒸着マスク２０のマスク位置合わせ工程の時間を短縮させることができる。

マスク位置合わせ工程の後、接合工程として、図１４に示すように、蒸着マスク２０がフレーム１５に接合される。接合工程において、蒸着マスク２０は、接合張力Ｔ４で第２方向Ｄ２に引っ張られるとともにフレーム１５に押し付けられてもよい。接合張力Ｔ４は、接合工程において、蒸着マスク２０に付与される張力である。接合張力Ｔ４は、マスク位置合わせ工程において蒸着マスク２０に付与された張力であってもよい。すなわち、マスク位置合わせ工程の終了時から接合工程にわたって、蒸着マスク２０に付与される張力が不変となってもよい。言い換えると、マスク位置合わせ工程において、接合張力Ｔ４が付与された状態で、蒸着マスク２０の位置合わせが行われる。また、マスク位置合わせ工程の終了時から接合工程にわたって、フレーム１５への蒸着マスク２０の押付力が不変となっていてもよい。

例えば、接合張力Ｔ４は、上述した第１貫通孔確認工程において蒸着マスク２０に付与された第２張力Ｔ２であってもよい。より具体的には、上述した第１貫通孔確認工程における貫通孔２５の位置確認の結果、貫通孔２５の位置が所望の位置に対して許容範囲内に位置づけられている場合には、マスク位置合わせ工程が終了する。この場合、第１貫通孔確認工程において蒸着マスク２０に第２張力Ｔ２が付与された状態が維持されて、接合工程が行われてもよい。すなわち、第１貫通孔確認工程の終了時から接合工程にわたって、蒸着マスク２０に付与される張力が不変となる。言い換えると、第１貫通孔確認工程において、蒸着マスク２０に接合張力Ｔ４が付与されて、フレーム１５に対する貫通孔２５の位置が確認される。また、第１貫通孔確認工程の終了時から接合工程にわたって、フレーム１５への蒸着マスク２０の押付力が不変となっていてもよい。

あるいは、例えば、接合張力Ｔ４は、上述した第２貫通孔確認工程において蒸着マスク２０に付与された第２張力Ｔ２であってもよい。より具体的には、上述した第２貫通孔確認工程における貫通孔２５の位置確認の結果、貫通孔２５の位置が所望の位置に対して許容範囲内に位置づけられている場合には、マスク位置合わせ工程が終了する。この場合、第２貫通孔確認工程において蒸着マスク２０に第２張力Ｔ２が付与された状態が維持されて、接合工程が行われてもよい。すなわち、第２貫通孔確認工程の終了時から接合工程にわたって、蒸着マスク２０に付与される張力が不変となる。言い換えると、第２貫通孔確認工程において、蒸着マスク２０に接合張力Ｔ４が付与されて、フレーム１５に対する貫通孔２５の位置が確認される。また、第２貫通孔確認工程の終了時から接合工程にわたって、フレーム１５への蒸着マスク２０の押付力が不変となっていてもよい。

あるいは、例えば、接合張力Ｔ４は、上述した第３張力Ｔ３であってもよい。より具体的には、上述した張力調整工程が行われた場合には、蒸着マスク２０に付与される張力は、第２張力Ｔ２から調整された第３張力Ｔ３となる。第３貫通孔確認工程において蒸着マスク２０に第３張力Ｔ３が付与された状態が維持されて、接合工程が行われてもよい。すなわち、第３貫通孔確認工程の終了時から接合工程にわたって、蒸着マスク２０に付与される張力が不変となる。言い換えると、第３貫通孔確認工程において、蒸着マスク２０に接合張力Ｔ４が付与されて、フレーム１５に対する貫通孔２５の位置が確認される。また、第３貫通孔確認工程の終了時から接合工程にわたって、フレーム１５への蒸着マスク２０の押付力が不変となっていてもよい。

接合工程においては、上述した接合張力Ｔ４が付与された状態で、蒸着マスク２０の重なり部２１からフレーム１５に延びる溶接部３０（接合部の一例）が形成される。例えば、レーザ光Ｌによるスポット溶接で、蒸着マスク２０がフレーム１５に接合されてもよい。この場合、図１４に示すように、蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａにレーザ光Ｌが照射されて、レーザ光Ｌが照射された領域のうち第１マスク面２０ａから第２マスク面２０ｂを越えてフレーム１５にわたる領域に溶融部が形成されてもよい。レーザ光Ｌの照射が終了すると溶融部が冷却されて固化して、図１４に示すような溶接部３０が形成されてもよい。このようにして蒸着マスク２０はフレーム１５に接合されて固定される。

接合工程の後、取り外し工程として、図１５に示すように、蒸着マスク２０からマスク用クランプ６０が取り外される。このようにして、図１６に示すように、１つの蒸着マスク２０がフレーム１５に固定される。

取り外されたマスク用クランプ６０は、次にフレーム１５に接合される蒸着マスク２０を迎えに行き、保持する。そして、上述した各工程を行って、当該蒸着マスク２０がフレーム１５に位置合わせされて架張して接合される（図１６の二点鎖線で示す蒸着マスク２０参照）。その後、同様にして各工程を繰り返すことにより、図１７に示すように、所望の個数の蒸着マスク２０がフレーム１５に位置合わせされて架張して接合される。

このようにして、図１７に示すような、複数の蒸着マスク２０がフレーム１５に接合された蒸着マスク装置の中間体５０が得られる。蒸着マスク装置の中間体５０は、後述する切断工程の前の段階の蒸着マスク２０と、フレーム１５とにより構成されている。このため、蒸着マスク装置の中間体５０を構成する蒸着マスク２０は、切断工程で切断して除去される被除去部２３が残存している状態になっている。この点で、蒸着マスク装置の中間体５０と蒸着マスク装置１０とが区別されてもよい。

その後、切断工程として、図１８に示すように、各蒸着マスク２０の重なり部２１が切断（トリミングとも言う）される。この場合、蒸着マスク２０の重なり部２１のうち溶接部３０よりも第２方向Ｄ２の外側の位置で、蒸着マスク２０が切断され、切断位置よりも外側の部分である被除去部２３が除去される。蒸着マスク２０を切断する切断刃６２は、フレーム１５の第１フレーム面１５ａに設けられたフレーム溝１８に部分的に挿入されながら、蒸着マスク２０を切断する。そして、フレーム溝１８に沿って第１方向Ｄ１に進みながら、図１９に示すように、蒸着マスク２０を順次切断する。このことにより、フレーム溝１８に沿って各蒸着マスク２０が切断される。蒸着マスク２０の２つの重なり部２１は、１つの切断刃６２で別々に切断されてもよく（図１９参照）、２つの切断刃６２で同時に切断されてもよい。

このようにして、図２に示す蒸着マスク装置１０が得られる。

次に、本実施形態による蒸着マスク装置１０を用いた有機ＥＬ表示装置の製造方法について、図１及び図２０〜図２２を参照して説明する。

ここで、有機ＥＬ表示装置９０について図２０を用いて説明する。図２０は、有機ＥＬ表示装置９０を示す模式断面図である。有機ＥＬ表示装置９０は、上述した本実施形態による蒸着マスク装置１０を用いることにより被蒸着基板９１に形成された発光層９２（蒸着層の一例）を備えている。１つの有機ＥＬ表示装置９０は、１つの表示領域に相当していてもよい。

より具体的には、図２０に示すように、被蒸着基板９１の一方の面に、複数の素子９３が並んで設けられている。図示はしないが、素子９３は、図２０の奥行き方向に並んでいてもよい。素子９３は、画素として構成されており、被蒸着基板９１上に位置する第１電極９４と、第１電極９４上に位置する通電層９５と、通電層９５上に位置する第２電極９６と、を有していてもよい。通電層９５は、発光層９２を含んでいてもよい。複数の素子９３によって１つの有機ＥＬ表示装置９０が構成されている。１つの被蒸着基板９１に、複数の有機ＥＬ表示装置９０の素子９３が形成されて、多面付されていてもよい。この場合、被蒸着基板９１を有機ＥＬ表示装置９０毎に裁断することにより、個々の有機ＥＬ表示装置９０が得られる。図２０においては、一例として、２つの有機ＥＬ表示装置９０が、１つの被蒸着基板９１に形成されている例を示している。

被蒸着基板９１は、絶縁性を有する板状の部材であってもよい。被蒸着基板９１は、光を透過させる光透過性を有していてもよい。被蒸着基板９１は、例えば、ガラス基板であってもよく、シリコン基板であってもよい。また、被蒸着基板９１は、例えば、石英、光透過性を有するポリイミド、又は光透過性を有する液晶ポリマーで構成されていてもよい。

第１電極９４は、導電性を有する材料を含む。例えば、第１電極９４は、金属、導電性を有する金属酸化物、又はその他の無機材料などを含んでいてもよい。第１電極９４は、インジウム・スズ酸化物などの、光透過性及び導電性を有する金属酸化物を含んでいてもよい。

通電層９５は、上述したように、通電により光を放出する発光層９２を含んでいてもよい。この場合、通電層９５は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層などを更に含んでいてもよい。例えば、第１電極９４が陽極であるとともに第２電極９６が陰極である場合には、第１電極９４上に、正孔注入層、正孔輸送層、発光層９２、電子輸送層、電子注入層及び第２電極９６がこの順番に積層される。通電とは、通電層９５に電圧が印加されること、又は通電層９５に電流が流れることを意味する。なお、図２０においては、図面を簡略させるために、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層は省略している。

第２電極９６は、金属などの、導電性を有する材料を含む。第２電極９６を構成する材料の例としては、白金、金、銀、銅、鉄、錫、クロム、アルミニウム、インジウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、クロム、炭素等及びこれらの合金を挙げることができる。

有機ＥＬ表示装置９０において画像を表示する場合、素子９３を構成する第１電極９４と第２電極９６との間に電圧が印加される。このことにより、当該素子９３の発光層９２から光が放出され、放出された光は、第１電極９４の側又は第１電極９４の側から外部へ取り出される。各素子９３において発光層９２から光の放出を制御することにより、所望の画像が表示される。

このような有機ＥＬ表示装置９０の製造方法は、蒸着マスク装置１０を用いて被蒸着基板９１に蒸着材料８２を付着させて発光層９２を形成する工程を備えていてもよい。より具体的には、本実施形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法は、被蒸着基板準備工程と、装置準備工程と、装置位置合わせ工程と、密着工程と、蒸着工程と、を備えていてもよい。

まず、被蒸着基板準備工程として、上述した被蒸着基板９１を準備してもよい。

また、装置準備工程として、上述した蒸着マスク装置１０を準備してもよい。

装置準備工程の後、装置位置合わせ工程として、蒸着マスク装置１０が被蒸着基板９１に対して位置合わせされる。装置位置合わせ工程においては、被蒸着基板９１に対する蒸着マスク装置１０の位置が確認される。例えば、アライメントマスク７０のマスクアライメントマーク７１と、被蒸着基板９１の対応するアライメントマーク（図示せず）とが位置合わせされるように、被蒸着基板９１に対するフレーム１５の位置が調整されてもよい。このことにより、被蒸着基板９１に対する蒸着マスク２０の位置を調整することができる。

装置位置合わせ工程の後、密着工程として、図２１に示すように、蒸着マスク装置１０の蒸着マスク２０を被蒸着基板９１に密着させてもよい。蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａを、被蒸着基板９１に密着させてもよい。より具体的には、まず、蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａが上方に配置されるように、蒸着マスク装置１０が蒸着装置８０内に配置される。また、被蒸着基板９１が、上方から静電チャック８４で保持される。続いて、被蒸着基板９１が、静電チャック８４に保持された状態で、蒸着マスク２０の上方に配置される。次に、被蒸着基板９１の下面（被蒸着面）と蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａとが突き合わされる。この際、被蒸着基板９１と蒸着マスク２０とで位置合わせが行われる。

次に、静電チャック８４の上面に磁石８５が配置され、磁石８５の磁力で、蒸着マスク２０が被蒸着基板９１に引き寄せられる。このことにより、蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａに、被蒸着基板９１が密着する（図２２参照）。なお、第１電極９４が陽極である場合、被蒸着基板９１には、蒸着マスク２０を密着させる前に、第１電極９４と、通電層９５を構成する正孔注入層及び正孔輸送層とが形成されていてもよい。

なお、磁石８５ではなく、静電チャック８４によって蒸着マスク２０と被蒸着基板９１とを密着させてもよい。この場合、被蒸着基板９１と蒸着マスク２０とで位置合わせを行った後、静電チャック８４の静電力を強めて、静電チャック８４の静電力で、蒸着マスク２０が被蒸着基板９１に引き寄せられる。このようにして、蒸着マスク２０の第１マスク面２０ａに被蒸着基板９１を密着させてもよい。

密着工程の後、蒸着工程として、図２２に示すように、蒸着マスク２０の貫通孔２５を通して蒸着材料８２を被蒸着基板９１に蒸着させて発光層９２が形成されてもよい。発光層９２は、対応する通電層９５の正孔輸送層上に形成される。より具体的には、蒸着装置８０の内部空間を真空雰囲気にし、蒸着材料８２を蒸発させて被蒸着基板９１に飛来させる。飛来した蒸着材料８２は、蒸着マスク２０の各貫通孔２５を通って、所望の通電層９５の正孔輸送層に到達し、付着する。このことにより、被蒸着基板９１に、貫通孔２５のパターンに対応したパターンで発光層９２が形成される。

上述したように、本実施形態では、貫通孔２５が各有効領域２７において所定のパターンで配置されている。なお、複数の色によるカラー表示を行いたい場合には、各色に対応する蒸着マスク２０を備えた蒸着マスク装置１０を準備し、各蒸着マスク装置１０で、対応する通電層９５の正孔輸送層に各色の蒸着材料８２を付着させる。これにより、例えば、赤色用の有機発光材料、緑色用の有機発光材料及び青色用の有機発光材料を一の被蒸着基板９１にそれぞれ蒸着させることができる。

発光層９２が形成された後、発光層９２上に、通電層９５を構成する電子輸送層及び電子注入層が形成され、通電層９５が得られる。その後、各通電層９５上に、第２電極９６が形成される。

このようにして、被蒸着基板９１に、各色の発光層９２が形成された有機ＥＬ表示装置９０が得られる。

このように本実施形態によれば、フレーム１５に対して蒸着マスク２０を位置合わせするマスク位置合わせ工程において、蒸着マスク２０はフレーム１５に押し付けられている。この間、蒸着マスク２０の重なり部２１は、平面視で、フレーム１５のフレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１フレーム面１５ａの側の第１壁面縁１７ｅに重なるとともに、第１壁面縁１７ｅが、蒸着マスク２０の第１マスク縁２０ｃから第２マスク縁２０ｄにわたって第１方向Ｄ１に一直線状に延びるように配置される。このことにより、蒸着マスク２０がフレーム１５から受ける反力は、第１壁面縁１７ｅから蒸着マスク２０に付与され、第１壁面縁１７ｅから受ける反力を蒸着マスク２０の幅方向に均等にさせることができる。この場合、蒸着マスク２０がフレーム１５から受ける反力で蒸着マスク２０に生じる応力が局所的に集中することを抑制できる。このため、蒸着マスク２０をフレーム１５に押し付けながら移動させることができ、蒸着マスク２０のマスク位置合わせ工程に要する時間を短縮させることができる。

また、本実施形態によれば、接合工程において、蒸着マスク２０が、接合張力Ｔ４で第２方向Ｄ２に引っ張られるとともにフレーム１５に押し付けられながら、フレーム１５に接合される。マスク位置合わせ工程において、蒸着マスク２０には、この接合張力Ｔ４が付与される。このことにより、接合工程において蒸着マスク２０に付与される張力と等しい張力で、蒸着マスク２０の位置合わせを行うことができる。このため、貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。

また、本実施形態によれば、マスク位置合わせ工程は、蒸着マスク２０をフレーム１５に押し付けながら、フレーム１５に対する貫通孔２５の位置を確認する第１貫通孔確認工程を有している。このことにより、蒸着マスク２０をフレーム１５に押し付けた状態で貫通孔２５の位置を確認することができ、蒸着マスク２０の位置合わせを効率良く行うことができる。このため、蒸着マスク２０のマスク位置合わせ工程に要する時間をより一層短縮させることができる。また、第１貫通孔確認工程において、蒸着マスク２０に接合張力Ｔ４が付与される。このことにより、接合工程において蒸着マスク２０に付与される張力と等しい張力で、貫通孔２５の位置を確認することができる。このため、貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。

また、本実施形態によれば、マスク位置合わせ工程は、蒸着マスク２０をフレーム１５に押し付けながら第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２で画定される２次元平面内でのいずれかの方向に移動させる移動工程を有している。このことにより、蒸着マスク２０をフレーム１５に押し付けながら２次元的に移動させることができ、蒸着マスク２０の位置合わせを効率良く行うことができる。このため、蒸着マスク２０のマスク位置合わせ工程に要する時間をより一層短縮させることができる。また、第１貫通孔確認工程における貫通孔２５の位置確認結果に基づいて、蒸着マスク２０を移動させることができる。このことにより、貫通孔２５の位置ずれを効果的に解消することができる。この点においても、蒸着マスク２０の位置合わせを効率良く行うことができる。また、移動工程において、蒸着マスク２０に接合張力Ｔ４が付与される。このことにより、接合工程において蒸着マスク２０に付与される張力と等しい張力で、蒸着マスク２０を移動させることができる。このため、貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。

また、本実施形態によれば、マスク位置合わせ工程は、移動工程の後、蒸着マスク２０をフレーム１５に押し付けながら、フレーム１５に対する貫通孔２５の位置を確認する第２貫通孔確認工程を有している。このことにより、蒸着マスク２０をフレーム１５に押し付けた状態で貫通孔２５の位置を確認することができ、蒸着マスク２０の位置合わせを効率良く行うことができる。このため、蒸着マスク２０のマスク位置合わせ工程に要する時間をより一層短縮させることができる。また、第２貫通孔確認工程において、蒸着マスク２０に接合張力Ｔ４が付与される。このことにより、接合工程において蒸着マスク２０に付与される張力と等しい張力で、貫通孔２５の位置を確認することができる。このため、貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。

また、本実施形態によれば、第２貫通孔確認工程において貫通孔２５の位置を確認した後、蒸着マスク２０に付与される張力が調整された場合には、その後、第３貫通孔確認工程として貫通孔２５の位置が確認される。そして、第３貫通孔確認工程において、蒸着マスク２０に接合張力Ｔ４が付与される。このことにより、蒸着マスク２０に付与される張力が調整された場合には、その後に、接合工程において蒸着マスク２０に付与される張力と等しい張力で、貫通孔２５の位置を確認することができる。このため、貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。

また、本実施形態によれば、蒸着マスク２０をフレーム１５に接合する溶接部３０が形成された後、蒸着マスク２０の重なり部２１のうち溶接部３０よりも第２方向Ｄ２の外側の位置で蒸着マスク２０が切断される。このことにより、フレーム１５に対して蒸着マスク２０を位置合わせした状態で蒸着マスク２０をフレーム１５に接合することができ、蒸着マスク２０を切断した後であっても、位置合わせされた状態を維持することができる。このため、貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。

また、本実施形態によれば、フレーム１５の第１フレーム面１５ａに、第１方向Ｄ１に延びるフレーム溝１８が設けられ、このフレーム溝１８に沿って蒸着マスク２０が切断される。このことにより、蒸着マスク２０がフレーム１５に接合された後であっても、切断刃６２などの切断手段を用いて蒸着マスク２０を切断することができる。このため、蒸着マスク２０を効率良く切断することができる。また、フレーム溝１８は第１フレーム面１５ａに設けられていることから、フレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅよりも第２方向Ｄ２における内側で蒸着マスク２０を切断することができる。このことにより、溶接部３０よりも第２方向Ｄ２の外側に残存する蒸着マスク２０の長さを短くすることができる。このため、蒸着マスク２０のうち、フレーム１５に接合された後に張力から解放される部分を、短くすることができる。この場合、蒸着マスク装置１０を洗浄した際に洗浄液が残存することを抑制でき、洗浄液残存により不具合が生じることを抑制できる。

また、本実施形態によれば、フレーム１５のフレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅが、一の蒸着マスク２０から他の蒸着マスク２０にわたって第１方向Ｄ１に一直線状に延びている。このことにより、第１壁面縁１７ｅから受ける反力の影響を、各蒸着マスク２０で共通にさせることができる。このため、各蒸着マスク２０の位置合わせを、容易にさせることができ、各蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置精度を向上させることができる。とりわけ、本実施形態によれば、第１壁面縁１７ｅが、第１方向Ｄ１において最も一側に位置する蒸着マスク２０から、当該蒸着マスク２０とは反対側に位置する蒸着マスク２０にわたって第１方向Ｄ１に一直線状に延びている。このため、全ての蒸着マスク２０の位置合わせを容易にさせることができ、各蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置精度をより一層向上させることができる。

また、本実施形態によれば、蒸着マスク装置１０の蒸着マスク２０を被蒸着基板９１に密着させる際に、被蒸着基板９１が、上方から静電チャック８４で保持される。このことにより、被蒸着基板９１から下方や側方に突出してフレーム１５に干渉する障害物が形成されることを回避できる。このため、蒸着マスク２０の重なり部２１に重なる第１壁面縁１７ｅを第１方向Ｄ１に一直線状に延びるように形成することができる。

なお、上述した本実施形態においては、フレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅが、第１方向Ｄ１において最も一側に位置する蒸着マスク２０から、当該蒸着マスク２０とは最も反対側に位置する蒸着マスク２０にわたって、第１方向Ｄ１に一直線状に延びている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。フレーム１５に接合された複数の蒸着マスク２０のうちの少なくとも１つの蒸着マスク２０に対して、フレーム壁面１７ａ、１７ｂの第１壁面縁１７ｅが、切断工程後の蒸着マスク２０の第１マスク縁２０ｃの第１延長線２０ｅから第２マスク縁２０ｄの第２延長線２０ｆにわたって、第１方向Ｄ１に一直線状に延びていればよい。また、第１壁面縁１７ｅは、蒸着マスク２０毎に一直線状に延びていればよく、一の蒸着マスク２０から、隣り合う他の蒸着マスク２０にわたって一直線状に延びていなくてもよい。

Claims (11)

1. 第1フレーム面と、前記第1フレーム面とは反対側に位置する第２フレーム面と、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に貫通するフレーム開口と、前記フレーム開口よりも平面視で外側に位置し、前記第１フレーム面から前記第２フレーム面に向かって延びるフレーム壁面であって、前記第１フレーム面の側に位置する第１壁面縁と、前記第２フレーム面の側に位置する第２壁面縁と、を含むフレーム壁面と、前記第２壁面縁から平面視で外側に前記第２フレーム面に沿って延びる第３フレーム面と、を有するフレームを準備するフレーム準備工程と、
   第１方向における一方の側縁に位置する第１マスク縁と、前記第１方向における他方の側縁に位置する第２マスク縁と、前記第１方向に直交する第２方向における両側に位置する一対の重なり部と、一対の前記重なり部の間に位置する貫通孔と、を有する蒸着マスクを準備するマスク準備工程と、
   前記蒸着マスクの前記重なり部は、平面視で、前記第１壁面縁に重なるとともに、当該第１壁面縁が、前記蒸着マスクの前記第１マスク縁から前記第２マスク縁にわたって前記第１方向に一直線状に延びるように、前記フレームに前記蒸着マスクを配置する配置工程と、
   前記配置工程の後、前記蒸着マスクを、接合張力で前記第２方向に引っ張るとともに前記フレームに押し付けながら、前記フレームに対して位置合わせするマスク位置合わせ工程と、
   前記マスク位置合わせ工程の後、前記蒸着マスクを、前記接合張力で前記第２方向に引っ張るとともに前記フレームに押し付けながら、前記フレームに接合する接合工程と、を備えた、蒸着マスク装置の製造方法。
2. 前記マスク位置合わせ工程は、前記蒸着マスクに前記接合張力が付与されるとともに前記蒸着マスクを前記フレームに押し付けながら、前記フレームに対する前記貫通孔の位置を確認する第１確認工程を有している、請求項１に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
3. 前記マスク位置合わせ工程は、前記第１確認工程における前記貫通孔の位置確認結果に基づいて、前記蒸着マスクに前記接合張力が付与されるとともに前記蒸着マスクを前記フレームに押し付けながら、前記第１方向及び前記第２方向で画定される２次元平面内でのいずれかの方向に移動させる移動工程を有している、請求項２に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
4. 前記マスク位置合わせ工程は、前記移動工程の後、前記蒸着マスクに接合張力が付与されるとともに前記蒸着マスクを前記フレームに押し付けながら、前記フレームに対する前記貫通孔の位置を確認する第２確認工程を有している、請求項３に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
5. 前記マスク位置合わせ工程は、
   前記蒸着マスクを前記フレームに押し付けながら前記フレームに対する前記貫通孔の位置を確認する第３確認工程と、
   前記第３確認工程における前記貫通孔の位置確認結果に基づいて、前記蒸着マスクに付与される張力を調整する張力調整工程と、
   前記張力調整工程の後、前記蒸着マスクに前記接合張力が付与されるとともに前記蒸着マスクを前記フレームに押し付けながら前記フレームに対する前記貫通孔の位置を確認する第４確認工程と、を有している、請求項１に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
6. 前記接合工程の後、前記蒸着マスクの前記重なり部を切断する切断工程を更に備え、
   前記接合工程において、前記蒸着マスクの前記重なり部から前記フレームに延びる接合部が形成され、
   前記切断工程において、前記蒸着マスクの前記重なり部のうち前記接合部よりも前記第２方向の外側の位置で前記蒸着マスクが切断され、切断位置よりも外側の部分が除去される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
7. 前記フレームの前記第１フレーム面に、前記第１方向に延びるフレーム溝が設けられ、
   前記切断工程において、前記フレーム溝に沿って前記蒸着マスクが切断される、請求項６に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
8. 前記フレームに、前記第１方向に並んだ２つ以上の前記蒸着マスクが接合された場合、前記フレームの前記第１壁面縁は、一の前記蒸着マスクから他の前記蒸着マスクにわたって前記第１方向に一直線状に延びている、請求項１〜７のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
9. 前記フレームの前記第１壁面縁は、前記第１方向において最も一側に位置する前記蒸着マスクから、当該蒸着マスクとは最も反対側に位置する前記蒸着マスクにわたって前記第１方向に一直線状に延びている、請求項８に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
10. 請求項１〜９のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置の製造方法により前記蒸着マスク装置を準備する装置準備工程と、
    前記蒸着マスク装置の前記蒸着マスクを被蒸着基板に密着させる密着工程と、
    前記蒸着マスクの前記貫通孔を通して蒸着材料を前記被蒸着基板に蒸着させて蒸着層を形成する蒸着工程と、を備えた有機ＥＬ表示装置の製造方法。
11. 前記密着工程において、前記被蒸着基板は、上方から静電チャックで保持される、請求項１０に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。

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