JP2021106211A - 発光装置、波長変換部材の製造方法及び発光装置の製造方法 - Google Patents

発光装置、波長変換部材の製造方法及び発光装置の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】見切り性に優れた発光装置、波長変換部材の製造方法及び発光装置の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】発光装置１００Ａは、光取出面３１と側面３２とを有する発光素子３０と、第１上面１Ａと、第２上面３Ａと、第１上面及び第２上面に対向する下面５Ａと、第２上面３Ａと第１上面１Ａとに連続する第１側面２Ａと、第２上面３Ａと下面５Ａとに連続する第２側面４Ａと、を有し、下面から第１上面までの厚みは、下面から第２上面までの厚みよりも薄く、光取出面に対向する位置に第１上面が配置され、発光素子の光取出面上に下面が配置される波長変換部材１０Ａと、波長変換部材の第２側面及び発光素子の側面を覆う被覆部材２０Ａと、波長変換部材の第２上面を覆う遮光膜４０Ａと、を備える。【選択図】図４

Description

本発明は、発光装置、波長変換部材の製造方法及び発光装置の製造方法に関する。
発光素子を用いた発光装置は、車両のヘッドライトや室内外の照明として使用されている。
国際公開第２０１４/０８１０４２号
本発明の実施形態は、見切り性に優れた発光装置、波長変換部材の製造方法及び発光装置の製造方法を提供することを課題とする。
本発明の実施形態に係る発光装置は、光取出面と側面とを有する発光素子と、第１上面と、第２上面と、前記第１上面及び前記第２上面に対向する下面と、前記第２上面と前記第１上面とに連続する第１側面と、前記第２上面と前記下面とに連続する第２側面と、を有し、前記下面から前記第１上面までの厚みは、前記下面から前記第２上面までの厚みよりも薄く、前記光取出面に対向する位置に前記第１上面が配置されており、前記発光素子の前記光取出面上に前記下面が配置される波長変換部材と、前記波長変換部材の前記第２側面及び前記発光素子の前記側面を覆う被覆部材と、前記波長変換部材の前記第２上面を覆う遮光膜と、を備える。
また、本発明の実施形態に係る波長変換部材の製造方法は、波長変換基板の上面に複数の矩形のマスクを形成するマスク形成工程と、前記波長変換基板の上面に前記マスクを形成した状態で平面視が矩形であり、前記波長変換基板の一部が露出するように所定の大きさに個片化する個片化工程と、個片化した波長変換部材を整列させて前記波長変換部材の側面、上面及び前記マスク上に遮光膜を形成する遮光膜形成工程と、前記マスクの外周となる前記波長変換部材の上面に形成した前記遮光膜を保持した状態で、前記マスク及び前記マスクを覆う前記遮光膜を除去するマスク除去工程と、前記マスクを除去した箇所の前記波長変換部材の厚みを薄くする加工工程と、を含む。
また、本発明の実施形態に係る波長変換部材の製造方法は、波長変換基板の上面に矩形のマスクを形成するマスク形成工程と、前記波長変換基板の上面及び前記マスク上に遮光膜を形成する遮光膜形成工程と、前記波長変換基板を、平面視が矩形であり前記波長変換基板の一部が露出するように所定の大きさに個片化する個片化工程と、前記マスクの外周となる前記波長変換基板の上面に形成した前記遮光膜を保持した状態で、前記マスク及び前記マスクを覆う前記遮光膜を除去するマスク除去工程と、前記マスクを除去した箇所の波長変換部材の厚みを薄くする加工工程と、を含む。
本発明の実施形態に係る発光装置の製造方法は、第１上面と、第２上面と、前記第１上面及び第２上面に対向する下面と、前記第２上面と前記第１上面とに連続して、前記第２上面から前記第１上面に延びる第１側面と、前記第２上面と前記下面とに連続している第２側面と、を有し、前記下面から前記第１上面までの厚みは、前記下面から前記第２上面までの厚みよりも薄く、前記第２上面は遮光膜で覆っている、波長変換部材を準備する工程と、前記波長変換部材の下面と発光素子の光取出面とを向かい合うように、前記発光素子に前記波長変換部材を配置する接着工程と、前記波長変換部材の前記第２側面、及び、前記発光素子の側面を被覆部材で覆う被覆部材形成工程と、を含む。
本開示の実施形態に係る発光装置は、見切り性に優れる。また、本開示の実施形態に係る波長変換部材及び発光装置の製造方法によれば、見切り性に優れる波長変換部材及び発光装置を提供することができる。
第１実施形態に係る発光装置を模式的に示す斜視図である。 第１実施形態に係る発光装置を模式的に示す平面図である。 図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線における断面図である。 図３に示す波長変換部材を中心とした部分的な拡大断面図である。 第１実施形態に係る発光装置に用いる波長変換部材の製造方法を示すフローチャートである。 本開示の波長変換部材の製造方法においてマスク形成工程を模式的に示す平面図である。 マスク形成工程におけるマスクを形成した状態を断面にして模式的に示す断面図である。 本開示の波長変換部材の製造方法において個片化工程を模式的に示す平面図である。 本開示の個片化工程で個片化した状態を断面にして模式的に示す断面図である。 本開示の波長変換部材の製造方法において遮光膜形成工程を模式的に示す平面図である。 本開示の遮光膜形成工程で個片化した部材に遮光膜を形成した状態を断面にして模式的に示す断面図である。 本開示のマスク除去工程でマスクを除去した状態を模式的に示す平面図である。 本開示のマスク除去工程でマスクを除去した状態を断面にして模式的に示す断面図である。 本開示の加工工程を模式的に示す平面図である。 本開示の加工工程で加工されて波長変換部材に形成された状態を断面にして模式的に示す断面図である。 第１実施形態に係る発光装置の製造方法を示すフローチャートである。 第１実施形態に係る発光装置の製造方法において準備した波長変換部材を発光素子に接続する接着工程を模式的に示す断面図である。 第１実施形態に係る発光装置の製造方法において波長変換部材を接続した発光素子を基板に接続する工程を模式的に示す断面図である。 第１実施形態に係る発光装置の製造方法において被覆部材形成工程を模式的に示す断面図である。 図１の発光装置の基板を省略して変形例１を模式的に示す断面図である。 図１の発光装置の基板を省略して変形例２を模式的に示す断面図である。 図１の発光装置の基板を省略して変形例３を模式的に示す断面図である。 図１の発光装置の基板を省略して変形例４を模式的に示す断面図である。 図１の発光装置の基板を省略して変形例５を模式的に示す断面図である。 第１実施形態の発光装置の変形例６を断面にして示す断面斜視図である。 第１実施形態の発光装置の変形例７を模式的に示す斜視図である。 第１実施形態の発光装置の変形例８を模式的に示す斜視図である。 第１実施形態の波長変換部材を変形例９として示す斜視図である。 図９Ａの波長変換部材を発光装置に適用した構成を一部断面にして模式的に示す断面斜視図である。 図９Ａの波長変換部材を用いた発光装置の変形例１０を模式的に示す視図である。 図９Ａの波長変換部材を変形例１１として示す平面図である。 第２実施形態に係る発光装置の一部を断面にして変形例１２として模式的に示す断面図である。 第２実施形態に係る発光装置で用いる波長変換部材の製造方法を示すフローチャートである。 第２実施形態に係る発光装置の基板を省略した構成を断面にして模式的に示す断面図である。 図１２の発光装置の変形例を変形例１３として模式的に示す断面図である。 図１２の発光装置についての変形例１４を模式的に示す断面図である。 図１２の発光装置についての変形例１５を模式的に示す断面図である。 図１２の発光装置についての変形例１６を模式的に示す断面図である。 図１２の発光装置についての変形例１７を模式的に示す断面図である。 第３実施形態の発光装置を変形例１８として模式的に示す斜視図である。 第３実施形態の発光装置の変形例を変形例１９として模式的に示す斜視図である。 第３実施形態の発光装置に用いる波長変換部材及び発光素子の構成を示す斜視図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂに係る発光装置の波長変換部材の変形例を変形例２０として模式的に示す斜視図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂの発光装置の基板を省略して変形例１８として模式的に示す断面図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂの発光装置の基板を省略して変形例１９として模式的に示す断面図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂの発光装置の基板を省略して変形例２１として模式的に示す断面図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂの発光装置の基板を省略して変形例２２として模式的に示す断面図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂの発光装置の基板を省略して変形例２３として模式的に示す断面図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂの発光装置の基板を省略して変形例２４として模式的に示す断面図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂの発光装置の基板を省略して変形例２５として模式的に示す断面図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂの発光装置の基板を省略して変形例２６として模式的に示す断面図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂの発光装置の基板を省略して変形性２７として模式的に示す断面図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂの発光装置の基板を省略して変形性２８として模式的に示す断面図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂの発光装置の基板を省略して変形例２９として模式的に示す断面図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂの発光装置の基板を省略して変形例３０として模式的に示す断面図である。 第４実施形態の発光装置を変形例３１として模式的に示す斜視図である。 第４実施形態の発光装置を変形例３２として模式的に示す斜視図である。 第４実施形態に係る発光装置で用いる波長変換部材と発光装置を模式的に示す斜視図である。 図１７Ａ及び図１７Ｂに係る発光装置で使用される波長変換部材の変形例を変形例３３として模式的に示す斜視図である。 第５実施形態の発光装置を変形例３４として模式的に示す斜視図である。 第５実施形態の発光装置の変形例を変形例３５として模式的に示す斜視図である。 第５実施形態の発光装置で用いられる波長変換部材と発光装置を模式的に示す斜視図である。 図１８Ａ及び図１８Ｂに係る発光装置で使用される波長変換部材の変形例を変形例３６として模式的に示す斜視図である。
以下、実施形態に係る発光装置について、図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明において参照する図面は、実施形態を概略的に示したものであるため、各部材のスケールや間隔、位置関係等が誇張、あるいは、部材の一部の図示が省略されている場合がある。また、以下の説明では、同一の名称および符号については原則として同一もしくは同質の部材を示しており、詳細説明を適宜省略することとする。さらに、各図において示す方向は、構成要素間の相対的な位置を示し、絶対的な位置を示すことを意図したものではない。
[第１実施形態に係る発光装置及び波長変換部材]
第１実施形態に係る発光装置の構成の一例を、図１乃至図４を参照しながら説明する。
発光装置１００Ａは、光取出面３１と側面３２とを有する発光素子３０と、第１上面１Ａと、第２上面３Ａと、第１上面１Ａ及び第２上面３Ａに対向する下面５Ａと、第２上面３Ａと第１上面１Ａとに連続する第１側面２Ａと、第２上面３Ａと下面５Ａとに連続する第２側面４Ａと、を有し、下面５Ａから第１上面１Ａまでの厚みは、下面５Ａから第２上面３Ａまでの厚みよりも薄く、光取出面３１に対向する位置に第１上面１Ａが配置されており、発光素子３０の光取出面３１上に下面５Ａが配置される波長変換部材１０Ａと、波長変換部材１０Ａの第２側面４Ａ及び発光素子３０の側面３２を覆う被覆部材２０Ａと、波長変換部材１０Ａの第２上面３Ａ及び第２側面４Ａを覆う遮光膜４０Ａと、を備えている。なお、波長変換部材１０Ａの第２上面３Ａ及び第２側面４Ａは、遮光膜４０Ａが連続して形成されている。さらに、発光素子３０は素子電極を備え、その素子電極をバンプＢｐを介して基板５０の導体配線５１に接続している例として説明する。以下、発光装置１００Ａの各構成について説明する。
（発光素子）
発光素子３０は、発光装置として１つあるいは複数を用いている。発光素子３０は、例えば、接合部材であるバンプＢｐを介して基板５０の導体配線５１にフリップチップ実装されている。発光素子３０は、同一面側に一対の電極を有し、一対の電極の形成された面を下面３３として、下面と対向する上面を主な光取出面３１としている。発光素子３０は、公知のものを利用でき、例えば、発光ダイオードやレーザダイオードを用いるのが好ましい。また、発光素子３０は、任意の波長のものを選択することができる。例えば、青色、緑色の発光素子としては、窒化物系半導体（ＩｎXＡｌYＧａ1-X-YＮ、０≦Ｘ、０≦Ｙ、Ｘ＋Ｙ≦１）、ＧａＰを用いたものを用いることができる。さらに、赤色の発光素子としては、窒化物系半導体素子の他にもＧａＡｌＡｓ、ＡｌＩｎＧａＰなどを用いることができる。なお、発光素子３０は、前記した以外の材料からなる半導体発光素子を用いることもできる。発光素子３０は、組成や発光色、大きさや、個数などは目的に応じて適宜選択することができる。また、発光素子３０を基板５０上にフェイスアップ実装する場合は、一対の素子電極が形成された面が発光素子３０の主な光取出面となる。
（波長変換部材）
波長変換部材１０Ａは、発光装置１００Ａが備える発光素子３０の光取出面３１に接合して設けられている。波長変換部材１０Ａは、一例として、平面視が矩形に形成され、かつ、断面形状が凹形状に形成されている。波長変換部材１０Ａは、第１上面１Ａと、第２上面３Ａと、第１上面１Ａ及び第２上面３Ａに対向する下面５Ａと、第２上面３Ａと第１上面１Ａとに連続する第１側面２Ａと、第２上面３Ａと下面５Ａとに連続する第２側面４Ａと、を有している。そして、下面５Ａから第１上面１Ａまでの厚みは、下面５Ａから第２上面３Ａまでの厚みよりも薄くなるように形成されている。そして、波長変換部材１０Ａは、上面側において凹んだ底となる面を、平面視において矩形に形成して第１上面１Ａとしている。第２上面３Ａは、平面視において第１上面１Ａを囲う外周に第１上面１Ａと高さが異なるように四角環状になるようにここでは形成されている。また、波長変換部材１０Ａは、矩形に形成した第１上面１Ａの各辺から直交して上方に垂直に連続する第１側面２Ａを形成している。そして、第１上面１Ａ及び第１側面２Ａを、発光素子３０からの光を取り出す面としている。波長変換部材１０Ａは、第１上面１Ａ及び第１側面２Ａ以外の第２上面３Ａに設けられる遮光膜４０Ａ及び被覆部材２０Ａとにより、見切性に優れる。
第２上面３Ａは、第１上面１Ａより第１側面２Ａの高さにおいて高く形成されると共に第１上面１Ａと平行になるように形成されている。また、波長変換部材１０Ａは、第２上面３Ａの外縁で垂直方向に直交して連続する第２側面４Ａを形成している。第２側面４Ａは第１側面２Ａと平行になるように形成されている。そして、第２側面４Ａは、平面視において、発光素子３０の側面３２よりも外側に位置している。第２側面４Ａが下面５Ａに対して略垂直に形成されることで、発光装置１００Ａの製造時において波長変換部材１０Ａと発光素子３０とを接合する接着材１５の当該側面に対する這い上がりを抑制することができる。側面４Ａへの接着材１５の這い上がりが抑制されることで、発光素子３０から出射された光が波長変換部材１０Ａを介さずに外部に漏れ出ることを防止することができる。
さらに、波長変換部材１０Ａは、第２側面４Ａの下端に水平方向に直交して連続する下面５Ａを形成している。下面５Ａは、発光素子３０の光取出面３１と対面して接続される面である。下面５Ａは、発光装置１００Ａが備える少なくとも一つ以上の発光素子３０からの光が入射される面である。この下面５Ａは、発光素子３０の光取出面３１の面積の和よりも大きな面積となるように形成されている。つまり、下面５Ａは、発光素子３０を１つ使用する場合には、その１つの発光素子３０の光取出面３１の面積よりも大きく、複数の発光素子３０を使用する場合には、それら発光素子３０の合計した光取出面３１の面積よりも大きくなるように形成されている。また、下面５Ａは、略平坦になるように形成されている。波長変換部材１０Ａの下面５Ａが発光素子３０の光取出面３１よりも大きな面積で形成されることにより、発光素子３０から出射される光をロスなく波長変換部材１０Ａに入射することができる。波長変換部材１０の下面５Ａは、当該下面５Ａと接合される少なくとも一つ以上の発光素子３０の光取出面３１における面積の和に対して、例えば、１．１〜１５倍の範囲で大きな面積になるように形成されていることが好ましい。そして、波長変換部材１０Ａの厚みは、例えば、第２上面３Ａと下面５Ａとの間の位置では、６０〜３００μｍ程度に形成されている。また、波長変換部材１０Ａは、第１上面１Ａと下面５Ａとの間の位置では、前記した厚みのうち、例えば、１０〜９０％程度の厚みになるように形成されている。
また、波長変換部材１０Ａの第１上面１Ａの面積は、発光素子３０の光取出面３１の面積の和よりも小さく、また、波長変換部材１０Ａの下面５Ａの面積よりも小さく形成することが好ましい。このように形成することで、発光素子３０からの出射光は波長変換部材１０Ａにより、波長変換部材１０Ａの第１上面１Ａあるいは第１側面２Ａに集約される。
波長変換部材１０Ａは、蛍光体を含有する樹脂材料で形成されている。波長変換部材１０Ａで用いられる樹脂材料としては、例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ＴＰＸ樹脂、ポリノルボルネン樹脂、又はこれらの変性樹脂若しくはハイブリッド樹脂が挙げられる。なかでも耐熱性、電気絶縁性に優れ、柔軟性のあるシリコーン樹脂を含むことが好ましい。なお、波長変換部材は、透光性の部材の表面に蛍光体を設けるようにして形成してもよい。
また、波長変換部材１０Ａで用いられる蛍光体としては、この分野で用いられる蛍光体を適宜選択することができる。青色発光素子又は紫外線発光素子で励起可能な蛍光体としては、例えば、セリウムで賦活されたイットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体（ＹＡＧ：Ｃｅ）、セリウムで賦活されたルテチウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体（ＬＡＧ：Ｃｅ）、ユウロピウム及び／又はクロムで賦活された窒素含有アルミノ珪酸カルシウム系蛍光体（ＣａＯ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2：Ｅｕ，Ｃｒ）、ユウロピウムで賦活されたシリケート系蛍光体（（Ｓｒ，Ｂａ）2ＳｉＯ4：Ｅｕ）、β サイアロン蛍光体、ＣＡＳＮ系蛍光体（ＣａＡｌＳｉＮ3：Ｅｕ）、ＳＣＡＳＮ系蛍光体（（Ｓｒ，Ｃａ）ＡｌＳｉＮ3：Ｅｕ）等の窒化物系蛍光体、ＫＳＦ系蛍光体（Ｋ2ＳｉＦ6：Ｍｎ）、硫化物系蛍光体、量子ドット蛍光体などが挙げられる。
さらに、波長変換部材１０Ａは、光拡散材を含有してもよい。光拡散材としては、例えば、酸化チタン、チタン酸バリウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素などを用いることができる。波長変換部材１０Ａ中において蛍光体は、波長変換部材１０Ａの全体に分散されてもよいし、波長変換部材１０Ａの上面あるいは下面側に偏在していてもよい。
これらの蛍光体と、青色発光素子又は紫外線発光素子と組み合わせることにより、様々な色の発光装置（例えば白色系の発光装置）を製造することができる。白色に発光可能な発光装置１００Ａとする場合、波長変換部材１０Ａに含有される蛍光体の種類、濃度によって白色となるよう調整される。波長変換部材１０Ａに用いられる透光性部材に含有される蛍光体の濃度は、例えば、５質量％以上である。
また、発光素子３０に青色発光素子を用い、蛍光体に赤色成分の多い窒化物系半導体を用いることにより、赤色を発光する発光装置を得ることができる。さらに、発光素子３０に青色発光素子を用い、蛍光体にＹＡＧ系蛍光体と、赤色成分の多い窒化物系蛍光体とを用いることにより、アンバー色を発光させることもできる。アンバー色とは、ＪＩＳ規格Ｚ８１１０における黄色のうちの長波長領域と黄赤の短波長領域とからなる領域、安全色彩のＪＩＳ規格Ｚ９１０１による黄色の領域と黄赤の短波長領域に挟まれた領域の色度範囲が該当する。例えば、ドミナント波長として、５８０ｎｍ〜６００ｎｍの範囲に位置する領域のことである。赤色、アンバー色を発光させる蛍光体は、光交換効率が低いものが多く、所望の色調を得るためには蛍光体濃度を高くすることが好ましい。赤色又はアンバー色を発光する発光装置とする場合、波長変換部材１０Ａに用いられる透光性部材に含有される蛍光体の濃度は、例えば６０〜８０質量％程度である。
（接着材）
発光素子３０と波長変換部材１０Ａとは、例えば、接着材１５を介して接合することができる。接着材１５は、発光素子３０の光取出面３１である上面から側面３２の少なくとも一部に連続するように設けられる。被覆部材２０Ａと発光素子３０の側面との間に介在する接着材１５の上面は、波長変換部材１０Ａの下面５Ａと接して設けられている。接着材１５は、発光素子３０の上面から側面３２にまで延在し、発光素子３０の側面３２においてフィレット１６として設けられることが好ましい。
フィレット１６は、波長変換部材１０Ａの下面５Ａと発光素子３０の側面との双方に接し、被覆部材２０Ａ側に凹の曲面であることが好ましい。このような形状によって、発光素子３０から出射される光は接着材１５のフィレット面により反射され、波長変換部材１０Ａへと導光されやすくなる。
接着材１５は、発光素子３０からの出射光を波長変換部材１０Ａに導光することができる透光性材料を用いることが好ましい。接着材１５は、エポキシ樹脂又はシリコーン樹脂のような周知の接着材、高屈折率の有機接着材、無機系接着材、低融点ガラスによる接着材などを用いることができる。
なお、波長変換部材１０Ａと発光素子３０とは、接着材１５を用いずに、圧着等により接合されてもよい。
また、波長変換部材１０Ａと発光素子３０とを、接着材を使用しないで、接合する場合、例えば、表面活性化接合型の常温接合、原子拡散接合型の常温接合等の接合方法が挙げられる。このような常温接合を行う場合には、接着剤、熱などを加えずに接合することができるため、接合する２つの部材の間の熱膨張率の差を考慮する必要がなく、強固に接合することができる。また、原子レベルでの接合であるため、接着剤等による接着に比較して強度が高く、耐久性に優れた接合を行うことができる。さらに、加熱を行わないために、昇温及び降温を必要とせず、短時間で接合することが可能となる。
(遮光膜)
遮光膜４０Ａは、波長変換部材１０Ａの第２上面３Ａ及び第２側面４Ａに設けられ、第２上面３Ａ及び第２側面４Ａから外部に向かう光を遮光あるは反射するものである。遮光膜４０Ａは、第２上面３Ａ及び第２側面４Ａから透過する光を８０％以上遮光あるいは反射する材料によって形成することが好ましい。遮光膜４０Ａとしては、金属からなる単層、金属からなる多層膜、又は２種以上の誘電体を複数積層させた誘電体からなる多層膜（誘電体多層膜）を用いることができる。誘電体多層膜としては、例えば、ＤＢＲ（distributed Bragg reflector：分布ブラッグ反射）膜を用いることができる。遮光膜４０Ａとしては、なかでも、誘電体多層膜を含む膜を用いるのが好ましい。誘電体多層膜であれば金属等に比較して透光片からの光の吸収も少なく、効率的に光を反射することができる。遮光膜４０Ａとして金属膜と誘電体多層膜との両者を用いる場合は、第２上面３Ａ及び第２側面４Ａから順に、誘電体多層膜と金属膜とを配置するのがよい。
遮光膜４０Ａとして使用される金属としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、チタン、タンタル、タングステン、コバルト、ルテニウム、錫、亜鉛、鉛等の金属又はこれらの合金（例えば、Ａｌ合金としては、Ａｌと、Ｃｕ、Ａｇ、Ｐｔ等の白金族系の金属との合金）が挙げられる。
また、遮光膜４０Ａとして使用される誘電体としては、例えば、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｌからなる群より選択された少なくとも一種の元素を含む酸化物又は窒化物が挙げられる。ＤＢＲ膜を構成する誘電体多層膜では、通常、一方の誘電体の屈折率ｎ１、他方の誘電体の屈折率ｎ２、発光層から発光される光の波長をλとすると、一方の誘電体の厚みｄ１及び他方の誘電体の厚みｄ２は、ｄ１＝λ／（４×ｎ１）、ｄ２＝λ／（４×ｎ２）とすることが好ましい。
遮光膜４０Ａの厚みは、例えば、０．数μｍ〜数十μｍ程度が挙げられ、０．１μｍ〜１０μｍ程度が好ましく、０．３μｍ〜７μｍ程度がより好ましい。前記した下限値以上の膜厚とすることで遮光膜４０Ａを面内均一に成膜しやすく、遮光膜４０Ａにおいて光を確実に反射させることができる。また、前記した上限値以下の膜厚とすることで遮光膜４０Ａによる発光むらを抑制することができる。
（被覆部材）
被覆部材２０Ａは、波長変換部材１０Ａの第１上面１Ａ及び第１側面２Ａ以外に向かう光を、第１上面１Ａ及び第１側面２Ａから放出するように反射させると共に、発光素子３０の側面を被覆して、発光素子３０を外力、埃、ガスなどから保護するものである。この被覆部材２０Ａは、波長変換部材１０Ａの第１上面１Ａ及び第１側面２Ａを発光装置１００Ａの発光面として露出させて、波長変換部材１０Ａ及び発光素子３０並びに基板５０の上面の一部を覆うように設けられている。被覆部材２０Ａは、具体的には、遮光膜４０Ａを介して波長変換部材１０Ａの第２上面３Ａ及び第２側面４Ａに対向する位置を覆うように形成されている。さらに、遮光膜４０Ａは、発光素子３０の側面３２を接着材１５を介して覆うと共に、発光素子３０の下面３３と、基板５０の一部上面を覆っている。
発光素子３０の光取出面３１は、波長変換部材１０Ａの下面５Ａと接合されていることにより、被覆部材２０Ａにより被覆されることなく、波長変換部材１０Ａに光を入射させることができる状態となっている。被覆部材２０Ａは、発光素子３０からの光を反射可能な部材からなり、遮光膜４０Ａと被覆部材２０Ａとの界面で、発光素子３０から遮光膜４０Ａを透過した光がある場合は反射させて、波長変換部材１０Ａ内へと入射させる。あるいは、発光素子３０の側面３２でフィレット１６を透過した光を反射させて波長変換部材１０Ａに入射させる。このように、発光素子３０から出射された光は、遮光膜４０Ａあるいは被覆部材２０Ａにより反射されて波長変換部材１０Ａ内を通過し、発光装置１００Ａの発光面である第１上面１Ａ及び第１側面２Ａから、外部へと出射される。なお、被覆部材２０Ａは、遮光膜４０Ａを透過する光を発光装置１００Ａの発光面側に反射して送ることができる。
さらに、被覆部材２０Ａは、発光素子３０と基板５０との間に配置される場合は、低線膨張の材料を用いることが好ましい。これにより、発光素子３０と基板５０との接合部における熱応力の緩和が可能となる 。
被覆部材２０Ａは、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、アクリル樹脂、また、これらの樹脂を少なくとも一種以上含むハイブリッド樹脂からなる母材に光反射性物質を含有させることで形成することができる。光反射性物質としては、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、イットリア安定化ジルコニア、チタン酸カリウム、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ムライトなどを用いることができる。被覆部材２０Ａは、光反射性物質の含有濃度、密度により光の反射量、透過量が異なるため、発光装置１００Ａの形状、大きさに応じて、適宜濃度、密度を調整するとよい。また、被覆部材２０Ａは、光反射性に加え、放熱性を併せ持つ材料とすると、光反射性を持たせつつ放熱性を向上させることができる。このような材料として、熱伝導率の高い窒化アルミニウムや窒化ホウ素が挙げられる。
なお、図３及び図４において図示する便宜上、被覆部材２０Ａの角をたてて表しているが角を丸くしてもよい。
（基板）
基板５０は、少なくとも１つ以上の発光素子３０を実装し、発光装置１００Ａを電気的に外部と接続する。基板５０は、平板状の支持部材及び支持部材の表面及び／又は内部に配置された導体配線５１を備えて構成されている。なお、基板５０は、発光素子３０の数、素子電極の構成、大きさに応じて電極の形状、大きさ等の構造が設定される。また、基板５０は、下面に、発光素子３０とは電気的に独立する放熱用端子を備える構成としてもよい。放熱用端子は、発光装置１００Ａが備える全ての発光素子３０の上面面積の和よりも大きい面積になるように形成され、発光素子３０の直下の領域とオーバーラップするように配置されることが好ましい。このような放熱用端子の構成により、より放熱性に優れた発光装置１００Ａとすることができる。
基板５０の支持部材は、絶縁性材料を用いることが好ましく、かつ、発光素子３０から出射される光や外光などを透過しにくい材料を用いることが好ましい。基板５０は、ある程度の強度を有する材料であることや、フレキシブル基板として用いられる材料であってもよい。具体的には、アルミナ、窒化アルミニウム、ムライトなどのセラミックス、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ＢＴレジン（bismaleimide triazine resin）、ポリフタルアミド（ＰＰＡ）などの樹脂が挙げられる。なお、支持部材は、キャビティを有する構造としてもよい。これにより、前記した被覆部材２０Ａを滴下して硬化するなどして、容易に形成することができる。
導体配線及び放熱用端子は、例えば、Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ａｌ，Ｐｔ，Ｔｉ，Ｗ，Ｐｄ，Ｆｅ，Ｎｉなどの金属又はこれらを含む合金などを用いて形成することができる。このような導体配線５１は、電解めっき、無電解めっき、蒸着、スパッタ等によって形成することができる。
発光装置１００Ａは、以上説明した構成を備えているので、一例として、自動二輪車、自動車等のヘッドライト、あるいは船舶、航空機等の照明として使用される場合に、発光素子３０から出射される光をより遠くへ照射することができる。すなわち、発光装置１００Ａでは、１つ以上の発光素子３０から光が出射されると、被覆部材２０Ａに反射されずに、波長変換部材１０Ａ中を伝搬して第１上面１Ａ及び第１側面２Ａに直接向かう光と、遮光膜４０Ａあるいは被覆部材２０Ａに反射して第１上面１Ａ及び第１側面２Ａから出る光とがある。そして、発光装置１００Ａでは、波長変換部材１０Ａの第１上面１Ａ及び第１側面２Ａを、第２上面３Ａよりも内側に形成しているので、見切性のよい状態で光を外部に取出すことができる。これにより、例えば、ヘッドライトのハイビーム用途等に適した、高輝度で、より遠方に光の見切り性に優れた発光装置１００Ａとすることができる。
［波長変換部材及び発光装置の製造方法］
次に図５のフローチャートに示す発光装置１００Ａに用いる波長変換部材の製造方法について、図５Ａ−１、図５Ａ−２〜図５Ｅ−１、図５Ｅ-２を中心に参照しながら説明する。
波長変換部材の製造方法は、波長変換基板の上面に複数の矩形のマスクを形成するマスク形成工程Ｓ１１と、波長変換基板の上面にマスクを形成した状態で平面視が矩形であり、波長変換基板の一部が露出するように所定の大きさに個片化する個片化工程Ｓ１２と、個片化した波長変換部材を整列させて波長変換部材の側面、上面及びマスク上に遮光膜を形成する遮光膜形成工程Ｓ１３と、マスクの外周となる波長変換部材の上面に形成した遮光膜を保持した状態で、マスク及びマスクを覆う遮光膜を除去するマスク除去工程Ｓ１４と、マスクを除去した箇所の波長変換部材の厚みを薄くする加工工程Ｓ１５と、を含むこととする。
（マスク形成工程）
始めに、図５、図５Ａ−１、図５Ａ−２に示すように、マスク形成工程Ｓ１１を行う。マスク形成工程Ｓ１１は、波長変換基板１０Ａａの上面に複数の矩形のマスクＭＫを形成する。波長変換基板１０Ａａは、一例として円盤状に形成されており、分割することで波長変換部材１０Ａとなるように形成されている。波長変換基板１０Ａａは、蛍光体を含有する樹脂材料から形成されている。なお、マスクＭＫは、例えば、波長変換基板１０Ａａの上面全面にマスクとなるシートが設けられ、露光作業及びエッチング作業により、予め設定された矩形の大きさで一定の間隔で縦横に整列されるように、波長変換基板１０Ａａの上面に複数のマスクＭＫが形成される。なお、マスク形成工程Ｓ１１は、省略することとしてもよい。つまり、マスク形成工程Ｓ１１に変えて、波長変換基板１０Ａａを個片化して、全面にレジスト膜を形成した後に、狙いの位置を加工することとする。このような手順であれば、マスク形成工程Ｓ１１を省略してもよい。
（個片化工程）
つぎに、図５、図５Ｂ−１、図５Ｂ−２に示すように、個片化工程Ｓ１２を行う。個片化工程Ｓ１２は、波長変換基板１０Ａａの上面にマスクＭＫを形成した領域よりも大きな範囲となるように、予め設定した所定間隔で切断して波長変換部材１０Ａの大きさに個片化する。なお、個片化工程Ｓ１２では、波長変換基板１０Ａａの裏面に粘着シートを貼り付けた状態で切断する作業を行うことが好ましい。個片化されて波長変換部材１０Ａの大きさとなった個片部材は、粘着シートから剥がされて、新たに設定された間隔で整列させられ再度、粘着シートに貼り付けられる。なお、個片化工程Ｓ１２では、切断する作業は、例えば、所定幅のブレードを用いて行うことができる。また、切断する作業は、ブレードを用いる代わりに、レーザ光等を用いてもよい。
（遮光膜形成工程）
続けて、図５、図５Ｃ−１、図５Ｃ−２に示すように、遮光膜形成工程Ｓ１３を行う。なお、ここでは、マスクＭＫ上に膜を設けて全体を覆う状態では遮光膜４０として示す。遮光膜形成工程Ｓ１３は、波長変換基板１０Ａａから個片化して所定間隔で整列する各個片部材１０Ａｂの上面及び側面と、各個片部材１０Ａｂに形成したマスクＭＫの上面に遮光膜４０を形成する。遮光膜４０は、一例として、スパッタリング法により形成することができる。
遮光膜４０Ａは、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオン・ベーパー・デポジション（ＩＶＤ）法、スパッタリング法、ＥＣＲスパッタリング法、プラズマ蒸着法、化学的気相成長（ＣＶＤ）法、ＥＣＲ−ＣＶＤ法、ＥＣＲ−プラズマＣＶＤ法、電子ビーム蒸着（ＥＢ）法、原子層堆積（ＡＬＤ）法等の公知の方法によって形成することができる。なかでも、比較的短い時間で形成可能なスパッタリング法によって遮光膜４０Ａを形成するのが好ましい。
また、遮光膜４０Ａは、常温接合として、表面活性化接合型、原子拡散接合型等の公知の方法を用いることができる。さらに、遮光膜４０Ａは、接着剤を介して遮光膜を波長変換部材に接着する場合、例えば、アクリル系、ウレタン系、スチレン系、エポキシ系、ポリイミド系、シリコーン系、ＢＴレジン系、エステル系、エーテル系、ユリア系、ポリアミド系、フェノール系、セルロース誘導体による接着剤を用いることができる。これらの接着剤は必要に応じて、二種類以上を組み合わせて使用することもできる。
遮光膜４０Ａは、予め設定された厚みとなるように形成される。遮光膜４０Ａは、個片部材１０Ａｂが所定の間隔を開けて整列しているので、個片部材１０Ａｂの上面は勿論のこと側面にも連続して形成されることになる。また、個片部材１０Ａｂの上面では、矩形のマスクＭＫの周囲となる四角環状に遮光膜４０Ａが形成される状態になっている。遮光膜形成工程Ｓ１３では、接着シートに個片部材１０Ａｂが整列して接着した状態で作業が行われる。
（マスク除去工程）
さらに、図５、図５Ｄ−１、図５Ｄ−２に示すように、マスク除去工程Ｓ１４を行う。マスク除去工程Ｓ１４では、個片部材１０Ａｂの上面に形成されたマスクＭＫを、マスクＭＫの上に設けられた遮光膜４０と併せて除去する。マスク除去工程Ｓ１４は、例えば、リフトオフ処理或いはレーザリフトオフ処理によりマスクＭＫがマスクＭＫの上の遮光膜４０と共に除去される。マスク除去工程Ｓ１４でマスクＭＫが除去された個片部材１０Ａｂの上面は、マスクＭＫが形成されていた領域が遮光膜４０Ａから露出した状態となり、その周りに四角環状に遮光膜４０Ａが形成されている状態となる。また、個片部材１０Ａｂは、全ての側面４Ａに遮光膜４０Ａが形成される。マスク除去工程Ｓ１４では、接着シートに個片部材１０Ａｂが整列して接着した状態で作業が行われる。
（加工工程）
次に、図５、図５Ｅ−１、図５Ｅ−２に示すように、加工工程Ｓ１５を行う。加工工程Ｓ１５は、ここでは、個片部材１０Ａｂの上面で四角環状に形成されている遮光膜４０Ａの内側の厚みを薄くするように加工する。加工工程Ｓ１５では、遮光膜４０Ａが形成されている部分の個片部材１０Ａｂの厚みよりも、遮光膜４０Ａが形成されていない部分の個片部材１０Ａｂの厚みが薄くなるように加工される。一例として、加工工程Ｓ１５では、レーザエッチングにより加工を行う。なお、レーザエッチングでは、時間、パワー、回数、波長等を調整することで、凹部分となる形状や深さを自在に形成することができる。ダイシング加工や研磨加工、研削加工を用いて凹部分を加工することもできる。加工工程Ｓ１５では、接着シートに個片部材１０Ａｂが整列して接着した状態で加工作業が行われる。加工工程Ｓ１５により加工されたものが、第１上面１Ａ、第１側面２Ａ、第２上面３Ａ、第２側面４Ａ、下面５Ａを有し、第２上面３Ａ及び第２側面４Ａに遮光膜４０Ａが形成された波長変換部材１０Ａとなる。
（発光装置の製造方法）
以上説明したように、マスク形成工程Ｓ１１〜加工工程Ｓ１５を行うことで、第１上面１Ａ、第１側面２Ａと、遮光膜４０Ａを形成した第２上面３Ａ及び第２側面４Ａと、第１上面１Ａと平行な下面５Ａを備えた波長変換部材１０Ａを準備することとなる。ここでは、マスク形成工程Ｓ１１〜加工工程Ｓ１５が、図６に示す、発光装置の製造方法における準備工程Ｓ２１となる。発光装置の製造方法では、準備工程Ｓ２１と、接着工程Ｓ２２と、素子実装工程と、被覆部材形成工程Ｓ２３と、がその順で行われる。
（接着工程）
続いて、図６及び図６Ａで示すように、接着工程Ｓ２２を行う。接着工程Ｓ２２は、波長変換部材１０Ａの下面５Ａと発光素子３０の光取出面３１とを対面させ、発光素子３０に波長変換部材１０Ａを配置する。接着工程Ｓ２２は、ここでは、接着材１５を介して発光素子３０の光取出面３１と波長変換部材１０Ａの下面５Ａとを接続している。接着材１５による接合は、まず発光素子３０の光取出面３１に接着材１５を滴下し、接着材１５上に波長変換部材１０Ａを配置する。滴下された接着材１５は、波長変換部材１０Ａにより押圧され、発光素子３０の側面まで濡れ広がり、波長変換部材１０Ａの下面と発光素子３０の側面との間にフィレット１６を形成するように設けられる。滴下する接着材１５の量及び粘度は、発光素子３０の側面にフィレット１６が設けられ、かつ接着材１５が基板５０まで濡れ広がらない程度に適宜調整される。また、接着工程Ｓ２２は、接着シートに発光素子３０を接着した状態、或いは、予め基板５０に発光素子３０を実装した後に波長変換部材１０Ａを接着材１５を介して接続してもよい。
（素子実装工程）
次に、図６Ｂに示すように、波長変換部材１０Ａを接続した発光素子３０を、基板５０の導体配線５１に実装する素子実装工程を行う。基板５０に発光素子３０を実装する場合には、基板５０の導体配線上にバンプ等の接合部材を介して実装される。
なお、基板５０に実装される発光素子３０の数は、使用目的等により異なり、例えば、チップサイズパッケージ（ＣＳＰ）として用いる場合には、１つの発光素子が基板５０に使用される。さらに、発光素子３０の数は、複数（図面では４つ）を基板５０に実装して用いることで、例えば、発光モジュールとして乗り物のヘッドライトに使用されることが適している。
（被覆部材形成工程）
続いて、図６及び図６Ｃに示すように、被覆部材形成工程Ｓ２３を行う。被覆部材形成工程Ｓ２３は、発光素子３０と波長変換部材１０Ａと基板５０とを覆う被覆部材２０Ａが設けられる。被覆部材形成工程Ｓ２３では、発光素子３０と基板５０との間及び発光素子３０と側面の接着材１５を覆う高さまで、被覆部材２０Ａが供給される。さらに、波長変換部材１０Ａの第２側面４Ａ及び第２上面３Ａを覆う被覆部材２０Ａを供給する。ここでは、１回の供給で被覆部材２０Ａを形成することもできる。被覆部材２０Ａは、波長変換部材１０Ａの第２側面４Ａと、波長変換部材の第２上面３Ａとを、遮光膜４０Ａを介して被覆する。この際、第２上面３Ａから第１側面２Ａ及び第１上面１Ａ側に被覆部材２０Ａが流れ込まないで被覆部材２０Ａから露出するように、被覆部材２０Ａの粘度や供給スピードを調整することが好ましい。なお、図面では、被覆部材２０Ａの角が立っているが、角が丸くなるように形成することも可能である。
なお、被覆部材２０Ａを供給する場合は、波長変換部材１０Ａから離間した基板５０上面にノズル等を介して滴下することが好ましい。また、被覆部材２０Ａは、２種類の部材を使用し、先に供給した被覆部材２０Ａが後に供給される被覆部材２０Ａの粘度より低い部材を用いることとしてもよい。被覆部材２０Ａは、例えば、シリコーン樹脂に酸化チタンが含有されている樹脂をここでは使用している。
なお、被覆部材２０Ａを形成する場合には、型枠を用いて形成することや、あるいは、金型を用いて形成することとしてもよい。この場合は、被覆部材２０Ａの角が立っている状態とすることができる。また、被覆部材２０Ａを形成する場合には、ポッティングや吐出、滴下、噴霧などの供給方法を用いて形成することとしてもよい。この場合は、被覆部材２０Ａの角が丸くなるように形成することができる。
被覆部材２０Ａを形成することで、図１に示す発光装置１００Ａを製造することができる。
（第１実施形態の変形例）
つぎに、第１実施形態に係る発光装置で用いられる波長変換部材と、被覆部材と、発光装置等の変形例について、図７Ａ〜図９Ｄを参照して説明する。
変形例１として次のような構成としてもよい。すなわち、第１実施形態の波長変換部材１０Ａでは、凹部には、何も形成されていないのに対し、変形例１では、凹部に透明な反射防止膜を設けている点で異なる。それ以外の点については、第１実施形態とほぼ同じ構成である。
つまり、図７Ａで示すように、波長変換部材１０Ａは、第１上面１Ａ及び／又は第１側面２Ａの表面に二酸化ケイ素、又は、フッ化マグネシウムなど真空蒸着させて透明な反射防止膜であるＡＲコート（anti-reflective coating）１１Ａ１を形成することとしてもよい。波長変換部材１０ＡがＡＲコート１１Ａ１を備えることで、光の取出し効率を向上させることができる。なお、ＡＲコート１１Ａ１の膜厚は可視光線の波長の１／４であることが好ましい。そして、ＡＲコート１１Ａ１は、波長変換部材１０Ａよりも屈折率が近く、低いものが好ましい。
変形例２として次のような構成としてもよい。すなわち、第１実施形態の波長変換部材１０Ａの第１上面１Ａでは、平坦であるのに対し、変形例２では、第１上面１Ａを粗面化している点で異なる。それ以外の点については、第１実施形態とほぼ同じ構成である。
つまり、図７Ｂに示すように、波長変換部材１０Ａは、第１上面１Ａの表面を器具やレーザを介して粗面化した粗面１１Ａ２を形成するようにしてもよい。粗面化した表面の粗さは、例えば、０．５〜５μｍである。波長変換部材１０Ａの第１上面１Ａは、粗面１１Ａ２を形成することで、発光素子３０から送られてきた光を放出する面積が増え輝度を向上させることができる。
変形例３として次のような構成としてもよい。すなわち、第１実施形態の波長変換部材１０Ａの第２上面３Ａ及び第２側面４Ａには、遮光膜４０Ａを介して被覆部材２０Ａが形成されており、第２上面３Ａに設けられた遮光膜４０Ａは被覆部材２０Ａに覆われているのに対し、変形例３では、第２上面３Ａに設けられた遮光膜４０Ａに被覆部材２０Ａが形成されておらず、第２上面３Ａに設けられた遮光膜４０Ａが露出している点で異なる。それ以外の点については、第１実施形態とほぼ同じ構成である。
つまり、図７Ｃに示すように、波長変換部材１０Ａに被覆する被覆部材２０Ａａは、波長変換部材１０Ａの第２上面３Ａに形成した遮光膜４０Ａと同一平面となるように形成してもよい。波長変換部材１０Ａは、第２上面３Ａの上に被覆部材２０Ａａが覆わないようにしている。波長変換部材１０Ａは、第２上面３Ａの上に遮光膜４０Ａが形成されている。
変形例４として次のような構成としてもよい。すわなち、変形例３の波長変換部材１０Ａの第１上面１Ａには、何も形成されていないのに対し、変形例４では、凹部に透明な反射防止膜を設けている点で異なる。それ以外の点については、変形例３とほぼ同じ構成である。また、変形例５として次のような構成としてもよい。すわなち、変形例３の波長変換部材１０Ａの第１上面１Ａには、平坦であるのに対し、変形例５では、第１上面１Ａを粗面化している点で異なる。それ以外の点については、変形例３とほぼ同じ構成である。
つまり、図７Ｄ及び図７Ｅに示すように、被覆部材２０Ａａが波長変換部材１０Ａの第２上面３Ａを覆わない構成において、変形例４として、第１上面１ＡにＡＲコート１１Ａ１を設けることや、また、変形例５として、第１上面１Ａに粗面１１Ａ２を形成することとしてもよい。
変形例６として次のような構成としてもよい。すわなち、第１実施形態の発光装置１００Ａは、複数の発光素子が配置されているのに対し、変形例６では、発光素子が１つである点で異なる。それ以外の点については、第１実施形態とほぼ同じ構成である。
つまり、図８Ａに示すように、発光装置１００Ａ１は、発光素子３０を一つに対して波長変換部材１０Ａを一つである構成とし、一つの波長変換部材１０Ａ及び一つの発光素子３０に対するように被覆部材２０ａを形成してもよい。
変形例７として次のような構成としてもよい。すわなち、変形例６の波長変換部材１０Ａの第２上面３Ａ及びその外周部となる第２側面４Ａには、遮光膜４０Ａを介して被覆部材２０Ａが形成されており、第２上面３Ａに設けられた遮光膜４０Ａが被覆部材２０Ａに覆われているのに対し、変形例７では、第２上面３Ａに設けられた遮光膜４０Ａに被覆部材が形成されておらず、第２上面３Ａに設けられた遮光膜４０Ａが露出している点で異なる。それ以外の点については、変形例６とほぼ同じ構成である。
つまり、図８Ｂに示すように、発光装置１００Ａ２では、被覆部材２０ａ１を第２上面３Ａに形成した遮光膜４０Ａと同じ高さまで形成し、第２上面３Ａを覆わないようにする構成としてもよい。
変形例６及び変形例７の構成により、発光素子３０の大きさに近い大きさで、発光装置１００Ａ１、１００Ａ２を形成できると共に、見切り性のよい状態で光を取り出すことができる。
変形例８として次のような構成としてもよい。すわなち、第１実施形態の発光装置１００Ａは、波長変換部材１０Ａの第２上面３Ａ及びその外周部である第２側面４Ａには、遮光膜４０Ａを介して被覆部材２０Ａが形成されており、第２上面３Ａに設けられた遮光膜４０Ａは被覆部材２０Ａに覆われているのに対し、変形例８では、第２上面３Ａに設けられた遮光膜４０Ａに被覆部材２０Ａが形成されておらず、第２上面３Ａに設けられた遮光膜４０Ａが露出している点で異なる。それ以外の点については、第１実施形態とほぼ同じ構成である。
つまり、図８Ｃに示すように、波長変換部材１０Ａを被覆する被覆部材２０Ａａは、波長変換部材１０Ａの第２上面３Ａに形成した遮光膜４０Ａと同一平面となるように形成してもよい。波長変換部材１０Ａは、第２上面３Ａの上に被覆部材２０Ａａが覆わないように、第２上面３Ａの上に遮光膜４０Ａが形成されている。
変形例９として次のような構成としてもよい。すわなち、第１実施形態の発光装置１００Ａでは、波長変換部材１０Ａが発光素子３０ごとに形成されていたのに対し、変形例９では、複数の発光素子３０に一つの波長変換部材１０Ａ１を適用する点で異なる。それ以外の点については、第１実施形態とほぼ同じ構成である。
すなわち、図９Ａは、変形例９の波長変換部材１０Ａのみを立体的に斜視図として表示している。また、図９Ｂに示すように、複数の発光素子（発光素子群）３０に対して一つの波長変換部材１０Ａ１の構成で対応できる大きさに波長変換部材１０Ａ１を形成した発光装置１００Ａ４としてもよい。
変形例１０として次のような構成としてもよい。すわなち、変形例９では、波長変換部材１０Ａ１の第２上面３Ａ１には、遮光膜４０Ａ１を介して被覆部材２０Ａ１が形成されており、第２上面３Ａ１に設けられた遮光膜４０Ａ１は被覆部材２０Ａ１に覆われているのに対し、変形例１０では、第２上面３Ａ１に設けられた遮光膜４０Ａ１に被覆部材２０Ａ１が形成されておらず、第２上面３Ａ１に設けられた遮光膜４０Ａ１が露出している点で異なる。それ以外の点については、変形例９とほぼ同じ構成である。
つまり、図９Ｃに示すように、発光装置１００Ａ５の被覆部材２０Ａ１ａは、波長変換部材１０Ａ１の第２上面３Ａ１に形成されている遮光膜４０Ａ１を被覆しないように設けられている。そして、波長変換部材１０Ａ１の下面５Ａ１の大きさは、設置されている複数の発光素子３０の全ての光取出面３１の合計した面積よりも広い面積となるように形成されている。
変形例１１として次のような構成としてもよい。すわなち、変形例１０では、波長変換部材１０の下面５Ａ１が発光素子３０の光取出面３１の合計よりも面積が大きくなっているのに対し、変形例１１では、波長変換部材１０の下面５Ａ１が発光素子３０の光取出面３１の合計よりも面積が大きく、かつ、波長変換部材１０Ａ１１の第１上面１Ａ１の面積が、発光素子３０の光取出面３１の合計面積よりも小さな面積に形成されている点で異なる。それ以外の点については、変形例９とほぼ同じ構成である。
すなわち、図９Ｄに示すように、波長変換部材１０Ａ１１の第１上面１Ａ１は、前記した下面５Ａ１の大きさで、設置されている複数の発光素子３０の全ての光取出面３１の合計した面積よりも小さい面積となるように形成してもよい。
波長変換部材１０Ａ１、１０Ａ１１は、一つで複数の発光素子３０からの光を受け取り、第２上面３Ａ１及び第２側面４Ａ１に遮光膜４０Ａ１を形成した状態で、第１上面１Ａ１及び第１側面２Ａ１から光を取り出すことができる。そのため、発光装置１００Ａ４、１００Ａ５では、見切りが良く、光照射範囲を広くすることができる。
[第２実施形態の発光装置及び波長変換部材]
つぎに、遮光膜４０Ａを変形した構成である第２実施形態について変形例１２として、図１０乃至図１２を参照して説明する。
既に説明した発光装置１００Ａ，１００Ａ１〜１００Ａ５では、第２上面３Ａ，３Ａ１及び第２側面４Ａ，４Ａ１に遮光膜４０Ａ、４０Ａ１を形成したのに対し、図１０及び図１２に示すように、変形例１２では、遮光膜４０Ａは、波長変換部材１０Ａの第２上面３Ａの位置を覆い、第２側面４Ａには形成されない点で異なる。それ以外の点については、すでに説明した発光装置１００Ａ，１００Ａ１〜１００Ａ５とほぼ同じ構成である。なお、遮光膜４０Ａを波長変換部材１０Ａの第２上面３Ａに形成されることで、第１上面１Ａ及び第１側面２Ａから見切り性がよく光を照射することができる。
続いて、遮光膜４０Ａを波長変換部材１０Ａの第２側面４Ａに設けることなく、第２上面３Ａの上に設ける波長変換部材の製造方法について説明する。
図１１に示すように、マスク形成工程Ｓ１１と、遮光膜形成工程Ｓ１３と、個片化工程Ｓ１２と、マスク除去工程Ｓ１４と、加工工程Ｓ１５をこの順で行う。
各工程Ｓ１１〜Ｓ１５は、既に説明したように行う。そして、遮光膜形成工程Ｓ１３を個片化工程Ｓ１２よりも先に行うことで、波長変換部材１０Ａの第２側面４Ａには、遮光膜４０Ａを設けることなく、第２上面３Ａに遮光膜４０Ａを形成することができる。
このようにして、波長変換部材１０Ａの第２側面４Ａに遮光膜４０Ａを形成することなく、第２上面３Ａに遮光膜４０Ａを形成した波長変換部材１０Ａは、既に説明したものと同様に、図１２に示すような基本構成と併せて、図１２Ａ乃至図１２Ｆに示すような変形例として使用することができる。
（第２実施形態の変形例）
遮光膜４０Ａ、４０Ａ１は、第２上面３Ａ、３Ａ１に形成され、第２側面４Ａ、４Ａ１に形成されていない状態の発光装置１００Ａ１〜１００Ａ５において、以下のような構成であってもよい。なお、図１２Ａ乃至図１２Ｅでは、接着材１５及び基板５０を省略した状態で示している。また、既に説明した同じ構成には同じ符号を付して説明を省略する。
つまり、図１２Ａに示すように、変形例１３として、波長変換部材１０Ａの第１上面１ＡにＡＲコート１１Ａ１を設けてもよい。さらに、図１２Ｂに示すように、変形例１４として、波長変換部材１０Ａの第１上面１Ａに粗面１１Ａ２を形成してもよい。また、図１２Ｃに示すように、変形例１５として、被覆部材２０Ａａは、第２上面３Ａの遮光膜４０Ａを露出する高さに形成することとしてもよい。さらに、図１２Ｄに示すように、変形例１６として、被覆部材２０Ａａは、第２上面３Ａの遮光膜４０Ａを露出する高さに形成し、かつ、波長変換部材１０Ａの第１上面１ＡにＡＲコート１１Ａ１を設けてもよい。また、図１２Ｅに示すように、変形例１７として、被覆部材２０Ａａは、第２上面３Ａの遮光膜４０Ａを露出する高さに形成し、かつ、波長変換部材１０Ａの第１上面１Ａに粗面１１Ａ２を形成してもよい。
[第３実施形態の発光装置及び波長変換部材]
つぎに、図１３Ａ、図１３Ｃ、図１４Ａを参照して第３実施形態に係る発光装置である、変形例１８を用いて説明する。なお、図１４Ａでは、基板５０、接着材１５を省略した状態の断面として説明する。また、同じ部材の構成は同じ符号を付して適宜説明を省略する。
発光装置１００Ｂは、発光素子３０と、波長変換部材１０Ｂと、被覆部材２０Ｂと、遮光膜４０Ｂとを備えている。そして、発光装置１００Ｂでは、波長変換部材１０Ｂの構成が、前記したものとは異なっている。それ以外の点については、すでに説明した発光装置１００Ａ、１００Ａ１〜１００Ａ５とほぼ同じ構成である。
第３実施形態の波長変換部材１０Ｂは、第２上面３Ｂが、第１上面１Ｂの矩形の一辺にのみ形成され、残りの他の辺に第２上面が形成されていない点で第１実施形態や第２実施形態の波長変換部材１０Ａと異なっている。
つまり、波長変換部材１０Ｂは、中央の矩形に形成された第１上面１Ｂの１辺のみに垂直に連続する第１側面２Ｂを備え、第１上面１Ｂの他の３辺に、第１側面及び第２上面が形成されていない。波長変換部材１０Ｂの他の３辺では、第１上面１Ｂから下面５Ｂに直交して連続する３つの側面４Ｂａ、４Ｂａ、４Ｂｂが形成されている。側面４Ｂａ，４Ｂａは、第１側面２Ｂに隣り合う位置に互いに対向して形成されている。側面４Ｂａ，４Ｂａの下端は、下面５Ｂに連続するように形成されている。また、側面４Ｂｂは、第１側面２Ｂに対向する位置に形成され、下端が下面５Ｂに直交して下面５Ｂに連続するように形成されている。
この波長変換部材１０Ｂは、一方の垂直断面形状がＬ字形状に形成され、直交する他方の垂直断面形状が第１上面１Ｂ及び下面５Ｂの間との厚みとなる長方形に形成される。なお、波長変換部材１０Ｂの下面５Ｂは、発光素子３０の光取出面３１の面積よりも広くなるように形成されている。
また、図１３Ａ及び図１４Ａに示すように、変形例１８において、被覆部材２０Ｂは、第１上面１Ｂと同等の高さに形成され、かつ、第１側面２Ｂと同じ垂直面に形成され、さらに、第２上面３Ｂを、遮光膜４０Ｂを介して覆うように形成されている。
発光装置１００Ｂは、第２上面３Ｂの遮光膜４０Ｂを介して被覆部材２０Ｂにより覆い、第１側面２Ｂと第１上面１Ｂを被覆部材２０Ｂから露出させるように形成している。発光装置１００Ｂでは、発光素子３０の光取出面３１からの光を、波長変換部材１０Ｂの下面５Ｂで受け取り、第１上面１Ｂ及び第１側面２Ｂから外部に取出している。そのため、発光装置１００Ｂでは、第１側面２Ｂが位置する辺に対応する照射領域の一側となる光の強度を強めることができる。
なお、第３実施形態に係る発光装置１００Ｂ、１００Ｂ１及び波長変換部材１０Ｂは、第１実施形態で説明した波長変換部材１０Ａの製造工程において、加工工程Ｓ１５で加工する部分が異なるのみで他の工程について同じ工程で製造することができる。
つまり、波長変換部材１０Ｂは、その製造方法として、図５Ａ−１乃至図５Ｄ−２までは同じ製造工程を行う。そして、図５Ｅ−１及び図５Ｅ−２で示す加工工程において、四角環状に形成されている遮光膜４０Ｂの３辺を削除するようにして、残りの１辺にのみ第２上面３Ｂが形成されるように加工することで製造することができる。また、図１１で示すように、手順が一部入れ替わっても同様に製造することができる。
同様に、発光装置１００Ｂにおいても、既に説明した製造方法により製造することができる。
（第３実施形態の変形例）
第３実施形態に係る発光装置の各構成について、変形例１９〜変形例３０として、図１３Ｂ、図１３Ｄ、図１４Ｂ〜図１５Ｄを参照して順次、説明する。なお、図１４Ｂ乃至図１６Ｄでは、基板５０、接着材１５を省略した状態の断面として説明する。また、既に説明した構成は同じ符号を付して適宜説明を省略する。
変形例１９は、図１３Ｂ及び図１４Ｂに示すように、被覆部材２０Ｂａを波長変換部材１０Ｂの第２上面３Ｂに形成した遮光膜４０Ｂの高さと同等にするように形成している点で、変形例１８と異なっている。それ以外の点については、第３実施形態とほぼ同じ構成である。
さらに、変形例１８や変形例１９では、発光素子３０の一つに波長変換部材１０Ｂの一つを対応するように形成したが、図１３Ｄに示すように、変形例２０として、複数（図では一例として４つ）の発光素子３０に一つの波長変換部材１０Ｂ１を対応させる構成としてもよい。そして、波長変換部材１０Ｂ１を使用する場合、被覆部材２０Ｂの構成あるいは被覆部材２０Ｂａの構成のいずれであっても構わない。つまり、図１４Ａ〜図１６Ｄの全ての構成において、波長変換部材１０Ｂが波長変換部材１０Ｂ１であってもよく、それ以外の点については、第３実施形態とほぼ同じ構成である。
また、波長変換部材１０Ｂ、１０Ｂ１では、図１４Ｃ及び図１４Ｄに示すように、変形例２１，２２として、遮光膜４０Ｂが第２上面３Ｂに形成され、第２側面４Ｂ及び側面４Ｂａ，４Ｂｂに形成されていない点で、変形例１８，１９と異なる構成であってもよい。それ以外の点については、第３実施形態とほぼ同じ構成である。
さらに、変形例２３〜２６として次の構成としてもよい。第３実施形態の波長変換部材１０Ｂの凹部には、何も形成されていないのに対し、変形例２３〜２６では、凹部に透明な反射防止膜を設けている点で異なる。それ以外の点については、第３実施形態とほぼ同じ構成である。
すなわち、図１５Ａ乃至図１５Ｄに示すように、波長変換部材１０Ｂは、第１上面１ＢにＡＲコート１１Ｂ１を形成してもよい。波長変換部材１０Ｂは、図１５Ａ及び図１５Ｂに示すように、変形例２３，２４として、第２側面４Ｂ及び側面４Ｂａ，４Ｂｂに遮光膜４０Ｂが形成されている構成や、あるいは、図１５Ｃ及び図１５Ｄに示すように、変形例２５，２６として、第２側面４Ｂ及び側面４Ｂａ，４Ｂｂに遮光膜４０Ｂが形成されていない構成であってもよい。
また、変形例２７〜３０として次の構成としてもよい。第３実施形態の波長変換部材１０Ｂの凹部には、何も形成されていないのに対し、変形例２７〜３０の波長変換部材１０Ｂは、第１上面１Ｂに粗面１１Ｂ２を形成している点で異なる。それ以外の点については、第３実施形態とほぼ同じ構成である。
つまり、図１６Ａ乃至図１６Ｄで示すように、変形例２７〜３０として、波長変換部材１０Ｂは、第１上面１Ｂに粗面１１Ｂ２を形成してもよい。波長変換部材１０Ｂは、図１６Ａ及び図１６Ｂに示すように、変形例２７，２８として、第２側面４Ｂ及び側面４Ｂａ，４Ｂｂに遮光膜４０Ｂが形成されている構成や、あるいは、図１６Ｃ及び図１６Ｄに示すように、変形例２９，３０として、第２側面４Ｂ及び側面４Ｂａ，４Ｂｂに遮光膜４０Ｂが形成されていない構成であってもよい。
[第４実施形態の発光装置及び波長変換部材]
次に、第４実施形態の発光装置１００Ｃについて、変形例３１〜３３として、図１７Ａ乃至図１７Ｄを参照して、説明する。なお、第１実施形態の発光装置１００Ａとは、波長変換部材１０Ｃの構成が異なっている。つまり、波長変換部材１０Ｃは、第１上面１Ｃの２辺において、第１側面２Ｃ及び第２上面３Ｃを有し、他の２辺には、第１側面２Ｃ及び第２上面３Ｃが形成されていない点が異なる。以下、波長変換部材１０Ｃの構成を主に説明する。
発光装置１００Ｃにおいて、変形例３１として、図１７Ａ及び図１７Ｃに示すように、波長変換部材１０Ｃは、矩形の第１上面１Ｃと、第１上面１Ｃの対向する２辺からそれぞれ上方に直交して形成される第１側面２Ｃと、第１側面２Ｃに連続して水平方向に直交して形成される第２上面３Ｃと、第２上面３Ｃに連続して下方に直交して形成される第２側面４Ｃと、第１上面１Ｃの対向する他の２辺からそれぞれ下方に直交して形成される側面４Ｃａと、第２側面４Ｃ及び側面４Ｃａから水平方向に直交して形成される下面５Ｃとを備えている。
つまり、第２上面３Ｃが、第１上面１Ｃの矩形の２辺に形成されている。この波長変換部材１０Ｃは、第１上面１Ｃの四辺の内、対向する一方の２辺に、第１側面２Ｃ、第２上面３Ｃ、第２側面４Ｃを備え、残りの対向する他方の２辺に、側面４Ｃａが形成されている。側面４Ｃａの形状は、側面視において、Ｕ字形状に形成されている。また、波長変換部材１０Ｃは、発光素子３０の光取出面３１の面積よりも第１上面１Ｃの面積が同等以下に小さくなるように形成されている。また、波長変換部材１０Ｃは、下面５Ｃの面積が発光素子３０の光取出面３１の合計の面積よりも大きくなるように形成されている。図１７Ｃに示すように、一方の断面は、第１実施形態の波長変換部材１０Ａの同じ断面の形状である。また、波長変換部材１０Ｃは、一方に直交する他方の断面では、長方形で示される形状となる。
さらに、被覆部材２０Ｃは、第１上面１Ｃの矩形の２辺において第１上面１Ｃの高さと同等になるように形成されている。そして、被覆部材２０Ｃは、矩形の他の２辺において第１側面２Ｃと同じ垂直面となるように形成されている。さらに、被覆部材２０Ｃは、第２上面３Ｃの上面に遮光膜４０Ｃを介して覆うように形成されている。この波長変換部材１０Ｃは、１つの発光素子３０に対して１つが対応する大きさに形成されている。このように形成された波長変換部材１０Ｃを使用する発光装置１００Ｃでは、第１側面２Ｃが形成された領域からの光を強調することができる。
波長変換部材１０Ｃは、その製造方法として、図５Ａ−１乃至図５Ｄ−２までは同じ製造工程を行う。そして、図５Ｅ−１及び図５Ｅ−２で示す加工工程において、四角環状に形成されている遮光膜４０Ａの２辺を削除するようにして、残りの２辺にのみ第２上面３Ｃが形成されるように加工することで製造することができる。また、図１１で示すように、手順が一部入れ替わっても同様に製造することができる。
また、図１７Ｂに示すように、変形例３２として、発光装置１００Ｃ３では、被覆部材２０Ｃａが第２上面３Ｃに形成した遮光膜４０Ｃを被覆しないように、遮光膜４０Ｃと同等の高さに形成する構成としてもよい。それ以外の点については、第４実施形態とほぼ同じ構成である。
なお、発光装置１００Ｃ、１００Ｃ３では、波長変換部材は、図１７Ｄに示すように、複数（図面では４つの発光素子）の発光素子３０に対して、変形例３３として、一つの波長変換部材１０Ｃ１が設置される構成であってもよい。さらに、波長変換部材１０Ｃ，１０Ｃ１は、図７Ａ〜図７Ｅ、図１２Ａ〜図１２Ｅで示すような変形例としても形成することができるものである。つまり、第１上面１Ｃに、ＡＲコートを設けることや、粗面を形成することとしてもよい。さらに、発光装置１００Ｃ、１００Ｃ３は、発光装置１００Ａ１，１００Ａ２と同様に発光素子３０を一つで構成することもできる。
[第５実施形態の発光装置及び波長変換部材]
次に、第５実施形態の発光装置１００Ｄについて、変形例３４〜３６として、図１８Ａ乃至図１８Ｄを参照して説明する。なお、第１実施形態の発光装置１００Ａとは、波長変換部材１０Ｄの構成が異なっている。つまり、波長変換部材１０Ｄは、第１上面１Ｄの３辺において、第１側面２Ｄ及び第２上面３Ｄを有し、他の１辺には、第１側面１Ｄ及び第２上面３Ｄが形成されていない点が異なる。以下、波長変換部材１０Ｄの構成を主に説明する。
発光装置１００Ｄにおいて、変形例３４として、図１８Ａ及び図１８Ｃに示すように、波長変換部材１０Ｄは、矩形の第１上面１Ｄと、第１上面１Ｄの３辺からそれぞれ上方に直交して形成される第１側面２Ｄと、第１側面２Ｄに連続して水平方向に直交して形成される第２上面３Ｄと、第２上面３Ｄに連続して下方に直交して形成される第２側面４Ｄと、第１上面１Ｄの残りの１辺から下方に直交して形成される側面４Ｄａと、第２側面４Ｄ及び側面４Ｄａから水平方向に直交して形成される下面５Ｄとを備えている。
つまり、第２上面３Ｄが、第１上面１Ｄの矩形の３辺に形成されている。この波長変換部材１０Ｄは、第１上面１Ｄの４辺の内、３辺に第１側面２Ｄ、第２上面３Ｄ、第２側面４Ｄを備え、残りの１辺に、側面４Ｄａが形成されている。側面４Ｄａの形状は、側面視において、Ｕ字形状に形成されている。また、波長変換部材１０Ｄは、発光素子３０の全ての光取出面３１の面積よりも下面５Ｄの面積が同等以上に大きくなるように形成されている。
さらに、波長変換部材１０Ｄは、全ての発光素子３０の光取出面３１の面積よりも第１上面１Ｄの面積が同等以下に小さくなるように形成されている。なお、図１８Ｃにおいて、一方の断面は、第１実施形態の波長変換部材１０Ａの同じ断面の形状である。また、波長変換部材１０Ｄは、一方に直交する他方の断面では、図１４Ａで示す第３実施形態と同じ断面の形状になる。さらに、被覆部材２０Ｄは、第１上面１Ｄの矩形の１辺において高さが同等となるように形成されている。そして、第１上面１Ｄの矩形の他の３辺において、第１側面２Ｄと同じ垂直面となるように形成されている。さらに、被覆部材２０Ｄは、第２上面３Ｄに遮光膜４０Ｄを介して覆うように形成されている。この波長変換部材１０Ｄは、１つの発光素子３０に対して１つが対応する大きさに形成されている。このように形成された波長変換部材１０Ｄを使用する発光装置１００Ｄでは、第１側面２Ｄが形成された領域からの光を強調することができる。
波長変換部材１０Ｄは、その製造方法として、図５Ａ−１乃至図５Ｄ−２までは同じ製造工程を行う。そして、図５Ｅ−１及び図５Ｅ−２で示す加工工程において、四角環状に形成されている遮光膜４０Ａの１辺を削除するようにして、残りの３辺に第２上面３Ｃが形成されるように加工することで製造することができる。また、図１１で示すように、手順が一部入れ替わっても同様に製造することができる。
また、図１８Ｂに示すように、変形例３５として、発光装置１００Ｄ３では、被覆部材２０Ｄａが第２上面３Ｄに形成された遮光膜４０Ｄを被覆しないように、遮光膜４０Ｄと同等の高さに形成する構成としてもよい。
なお、発光装置１００Ｄ、１００Ｄ３では、変形例３６として、波長変換部材は、図１８Ｄに示すように、複数（図面では４つの発光素子）の発光素子３０に対して、一つの波長変換部材１０Ｄ１が設置される構成であってもよい。それ以外の点については、第５実施形態とほぼ同じ構成である。さらに、波長変換部材１０Ｄ，１０Ｄ１は、図７Ａ〜図７Ｅ、図１２Ａ〜図１２Ｅで示すような変形例としても形成することができるものである。つまり、第１上面１Ｄに、ＡＲコートを設けることや、粗面を形成することとしてもよい。さらに、発光装置１００Ｄ、１００Ｄ３は、発光装置１００Ａ１，１００Ａ２と同様に発光素子３０を一つで構成することもできる。
以上説明したそれぞれの発光装置では、発光素子の数を１つ、あるいは４つの具体的な例として図面に記載して説明したが、発光素子の数は、２，３あるいは５つ以上であってもよい。
また、波長変換部材は、１つの発光素子に対応する大きさと、４つの発光素子に対応する大きさを備える構成として具体的に説明したが、例えば、２つあるいは３つの発光素子に対応する大きさとして、２つの波長変換部材が１つの発光装置に設置される構成としてもよい。
また、波長変換部材は、前記した全ての構成において、下面が発光素子の光取出面を積算した面積よりも広く形成されると共に、第１上面が発光素子の光取出面を積算した面積よりも小さくなるように構成してもよい。なお、発光素子の複数を発光素子群としてその光取出面の面積は、複数の発光素子の外周を直線で矩形に囲む領域とする。
さらに、第１上面と第１側面との接続状態は、各図では断面視において直線で直角になるように示したが、第１上面の平面から曲面あるいは湾曲面を介して第１側面の垂直面に連続するように形成してもよい。この曲面を形成するには、例えば、使用される工具であるブレードの加工深さを変えることで実現することができる。
なお、波長変換部材の第１側面は、第１上面から直交するように垂直方向に形成するように説明したが、第１上面から凹部開口が広がる方向に傾斜するように形成されることでもよい。
さらに、発光装置の製造方法において、マスク形成工程Ｓ１１を行うように説明したが、マスク形成工程Ｓ１１で用いるマスクは、第１上面の１辺から４辺までのいずれかに第２上面を形成するためのレーザ加工の加工範囲を明確にできるのがメリットになることで使用しており、特に、マスクを形成しなくとも、個片化工程Ｓ１２、遮光膜形成工程Ｓ１３、加工工程Ｓ１５をこの順で行うことで、発光装置を製造することができる。また、マスクを形成しなくても、遮光膜形成工程Ｓ１３、個片化工程Ｓ１２、加工工程Ｓ１５をこの順で行うことでも発光装置を製造することができる。
本発明に係る発光装置は、オートバイ、自動車等の車両あるいは船舶、航空機等の乗り物のヘッドライト用光源として使用することができる。また、その他、スポットライト等の各種照明用光源、ディスプレイ用光源、車載部品など、種々の光源に使用することができる。
１Ａ、１Ａ１、１Ｂ、１Ｂ１、１Ｃ、１Ｃ１、１Ｄ、１Ｄ１ 第１上面
２Ａ、２Ａ１、２Ｂ、２Ｂ１、２Ｃ、２Ｃ１、２Ｄ、２Ｄ１ 第１側面
３Ａ、３Ａ１、３Ｂ、３Ｂ１、３Ｃ、３Ｃ１、３Ｄ、３Ｄ１ 第２上面
４Ａ、４Ａ１、４Ｂ、４Ｂ１、４Ｃ、４Ｃ１、４Ｄ、４Ｄ１ 第２側面
４Ｂａ 側面
４Ｂｂ 側面
４Ｃａ 側面
４Ｄａ 側面
５Ａ、５Ａ１、５Ｂ、５Ｂ１、５Ｃ、５Ｃ１、５Ｄ、５Ｄ１ 下面
１０Ａ、１０Ａ１、１０Ｂ、１０Ｂ１、１０Ｃ、１０Ｃ１、１０Ｄ、１０Ｄ１ 波長変換部材
１０Ａｂ 固片部材
１０Ａａ 波長変換基板
１１Ａ１、１１Ｂ１ ＡＲコート
１１Ａ２、１１Ｂ２ 粗面
１５ 接着材
１６ フィレット
２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ，２０Ｄ、２０Ａ１、２０Ｂ１、２０Ｃ１、２０Ｄ１、２０Ａａ、２０Ｂａ、２０Ｃａ、２０Ｄａ 被覆部材
３０ 発光素子
３１ 光取出面
３２ 側面
３３ 下面
４０ 遮光膜体
４０Ａ、４０Ｂ、４０Ｃ、４０Ｄ、４０Ａ１、４０Ｂ１、４０Ｃ１，４０Ｄ１ 遮光膜
５０ 基板
５１ 導体配線
１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ａ１、１００Ａ２、１００Ａ３、１００Ａ４、１００Ｂ１ 発光装置
Ｂｐ バンプ
ＭＫ マスク
Ｓ１１ マスク形成工程
Ｓ１２ 個片化工程
Ｓ１３ 遮光膜形成工程
Ｓ１４ マスク除去工程
Ｓ１５ 加工工程
Ｓ２１ 準備工程
Ｓ２２ 接着工程
Ｓ２３ 被覆部材形成工程

Claims (18)

  1. 光取出面と側面とを有する発光素子と、
    第１上面と、第２上面と、前記第１上面及び前記第２上面に対向する下面と、前記第２上面と前記第１上面とに連続する第１側面と、前記第２上面と前記下面とに連続する第２側面と、を有し、前記下面から前記第１上面までの厚みは、前記下面から前記第２上面までの厚みよりも薄く、前記光取出面に対向する位置に前記第１上面が配置されており、前記発光素子の前記光取出面上に前記下面が配置される波長変換部材と、
    前記波長変換部材の前記第２側面及び前記発光素子の前記側面を覆う被覆部材と、
    前記波長変換部材の前記第２上面を覆う遮光膜と、を備える発光装置。
  2. 前記波長変換部材は、平面視が矩形に形成され、
    前記第２上面は、前記第１上面を囲う外周に形成されている請求項１に記載の発光装置。
  3. 前記波長変換部材は、平面視が矩形に形成され、
    前記第２上面は、前記矩形の一辺、二辺又は三辺のいずれかに形成されている請求項１に記載の発光装置。
  4. 前記第１上面の面積は、前記発光素子の前記光取出面の面積よりも小さく形成されている請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の発光装置。
  5. 前記第１側面は、前記第１上面に対して垂直である請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の発光装置。
  6. 前記第１側面は、湾曲面を有する請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の発光装置。
  7. 前記第１側面は、前記第１上面に対して傾斜している請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の発光装置。
  8. 前記遮光膜は、前記波長変換部材の前記第２側面に前記第２上面と併せて形成され、
    前記被覆部材は、前記波長変換部材の前記第２側面に形成された前記遮光膜を介して被覆する請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の発光装置。
  9. 前記被覆部材は、前記第２上面に形成される前記遮光膜を介して前記第２上面に対向する位置に形成される請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の発光装置。
  10. 前記第１上面は、反射防止膜が形成されている請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載の発光装置。
  11. 前記第１上面は、表面が荒らされた加工面を有する請求項１乃至請求項１０のいずれか一項に記載の発光装置。
  12. 前記発光素子は、複数を備え、前記発光素子のそれぞれに対応して前記波長変換部材が設けられる請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載の発光装置。
  13. 前記発光素子は、複数を整列させて発光素子群として備え、
    前記波長変換部材は、前記発光素子群の外縁に沿って、前記発光素子群を覆う大きさで矩形に設けられ、前記発光素子群の外縁を形成する前記発光素子の辺よりも内側に前記第１上面を平面視において矩形に形成する請求項１乃至請求項１２のいずれか一項に記載の発光装置。
  14. 前記波長変換部材と前記発光素子とは接着材を介して接合された請求項１乃至請求項１２のいずれか一項に記載の発光装置。
  15. 波長変換基板の上面に複数の矩形のマスクを形成するマスク形成工程と、
    前記波長変換基板の上面に前記マスクを形成した状態で平面視が矩形であり、前記波長変換基板の一部が露出するように所定の大きさに個片化する個片化工程と、
    個片化した波長変換部材を整列させて前記波長変換部材の側面、上面及び前記マスク上に遮光膜を形成する遮光膜形成工程と、
    前記マスクの外周となる前記波長変換部材の上面に形成した前記遮光膜を保持した状態で、前記マスク及び前記マスクを覆う前記遮光膜を除去するマスク除去工程と、
    前記マスクを除去した箇所の前記波長変換部材の厚みを薄くする加工工程と、を含む波長変換部材の製造方法。
  16. 波長変換基板の上面に矩形のマスクを形成するマスク形成工程と、
    前記波長変換基板の上面及び前記マスク上に遮光膜を形成する遮光膜形成工程と、
    前記波長変換基板を、平面視が矩形であり前記波長変換基板の一部が露出するように所定の大きさに個片化する個片化工程と、
    前記マスクの外周となる前記波長変換基板の上面に形成した前記遮光膜を保持した状態で、前記マスク及び前記マスクを覆う前記遮光膜を除去するマスク除去工程と、
    前記マスクを除去した箇所の波長変換部材の厚みを薄くする加工工程と、を含む波長変換部材の製造方法。
  17. 第１上面と、第２上面と、前記第１上面及び第２上面に対向する下面と、前記第２上面と前記第１上面とに連続して、前記第２上面から前記第１上面に延びる第１側面と、前記第２上面と前記下面とに連続している第２側面と、を有し、前記下面から前記第１上面までの厚みは、前記下面から前記第２上面までの厚みよりも薄く、前記第２上面は遮光膜で覆っている、波長変換部材を準備する工程と、
    前記波長変換部材の下面と発光素子の光取出面とを向かい合うように、前記発光素子に前記波長変換部材を配置する接着工程と、
    前記波長変換部材の前記第２側面、及び、前記発光素子の側面を被覆部材で覆う被覆部材形成工程と、を含む発光装置の製造方法。
  18. 前記波長変換部材を準備する工程において、前記波長変換部材の前記第２側面は、前記第２上面を覆う前記遮光膜で連続して覆われており、
    前記被覆部材形成工程において、前記波長変換部材の前記第２側面を覆う前記遮光膜を前記被覆部材で覆う請求項１７に記載の発光装置の製造方法。
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