JP2021042963A - 物理量センサの製造方法 - Google Patents

物理量センサの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】センサチップに対するモールド樹脂部の応力の影響を低減すると共に、センサチップと検出対象との位置関係による検出精度を向上させることができる物理量センサの製造方法を提供する。【解決手段】樹脂形成工程では、リードフレーム110が複数含まれた基体121を用意し、基体121のうちのリードフレーム110に対応する位置それぞれにセンサチップ140を実装する。さらに、各リード112〜114の他端部118〜120が露出するように基体121の一部及びセンサチップ140の全部をモールド樹脂体151で封止する。検査・調整工程では、基体121のうちの複数のリード112〜114を連結した接続部124を切断する。この後、ロータ200に対する基体121の位置決めを行い、センサチップ140にロータ200の回転を検出させることにより、センサチップ140の検査及び調整を行う。【選択図】図5

Description

本発明は、物理量センサの製造方法に関する。
従来より、物理量を検出するセンサチップが基部に実装された物理量センサが、例えば特許文献1で提案されている。センサチップ及び基部は、基部のうちの電気接続部が露出するようにモールド樹脂部によって封止される。なお、センサチップは、検出対象の物理量に応じて、センシング部が露出するようにモールド樹脂部に封止される場合がある。
特開2017−223452号公報
しかしながら、上記従来の技術では、センサチップがモールド樹脂部によって封止される構成である。このため、センサチップがモールド樹脂部から応力を受けることで検出精度に影響を及ぼしてしまう。また、センサチップと検出対象との間にモールド樹脂部が位置するので、センサチップと検出対象との位置関係が検出精度に影響を及ぼしてしまう。
本発明は上記点に鑑み、センサチップに対するモールド樹脂部の応力の影響を低減すると共に、センサチップと検出対象との位置関係による検出精度を向上させることができる物理量センサの製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明は、基部(110、132)、センサチップ(140)、及びモールド樹脂部(150)、を含んだ物理量センサの製造方法である。基部は、外部装置に対する電気接続部(112〜114、127〜129、134)を有する。センサチップは、検出対象の物理量を検出すると共に基部に実装される。モールド樹脂部は、基部のうちの電気接続部を露出させた状態で基部の一部及びセンサチップの一部あるいは全部を封止する。
まず、樹脂形成工程では、基部が複数含まれた基体(121、135)を用意し、基体のうちの基部に対応する位置それぞれにセンサチップを実装する。さらに、電気接続部が露出するように基体の一部及びセンサチップの一部あるいは全部をモールド樹脂体(151)で封止する。
続いて、樹脂形成工程の後、検査・調整工程では、検出対象に対する基体の位置決めを行い、センサチップに検出対象の物理量を検出させることにより、センサチップの検査及び調整を行う。
検査・調整工程の後、ダイシング工程では、基体及びモールド樹脂体を基部及びモールド樹脂部に対応する部分毎に切断する。
これによると、基体にモールド樹脂体が形成された状態でセンサチップの検査及び調整を行っているので、モールド樹脂体によって発生する応力の影響を検査及び調整によってリセットすることができる。このため、切断後においてもセンサチップに対するモールド樹脂部の応力の影響を低減することができる。
また、検出対象に対する基体の位置決めを行った状態でセンサチップに検出対象の物理量を検出させているので、検出対象に対するセンサチップの位置精度が高い状態で検査及び調整を行うことができる。このため、センサチップと検出対象との位置関係による検出精度を向上させることができる。
なお、この欄及び特許請求の範囲で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
第1実施形態に係る物理量センサの平面図である。 図1のII−II断面図である。 樹脂形成工程の内容を示した平面図である。 切断工程の内容を示した平面図である。 検査・調整工程の内容を示した平面図である。 ダイシング工程の内容を示した平面図である。 変形例として、検査・調整工程において、突起を設けたチェーンベルトを周回させた状態を示した図である。 変形例として、検査・調整工程において、ロータをアイランドの実装面の上方に配置した状態を示した図である。 第2実施形態に係る物理量センサの平面図である。 第2実施形態に係る樹脂形成工程の内容を示した平面図である。 第2実施形態に係る樹脂形成工程の内容を示した平面図である。 第2実施形態に係る切断工程の内容を示した平面図である。 第3実施形態に係る物理量センサの平面図である。 第3実施形態に係る樹脂形成工程の内容を示した平面図である。 第3実施形態に係る樹脂形成工程の内容を示した平面図である。 第3実施形態に係る検査・調整工程の内容を示した平面図である。 第3実施形態に係るダイシング工程の内容を示した平面図である。
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、図中、同一符号を付してある。
(第1実施形態)
以下、第1実施形態について図を参照して説明する。本実施形態に係る物理量センサは、磁気センサとして構成される。磁気センサは、検出対象として例えばギア等のロータの回転を検出する。図1に示されるように、磁気センサ100は、リードフレーム110、センサチップ140、及びモールド樹脂部150を備える。
リードフレーム110は、センサチップ140が実装されるアイランド111と、電気接続部として機能する複数のリード112〜114と、を有する。リードフレーム110は、図示しない平板が所定の形状に打ち抜き加工されて形成されている。平板はCu等の金属製の板部材である。
各リード112〜114は、一端部115〜117とこの一端部115〜117とは反対側の他端部118〜120とを有する短冊状であると共に、並列に配置される。各リード112〜114のうちの第3リード114の一端部117はアイランド111に一体化されている。第1リード112及び第2リード113はアイランド111から分離されている。上述のように、リードフレーム110は平板が打ち抜き加工されているので、アイランド111及び各リード112〜114の一端部115〜117側は同一面に位置している。
例えば、第1リード112は電源用として用いられる。第2リード113は信号出力用として用いられる。第3リード114はグランド用として用いられる。各リード112〜114は他端部118〜120の差し込みが可能なコネクタに差し込まれることで外部と電気的に接続される。
センサチップ140は、ホール効果を利用して磁界の変化を検出するホール素子として構成されている。センサチップ140は、ロータに対して所定のギャップを持って配置される。ロータは、アイランド111において各リード112〜114側とは反対側に配置される。つまり、センサチップ140は、アイランド111の実装面に垂直な方向の磁界の変化を検出する。
センサチップ140とロータとのギャップは、ロータの歯の有無によって変化する。センサチップ140は、ロータとのギャップが大きくなると検出信号の振幅が小さくなり、ギャップが小さくなると検出信号の振幅が大きくなる。なお、センサチップ140は、磁気抵抗素子を用いて磁界の変化を検出するように構成されていても良い。
センサチップ140はアイランド111に接着剤で固定される。また、センサチップ140は図示しないボンディングパットを有し、各リード112〜114に対してボンディングワイヤ141〜143を介して電気的に接続されている。
モールド樹脂部150は、磁気センサ100の外観をなすものである。モールド樹脂部150は、センサチップ140の全体、アイランド111、各リード112〜114の一端部115〜117側の部分、及びボンディングワイヤ141〜143を覆うと共に封止する。すなわち、モールド樹脂部150は、リードフレーム110のうちの各リード112〜114の他端部118〜120を露出させた状態で、センサチップ140等を封止する。モールド樹脂部150がセンサチップ140の全体を覆うとは、センサチップ140のうちアイランド111に固定された部分を除いたセンサチップ140の表面全体を覆うことを意味する。モールド樹脂部150として、例えばエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が用いられる。以上が、本実施形態に係る磁気センサ100の全体構成である。
次に、磁気センサ100の製造方法について説明する。まず、図3に示される工程では、樹脂形成工程を行う。樹脂形成工程では、基体121として、リードフレーム110を複数含むと共に複数のリードフレーム110を連結したフレーム部122を含むものを用意する。
図3に示されるように、フレーム部122は、8個分のリードフレーム110を繋いでいる。例えば、各リードフレーム110は、一つの列に4個が並べられ、各リード112〜114が向き合うように2つの列が配置される。
フレーム部122は、枠部123、接続部124及び孔部125を有する。枠部123は、四角枠状であり、各リードフレーム110のうちの各アイランド111を連結している。接続部124は、各リードフレーム110のうちの各リード112〜114を連結している。孔部125は、枠部123の角部126に設けられる。孔部125は、検出対象に対する基体121の位置決めを行う際に用いられる。孔部125は、角部126の全てに設けられている。孔部125は、2箇所あるいは3箇所でも良い。
続いて、基体121のうちのアイランド111に対応する位置それぞれにセンサチップ140を実装すると共にワイヤボンディングを行う。さらに、各リード112〜114の各他端部118〜120が露出するように基体121の一部及びセンサチップ140の全部をモールド樹脂体151で封止する。各リードフレーム110は2つの列に配置されているので、基体121には2つモールド樹脂体151を形成する。
図4に示される工程では、切断工程を行う。切断工程では、フレーム部122のうちの接続部124を切断する。これにより、各リードフレーム110を枠部123によって繋げた状態で、電気的に分離する。
図5に示される工程では、検査・調整工程を行う。検査・調整工程では、まず、検出対象に対する基体121の位置決めを行う。位置決めは、フレーム部122の枠部123の孔部125に基づいて行う。検出対象としてロータ200を用いる。基体121は、2つのロータ200の間に位置する。図5では、ロータ200の歯を省略している。位置決めにより、ロータ200と基体121との位置関係が精度良く決まる。すなわち、ロータ200とセンサチップ140との位置関係が精度良く決まる。
そして、図示しない検査装置のピンを各リード112〜114に接触させる。また、ロータ200を回転させた状態で、検査対象となるセンサチップ140にロータ200の回転を検出させる。これにより、検査対象のセンサチップ140の検査及び調整を行う。
この後、ロータ200に対して基体121を相対的に移動させ、次の検査対象のセンサチップ140の検査及び調整を行う。このようにして、各センサチップ140の全てについて、順に検査及び調整を行う。なお、基体121の位置を固定した状態でロータ200を移動させても良い。
図6に示される工程では、ダイシング工程を行う。ダイシング工程では、基体121及びモールド樹脂体151を、リードフレーム110及びモールド樹脂部150に対応する部分毎に切断する。こうして、磁気センサ100が完成する。
以上説明したように、磁気センサ100を製造する際、基体121にモールド樹脂体151が形成された状態でセンサチップ140の検査及び調整を行っている。このため、モールド樹脂体151によって発生する応力の影響を検査及び調整によってリセットされる。したがって、基体121及びモールド樹脂体151の切断後においてもセンサチップ140に対するモールド樹脂部150の応力の影響を低減することができる。
また、ロータ200に対する基体121の位置決めを行った状態でセンサチップ140にロータ200の回転を検出させる。このため、ロータ200に対するセンサチップ140の位置精度が高い状態でセンサチップ140の検査及び調整を行うことができる。したがって、ロータ200とセンサチップ140との位置関係による検出精度を向上させることができる。
なお、本実施形態の記載と特許請求の範囲の記載との対応関係については、リードフレーム110が特許請求の範囲の「基部」に対応し、リード112〜114が特許請求の範囲の「電気接続部」に対応する。また、孔部125が特許請求の範囲の「位置決め部」に対応する。
変形例として、センサチップ140は、磁気以外の物理量として、流量、光、圧力、温度、湿度、慣性のいずれかを検出するように構成されていても良い。例えば、光等のように、センシング部がモールド樹脂部150から露出していることが必要な場合、樹脂形成工程では、センシング部が露出するようにモールド樹脂体151によってセンサチップ140の一部を封止すれば良い。
変形例として、検査・調整工程では、フレーム部122の孔部125以外の形状に基づいて基体121の位置決めを行っても良い。例えば、フレーム部122の枠部123の角部126や直線部に図示しない突起が設けられていても良い。また、モールド樹脂体151に設けられた特定の形状等の位置決め部に基づいて基体121の位置決めを行っても良い。
変形例として、検出対象として予定されているロータ200の径が大きい場合、図7に示されるように、ロータ200の歯を模擬した突起201を設けたチェーンベルト202を周回させてセンサチップ140の検査及び調整を行っても良い。
変形例として、センサチップ140がアイランド111の実装面に垂直な方向の磁界の変化を検出しても良い。この場合、図8に示されるように、ロータ200は、アイランド111の実装面に垂直な方向において、モールド樹脂体151の上方に配置される。なお、図8は、モールド樹脂体151をリードフレーム110毎に形成した状態を示している。
(第2実施形態)
本実施形態では、主に第1実施形態と異なる部分について説明する。図9に示されるように、磁気センサ100は、コネクタ端子127〜129を有する。コネクタ端子127〜129は、各リード112〜114の板厚が薄いためにコネクタとしてそのまま使用できない構成に追加される構成である。
第1コネクタ端子127は、第1リード112の他端部118に溶接等で組み付けられている。同様に、第2コネクタ端子128は第2リード113の他端部119に組み付けられ、第3コネクタ端子129は第3リード114の他端部120に組み付けられている。
上記の構成を製造するに際し、樹脂形成工程では、図10に示されるように、基体130として、各コネクタ端子127〜129を含むものを用意する。基体130は各コネクタ端子127〜129の先端部分を連結する接続部131を含む。
基体121として、4個のリードフレーム110が一列に並べられたものを用意する。そして、基体121の各リード112〜114に対し、基体130の各コネクタ端子127〜129を多連状態で溶接等で組み付ける。センサチップ140の実装等は基体121に対する基体130の組み付けの前後のどちらでも良い。
続いて、図11に示されるように、フレーム部122のうちの接続部124を切断する。これにより、各リード112〜114を電気的に分離する。さらに、基体130のうちの各コネクタ端子127〜129の接続部131側が露出するようにモールド樹脂体151を形成する。
続いて、切断工程では、図12に示されるように、基体130のうちの接続部131を含む各コネクタ端子127〜129の先端部分を切断する。この後、第1実施形態と同様に、検査・調整工程及びダイシング工程を行う。以上のように、コネクタ端子127〜129が設けられる構成においても、第1実施形態と同様の効果が得られる。
なお、本実施形態の記載と特許請求の範囲の記載との対応関係については、コネクタ端子127〜129が特許請求の範囲の「電気接続部」に対応する。
(第3実施形態)
本実施形態では、主に第1、第2実施形態と異なる部分について説明する。図13に示されるように、磁気センサ100は、セラミック基板132、センサチップ140、及びモールド樹脂部150を備える。
セラミック基板132は、センサチップ140が実装される一面133を含む。セラミック基板132の一面133には、電気接続部としての複数のパッド134が形成されている。なお、セラミック基板132は、一面133とは異なる他面にパッドを有していても良い。他面のパッドはスルーホールによって一面133に形成された配線に接続される。
上記の構成において、磁気センサ100を製造するに際し、樹脂形成工程では、図14に示されるように、基体135として、セラミック基板132の部分を複数含んだものを用意する。例えば、各セラミック基板132は、一つの列に4個が並べられ、各パッド134が外側に位置するように2列に配置される。
また、基体135のうちの一面133に対応する面にセンサチップ140を実装すると共にワイヤボンディングを行う。さらに、図15に示されるように、各パッド134が露出するように基体135の一部及びセンサチップ140の全部をモールド樹脂体151で封止する。
なお、モールド樹脂体151にモールド樹脂部150の外形に対応した溝を形成しておくと、個片化が容易である。あるいは、予めモールド樹脂部150毎に分割された状態で各センサチップ140等を封止しても良い。この場合はモールド樹脂体151ではなくモールド樹脂部150を直接形成することになる。本実施形態では切断工程は無い。
続いて、図16に示されるように、検査・調整工程を行う。このため、まず、ロータ200に対する基体135の位置決めを行う。位置決めは、例えば、画像認識によって行う。基体135あるいはモールド樹脂体151に設けられた図示しない位置決め部に基づいて位置決めを行う。そして、第1実施形態と同様に、センサチップ140の検査及び調整を行う。基体135の裏面側のパッドを用いて検査及び調整を行っても良い。
この後、図17に示されるように、破線に沿って基体135及びモールド樹脂体151を切断するダイシング工程を行う。こうして、磁気センサ100が完成する。以上のように、センサチップ140がセラミック基板132に実装される構成においても、第1実施形態と同様の効果が得られる。
なお、本実施形態の記載と特許請求の範囲の記載との対応関係については、セラミック基板132が特許請求の範囲の「基部」及び「基板」に対応し、パッド134が特許請求の範囲の「電気接続部」に対応する。
変形例として、プリント基板を採用しても良い。この場合、プリント基板が特許請求の範囲の「基部」に対応する。
(他の実施形態)
上記各実施形態で示された磁気センサ100の構成は一例であり、上記で示した構成に限定されることなく、本発明を実現できる他の構成とすることもできる。例えば、リード112〜114やコネクタ端子127〜129の数は一例であり、取り扱う電気信号に応じて適宜設定される。また、アイランド111やセラミック基板132等の基部にはセンサチップ140以外のICチップ等が実装されていても構わない。
110 リードフレーム
111 アイランド
112〜114 リード
121 基体
122 フレーム部
124 接続部
125 孔部
140 センサチップ
150 モールド樹脂部
151 モールド樹脂体

Claims (6)

  1. 外部装置に対する電気接続部(112〜114、127〜129、134)を有する基部(110、132)と、検出対象の物理量を検出すると共に前記基部に実装されたセンサチップ(140)と、前記基部のうちの前記電気接続部を露出させた状態で前記基部の一部及び前記センサチップの一部あるいは全部を封止したモールド樹脂部(150)と、を含んだ物理量センサの製造方法であって、
    前記基部が複数含まれた基体(121、135)を用意し、前記基体のうちの前記基部に対応する位置それぞれに前記センサチップを実装し、さらに、前記電気接続部が露出するように前記基体の一部及び前記センサチップの一部あるいは全部をモールド樹脂体(151)で封止する樹脂形成工程と、
    前記樹脂形成工程の後、前記検出対象に対する前記基体の位置決めを行い、前記センサチップに前記検出対象の物理量を検出させることにより、前記センサチップの検査及び調整を行う検査・調整工程と、
    前記検査・調整工程の後、前記基体及び前記モールド樹脂体を前記基部及び前記モールド樹脂部に対応する部分毎に切断するダイシング工程と、
    を含む物理量センサの製造方法。
  2. 前記基部は、前記センサチップが実装されるアイランド(111)と、前記電気接続部に対応した複数のリード(112〜114)と、を含んだリードフレーム(110)であり、
    前記樹脂形成工程では、前記基体として、前記リードフレームを複数含むと共に前記複数のリードフレームを連結したフレーム部(122)を含むものを用意し、
    前記検査・調整工程では、前記位置決めの前に前記フレーム部のうちの前記複数のリードを連結した接続部(124)を切断する切断工程を含む請求項1に記載の物理量センサの製造方法。
  3. 前記検査・調整工程では、前記フレーム部あるいは前記モールド樹脂体に設けられた位置決め部(125)に基づいて前記位置決めを行う請求項2に記載の物理量センサの製造方法。
  4. 前記基部は、前記センサチップが実装される一面(133)を含むと共に前記一面あるいは前記一面とは異なる他面に形成された前記電気接続部を含んだ基板(132)であり、
    前記樹脂形成工程では、前記基体として、前記基板の部分を複数含んだものを用意し、前記基体のうちの前記一面に対応する面に前記センサチップを実装し、さらに、前記電気接続部が露出するように前記基体の一部及び前記センサチップの一部あるいは全部を前記モールド樹脂体で封止する請求項1に記載の物理量センサの製造方法。
  5. 前記検査・調整工程では、前記基体あるいは前記モールド樹脂体に設けられた位置決め部に基づいて前記位置決めを行う請求項4に記載の物理量センサの製造方法。
  6. 前記センサチップは、前記物理量として、磁気、流量、光、圧力、温度、湿度、慣性のいずれかを検出する請求項1ないし5のいずれか1つに記載の物理量センサの製造方法。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11237395A (ja) * 1998-02-23 1999-08-31 Honda Motor Co Ltd 回転センサ及び回転センサ用磁気検出ic
JP2002373906A (ja) * 2001-06-15 2002-12-26 Seiko Instruments Inc Icパッケージの製造方法
JP2010145285A (ja) * 2008-12-19 2010-07-01 Alps Electric Co Ltd 磁気検出装置及びその製造方法
JP2012078274A (ja) * 2010-10-05 2012-04-19 Denso Corp 磁気検出装置およびその製造方法
JP2016021549A (ja) * 2014-06-17 2016-02-04 旭化成エレクトロニクス株式会社 ホールセンサ

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11237395A (ja) * 1998-02-23 1999-08-31 Honda Motor Co Ltd 回転センサ及び回転センサ用磁気検出ic
JP2002373906A (ja) * 2001-06-15 2002-12-26 Seiko Instruments Inc Icパッケージの製造方法
JP2010145285A (ja) * 2008-12-19 2010-07-01 Alps Electric Co Ltd 磁気検出装置及びその製造方法
JP2012078274A (ja) * 2010-10-05 2012-04-19 Denso Corp 磁気検出装置およびその製造方法
JP2016021549A (ja) * 2014-06-17 2016-02-04 旭化成エレクトロニクス株式会社 ホールセンサ

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