JP2021036239A - 表面構造及び表面下構造の特性を決定する装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
光源と、
物体の界面から干渉イメージングを行う手段に到達する光と干渉イメージングに関連する参照経路から干渉イメージングを行う手段に到達する光との間の干渉に基づいて干渉像を形成する手段と、
光源から干渉イメージングを行う手段までの参照経路を形成し、光源から物体の界面に光を導き、物体の界面から干渉イメージングを行う手段に光を導く手段と、
を備える。
光源から干渉イメージングに関連する参照経路まで光を導くことと、
光源から物体の界面に光を導くことと、
物体の界面から到達する光と参照経路から到達する光の間の干渉に基づいて干渉像を形成するために干渉イメージングを行うことと、
を備える。
Claims (20)
- 物体の界面(100)の4次元特性を決定する装置であって、光源(102)を備える装置において、前記界面(100)のイメージングに利用されるフォトニックジェットを形成する手段(104)と、前記界面(100)とこれら(104,106)の組合せの広視野の干渉イメージングを実行する手段(105a,b)と、前記界面(100)に近接する光を通過させるとともに前記光を前記界面に導く手段(108)と、を備え、前記手段(108)は、像を形成し、前記界面(100)の位相シフト干渉イメージングを実行する手段(106)と、光干渉及びフォトニックジェットを組み合わせることによって超分解能イメージ情報を形成するマイクロスフェア(108)と近接場修正構造のうちの少なくとも一方によって変調される前記界面(100)からの光を受光するイメージング手段(110)と、前記フォトニックジェットの影響を利用することにより前記位相シフト干渉イメージングによって形成された前記イメージ情報に基づいて前記界面(100)の4次元特性を決定するプロセッサ装置(112)と、を備えることを特徴とする装置。
- 前記界面(100)は、前記物体の表面であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記界面(100)は、前記物体の表面下であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記界面(100)の位相シフト干渉イメージングを実行する手段(106)として前記物体を動かす手段(106)を備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記界面(100)の位相シフト干渉イメージングを実行する手段(106)は、ストロボ照明の利用を備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 広視野を有するために上部構造と下部構造の少なくとも一方をステッチするイメージステッチングを行う手段(120)を備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 同時のz軸キャリブレーション及びxy軸キャリブレーションを可能にするためにグリッドを最低ステップに追加することによるナノルーラの概念に基づいて同一視野のキャリブレーションを実行する手段(122)を備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- フォトニックジェットレイヤーの衝撃を除去するとともに最大分解能を可能にするために十分なサイドローブの減少があるという条件の下で最小メインローブのコヒーレンス関数を形成する手段(124)を備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 位相シフト、過渡的なイメージング及び向上したイメージコントラストの少なくとも一つを形成するために偏光を制御する手段(126)を備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記フォトニックジェットの有限サイズ形状によって形成される表面トポグラフィーの歪みを説明する手段を備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 物体の界面(100)の4次元特性を決定する方法であって、光を生成する方法において、前記界面(100)のイメージングに利用されるフォトニックジェットを形成し、前記界面(100)とこれら(104,106)の組合せの広視野の干渉イメージングを実行し、前記界面(100)に近接する光を通過させるとともに前記光を前記界面に導き、像を形成し、前記界面(100)の位相シフト干渉イメージングを実行し、光干渉及びフォトニックジェットを組み合わせることによって超分解能イメージ情報を形成するマイクロスフェア(108)と近接場修正構造のうちの少なくとも一方によって変調される前記界面(100)からの光を受光し、前記フォトニックジェットの影響を利用することにより前記位相シフト干渉イメージングによって形成された前記イメージ情報に基づいて前記界面(100)の4次元特性を決定することを特徴とする方法。
- 前記界面(100)は、前記物体の表面であることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記界面(100)は、前記物体の表面下であることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 前記界面(100)の位相シフト干渉イメージングを実行する手段(106)として前記物体を動かすことを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 界面(100)の位相シフト干渉イメージングの実行は、ストロボ照明の利用を備えることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 広視野を有するために上部構造と下部構造の少なくとも一方をステッチするイメージステッチングを行うことを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 同時のz軸キャリブレーション及びxy軸キャリブレーションを可能にするためにグリッドを最低ステップに追加することによるナノルーラの概念に基づいて同一視野のキャリブレーションを実行することを特徴とする請求項11に記載の方法。
- フォトニックジェットレイヤーの衝撃を除去するとともに最大分解能を可能にするために十分なサイドローブの減少があるという条件の下で最小メインローブのコヒーレンス関数を形成することを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 位相シフト、過渡的なイメージング及び向上したイメージコントラストの少なくとも一つを形成するために偏光を制御することを特徴とする請求項11に記載の方法。
- フォトニックジェットの有限サイズ形状によって形成される表面トポグラフィーの歪みを説明することを特徴とする請求項11に記載の方法。
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