JP2020511383A - 高アスペクト比のガラスウエハ - Google Patents

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Abstract

第１の主面（１１０）、第１の主面（１１０）に平行であり、かつその反対側にある第２の主面（１２０）、第１の主面（１１０）と第２の主面（１２０）との間の厚さ、及びガラスウエハ（１００）の最外径からガラスウエハ（１００）の幾何学中心に向かって延びる環状エッジ部分（１３０）を有する、ガラスウエハ（１００）。該ガラスウエハ（１００）は、１７５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下の直径及び０．３５０ｍｍ未満の厚さを有する。エッジ部分の幅（１３０）は１０ｍｍ未満である。

Description

関連出願の相互参照
本出願は、その内容が依拠され、その全体がここに参照することによって本願に援用される、２０１７年２月２４日出願の米国仮特許出願第６２／４６３，３２０号の米国法典第３５編特許法１１９条に基づく優先権の利益を主張する。
本明細書は、概して、高アスペクト比のガラスウエハに関し、より詳細には、大きい直径、小さいエッジ排除、小さい湾曲、小さい反り、及び小さい全厚さ変動（ＴＴＶ）を有する高アスペクト比ガラスウエハに関する。
例えば、バーチャルリアリティディスプレイ（ＶＲＤ）などの視覚ディスプレイデバイスの部品がますます複雑になってきているため、デバイスに用いられるライトガイドは、通常、高屈折率ガラスで作られる。高い屈折率により、ＶＲＤで使用した場合の高い視野（ＦＯＶ）などの優れた性能が可能になる。しかしながら、このようなライトガイドの表面は、きわめて平行でなければならず、全厚さ変動（ＴＴＶ）、反り、及び湾曲などのパラメータについての許容度が非常に厳しい。基板に向けられた光線は、基板及び／又は隣接する層の複数の表面で反射し、プレート内部の基板の一部を数回横断する際に内部全反射によって伝達され、したがって、表面誤差が急速に蓄積されることから、基板表面の平坦性要件は、非常に高くなる。反射の回数は、例えば１０回以上など、多くなる可能性があり、したがって、平面度の不整合は１０倍に悪化する。ガラス基板が高度の平坦性を有するという要件に加えて、製造されるデバイスの製造公差を満たすために、基板は非常に薄くなければならない。
ガラスの平坦性と薄さに対する要求はますます厳しくなっているが、大きいウエハでガラスを製造し、その後ウエハを基板の所望のサイズに切断することが、より効率的である。よって、高アスペクト比を有する（すなわち、厚さに対する直径の比が高い）ガラスウエハが望ましい。しかしながら、ウエハのサイズが大きくなると、ガラスのＴＴＶ、湾曲、及び反りを維持することはより困難になる。
したがって、大きい直径、高いアスペクト比、小さい湾曲、小さい反り、及び小さいＴＴＶを有するガラスウエハが必要とされている。
一実施形態によれば、ガラスウエハは、第１の主面、該第１の主面に平行であり、かつその反対側にある第２の主面、第１の主面と第２の主面との間の厚さを有する。ガラスウエハは、１７５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下の直径及び０．３５０ｍｍ未満の厚さを有する。エッジ部分の幅は１０ｍｍ未満である。幾つかの実施形態によれば、ガラスウエハは、該ガラスウエハの最外径からガラスウエハの幾何学中心に向かって延びる環状エッジ部分をさらに含む。エッジ部分の幅は１０ｍｍ未満である。幾つかの実施形態では、エッジ部分の幅は０〜１０ｍｍである。幾つかの実施形態では、エッジ部分の幅は０．２ｍｍ〜１０ｍｍである。
別の実施形態では、光学的、電気的、又は機械的デバイスは、第１の主面、該第１の主面に平行であり、かつその反対側にある第２の主面、第１の主面と第２の主面との間の厚さ、及びガラスウエハの最外径からガラスウエハの幾何学中心に向かって延びる環状エッジ部分を有するガラスウエハを含む。ガラスウエハは、１７５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下の直径及び０．３５０ｍｍ未満の厚さを有する。エッジ部分の幅は１０ｍｍ未満である。
さらに別の実施形態では、ガラスウエハは、第１の主面、該第１の主面に平行であり、かつその反対側にある第２の主面、第１の主面と第２の主面との間の厚さ、並びに、ガラスウエハの最外径からガラスウエハの幾何学中心に向かって延びる環状エッジ部分を含む。ガラスウエハの直径は２００ｍｍ以上３２５ｍｍ以下であり、ガラスウエハの厚さは０．２２５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下である。エッジ部分の幅は５ｍｍ未満である。ガラスウエハの全厚さ変動（ＴＴＶ）は１μｍ未満であり、ガラスウエハの湾曲は±１５μｍ以下であり、ガラスウエハの反りは３０μｍ以下である。
追加の特徴及び利点は、以下の詳細な説明に記載され、一部には、その説明から当業者に容易に明らかとなり、あるいは、以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付の図面を含めた本明細書に記載される実施形態を実施することによって認識されよう。
前述の概要及び以下の詳細な説明はいずれも、さまざまな実施形態を説明しており、特許請求される主題の性質及び特徴を理解するための概観又は枠組みを提供することを意図していることが理解されるべきである。添付の図面は、さまざまな実施形態のさらなる理解を提供するために含まれ、本明細書に組み込まれて、その一部を構成する。図面は、本明細書に記載されるさまざまな実施形態を例証しており、その説明とともに、特許請求の範囲の主題の原理及び動作を説明する役割を担う。
本明細書に開示及び記載された実施形態によるガラスウエハの概略的な側面図 図１Ａと同じ 本明細書に開示及び記載された実施形態によるガラスウエハの概略的な平面図 本明細書に開示及び記載された実施形態によるコーティングされたガラスウエハの概略図 本明細書に開示及び記載された実施形態による層状のコーティング構造を有するコーティングされたガラスウエハの概略図
これより、その実施形態が添付の図面に示される、高アスペクト比を有するガラスウエハの実施形態を詳細に参照する。可能な場合はいつでも、同一又は類似した部分についての言及には、図面全体を通して同じ参照番号が用いられる。一実施形態では、ガラスウエハは、第１の主面、該第１の主面に平行であり、かつその反対側にある第２の主面、第１の主面と第２の主面との間の厚さ、及びガラスウエハの最外径からガラスウエハの幾何学中心に向かって延びる環状エッジ部分を備えている。幾つかの実施形態によれば、ガラスウエハは、１７５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下の直径及び０．３５０ｍｍ未満の厚さを有する。エッジ部分の幅は１０ｍｍ未満である。
シリカから、大きい直径及び小さい厚さを有する、高品質のガラスウエハを製造することが望ましい。しかしながら、大きい直径、小さい厚さ、及び良好な表面特性を有するシリカから作られたガラスウエハの形成及び仕上げにおける制限により、このようなガラスウエハの形成は、これまで妨げられてきた。例えば、約１００ｍｍ〜１５０ｍｍの直径及び約０．５ｍｍ以上の厚さを有し、小さい湾曲、小さい反り、及び小さいＴＴＶなどの良好な表面特性も有するガラスウエハである。しかしながら、ガラスウエハの直径が増大し、ガラスウエハの厚さが減少するにつれて、仕上げ中にガラスウエハを破壊することなく良好な表面特性を有するガラススウエハを達成することは、ますます困難になる。
本明細書で用いられる「ガラスウエハ」とは、酸化物基準で４０質量％〜１００質量％のＳｉＯ２を含むウエハを指す。本明細書で言及されるガラスウエハのクラス内で、「シリカガラスウエハ」という用語は、酸化物基準で９０質量％〜１００質量％のＳｉＯ２を含むガラスウエハを指す。したがって、本明細書で用いられる「ガラスウエハ」という用語は、「シリカガラスウエハ」のサブクラスを含む。
例えば、大きい直径、小さい厚さ、及び良好な表面特性を有するシリカガラスウエハなどのガラスウエハの製造を妨げる２つの重要な問題が存在する；すなわち、ガラスウエハのサバイバビリティと、表面特性の達成である。
サバイバビリティに関しては、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハの厚さが減少するにつれて、及びガラスウエハのＴＴＶが減少するにつれて、ガラスウエハのエッジは、例えばコンピュータ数値制御（ＣＮＣ）機械加工などの従来の技術を使用しては、もはや処理できない。したがって、ガラスウエハのエッジは面取りされるが、それによって損傷を生じる可能性がある。
加えて、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハの直径が大きくなると、処理中に損傷し易くなる。例えば、処理中のガラスウエハ用のキャリアは概して環状の形状を有し、ガラスウエハが傷ついたり欠けたりしないようにプラスチックでできている。キャリアはまた、概して、ガラスウエハの表面の大部分を研磨できるように、エッジ部分でのみガラスウエハに接触する。したがって、このような条件下で大きい直径を有するガラスウエハを研磨する場合、ガラスウエハとキャリアの両方に大きい圧力がかかり、ガラスウエハに損傷を与えるか、あるいはプラスチックキャリアを破損し、それによってガラスウエハを損傷させる可能性がある。よって、大きい直径及び小さい厚さを有するガラスウエハのサバイバビリティの達成は困難である。
達成可能性に関しては、上述のように、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハは直径が大きく厚さが小さいことから、研磨中にキャリアに大きな圧力がかかり、場合によっては、この圧力により、プラスチックキャリアが破損してしまう。例えば金属などのプラスチックよりも強い材料は、ガラスと金属の接触により、スクラッチ及び他の許容できない損傷がガラスウエハに生じることから、ガラスウエハのキャリアとして使用することができない。大きい直径及び小さい厚さを有し、かつ所望の湾曲、反り、及びＴＴＶも有するウエハを製造することは困難でありうる。
本明細書に記載される実施形態による、例えばシリカガラスウエハなどの例示的なガラスウエハ１００が図１に示されている。ガラスウエハ１００は、酸化物基準で４０質量％以上１００質量％以下のＳｉＯ２を含むなど、主にシリカから形成される。幾つかの実施形態では、ガラスウエハ１００は、９０質量％以上１００質量％以下のＳｉＯ２を含むシリカガラスウエハである。したがって、本明細書で用いられるシリカガラスウエハは、ガラスウエハのサブクラスである。幾つかの実施形態では、シリカガラスウエハは、例えば９００ｐｐｂ未満の金属汚染物質、又はさらには８００ｐｐｂ未満の金属汚染物質など、質量で約１０００パーツ・パー・ビリオン（ｐｐｂ）未満の金属汚染物質を含む。１つ以上の実施形態では、シリカガラスウエハは、例えば５０ｐｐｂ未満の金属汚染物質、又はさらには２０ｐｐｂ未満の金属汚染物質など、質量で約１００パーツ・パー・ビリオン（ｐｐｂ）未満の金属汚染物質を含む。幾つかの実施形態では、シリカガラスウエハは、例えば９００ｐｐｍ未満のＯＨ基、又はさらには８００ｐｐｍ未満のＯＨ基など、質量で１０００パーツ・パー・ミリオン（ｐｐｍ）未満のＯＨ基を含む。１つ以上の実施形態では、シリカガラスウエハは、例えば５０ｐｐｍ未満のＯＨ基、２０ｐｐｍ未満のＯＨ基、１０ｐｐｍ未満のＯＨ基、又は５ｐｐｍ未満のＯＨ基など、質量で１００パーツ・パー・ミリオン（ｐｐｍ）未満のＯＨ基を含む。実施形態では、シリカガラスウエハは、例えば５０ｐｐｍ未満のＯＤ基、２０ｐｐｍ未満のＯＤ基、１０ｐｐｍ未満のＯＤ基、又は５ｐｐｍ未満のＯＤ基など、質量で１００ｐｐｍ未満のＯＤ基を含む。
幾つかの実施形態では、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハは、ガラスウエハの熱膨張係数（ＣＴＥ）を制御し、ガラスウエハの透過率を増加させるために、ＴｉＯ２を含みうる。ガラスウエハのＣＴＥ及び透過率を修正するためにＴｉＯ２を取り込むこのような実施形態では、ＴｉＯ２は前の段落で説明した金属汚染物質とはみなされない。実施形態では、ガラスウエハは、５質量％以上１５質量％以下のＴｉＯ２、又は７質量％以上７．５質量％以下のＴｉＯ２など、０質量％以上２０質量％以下のＴｉＯ２を含みうる。他の実施形態では、シリカガラスウエハは、例えば、７質量％以上７．５質量％以下のＴｉＯ２など、０質量％以上１０質量％以下のＴｉＯ２を含む。上記の成分は、いずれもその全体が参照することによって本明細書に組み込まれる米国特許第７，９２８，０２６号及び米国特許第８，０６２，９８６号の各明細書にそれぞれ記載されるＩＣＰ−ＭＳ及びＦＴＩＲ技術によって特徴付けることができる。
実施形態によれば、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００は、１．４５以上１．９０以下の屈折率を有しうる。材料の屈折率は、光が材料を伝播する速度を表す。それは次式（１）によって定義される：
Ｎ＝ｃ／ｖ 式（１）
式中、ｎは所与の材料の屈折率であり、ｃは減圧における光の速度であり、ｖは指定された材料における光の位相速度である。本明細書で用いられる「屈折率」は、５８９ｎｍの波長を有する光に基づいている。幾つかの実施形態では、ガラスウエハ１００は、１．５０以上１．９０以下、例えば１．５５以上１．９０以下、１．６０以上１．９０以下、１．６５以上１．９０以下、１．７０以上１．９０以下、１．６５以上１．８０以下、１．６５以上１．７５以下、１．７５以上１．９０以下、１．８０以上１．９０以下、又は１．８５以上１．９０以下などの屈折率を有する。他の実施形態では、ガラスウエハ１００は、１．４５以上１．８５以下、１．４５以上１．８０以下、１．４５以上１．７５以下、１．４５以上１．７０以下、１．４５以上１．６５以下、１．４５以上１．６０以下、１．４５以上１．５５以下、又は１．４５以上１．５０以下の屈折率を有する。さらに他の実施形態では、ガラスウエハは、１．５０以上１．８５以下、例えば、１．５５以上１．８０以下、１．６０以上１．７５以下、又は１．６５以上１．７０以下などの屈折率を有する。
例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００は、第１の主面１１０と、該第１の主面１１０に対して実質的に平衡であり、かつそれと反対側にある第２の主面１２０とを有する。ガラスウエハ１００の最外径で（すなわち、周囲に沿って）露出しているのは、第１の主面１１０と第２の主面１２０との間に接触して配置された側壁１４０である。第１の主面１１０と第２の主面１２０は一緒に、ガラスウエハ１００の厚さｔを画成する。本明細書で用いられる場合、ガラスウエハ１００の厚さｔは、第１の主面１１０及び第２の主面１２０に対してほぼ垂直に測定された第１の主面１１０と第２の主面１２０との間の平均距離を指す。図１Ａ及び１Ｂは、実施形態によるガラスウエハ１００のさまざまな要素を説明するために用いられる例示的な概略図であり、縮尺通りには描かれていないことが理解されるべきである。特に、図１Ａ及び１Ｂに示されるガラスウエハ１００の厚さｔは、縮尺通りに描かれておらず、図１Ａ及び１Ｂに示されたものよりも薄い。
次に、図２を参照すると、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００は、ガラスウエハのエッジ部分１３０の第１の位置１３１から、ガラスウエハ１００の幾何学中心を通ってガラスウエハのエッジ部分１３０の第２の位置１３２へと直線状に延びる直径ｄを有する。ガラスウエハ１００の直径ｄは、ガラスウエハ１００の周囲に沿った第１の位置１３１及び第２の位置１３２の位置にかかわらず、実質的に一定である。しかしながら、当業者は、製造プロセスの不整合の結果として、直径ｄのわずかな変動が生じうることを認識するであろう。したがって、本明細書で用いられる直径ｄは、ガラスウエハの平均直径ｄ１００を指す。ガラスウエハ１００の直径ｄは、ガラスウエハ１００の露出したエッジ表面からガラスウエハ１００の幾何学中心に向かって延びる環状エッジ部分１３０を含む。
上述のように、図１Ａ、１Ｂ、及び２を参照すると、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００は、ガラスウエハのエッジの第１の点１３１からガラスウエハ１００の幾何学中心を通ってガラスウエハのエッジの第２の点１３２へと直線状に延びる直径ｄを有する。本明細書に開示及び記載された実施形態によるガラスウエハ１００は、当技術分野で通常説明されるガラスウエハと比較して、相対的に大きい直径を有するように形成される。これらの大きい直径により、シリカガラスウエハを、大きい直径のウエハを必要としうる複数の用途で使用できるようになり、また、所望のサイズに分割できる、大きいウエハでのシリカの効率的な形成も提供できるようになる。
実施形態では、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００の直径ｄは、１７５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、例えば１８５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、１９５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、２０５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、２１５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、２２５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、２３５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、２４５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、２５０ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、２６０ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、２７０ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、２８０ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、２９０ｍｍ以上３２５ｍｍ以下、又は３００ｍｍ以上３２５ｍｍ以下などである。他の実施形態では、ガラスウエハ１００の直径ｄは、１７５ｍｍ以上３１５ｍｍ以下、例えば１７５ｍｍ以上３００ｍｍ以下、１７５ｍｍ以上２９０ｍｍ以下、１７５ｍｍ以上２８０ｍｍ以下、１７５ｍｍ以上２７０ｍｍ以下、１７５ｍｍ以上２６０ｍｍ以下、１７５ｍｍ以上２５０ｍｍ以下、１７５ｍｍ以上２４０ｍｍ以下、１７５ｍｍ以上２３０ｍｍ以下、１７５ｍｍ以上２２０ｍｍ以下、１７５ｍｍ以上２１０ｍｍ以下、又は１７５ｍｍ以上２００ｍｍ以下などである。さらに他の実施形態では、ガラスウエハ１００の直径ｄは、２００ｍｍ以上３００ｍｍ以下、例えば２１０ｍｍ以上２９０ｍｍ以下、２２０ｍｍ以上２８０ｍｍ以下、２３０ｍｍ以上２７０ｍｍ以下、２４０ｍｍ以上２６０ｍｍ以下、又は２４５ｍｍ以上２５５ｍｍ以下などである。上記の範囲は、明示的に列挙された範囲の間のすべての範囲及び部分範囲を含むことが理解されるべきである。
上記開示したように、実施形態による、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００の直径ｄは、ガラスウエハの周囲に沿った任意の点で測定した場合に実質的に一定であるが、当業者は、製造の予測不可能性の結果として、ガラスウエハの直径ｄのわずかな変動が存在することを認識するであろう。しかしながら、ガラスウエハの周囲に沿った任意の点で測定した場合に直径ｄの変動を最小限に抑えるための手順が取られる。本明細書で用いられる場合、直径の変動は、ガラスウエハの平均直径と比較した絶対値として提供される。例えば、ガラスウエハが２５０ｍｍの平均直径及び±０．２０ｍｍの直径変動を有する場合、ガラスウエハは２４９．８ｍｍ〜２５０．２ｍｍの直径を有しうる。実施形態では、ガラスウエハの周囲にわたる直径ｄの変動は、±０．２０ｍｍ以下、例えば±０．１５ｍｍ以下、又は±０．１０ｍｍ以下などである。
上述のように、多くの用途で使用するために、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００は比較的薄いことが望ましい。したがって、実施形態によるガラスウエハ１００は、ガラスウエハの直径ｄによって画成される大きい表面積と、第１の主面１１０と第２の主面１２０との間の距離によって画成される比較的小さい厚さｔとを有する。ガラスウエハの厚さｔに対するガラスウエハ１００の直径ｄの比は、ガラスウエハ１００のアスペクト比によって表すことができる。具体的には、ガラスウエハ１００のアスペクト比は、ガラスウエハの厚さｔに対するガラスウエハの直径ｄの比として定義される。アスペクト比は、本明細書ではコロンで区切られた２つの数値（例えば、１５０：１）として表される。アスペクト比の数値は、必ずしもガラスウエハ１００の直径ｄ又はガラスウエハ１００の厚さの実際の値を表すものではない。むしろ、それらは、ガラスウエハ１００の直径ｄとガラスウエハ１００の厚さとの間の関係を表している。例えば、３００ｍｍの直径ｄ及び０．２ｍｍの厚さｔを有するガラスウエハ１００のアスペクト比は、１５００：１で表されるであろう。
本明細書に開示される１つ以上の実施形態では、アスペクト比は、４７５：１以上７００：１以下、例えば、５００：１以上７００：１以下、５２５：１以上７００：１以下、５５０：１以上７００：１以下、５７５：１以上７００：１以下、６００：１以上７００：１以下、６２５：１以上７００：１以下、６５０：１以上７００：１以下、又は６７５：１以上７００：１以下などでありうる。他の実施形態では、アスペクト比は、４７５：１以上６７５：１以下、４７５：１以上６５０：１以下、４７５：１以上６２５：１以下、４７５：１以上６００：１以下、４７５：１以上５７５：１以下、４７５：１以上５５０：１以下、４７５：１以上５２５：１以下、又は４７５：１以上５００：１以下でありうる。さらに他の実施形態では、アスペクト比は、５００：１以上６７５：１以下、５２５：１以上６５０：１以下、５５０：１以上６２５：１以下、又は５７５：１以上６００：１以下でありうる。上記の範囲は、明示的に列挙された範囲の間のすべての範囲及び部分範囲を含むことが理解されるべきである。
上述のように、実施形態による、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００は、上記開示されるガラスウエハ１００のアスペクト比で表されうる、比較的大きい直径ｄ及び比較的小さい厚さｔを有する。これらのアスペクト比を達成するため、ガラスウエハの厚さｔは、実施形態によれば、０．３５０ｍｍ未満、例えば０．３２５ｍｍ未満、０．３００ｍｍ未満、０．２７５ｍｍ未満、０．２５０ｍｍ未満、又は０．２２５ｍｍ未満などである。幾つかの実施形態では、ガラスウエハ１００の厚さｔは、０．２２５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下、例えば、０．２３５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下、０．２４５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下、０．２５５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下、０．２６５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下、０．２７５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下、０．２８５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下、０．２９５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下、０．３０５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下、又は０．３１５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下などでありうる。他の実施形態では、ガラスウエハ１００の厚さｔは、０．２２５ｍｍ以上０．３１５ｍｍ以下、０．２２５ｍｍ以上０．２９５ｍｍ以下、０．２２５ｍｍ以上０．２８５ｍｍ以下、０．２２５ｍｍ以上０．２７５ｍｍ以下、０．２２５ｍｍ以上０．２６５ｍｍ以下、０．２２５ｍｍ以上０．２５５ｍｍ以下、０．２２５ｍｍ以上０．２４５ｍｍ以下、又は０．２２５ｍｍ以上０．２３５ｍｍ以下でありうる。さらに他の実施形態では、ガラスウエハ１００の厚さｔは、０．２３５ｍｍ以上０．３１５ｍｍ以下、０．２４５ｍｍ以上０．３０５ｍｍ以下、０．２５５ｍｍ以上０．２９５ｍｍ以下、又は０．２６５ｍｍ以上０．２８５ｍｍ以下でありうる。上記の範囲は、明示的に列挙された範囲の間のすべての範囲及び部分範囲を含むことが理解されるべきである。
ある特定の用途に必要とされる、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００の大きい直径ｄ及び小さい厚さｔに加えて、実施形態では、第１の主面１１０及び第２の主面１２０の品質は、特定の用途のために制御される。ガラスウエハの第１の主面１１０及び第２の主面１２０の品質は、ガラスウエハ１００のＴＴＶ、湾曲、及び反りを測定することにより定量化することができる。これらの測定値のそれぞれは独立しており、さまざまな実施形態は、以下に開示されるＴＴＶ、湾曲、及び反りの値の任意の組合せを有しうることが理解されるべきである。
例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００のＴＴＶは、ＡＳＴＭ Ｆ６５７に規定されているように測定される。すなわち、ＴＴＶは、ガラスウエハ１００の第１の主面１１０及び第２の主面１２０の走査パターン又は一連の点測定中に遭遇する厚さの最大値と最小値との差である。実施形態では、ガラスウエハ１００は５μｍ未満のＴＴＶを有する。他の実施形態では、ガラスウエハ１００は、例えば３μｍ以下、２μｍ以下、又は１μｍ以下など、４μｍ以下のＴＴＶを有する。上記の範囲は、明示的に列挙された範囲の間のすべての範囲及び部分範囲を含むことが理解されるべきである。ガラスウエハのＴＴＶが大きすぎる場合、特にガラスウエハの複数の表面で光が反射される用途では、ガラスウエハの歪みの量が増加する。
実施形態によれば、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００は、比較的小さい湾曲及び／又は反りを有しうる。ＡＳＴＭ Ｆ５３４で説明されているように、「湾曲」とは、メジアン表面の中心点の基準面に対する偏差を指す。同様に、ＡＳＴＭ Ｆ１３９０で説明されているように、「反り」とは、基準面からのメジアン表面の最大距離と最小距離の差を指す（ＡＳＴＭ Ｆ５３４又はＡＳＴＭ Ｆ１３９０で教示されているメジアン表面は、ガラスウエハの第１の主面１１０及び第２の主面１２０から等距離であると計算された、ウエハの内部の「仮想」表面である）。
実施形態によれば、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００は、±４０μｍ未満の湾曲を有しうる。他の実施形態では、ガラスウエハ１００は、例えば±３０μｍ以下、±２５μｍ以下、±２０μｍ以下、±１５μｍ以下、又は±１０μｍ以下など、±３５μｍ以下の湾曲を有しうる。上記の範囲は、明示的に列挙された範囲の間のすべての範囲及び部分範囲を含むことが理解されるべきである。ガラスウエハの湾曲が大きすぎる場合、特に光がガラスウエハ及び／又は隣接する層の複数の表面で反射され、かつ、ガラスウエハの一部を横断する際に内部全反射によって伝達される用途では、ガラスウエハの歪みの量が増加する。
実施形態によれば、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００は、４５μｍ以下の反りを有しうる。他の実施形態では、ガラスウエハ１００は、４０μｍ以下、３５μｍ以下、３０μｍ以下、２５μｍ以下、２０μｍ以下、１５μｍ以下、又は１０μｍ以下の反りを有しうる。上記の範囲は、明示的に列挙された範囲の間のすべての範囲及び部分範囲を含むことが理解されるべきである。ガラスウエハの反りが大きすぎる場合、特に光がガラスウエハ及び／又は隣接する層の複数の表面で反射され、かつ、ガラスウエハの一部を横断する際に内部全反射によって伝達される用途では、ガラスウエハの歪みの量が増加する。
例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハの第１の主面１１０及び第２の主面１２０の湾曲及び反りに加えて、ガラスウエハの品質、特に第１の主面１１０及び第２の主面１２０の品質は、第１の主面１１０及び第２の主面１２０の少なくとも一方の光学ウエッジを測定することにより定量化することができる。光学ウエッジとは、２つの平面間の角度を指す。一般に、光学ウエッジは、数百万分の１度から３度までの範囲でありうる。光学ウエッジは変位角（ａｒｃ秒）単位で測定される。実施形態では、ガラスウエハ１００は、０．０３０ａｒｃ秒未満の光学ウエッジを有する。他の実施形態では、ガラスウエハ１００は、０．０２０ａｒｃ秒以下、０．０１５ａｒｃ秒以下、又は０．０１０ａｒｃ秒以下など、０．０２５ａｒｃ秒以下の光学ウエッジを有する。上記の範囲は、明示的に列挙された範囲の間のすべての範囲及び部分範囲を含むことが理解されるべきである。
幾つかの実施形態では、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００の光学特性を乱さないように、第１の主面１１０及び第２の主面の少なくとも一方は、比較的滑らかであることが望ましい場合がある。粗い表面は、可視光範囲で光散乱及び反射率を増加させる。１つ以上の実施形態では、ガラスウエハ１００が撮像システムで利用される場合、粗い表面は強度及びコントラストを低下させる可能性がある。少なくとも１つの実施形態では、第１の主面１１０及び第２の主面１２０の少なくとも一方は、２ｎｍ以下の表面粗さ（Ｒａ）を有しうる。表面粗さ（Ｒａ）は、次の式（４）によって特徴付けることができる：
Figure 2020511383
式中、ｙは測定された高さの値を表し、ｎは行われた測定の数を表す。幾つかの実施形態では、第１の主面１１０及び第２の主面１２０の少なくとも一方は、約１．５ｎｍ以下、約１．０ｎｍ以下、又は０．５ｎｍ以下の表面粗さ（Ｒａ）を有しうる。
次に図２を参照すると、実施形態によれば、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００は、該ガラスウエハ１００の外周に存在する環状エッジ部分１３０を含む。エッジ部分はガラスウエハのクリアアパーチャを取り囲む。本明細書で用いられる「クリアアパーチャ」（又はＣＡ）という用語は、例えば１つ以上の指定された値を満たす、光学特性などの特性を有するガラスウエハの完成部分を指す。クリアアパーチャ直径という用語は、ガラスウエハのクリアアパーチャ部分の外側エッジを指す。対照的に、エッジ部分１３０は、指定された値の１つ以上を満たす特性を有しない。指定された値は、ガラスウエハの所望の最終用途によって決定され、さまざまな実施形態で異なりうる。指定された値は、概して、上記の表面粗さ、湾曲、反り、及びＴＴＶの値のうちの１つ以上、並びに、本明細書に記載されるヘイズ、汚れ、ウエッジ、及びスクラッチ・ディグ（scratch-dig）の値から選択される。
エッジ部分１３０は、本明細書ではエッジ部分１３０の幅ｗと称される距離で、ガラスウエハ１００の最外径からガラスウエハ１００の幾何学中心に向かって延びる。エッジ部分１３０の幅ｗは、ガラスウエハ１００の周囲で実質的に一定である。しかしながら、当業者は、製造の不整合に起因して、エッジ部分１３０の幅ｗに小さな変動がありうることを認識するであろう。エッジ部分は、ガラスウエハ１００の仕上げによる産物である。例えば、実施形態では、例えばガラスウエハのコーティングなどの仕上げプロセスを受けるときに、ガラスウエハ１００を保持するためにリングホルダが使用される。リングホルダは、仕上げプロセスのすべての工程に存在する必要はないことが理解されるべきである。リングホルダは、その環状形状からそのように名付けられている。したがって、リングホルダは、エッジ部分１３０又はその付近でガラスウエハ１００と接触し、コーティングプロセスが行われている間、ガラスウエハ１００を保持する。コーティングされたガラスウエハの場合、これは、コーティングされたガラスウエハ１００における残りの部分（「クリアアパーチャ」の部分）が有するコーティングを有していない環状エッジ部分１３０をもたらす。本明細書に記載される例示的な実施形態では、エッジ部分１３０は、クリアアパーチャの仕上げを有しておらず、また、例えば、引っ掻き、くぼみ、亀裂、微小亀裂などの表面的な損傷を有している可能性がある。しかしながら、クリアアパーチャは、多くの用途で使用可能な比較的手付かずの表面である。したがって、エッジ部分１３０の幅ｗをできるだけ小さく保つことが望ましい。
実施形態では、エッジ部分１３０の幅ｗは、９ｍｍ以下、８ｍｍ以下、７ｍｍ以下、又は６ｍｍ以下など、１０ｍｍ未満である。他の実施形態では、エッジ部分１３０の幅ｗは、４ｍｍ以下、又は３ｍｍ以下など、５ｍｍ以下（例えば、０ｍｍ〜５ｍｍ、０．２ｍｍ〜５ｍｍ、０ｍｍ〜３ｍｍ、又は０．２ｍｍ〜３ｍｍ）である。
クリアアパーチャの品質は、一部には、研磨、研削、及び他の表面処理など、さまざまな仕上げプロセスによってもたらされる。図１Ａ及び１Ｂを参照すると、１つ以上の実施形態では、リングホルダは、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハの周囲に配置され、それによって、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００の側壁１４０に接触する。リングホルダは、例えば研磨などのさまざまな仕上げプロセス中にガラスウエハを固定する。しかしながら、幾つかの実施形態によれば、仕上げプロセスは、ガラスウエハの表面全体には行われない。例えば、１つ以上の実施形態において、図２を参照すると、仕上げプロセスは、ガラスウエハ１００のエッジ部分１３０には行われない。幾つかの実施形態では、エッジ部分１３０の少なくとも一部は、ガラスウエハの表面が主面１１０、１２０の１つ以上から側壁１４０まで角度が付けられている、面取り部を含みうる。面取り部の角度は特に限定されず、幾つかの実施形態では、隣接する主面の平面から測定して１５°から約７５°の角度でありうる。エッジ部分のこの面取りされた部分は、ガラスウエハ１００の厚さｔ全体には及ばない側壁１４０を生じる。１つ以上の実施形態では、側壁１４０は、ウエハ厚さｔの５５％〜６５％など、ウエハ厚さｔの５０％〜７０％を含む。したがって、一例として、０．２ｍｍの厚さを有するウエハでは、側壁は０．１ｍｍ〜０．１４ｍｍでありうる。エッジ部分１３０の面取り部分は、湾曲、反り、及びＴＴの測定には含まれないことが理解されるべきである。加えて、ガラスウエハの面取り部分は、第１の主面１１０又は第２の主面１２０と同じ平面上にはないことから、ガラスウエハの面取り部分は、第１の主面１１０及び第２の主面と同じ仕上げ処理を受けないことが理解されるべきである。
上述のように、実施形態では、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００は、エッジ部分１３０とクリアアパーチャとに分けられ、エッジ部分１３０は表面損傷を有する場合がある。しかしながら、クリアアパーチャは、多くの用途で使用可能な比較的手付かずの表面である。クリアアパーチャのさまざまな特性が以下に記載される。
クリアアパーチャは、一般に、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００の第１の主面１１０又は第２の主面１２０から、ガラスウエハ１００を通じて第１の主面１１０又は第２の主面１２０の他方へと光を伝達する。ヘイズは、光にさらされているガラスウエハ１００の表面から光が反射したとき、ガラスウエハ１００内で光が屈折したとき、光にさらされていないガラスウエハ１００の表面から光が反射したとき、並びに光が上述のガラスウエハ１００の屈折率によって決定される角度でガラスウエハを通過したときに発生する。ガラスウエハのヘイズは、ＡＳＴＭ Ｄ１００３に準拠して測定することができる。実施形態によれば、クリアアパーチャの内側のガラスウエハ１００は、１％未満のヘイズを有する。他の実施形態では、ガラスウエハ１００は０％のヘイズを有する。
ヘイズに加えて、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハは、ガラスの表面上の微細な有機種及び／又は無機種の汚染によって引き起こされる汚れを有しうる。汚れは、上記のヘイズと同様に測定できるが、本質的に局所的である、すなわち、汚染が存在する場所がガラスウエハの表面全体で一貫性がない傾向がある。実施形態では、ガラスウエハは約０の汚れを有する。
例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハの表面の別の測定可能な特性は、ＭＩＬ−Ｏ−１３８３０に記載されるスクラッチ・ディグである。スクラッチ・ディグは、ガラスウエハのクリアアパーチャ全体と比較して、表面欠陥が占める面積に制限を設ける。スクラッチは、ウエハ表面のマーキング又は引き裂きとして定義され、ディグは、ガラスウエハ表面の小さい粗い斑点として定義され、泡及び汚れを含む。スクラッチ・ディグは、６０／４０など、スラッシュで区切られた２つの数値で表される。最初の数値は視覚的な基準に従ってスクラッチ幅（μｍ単位）を定めており、２番目の数値はディグを指し、ディグの実際のサイズ（×１０μｍ単位）の制限を確立する。実施形態では、ガラスウエハのスクラッチ・ディグは、例えば２０／１０以下など、４０／２０以下でありうる。幾つかの実施形態では、例えば、環状エッジ部分１３０は、４０／２０を超えるスクラッチ・ディグを有しうる。
幾つかの実施形態では、上述した、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハは、コーティングを有していてもよい。ある特定の実施形態では、コーティングは反射防止コーティングでありうる。次に図３を参照すると、この実施形態によれば、例えばシリカガラスウエハなどのコーティングされたガラスウエハ３００は、その主面の一方に反射防止コーティング３１０を有するガラスウエハ１００を含む。反射防止コーティング３１０は、空気側の表面を含むことができ、ガラスウエハ１００の主面と接触しうる。本明細書で用いられる「接触」という用語は、直接接触又は間接接触のいずれかを意味しうる。直接接触とは、介在物質が存在しない接触を指し、間接接触とは、１つ以上の介在物質を介した接触を指す。直接接触する要素は、互いに触れ合っている。間接接触する要素は互いに触れ合わないが、１つの介在材料又は一連の介在材料とは触れ合っており、その介在材料又は一連の介在材料の少なくとも１つが他の材料と触れ合っている。接触している要素は、堅く結合されていても、柔軟に（non-rigidly）結合されていてもよい。接触とは、２つの要素を直接又は間接的に接触させて配置することを指す。直接接触している要素は、互いに直接的に接触していると言える。間接接触している要素は、互いに間接的に接触していると言える。２つの要素が互いに「接触している」場合、幾つかの実施形態では、それらは互いに直接接触していることが理解されるべきである。図３は例示にすぎず、縮尺通りに描かれていないことが理解されるべきである。
本明細書で用いられる反射防止コーティング３１０とは、１つ以上の波長において比較的低い反射率（すなわち、高い透過率）を有するコーティングを指す。１つ以上の実施形態では、コーティングされたガラスウエハ３００は、約１０°以下の入射角でＡＲコーティング１２０を含む表面で見た場合に、４５０ｎｍ〜７００ｎｍのすべての波長にわたり、約０．２％以下の反射率を有しうる。反射率は、表面で反射される光の相対的な量を表す、表面の特性である。反射率は、反射光の強度を入射光の強度で除算したものとして定義され、パーセンテージで表すことができる。反射率は、入射光の波長と入射角に基づいて、所与の材料で変動しうる。反射率は、可視光の波長（すなわち４５０ｎｍ〜７００ｎｍ）にわたって測定されうる。特に明記しない限り、本明細書で言及される反射率は、約１０°以下の入射角で測定される（反射コーティングの表面の法線に対して）。
反射防止コーティング３１０は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＳｉＯ、ＡｌＯｘＮｙ、ＡｌＮ、ＳｉＮｘ、ＳｉＯｘＮｙ、ＳｉｕＡｌｖＯｘＮｙ、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＮ、ＭｇＯ、ＭｇＦ２、ＢａＦ２、ＣａＦ２、ＳｎＯ２、ＨｆＯ２、Ｙ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＤｙＦ３、ＹｂＦ３、ＹｂＦｘＯｙ、ＹＦ３、ＣｅＦ３、ポリマー、フルオロポリマー、プラズマ重合ポリマー、シロキサンポリマー、シルセスキオキサン、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリフェニルスルホン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリルポリマー、ウレタンポリマー、ポリメチルメタクリレート、若しくは、当技術分野で知られている又は発見される他の材料などの材料を含みうるが、これらに限定されない。
１つ以上の実施形態の反射防止コーティング３１０は、複数の層を含みうる。このような実施形態の１つが図４に示されている。反射防止コーティング３１０の層３１１、３１２、及び３１３は、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００の第１の主面及び／又は別の層と接触しうる。１つ以上の実施形態では、１つの層のみがガラスウエハ１００の主面と接触する。１つ以上の実施形態では、各層は、２層より多い他の層と接触する層が存在しないような態様で施される。図４は例示にすぎず、縮尺通りに描かれていないことが理解されるべきである。
幾つかの実施形態では、追加の又は代替のコーティングを使用することができる。１つ以上の実施形態では、例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハに、ＵＶフィルタリングコーティング、赤外線吸収コーティングなどを施してもよい。ウエハの所望の用途に応じて、現在知られている又は後に開発される任意の適切なコーティングをガラスウエハに施すことができる。
例えばシリカガラスウエハなどのガラスウエハ１００は、実施形態によれば、限定はしないが、仮想現実ディスプレイ、回路、又は集積回路、ＭＥＭＳ、ＬＥＤ、ＣＩＳ、ｃ−ＰＶ、メモリ、ロジックＩＣ、ＲＦ／アナログＩＣ、マイクロ流体デバイス、マイクロディスプレイ、レーザー／ＶＣＳＥＬ、燃料電池、マイクロバッテリ、パワーデバイス、光学センサ及び物理センサ、アンテナ、フィルタ、分光計、測定デバイス、マイクロ波デバイス、カバーガラス、保護カバー、グレーティング、コネクタ、光結合など、さまざまなデバイスに使用することができる。加えて、実施形態によるガラスウエハ１００は、導波管内、レンズとしてなど、光学デバイスに用いることができる。さらには、実施形態によるガラスウエハは、絶縁材料及びインターポーザに用いることができる。
第１項によれば、ガラスウエハは、第１の主面、該第１の主面に平行であり、かつその反対側にある第２の主面；第１の主面と第２の主面との間の厚さ；及びガラスウエハの最外径からガラスウエハの幾何学中心に向かって延びる環状エッジ部分を含み、ここで、ガラスウエハの直径は１７５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下であり、厚さは０．３５０ｍｍ未満であり、エッジ部分の幅は１０ｍｍ未満である。
第２項は、ガラスウエハの直径が２００ｍｍ以上３００ｍｍ以下である、第１項に記載のガラスウエハを含む。
第３項は、厚さが０．２２５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下である、第１項又は第２項に記載のガラスウエハを含む。
第４項は、エッジ部分の幅が５ｍｍ未満である、第１項〜第３項のいずれかに記載のガラスウエハを含む。
第５項は、ガラスウエハのアスペクト比が４７５：１以上７００：１以下である、第１項〜第４項のいずれかに記載のガラスウエハを含む。
第６項は、ガラスウェハの周囲にわたる直径ｄの変動が±０．２０ｍｍ以下である、第１項〜第５項のいずれかに記載のガラスウエハを含む。
第７項は、ガラスウエハが５μｍ未満の全厚さ変動（ＴＴＶ）を有する、第１項〜第６項のいずれかに記載のガラスウエハを含む。
第８項は、ガラスウエハが±３５μｍ以下の湾曲を有する、第１項〜第７項のいずれかに記載のガラスウエハを含む。
第９項は、ガラスウエハが４５μｍ以下の反りを有する、第１項〜第８項のいずれかに記載のガラスウエハを含む。
第１０項は、ガラスウエハが０．０３０ａｒｃ秒未満の光学ウエッジを有する、第１項〜第９項のいずれかに記載のガラスウエハを含む。
第１１項は、ガラスウエハが４０／２０以下のスクラッチ・ディグを有する、第１項〜第１０項のいずれかに記載のガラスウエハを含む。
第１２項は、ガラスウエハが反射防止コーティングをさらに含む、第１項〜第１１項のいずれかに記載のガラスウエハを含む。
第１３項は、第１項〜第１２項のいずれかに記載のガラスウエハを含む、光学的、電気的、又は機械的デバイスを含む。
第１４項は、第１の主面；該第１の主面に平行であり、かつその反対側にある第２の主面；第１の主面と第２の主面との間の厚さ；並びに、ガラスウエハの最外径からガラスウエハの幾何学中心に向かって延びる環状エッジ部分を備えたガラスウエハを含み、ここで、ガラスウエハの直径は２００ｍｍ以上３２５ｍｍ以下であり、厚さは０．２２５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下であり、エッジ部分の幅は５ｍｍ未満であり、ガラスウエハの全厚さ変動（ＴＴＶ）は１μｍ未満であり、ガラスウエハの湾曲は±１５μｍ以下であり、ガラスウエハ反りは３０μｍ以下である。
第１５項は、ガラスウエハが１．４５以上１．９０以下の屈折率を有する、第１４項のガラスウエハを含む。
第１６項は、ガラスウエハが２ｎｍ以下の表面粗さ（Ｒａ）を有する、第１４項又は第１５項に記載のガラスウエハを含む。
第１７項は、ガラスウエハが２０／１０以下のスクラッチ・ディグを有する、第１４項又は第１５項に記載のガラスウエハを含む。
第１８項は、ガラスウエハが０．０３０ａｒｃ秒未満の光学ウエッジを有する、第１４項〜第１７項のいずれかに記載のガラスウエハを含む。
第１９項は、ガラスウェハの周囲にわたる直径ｄの変動が±０．２０ｍｍ以下である、第１４項〜第１８項のいずれかに記載のガラスウエハを含む。
第２０項は、ガラスウエハが反射防止コーティングをさらに含む、第１４項〜第１９項のいずれかに記載のガラスウエハを含む。
特許請求の範囲に記載の主題の精神及び範囲から逸脱することなく、本明細書に記載される実施形態にさまざまな修正及び変更を加えることができることは、当業者にとって明らかであろう。したがって、本明細書は、このような修正及び変更が添付の特許請求の範囲及びそれらの等価物の範囲内に入る限り、本明細書に記載されるさまざまな実施形態の修正及び変更に及ぶことが意図されている。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態１
第１の主面；
前記第１の主面に平行であり、かつその反対側にある第２の主面；及び
前記第１の主面と前記第２の主面との間の厚さ
を含む、ガラスウエハであって、
前記ガラスウエハの直径が１７５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下であり、
前記厚さが０．３５０ｍｍ未満である、
ガラスウエハ。
実施形態２
第１の主面；
前記第１の主面に平行であり、かつその反対側にある第２の主面；
前記第１の主面と前記第２の主面との間の厚さ；及び、
前記ガラスウエハの最外径から前記ガラスウエハの幾何学中心に向かって延びる環状エッジ部分
を含む、ガラスウエハであって、
前記ガラスウエハの直径ｄが１７５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下であり、
前記厚さが０．３５０ｍｍ未満であり、かつ
前記環状エッジ部分の幅が１０ｍｍ未満である、
ガラスウエハ。
実施形態３
前記ガラスウエハの前記直径が２００ｍｍ以上３００ｍｍ以下である、実施形態１又は２に記載のガラスウエハ。
実施形態４
前記厚さが０．２２５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下である、実施形態１〜３のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態５
前記環状エッジ部分の前記幅が５ｍｍ未満である、実施形態２〜４のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態６
前記ガラスウエハのアスペクト比が４７５：１以上７００：１以下である、実施形態２〜５のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態７
前記ガラスウェハの周囲にわたる直径ｄの変動が±０．２０ｍｍ以下である、実施形態１〜６のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態８
前記ガラスウエハが５μｍ未満の全厚さ変動（ＴＴＶ）を有する、実施形態１〜７のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態９
前記ガラスウエハが±３５μｍ以下の湾曲を有する、実施形態１〜８のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態１０
前記ガラスウエハが４５μｍ以下の反りを有する、実施形態１〜９のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態１１
前記ガラスウエハが０．０３０ａｒｃ秒未満の光学ウエッジを有する、実施形態１〜１０のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態１２
前記ガラスウエハが４０／２０以下のスクラッチ・ディグを有する、実施形態１〜１１のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態１３
前記ガラスウエハが反射防止コーティングをさらに含む、実施形態１〜１２のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態１４
実施形態１〜１３のいずれかに記載のガラスウエハを含む、光学的、電気的、又は機械的デバイス。
実施形態１５
第１の主面；
前記第１の主面に平行であり、かつその反対側にある第２の主面；
前記第１の主面と前記第２の主面との間の厚さ；及び
前記ガラスウエハの最外径から前記ガラスウエハの幾何学中心に向かって延びる環状エッジ部分
を含む、ガラスウエハであって、
前記ガラスウエハの直径が２００ｍｍ以上３２５ｍｍ以下であり、
前記厚さが０．２２５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下であり、
前記環状エッジ部分の幅が５ｍｍ未満であり、
前記ガラスウエハの全厚さ変動（ＴＴＶ）が１μｍ未満であり、
前記ガラスウエハの湾曲が±１５μｍ以下であり、かつ
前記ガラスウエハの反りが３０μｍ以下である、
ガラスウエハ。
実施形態１６
前記ガラスウエハが１．４５以上１．９０以下の屈折率を有する、実施形態１〜１５のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態１７
前記ガラスウエハが２ｎｍ以下の表面粗さ（Ｒａ）を有する、実施形態１〜１６のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態１８
前記ガラスウエハが４０／２０以下、好ましくは２０／１０以下のスクラッチ・ディグを有する、実施形態１〜１７のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態１９
前記ガラスウエハが０．０３０ａｒｃ秒未満の光学ウエッジを有する、実施形態１〜１８のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態２０
前記ガラスウェハの周囲にわたる直径ｄの変動が±０．２０ｍｍ以下である、実施形態１５〜１９のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態２１
前記ガラスウエハが反射防止コーティングをさらに含む、実施形態１５〜２０のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態２２
前記ガラスウエハの全厚さ変動（ＴＴＶ）が１μｍ未満であり、前記ガラスウエハの湾曲が±１５μｍ以下であり、前記ガラスウエハの反りが３０μｍ以下である、実施形態２〜１４のいずれかに記載のガラスウエハ。
実施形態２３
前記ガラスウェハの周囲にわたる直径ｄの変動が±０．２０ｍｍ以下である、実施形態２２に記載のガラスウエハ。
実施形態２４
実施形態１５〜２３のいずれかに記載のガラスウエハ（１００）を含む、光学的、電気的、又は機械的デバイス。
１００ ガラスウエハ
１１０ 第１の主面
１２０ 第２の主面
１３０ 環状エッジ部分
１３１ 第１の位置
１３２ 第２の位置
１４０ 側壁
３００ コーティングされたガラスウエハ
３１０ 反射防止コーティング
３１１，３１２，３１３ 層

Claims (5)

  1. 第１の主面（１１０）；
    前記第１の主面（１１０）に平行であり、かつその反対側にある、第２の主面（１２０）；
    前記第１の主面（１１０）と前記第２の主面（１２０）との間の厚さ；及び
    前記ガラスウエハ（１００）の最外径から前記ガラスウエハ（１００）の幾何学中心に向かって延びる環状エッジ部分（１３０）
    を含む、ガラスウエハ（１００）であって、
    前記ガラスウエハ（１００）の直径が１７５ｍｍ以上３２５ｍｍ以下であり、
    前記厚さが０．３５０ｍｍ未満であり、かつ
    前記環状エッジ部分（１３０）の幅が１０ｍｍ未満である、
    ガラスウエハ（１００）。
  2. 第１の主面（１１０）；
    前記第１の主面（１１０）に平行であり、かつその反対側にある、第２の主面（１２０）；
    前記第１の主面（１１０）と前記第２の主面（１２０）との間の厚さ；及び
    前記ガラスウエハ（１００）の最外径から前記ガラスウエハ（１００）の幾何学中心に向かって延びる環状エッジ部分（１３０）
    を含む、ガラスウエハ（１００）であって、
    前記ガラスウエハ（１００）の直径が２００ｍｍ以上３２５ｍｍ以下であり、
    前記厚さが０．２２５ｍｍ以上０．３２５ｍｍ以下であり、
    前記環状エッジ部分（１３０）の幅が５ｍｍ未満であり、
    前記ガラスウエハ（１００）の全厚さ変動（ＴＴＶ）が１μｍ未満であり、
    前記ガラスウエハ（１００）の湾曲が±１５μｍ以下であり、かつ
    前記ガラスウエハ（１００）の反りが３０μｍ以下である、
    ガラスウエハ（１００）。
  3. 前記ガラスウエハ（１００）が２ｎｍ以下の表面粗さ（Ｒａ）を有する、請求項１又は２に記載のガラスウエハ（１００）。
  4. 前記ガラスウェハ（１００）の周囲にわたる直径ｄの変動が±０．２０ｍｍ以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のガラスウエハ（１００）。
  5. 請求項１〜４のいずれかに記載のガラスウエハ（１００）を含む、光学的、電気的、又は機械的デバイス。
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