JP2020193765A - ガス置換用ドライルーム - Google Patents
ガス置換用ドライルーム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020193765A JP2020193765A JP2019099933A JP2019099933A JP2020193765A JP 2020193765 A JP2020193765 A JP 2020193765A JP 2019099933 A JP2019099933 A JP 2019099933A JP 2019099933 A JP2019099933 A JP 2019099933A JP 2020193765 A JP2020193765 A JP 2020193765A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- inert gas
- dew point
- low dew
- nitrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 112
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 63
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims abstract description 18
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 115
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 41
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 claims description 24
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 23
- 230000004087 circulation Effects 0.000 abstract description 22
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 5
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 37
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 37
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 30
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 21
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 21
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 6
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004887 air purification Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- -1 or the like Substances 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 2
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000007791 dehumidification Methods 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/26—Drying gases or vapours
- B01D53/261—Drying gases or vapours by adsorption
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/26—Drying gases or vapours
- B01D53/28—Selection of materials for use as drying agents
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/20—Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/10—Single element gases other than halogens
- B01D2257/104—Oxygen
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/80—Water
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2259/00—Type of treatment
- B01D2259/45—Gas separation or purification devices adapted for specific applications
- B01D2259/4525—Gas separation or purification devices adapted for specific applications for storage and dispensing systems
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Drying Of Gases (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
バルブ26、29、30を閉じ、バルブ27、28を開けて乾燥空気供給装置(図示せず)などからの乾燥空気を配管aから気密ブース1の上部から導入することで、窒素ガスを乾燥空気に置換する。低露点の乾燥空気が気密ブース1の上部からワンパスで供給されるようにすることにより、大量の空気を一度に安全に供給できるため、窒素と空気の置換スピードを大幅に短縮できる。気密ブース1の中で最も湿分を保持しやすい空気浄化フィルタ3の上部から、気密ブース1内部を循環させることなくワンパスで乾燥空気を供給することで、内部で人が作業しても湿分は容器1内に残らず外に排出される。
大気ブレーク後、気密ブース1内を窒素で置換して酸素濃度を100ppm以下といった規定の濃度以下にする。大気ブレークのケース(1)、(2)に応じて、窒素置換運転は以下のようになる。
気密ブース1内の酸素濃度が100ppm以下といった規定の濃度に低下した後、バルブ28、31を閉め、バルブ33、34、35、36を開ける。このとき、窒素精製機23の他のバルブは閉じたままにする。これにより、窒素精製機23の触媒容器18にハニカムロータ5のパージゾーン7を通過したガスが導入され、触媒容器18内の金属触媒により酸素除去が開始される。また、バルブ26を絞ることで配管aを通る窒素の供給流量を低減させ、窒素ガスを供給しつつ、気密ブース1内の正圧を保つ。気密ブース1からの還気RAは被処理ガスとして、配管bを通してハニカムロータ5に供給される。
2Cu+O2→2CuO
触媒が破過し、触媒容器を通過したガスが例えば酸素濃度1ppmなどの規定の濃度を超えた場合、触媒の再生運転を開始する。例えば、触媒容器18内の触媒が破過した場合、バルブ35、36を閉め、バルブ37、38を開き、パージゾーン7を通過したガスが触媒容器19に流れ込むように切り替える。次に、バルブ39、40、43、44を開け、水素ガスを含む窒素ガス供給装置や窒素ガス供給装置(図示せず)などから所定の濃度に調整した水素ガスを含む窒素ガスを触媒容器18に供給する。同時にヒータ20で加熱する。例えば、金属触媒に例えば銅が含まれている場合、次式のように酸化銅が水素と反応して還元され、銅となることにより酸素が除去され、触媒は再生され、真空ポンプ22によって真空引きされ、排気される。
CuO+H2→Cu+H2O
なお、反応によって排出された水はバルブ46を開けることにより、ドレンとして排出される。
なお、実施例2では一台のデシカント除湿機及び窒素精製機で供給するように構成したが、複数台のデシカント除湿機及び/または窒素精製機で、気密ブースに不活性ガスを供給するように構成してもよい。
気密ブース1Aを大気ブレークにより、大気環境に戻す場合について説明する。バルブ26、47B、47C、48A、51Aを閉じ、バルブ27、47A、50Aを開けて乾燥空気を配管aを通して気密ブース1Aの上部から導入することで、窒素ガスを乾燥空気に置換する。低露点の乾燥空気が気密ブース1Aの上部からワンパスで供給されるようにすることにより、大量の空気を一度に安全に供給できるため、窒素と空気の置換スピードを大幅に短縮できる。なお、全ての気密ブースにおいて、大気ブレークとなる場合には、バルブ48を全て閉じ、バルブ49を開くことで、気密ブースとは独立して、デシカント除湿機及び窒素精製機を循環運転することにより不活性ガスを維持することができるので、大気ブレークから不活性ガス循環運転までの復帰時間が短くなる。
大気ブレーク後、気密ブース1A内を窒素ガスで置換して酸素濃度を所定の濃度以下にする。まず、バルブ27を閉じ、バルブ26、バルブ47Aを開き、配管aを通して窒素ガスを気密ブース1Aに供給する。各気密ブースにおいて、配管aを通して窒素ガスを供給する場合は、流量計24及びバルブ47により、それぞれ供給するガスの流量を調整することができる。気密ブースからの還気RAはバルブ50Aを開いて排気する。このようにして、気密ブース1内の酸素濃度が規定の濃度以下になるまで、ワンパスで窒素置換運転を行い、気密ブース1内を窒素ガスで置換する。一方、気密ブース1B、1Cは酸素除去・窒素精製運転中で、バルブ50B、50Cは閉じ、バルブ51B、51Cが開いているので、還気RAは配管bにより不活性ガスがデシカント除湿機16へ導入される。ここで、バルブ48Aは閉じているので、酸素ガスがデシカント除湿機16及び窒素精製機23へ流入し、影響を及ぼすことはない。また、バルブ49を開いて配管dを通してバイパス運転することにより流量を調整できる。
気密ブース1A内の酸素濃度が規定の濃度以下まで低下した後、バルブ50Aを閉め、バルブ51Aを開ける。また、バルブ26を絞り、配管aを通る窒素ガスの供給流量を低減させ、窒素ガスを供給しつつ、気密ブース1内の正圧を保つ。気密ブース1からの還気RAは被処理ガスとして、配管bを通ってハニカムロータ5に供給される。ハニカムロータ5のパージゾーン7を通過したガスは送風機17によって窒素精製機23に導入される。窒素精製機23を通過した不活性ガスは再生ヒータ14で加熱され、ハニカムロータ5の再生ゾーン8に導入される。再生ゾーン8を通過したガスは再び処理ゾーン6を通って、気密ブース1に給気SAとして供給される。このように循環運転することで、酸素濃度及び/または水分濃度はさらに徐々に低下していく。規定の濃度に到達したら、製造装置2の運転を開始し、OLEDの製造や研究開発のための実験などを開始する。なお、図2においては、触媒容器を二塔式としたが、実施例1と同様、これに限るものではない。
2 製造装置
3 空気浄化フィルタ
4 ガス循環路
5 ハニカムロータ
6 処理ゾーン
7 パージゾーン
8 再生ゾーン
9 ロータ駆動モータ
10、17 送風機
11 プレクーラ
12 アフターヒータ
13 エアフィルタ
14 再生ヒータ
15 冷却器
16 デシカント除湿機
18、19 触媒容器
20、21 ヒータ
22 ポンプ
23 窒素精製機
24、25 流量計
26、27、28、29、30、31、32、33、34、35、36、37、38、39、40、41、42、43、44、45、46、47、48、49、50、51 バルブ
Claims (7)
- 乾燥空気供給装置及び不活性ガス供給装置を接続した気密ブースを設け、低露点ガス供給装置の後に不活性ガス精製装置を接続して一体型とし、前記低露点ガス供給装置を通過したガスが前記不活性ガス精製装置を通過し、前記気密ブースには異物を除去するフィルタを介して前記低露点ガス供給装置を通過した低露点ガスを供給するようにし、前記気密ブース内部のガスを前記低露点ガス供給装置へ再循環させる管路とを備えたことを特徴とするガス置換用ドライルーム。
- 前記低露点ガス供給装置通過したガスが前記不活性ガス精製装置を通らないように前記気密ブースへバイパスする切替手段を設けたことを特徴とする請求項1に記載のガス置換用ドライルーム。
- 前記気密ブースが一つまたは複数からなる請求項1及び請求項2に記載のガス置換用ドライルーム。
- 異物除去フィルタは、HEPAフィルタ及び/又はULPAフィルタを内蔵したファンフィルタであることを特徴とする請求項1から請求項3に記載のガス置換用ドライルーム。
- 前記不活性ガス精製装置が銅及び/又は白金を主成分とする触媒を内蔵した窒素精製機である請求項1から請求項4に記載のガス置換用ドライルーム。
- 前記低露点ガス供給装置がデシカント除湿機である請求項1から請求項5に記載のガス置換用ドライルーム。
- 前記デシカント除湿機のパージゾーンを通過した空気が前記不活性ガス精製装置に供給されるようにしたことを特徴とする請求項6に記載のガス置換用ドライルーム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019099933A JP7306683B2 (ja) | 2019-05-29 | 2019-05-29 | ガス置換用ドライルーム |
TW109105125A TWI816980B (zh) | 2019-05-29 | 2020-02-18 | 氣體置換用乾燥室 |
KR1020200028863A KR20200137961A (ko) | 2019-05-29 | 2020-03-09 | 가스 치환용 드라이룸 |
CN202010268559.8A CN112007470A (zh) | 2019-05-29 | 2020-04-07 | 气体置换用干燥房 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019099933A JP7306683B2 (ja) | 2019-05-29 | 2019-05-29 | ガス置換用ドライルーム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020193765A true JP2020193765A (ja) | 2020-12-03 |
JP7306683B2 JP7306683B2 (ja) | 2023-07-11 |
Family
ID=73506736
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019099933A Active JP7306683B2 (ja) | 2019-05-29 | 2019-05-29 | ガス置換用ドライルーム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7306683B2 (ja) |
KR (1) | KR20200137961A (ja) |
CN (1) | CN112007470A (ja) |
TW (1) | TWI816980B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230148737A (ko) | 2022-04-18 | 2023-10-25 | 가부시키가이샤 세이부 기켄 | 산소 제거 장치 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011149661A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-04 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | クリーンルームシステム及びその運転方法 |
JP2019052835A (ja) * | 2017-09-14 | 2019-04-04 | 株式会社西部技研 | ガス置換用ドライルーム |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5710745A (en) | 1980-06-23 | 1982-01-20 | Nissan Motor Co Ltd | Auxiliary air intake unit of internal combustion engine |
KR20240036145A (ko) * | 2011-12-22 | 2024-03-19 | 카티바, 인크. | 가스 엔클로저 시스템 |
JP5676521B2 (ja) | 2012-05-18 | 2015-02-25 | 万善工機株式会社 | 不活性ガス循環精製装置付グローブボックス |
KR20150001953U (ko) * | 2013-11-14 | 2015-05-22 | (주)제이원텍 | 유기발광소자 봉지공정용 질소정화장치 |
TWI635552B (zh) * | 2013-12-13 | 2018-09-11 | 昕芙旎雅股份有限公司 | 設備前端模組(efem) |
CN105169897A (zh) * | 2014-06-17 | 2015-12-23 | 株式会社西部技研 | 吸附式除湿装置 |
CN108607351A (zh) * | 2018-06-25 | 2018-10-02 | 宜春赣锋锂业有限公司 | 一种金属锂手套箱用的气体净化*** |
-
2019
- 2019-05-29 JP JP2019099933A patent/JP7306683B2/ja active Active
-
2020
- 2020-02-18 TW TW109105125A patent/TWI816980B/zh active
- 2020-03-09 KR KR1020200028863A patent/KR20200137961A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-04-07 CN CN202010268559.8A patent/CN112007470A/zh active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011149661A (ja) * | 2010-01-25 | 2011-08-04 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | クリーンルームシステム及びその運転方法 |
JP2019052835A (ja) * | 2017-09-14 | 2019-04-04 | 株式会社西部技研 | ガス置換用ドライルーム |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230148737A (ko) | 2022-04-18 | 2023-10-25 | 가부시키가이샤 세이부 기켄 | 산소 제거 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI816980B (zh) | 2023-10-01 |
TW202042893A (zh) | 2020-12-01 |
KR20200137961A (ko) | 2020-12-09 |
CN112007470A (zh) | 2020-12-01 |
JP7306683B2 (ja) | 2023-07-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4644517B2 (ja) | 4ポート自動切換えバルブ | |
TWI590932B (zh) | Hand mode operation box | |
KR101549358B1 (ko) | 에너지 효율적인 공기정화시스템 | |
JP2004515349A (ja) | 汚染物に敏感な吸着剤を用いる圧力スイング吸着 | |
JP7080478B2 (ja) | ガス置換用ドライルーム | |
JP6298366B2 (ja) | 二酸化炭素濃度制御可能な吸着式除湿装置 | |
JP2009138978A (ja) | 超高純度空気の調製方法 | |
JP7306683B2 (ja) | ガス置換用ドライルーム | |
US10850232B2 (en) | Dry room for gas substitution | |
JP2012011343A (ja) | 低露点空気発生装置 | |
JP5303143B2 (ja) | クリーンルーム排気を超高純度空気に調製する方法 | |
JP2012170857A (ja) | 有機溶剤ガス処理装置および処理方法 | |
JP5875548B2 (ja) | ガス分離方法 | |
JPH07754A (ja) | 超低露点空気発生装置 | |
JP2005030754A (ja) | 流動層型デシカント空調システム | |
KR20040069939A (ko) | 배기가스 중의 물 보다 고비점의 물질을 농축하는 방법 및장치 | |
JP2007069156A (ja) | 吸着装置および吸着方法 | |
JP6982050B2 (ja) | 再循環型基板コンテナパージングシステム及び方法 | |
JP4249329B2 (ja) | 浄化システム | |
KR20240063055A (ko) | 멤브레인을 구비한 cda 순환형 공기정화장치 | |
JP3265219B2 (ja) | 排気処理装置 | |
JP4003097B2 (ja) | オゾン吸脱着装置 | |
KR20030097430A (ko) | 흡착식 제습시스템 | |
US9227155B2 (en) | Apparatus and method for purifying gas | |
KR20230148737A (ko) | 산소 제거 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220425 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230307 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230403 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230620 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230622 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7306683 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |