JP2020187188A - 眼鏡レンズ - Google Patents
眼鏡レンズ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020187188A JP2020187188A JP2019090183A JP2019090183A JP2020187188A JP 2020187188 A JP2020187188 A JP 2020187188A JP 2019090183 A JP2019090183 A JP 2019090183A JP 2019090183 A JP2019090183 A JP 2019090183A JP 2020187188 A JP2020187188 A JP 2020187188A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- spectacle lens
- hard coat
- group
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 100
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 100
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 claims abstract description 91
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 70
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 205
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 42
- 239000010408 film Substances 0.000 description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 description 37
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 33
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 25
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 20
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 15
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 239000002042 Silver nanowire Substances 0.000 description 13
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 13
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 13
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 9
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 8
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 7
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 2-[(1s)-1-[4-amino-3-(3-fluoro-4-propan-2-yloxyphenyl)pyrazolo[3,4-d]pyrimidin-1-yl]ethyl]-6-fluoro-3-(3-fluorophenyl)chromen-4-one Chemical compound C1=C(F)C(OC(C)C)=CC=C1C(C1=C(N)N=CN=C11)=NN1[C@@H](C)C1=C(C=2C=C(F)C=CC=2)C(=O)C2=CC(F)=CC=C2O1 IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- -1 etc. Substances 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N hydrate;hydrochloride Chemical compound O.Cl DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- KATAXDCYPGGJNJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-ol Chemical compound C1OC1COCC(O)COCC1CO1 KATAXDCYPGGJNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-triazin-5-one Chemical compound OC1=CN=NN=C1C1=CC=CC=C1 VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate;2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCO.C=CCOC(=O)OCC=C SYFOAKAXGNMQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Abstract
Description
眼鏡レンズとしては、表面抵抗率(ハードコート層表面の表面抵抗率)が低い眼鏡レンズが望まれている。本実施形態の眼鏡レンズでは、上記特性が得られる。また、本実施形態の眼鏡レンズは、優れた透明性も示す。
なお、本明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
図1は、眼鏡レンズの第1実施形態の断面図である。
図1に示す眼鏡レンズ10Aは、眼鏡レンズ基材12と、眼鏡レンズ基材12の両面上に配置された金属ナノワイヤー層14と、金属ナノワイヤー層14上に配置されたハードコート層16を含む。
なお、図1においては、金属ナノワイヤー層14は眼鏡レンズ基材12に直接接触するように配置されているが、この形態には制限されず、後述するように、眼鏡レンズ基材12と金属ナノワイヤー層14との間に他の層(例えば、プライマー層)が配置されていてもよい。つまり、金属ナノワイヤー層14は、眼鏡レンズ基材12上に直接配置されていてもよいし、他の層を介して間接的に眼鏡レンズ基材12上に配置されていてもよい。
また、図1においては、眼鏡レンズ基材12の両面に金属ナノワイヤー層14およびハードコート層16が配置されているが、眼鏡レンズ基材12の片面のみに金属ナノワイヤー層14およびハードコート層16が配置されていてもよい。
以下、眼鏡レンズ10Aに含まれる各部材について詳述する。
眼鏡レンズ基材は、後述する金属ナノワイヤー層およびハードコート層を支持する部材である。
眼鏡レンズ基材の種類は特に制限されず、プラスチック、無機ガラスなどから構成される通常の眼鏡レンズ基材が挙げられ、取扱い性に優れる点で、プラスチック眼鏡レンズ基材が好ましい。
プラスチック眼鏡レンズ基材の種類は特に制限されないが、例えば、凸面および凹面共に光学的に仕上げ、所望の度数にあわせて成形されるフィニッシュレンズ、凸面のみが光学面(球面、回転対象非球面、累進面など)として仕上げられているセミフィニッシュレンズ、セミフィニッシュレンズの凹面が装用者の処方に合わせて加工研磨されたレンズが挙げられる。
プラスチック眼鏡レンズ基材を構成するプラスチック(いわゆる、樹脂)の種類は特に制限されないが、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、チオウレタン系樹脂、アリル系樹脂、エピスルフィド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエ−テルサルホン系樹脂、ポリ4−メチルペンテン−1系樹脂、および、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート系樹脂(CR−39)が挙げられる。
プラスチック眼鏡レンズ基材の屈折率は特に制限されない。
また、プラスチック眼鏡レンズ基材は透光性を有していれば透明でなくてもよく、紫外線吸収剤や、紫外域から赤外域にかけての特定の波長領域を吸収する染料を含んでいてもよい。
金属ナノワイヤー層は、眼鏡レンズ基材上に直接または他の層を介して配置される層であり、眼鏡レンズ基材に帯電防止性を付与する層である。
金属ナノワイヤー層は、金属ナノワイヤーから構成される層である。言い換えれば、金属ナノワイヤー層は、複数の金属ナノワイヤーが集合して、層を形成している金属ナノワイヤーの集合体(金属ナノワイヤーの層状の集合体)である。
金属ナノワイヤーに含まれる金属の種類は特に制限されないが、眼鏡レンズの表面抵抗率がより低下する点(以後、単に「所定の効果がより優れる点」とも称する。)で、銀、金、銅、ニッケル、および、白金からなる群から選択される少なくとも1種が好ましく、銀または金がより好ましく、銀がさらに好ましい。
なお、金属ナノワイヤーとは、材質が金属であり、形状が針状または糸状であり、直径がナノメートルサイズの導電物質をいう。金属ナノワイヤーは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。
上記金属ナノワイヤーの直径は平均値であり、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡を用いて、金属ナノワイヤーの断面を観察して、20か所の金属ナノワイヤーの直径を測定して、それらを算術平均して求める。なお、断面が真円状でない場合、長径を直径とする。
上記金属ナノワイヤーの長さは平均値であり、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡を用いて、20個の金属ナノワイヤーの長さを測定して、それらを算術平均して求める。
金属ナノワイヤーの直径および長さの測定方法は、上述した通りである。
眼鏡レンズ基材表面に対する金属ナノワイヤー層の被覆率は特に制限されないが、5.0%以上の場合が多く、所定の効果がより優れる点で、20.0%以上が好ましく、25.0%以上がより好ましく、40.0%以上がさらに好ましい。上限は特に制限されず、100%が挙げられ、眼鏡レンズの透明性がより優れる点から、85.0%以下が好ましく、75.0%以下がより好ましく、65.0%以下がさらに好ましい。
また、金属ナノワイヤー層が他の層(例えば、プライマー層)を介して眼鏡レンズ基材上に配置されている場合には、上記被覆率は、眼鏡レンズ基材上に配置された他の層表面に対する被覆率を意味する。例えば、眼鏡レンズ基材の2つの主面のうちの一方の主面の全面に他の層が配置されている場合、他の層表面の面積は、眼鏡レンズ基材の一方の主面の面積と同じである。
上記金属ナノワイヤー層の被覆率は、以下の方法により求める。
まず、光学顕微鏡を用いて倍率500倍にて眼鏡レンズを観察し、任意の3か所を選択して、各箇所(縦:500μm、横:660μm)における全面積中に占める金属ナノワイヤーの存在する面積の割合(%)を求めて、これらを算術平均して求める。
また、金属ナノワイヤー層内には、金属ナノワイヤーが3次元的に集合した際に形成される空隙が存在する場合があり、そのような場合には、ハードコート層の材料が上記空隙の少なくとも一部を占めるように浸み込む場合がある。
金属ナノワイヤー層の平均厚みは、以下の方法により求める。
まず、光学測定装置(オリンパス社製、反射率測定機USPM−RUIII)を用いて眼鏡レンズの分光反射特性を測定し、カーブフィット法により、厚みを求める。
組成物中における金属ナノワイヤーの含有量は特に制限されないが、組成物中の全固形分に対して、99質量%以上が好ましく、100質量%がより好ましい。
上記固形分とは、組成物中の溶媒を除いた成分を意図し、その性状が液状であっても固形分とする。
有機溶媒の種類は特に制限されず、例えば、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、および、スルホキシド系溶媒が挙げられる。
組成物を塗布した後、必要に応じて、乾燥処理を実施してもよい。乾燥処理の方法としては、加熱処理が挙げられる。加熱処理の際の加熱温度は特に制限されないが、70〜150℃が好ましく、90〜130℃がより好ましい。加熱時間としては、0.5〜90分間が好ましく、1〜60分間がより好ましい。
ハードコート層は、眼鏡レンズ基材上に配置される層であり、眼鏡レンズ基材に耐傷性を付与する層である。ハードコート層は、上述した金属ナノワイヤー層を覆うように配置され、外部から金属ナノワイヤー層を保護する。
ハードコート層としては、JIS K5600において定められた試験法による鉛筆硬度で、「H」以上の硬度を示すものが好ましい。
重合性モノマーは特に制限されないが、例えば、後述する、特定(メタ)アクリレートや、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンや、多官能アクリレートや、エポキシ基を複数有する化合物や、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物が挙げられる。
また、ハードコート層は、後述する金属酸化物粒子などの無機成分を含んでいてもよい。
以下、ハードコート層形成用組成物に含まれ得る成分について詳述する。
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基(以後、単に「特定基」とも称する)を少なくとも1つ有する(メタ)アクリレート(以後、単に「特定(メタ)アクリレート」とも称する)が挙げられる。
なお、(メタ)アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。
特定基としては、リン酸基が好ましい。
特定(メタ)アクリレート中における特定基の数は1以上であればよく、2以上であってもよい。上限としては、例えば、5以下とすることができる。
特定(メタ)アクリレートは、単官能であっても、多官能であってもよい。なお、多官能とは、特定(メタ)アクリレートが2以上の特定基を有することを意味する。
リン酸基は、以下の式で表される基である。*は、結合位置を表す。
式(A) CH2=CRa−COO−La−X
Raは、水素原子またはメチル基を表す。
Laは、ヘテロ原子(例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子)を含んでいてもよい2価の炭化水素基を表す。2価の炭化水素基の炭素数は特に制限されず、1〜10が好ましい。2価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基(例えば、−O−アルキレン基−)が好ましい。
Xは、リン酸基、および、スルホン酸基からなる群から選択される基を表す。
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンが挙げられる。
ラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基が好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、スチリル基、および、ビニル基が挙げられる。
なお、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基またはメタアクリロイル基を意味する。
以下の式(B)中、Rbは有機基を表す。
式(B) Rb−SiO3/2
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、特定(メタ)アクリレートおよびラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンのいずれとも異なる多官能(メタ)アクリレートが挙げられる。
多官能(メタ)アクリレートとは、(メタ)アクリロイル基を複数有する化合物である。(メタ)アクリロイル基の数は特に制限されないが、2〜6個が好ましく、2〜3個がより好ましい。
式(C) CH2=CRc1−CO−Lc1−CO−CRc2=CH2
Rc1およびRc2は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表す。
Lc1は、ヘテロ原子(例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子)を含んでいてもよい2価の炭化水素基を表す。2価の炭化水素基の炭素数は特に制限されず、1〜10が好ましい。2価の炭化水素基としては、例えば、ヘテロ原子を含んでいてもよい、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、および、これらの基の組み合わせが挙げられ、ヘテロ原子を含んでいてもよいアルキレン基が好ましい。
なかでも、酸素原子を含むアルキレン基が好ましく、−O−(Lc2−O)m−で表される基が好ましい。なお、Lc2は、アルキレン基(好ましくは、炭素数1〜3)を表す。mは、1以上の整数を表し、1〜10の整数が好ましく、2〜5の整数がより好ましい。
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、エポキシ基を複数有する化合物(以後、単に「多官能エポキシ化合物」とも称する)が挙げられる。
エポキシ基とは、以下の式(1)で表される基である。R1は、水素原子またはアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、および、プロピル基)を表す。*は、結合位置を表す。
ハードコート層形成用組成物に含まれ得る重合性モノマーとして、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン化合物が挙げられる。
オキセタニル基とは、以下の式(2)で表される基である。R2は、水素原子またはアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基)を表す。*は、結合位置を表す。
ハードコート層形成用組成物は、金属酸化物粒子を含んでいてもよい。
金属酸化物粒子の種類は特に制限されず、公知の金属酸化物粒子が挙げられる。金属酸化物粒子としては、例えば、Si、Al、Sn、Sb、Ta、Ce、La、Fe、Zn、W、Zr、In、および、Tiから選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物の粒子が挙げられる。なかでも、取り扱い性の点で、金属酸化物粒子を、Siを含む酸化物の粒子(酸化ケイ素粒子)、Snを含む酸化物の粒子(酸化スズ粒子)、Zrを含む酸化物の粒子(酸化ジルコニウム粒子)、または、Tiを含む酸化物の粒子(酸化チタン粒子)が好ましい。
なお、金属酸化物粒子には、上記に例示した1種の金属(金属原子)のみが含まれていてもよいし、2種以上の金属(金属原子)が含まれていてもよい。
また、Si(ケイ素)は半金属に分類される場合があるが、本明細書ではSiを金属に含めるものとする。
なお、上記平均粒径は、透過型電子顕微鏡にて20個以上の金属酸化物粒子の直径を測定して、それらを算術平均して求める。なお、金属酸化物粒子が真円状でない場合、長径を直径とする。
金属酸化物粒子の表面には、必要に応じて、各種官能基が導入されていてもよい。
ハードコート層形成用組成物は、所定の効果がより優れる点で、式(3)で表される加水分解性ケイ素化合物、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選択される少なくとも1種(以後、単に「加水分解性ケイ素化合物類」とも称する)を含んでいてもよい。なお、加水分解性ケイ素化合物とは、ケイ素原子に加水分解性基が結合した化合物を意図する。
式(3) X−L−Si(R3)n(R4)3-n
Xは、エポキシ基を表す。
エポキシ基の定義は、上述した通りである。
R4は、アルキル基を表す。アルキル基の炭素数は、1〜10が好ましい。
nは、1〜3の整数を表す。nは、3が好ましい。
また、加水分解性ケイ素化合物の加水分解縮合物とは、加水分解性ケイ素化合物中の加水分解性基が加水分解し、得られた加水分解物を縮合して得られる化合物を意図する。なお、上記加水分解縮合物としては、すべての加水分解性基が加水分解され、かつ、加水分解物がすべて縮合されているもの(完全加水分解縮合物)であっても、一部の加水分解性基が加水分解され、一部の加水分解物が縮合しているもの(部分加水分解縮合物)であってもよい。つまり、上記加水分解縮合物は、完全加水分解縮合物、部分加水分解縮合物、または、これらの混合物であってもよい。
ハードコート層形成用組成物は、上述した成分以外の成分を含んでいてもよい。
ハードコート層形成用組成物は、カチオン重合開始剤を含んでいてもよい。カチオン重合開始剤としては、光カチオン重合開始剤および熱カチオン重合開始剤が挙げられる。
溶媒としては、水であっても、有機溶媒であってもよい。
有機溶媒の種類は特に制限されず、例えば、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、アミド系溶媒、スルホン系溶媒、および、スルホキシド系溶媒が挙げられる。
ハードコート層形成用組成物の製造方法は特に制限されず、例えば、上述した成分を一括で混合してもよいし、分割して段階的に各成分を混合してもよい。
なお、全固形分(ハードコート層構成成分)とは、硬化処理によりハードコート層を構成する成分であり、溶媒は固形分に含まれない。また、成分が液状であっても、ハードコート層を構成する成分であれば、固形分として計算する。
なお、塗膜を形成した後、必要に応じて、塗膜から溶媒を除去するために、加熱処理などの乾燥処理を実施してもよい。
眼鏡レンズ基材上に形成される塗膜の膜厚は特に制限されず、所定のハードコート層の膜厚となるような膜厚が適宜選択される。
光照射の際の光の種類は特に制限されないが、例えば、紫外線および可視光線が挙げられる。光源としては、例えば、高圧水銀灯が挙げられる。
光照射の際の積算光量は特に制限されないが、生産性および塗膜の硬化性の点で、100〜3000mJ/cm2が好ましく、100〜2000mJ/cm2がより好ましい。
上記膜厚は平均膜厚であり、その測定方法としては、ハードコート層の任意の5点の膜厚を測定し、それらを算術平均して求める。
眼鏡レンズの第1実施形態は、上述した眼鏡レンズ基材、金属ナノワイヤー層およびハードコート層以外の他の部材を含んでいてもよい。
他の部材としては、例えば、反射防止膜が挙げられる。
反射防止膜は、入射した光の反射を防止する機能を有する層である。具体的には、400〜700nmの可視領域全域にわたって、低い反射特性(広帯域低反射特性)を有することができる。
反射防止膜としては、無機反射防止膜が好ましい。無機反射防止膜とは、無機化合物で構成される反射防止膜である。
多層構造の場合、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層した構造が好ましい。なお、高屈折率層を構成する材料としては、例えば、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ニオブ、タンタル、または、ランタンの酸化物が挙げられる。また、低屈折率層を構成する材料としては、例えば、シリカの酸化物が挙げられる。
反射防止膜の製造方法は特に制限されないが、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、および、CVD法などの乾式法が挙げられる。
図2は、眼鏡レンズの第2実施形態の断面図である。
図2に示す眼鏡レンズ10Bは、眼鏡レンズ基材12と、眼鏡レンズ基材12の両面上に配置されたプライマー層18と、プライマー層18上に配置された金属ナノワイヤー層14と、金属ナノワイヤー層14上に配置されたハードコート層16とを含む。
図2においては、眼鏡レンズ基材12の両面にプライマー層18、金属ナノワイヤー層14およびハードコート層16が配置されているが、眼鏡レンズ基材12の片面のみにプライマー層18、金属ナノワイヤー層14およびハードコート層16が配置されていてもよい。
また、図2においては、金属ナノワイヤー層14はプライマー層18とハードコート層16との間に配置されているが、眼鏡レンズ基材12とプライマー層18との間に金属ナノワイヤー層14が配置されていてもよい。
なお、プライマー層表面に対する金属ナノワイヤー層の被覆率は特に制限されないが、上記第1実施形態で説明した被覆率の範囲が好ましい。
プライマー層を構成する材料は特に制限されず、公知の材料を使用でき、例えば、主に樹脂が使用される。使用される樹脂の種類は特に制限されず、例えば、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ビスマレイミド系樹脂、および、ポリオレフィン系樹脂が挙げられ、ポリウレタン系樹脂が好ましい。
プライマー層は、上記樹脂以外の他の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、例えば、Si、Al、Sn、Sb、Ta、Ce、La、Fe、Zn、W、Zr、In、および、Tiから選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物微粒子またはこれらの複合酸化物微粒子、加水分解性ケイ素化合物および/またはその加水分解縮合物、並びに、界面活性剤が挙げられる。
プライマー層形成用組成物を塗布する方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層形成用組成物を塗布する方法で例示した方法が挙げられる。
プライマー層の厚さは特に制限されないが、0.3〜2μmが好ましい。
(プライマー層形成)
水系ウレタンディスパージョン(エバファノール HA170、日華化学社製、固形分濃度37%)(4.050質量部)に、純水(22.842質量部)、界面活性剤としてL77(Momentive製)(0.054質量部)とL7001(Dow Chemical製)(0.054質量部)を加えて撹拌し、固形分濃度5.6質量%のプライマー層形成用組成物1を作製した。
プラスチック眼鏡レンズ基材として、屈折率1.74のレンズ((株)ニコン・エシロール製:NL5−AS)を用いた。
次に、上記プラスチック眼鏡レンズ基材の凸面上に、プライマー層形成用組成物1(3ml)を垂らした後、スピンコートにより、プライマー層形成用組成物1が塗布されたプラスチック眼鏡レンズ基材を300rpmで60秒間回転させた。次に、得られたプラスチック眼鏡レンズ基材を80℃で20分間加熱して乾燥し、プライマー層を形成した。
銀ナノワイヤーイソプロパノール溶液(EMJapan、NW−AG30−05G−IPA)に所定量のイソプロパノールを添加して、銀ナノワイヤーの濃度が0.01質量%である溶液1を作製した。
なお、上記銀ナノワイヤーの直径は30nmであり、長さは30μmであった。
次に、プライマー層上に、溶液1(3ml)を垂らして、スピンコートにより、溶液1が塗布されたプラスチック眼鏡レンズ基材を300rpmで60秒間回転させた。次に、得られたプラスチック眼鏡レンズ基材を110℃で2分間加熱して乾燥し、金属ナノワイヤー層を形成した。
褐色瓶に、0.012N塩酸水(1.2質量部)、加水分解性ケイ素化合物として3−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製:KBM403)(4.8質量部)を加えて、得られた混合液を室温で24時間攪拌した。
得られた混合液(1.620質量部)に、ブチルセロソルブ(1.593質量部)、および、塗膜調整剤としてポリエーテル変性シリコーン(東レ・ダウコーニング(株)製:L7001)(0.027質量部)を加えた。さらに、メチルエチルケトン分散コロイダルシリカ(日産化学社製、MEK−ST−40)(16.011質量部)、多官能エポキシ化合物としてジグリセロールポリグリシジルエーテル(ナガセケムテックス(株)製:デナコールEX−313)(0.810質量部)、および、オキセタニル基を有するシルセスキオキサン(東亞合成(株)製:OX−SQ TX−100)(6.426質量部)を加えて、得られた混合液を6時間攪拌した。その後、得られた混合液に、さらにヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤(BASFジャパン(株)製:Tinuvin477)(0.378質量部)、および、光カチオン重合開始剤((株)ADEKA製:アデカオプトマーSP−170)(0.162質量部)を加えて、得られた混合液を攪拌し、ハードコート層形成用組成物1を得た。
溶液中での銀ナノワイヤーの濃度、および、金属ナノワイヤー層を形成する際のスピンコートの条件を変更した以外は、実施例A1と同様の手順に従って、眼鏡レンズを得た。
金属ナノワイヤー層の形成を実施しなかった以外は、実施例A1と同様の手順に従って、眼鏡レンズを得た。
上記実施例および比較例にて得られた眼鏡レンズを用いて、以下の評価を実施した。なお、結果は、後述する表1にまとめて示す。
温度25度、湿度20%の条件下にて、抵抗率計(三菱化学社製、Hiresta−Up MCP−HT450)を用いて、眼鏡レンズのハードコート層表面の表面抵抗率を測定した。
後述する(反射防止膜の形成)の手順に従って、ハードコート層上に反射防止膜を形成して、反射防止膜含有眼鏡レンズを得た。
次に、上記(表面抵抗率1)と同様の方法に従って、反射防止膜含有眼鏡レンズの反射防止膜表面の表面抵抗率を測定した。
得られた眼鏡レンズを真空槽内に設けられた回転するドームにセットし、真空槽内の温度を70℃に加熱し、圧力が1.0×10-3Paになるまで排気した。次に、加速電圧500Vおよび加速電流100mAの条件でArイオンビームクリーニングを一方のハードコート層に対して60秒間施した後、クリーニングしたハードコート層上に、順次、第1層SiO2(屈折率1.47)を光学的膜厚0.090λ、第2層ZrO2(屈折率2.00)を光学的膜厚0.038λ、第3層SiO2(屈折率1.47)を光学的膜厚0.393λ、第4層ZrO2(屈折率2.00)を光学的膜厚0.104λ、第5層SiO2(屈折率1.47)を光学的膜厚0.069λ、第6層ZrO2(屈折率2.00)を光学的膜厚0.289λ、および、第7層SiO2(屈折率1.47)を光学的膜厚0.263λで積層し、反射防止膜を形成した。なお、λは設計の中心波長で500nmとした。
日立分光光度計U−4100を用いて、眼鏡レンズの波長550nmにおける透過率を測定した。
表1中、「スピンコート条件」は、銀ナノワイヤーを含む溶液のスピンコートの条件を表し、「1」は300rpmで60秒間回転を意味し、「2」は500rpmで60秒間回転を意味し、「3」は1000rpmで60秒間回転を意味し、「4」は3000rpmで60秒間回転を意味する。
表1中、「平均厚み(nm)」は金属ナノワイヤー層の平均厚みを表す。
表1中、「被覆率(%)」は金属ナノワイヤー層の被覆率を表す。
表1中、「膜厚(μm)」は眼鏡レンズ基材上に形成されたプライマー層、金属ナノワイヤー層およびハードコート層の合計膜厚を表す。なお、いずれの実施例および比較例においても、プライマー層の厚みは0.3μm程度であった。
評価欄中、「−」は評価を実施しなかったことを意味する。
実施例A1と同様の手順に従って、プライマー層を形成した。
銀ナノワイヤーイソプロパノール溶液(NW−AG30−05G−IPA、EMジャパン製)に所定量のイソプロパノールを添加して、銀ナノワイヤーの濃度が0.1質量%である溶液1を作製した。
次に、プライマー層上に、溶液1(3ml)を垂らして、スピンコートにより、溶液1が塗布されたプラスチック眼鏡レンズ基材を300rpmで60秒間回転させた。次に、得られたプラスチック眼鏡レンズ基材を110℃で2分間加熱して乾燥し、金属ナノワイヤー層を形成した。
褐色瓶に、0.012N塩酸水(1.2質量部)、加水分解性ケイ素化合物として3−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製:KBM403)(4.8質量部)を加えて、得られた混合液を室温で24時間攪拌した。
得られた混合液1.35質量部に、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート(ホスマーPE、ユニケミカル社製)(2.72質量部)と、ラジカル重合性基を有するシルセスキオキサンとしてメタクリル系シルセスキオキサン(AC−SQ TA−100、東亞合成社製)(5.13質量部)と、ポリエチレングリコールジメタクリレート(ライトアクリレート14EG−A、共栄社化学社製)(10.80質量部)と、エポキシシランオリゴマー(CoatOSil MP−200)(1.35質量部)と、ラジカル重合開始剤(IRGACURE127)(0.27質量部)と、エタノール(1.35質量部)と、ブタノール(5.39質量部)とを混合して、ハードコート層形成用組成物2を得た。
溶液中での銀ナノワイヤーの濃度、および、金属ナノワイヤー層を形成する際のスピンコートの条件を変更した以外は、実施例B1と同様の手順に従って、眼鏡レンズを得た。
金属ナノワイヤー層の形成を実施しなかった以外は、実施例B1と同様の手順に従って、眼鏡レンズを得た。
表2中、「スピンコート条件」は、銀ナノワイヤーを含む溶液のスピンコートの条件を表し、「5」は300rpmで60秒間回転を意味し、「6」は500rpmで60秒間回転を意味し、「7」は1000rpmで60秒間回転を意味し、「8」は3000rpmで60秒間回転を意味する。
表2中、「平均厚み(nm)」は金属ナノワイヤー層の厚みを表す。
表2中、「被覆率(%)」は金属ナノワイヤー層の被覆率を表す。
表2中、「膜厚(μm)」は眼鏡レンズ基材上に形成されたプライマー層、金属ナノワイヤー層およびハードコート層の合計膜厚を表す。なお、いずれの実施例および比較例においても、プライマー層の厚みは0.3μm程度であった。
12 眼鏡レンズ基材
14A,14B 金属ナノワイヤー層
16 ハードコート層
18 プライマー層
Claims (6)
- 眼鏡レンズ基材と、
前記眼鏡レンズ基材上に直接または他の層を介して配置され、前記眼鏡レンズ基材表面または前記他の層表面の少なくとも一部を覆う、金属ナノワイヤーから構成される金属ナノワイヤー層と、
前記金属ナノワイヤー層を覆うように配置されたハードコート層と、を含む、眼鏡レンズ。 - 前記金属ナノワイヤー層の被覆率が、20.0%以上である、請求項1に記載の眼鏡レンズ。
- 前記金属ナノワイヤーに含まれる金属が、銀、金、銅、ニッケル、および、白金からなる群から選択される少なくとも1種を含む、請求項1または2に記載の眼鏡レンズ。
- 前記金属ナノワイヤー層の平均厚みが、1〜300nmである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の眼鏡レンズ。
- 前記他の層がプライマー層である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の眼鏡レンズ。
- 前記ハードコート層上に配置される反射防止膜を含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の眼鏡レンズ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019090183A JP2020187188A (ja) | 2019-05-10 | 2019-05-10 | 眼鏡レンズ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019090183A JP2020187188A (ja) | 2019-05-10 | 2019-05-10 | 眼鏡レンズ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020187188A true JP2020187188A (ja) | 2020-11-19 |
Family
ID=73222797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019090183A Pending JP2020187188A (ja) | 2019-05-10 | 2019-05-10 | 眼鏡レンズ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2020187188A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023053653A1 (ja) * | 2021-09-28 | 2023-04-06 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡光学物品及びその製造方法 |
US11751366B1 (en) * | 2020-05-08 | 2023-09-05 | Apple Inc. | Heat dissipation for head-mountable device |
WO2023228786A1 (ja) * | 2022-05-24 | 2023-11-30 | 株式会社ニコン・エシロール | 積層体の製造方法 |
WO2024004995A1 (ja) * | 2022-06-29 | 2024-01-04 | 株式会社ニコン・エシロール | 組成物の製造方法、眼鏡レンズの製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003039586A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 低反射帯電防止性ハードコートフィルム |
JP2009505358A (ja) * | 2005-08-12 | 2009-02-05 | カンブリオス テクノロジーズ コーポレイション | ナノワイヤに基づく透明導電体 |
JP2011198736A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-10-06 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性導電フィルム、導電膜の形成方法及び導電パターンの形成方法 |
JP2015014743A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-01-22 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック調光レンズ、エレクトロクロミック調光眼鏡、及びそれらの製造方法 |
JP2015526750A (ja) * | 2012-06-12 | 2015-09-10 | レコン インストルメンツ インコーポレイテッドRecon Instruments Inc. | 眼鏡用ヘッドアップディスプレイシステム |
-
2019
- 2019-05-10 JP JP2019090183A patent/JP2020187188A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003039586A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 低反射帯電防止性ハードコートフィルム |
JP2009505358A (ja) * | 2005-08-12 | 2009-02-05 | カンブリオス テクノロジーズ コーポレイション | ナノワイヤに基づく透明導電体 |
JP2011198736A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-10-06 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性導電フィルム、導電膜の形成方法及び導電パターンの形成方法 |
JP2015526750A (ja) * | 2012-06-12 | 2015-09-10 | レコン インストルメンツ インコーポレイテッドRecon Instruments Inc. | 眼鏡用ヘッドアップディスプレイシステム |
JP2015014743A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-01-22 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック調光レンズ、エレクトロクロミック調光眼鏡、及びそれらの製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11751366B1 (en) * | 2020-05-08 | 2023-09-05 | Apple Inc. | Heat dissipation for head-mountable device |
WO2023053653A1 (ja) * | 2021-09-28 | 2023-04-06 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 眼鏡光学物品及びその製造方法 |
WO2023228786A1 (ja) * | 2022-05-24 | 2023-11-30 | 株式会社ニコン・エシロール | 積層体の製造方法 |
WO2024004995A1 (ja) * | 2022-06-29 | 2024-01-04 | 株式会社ニコン・エシロール | 組成物の製造方法、眼鏡レンズの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2718750B1 (en) | Method for obtaining optical articles having superior abrasion resistant properties, and coated articles prepared according to such method | |
JP2020187188A (ja) | 眼鏡レンズ | |
EP2435523B1 (en) | Process for preparing articles having an anti-fog layer by layer coating and coated articles having enhanced anti-fog and durability properties | |
KR100953230B1 (ko) | 플라스틱 렌즈 및 플라스틱 렌즈의 제조 방법 | |
JP4969582B2 (ja) | 帯電防止性、反射防止性の被覆層を有する光学製品およびその製造方法 | |
JP5927457B2 (ja) | 光学製品及び眼鏡プラスチックレンズ | |
WO2018124204A1 (ja) | ハードコート層形成用組成物、眼鏡レンズ | |
JP2015148643A (ja) | 光学製品並びに眼鏡レンズ及び眼鏡 | |
JP2007041434A (ja) | プラスチックレンズ及びプラスチックレンズの製造方法 | |
WO2018221466A1 (ja) | 眼鏡レンズ、プライマー層形成用組成物、眼鏡レンズの製造方法 | |
WO2020230655A1 (ja) | 眼鏡レンズ、組成物 | |
JP2004109728A (ja) | 眼鏡用プラスチックレンズ | |
JP4293593B2 (ja) | 防曇性光学体及び光学体への防曇層形成方法 | |
KR102596091B1 (ko) | 하드 코트층 형성용 조성물, 및 안경 렌즈 | |
JP2021009205A (ja) | 眼鏡レンズ | |
WO2019009127A1 (ja) | プラスチック光学製品並びにプラスチック眼鏡レンズ及び眼鏡 | |
JP5987117B2 (ja) | 反射防止レンズおよびその製造方法 | |
JP6544853B2 (ja) | 光学製品並びにプラスチックレンズ及び眼鏡 | |
WO2021220513A1 (ja) | 光学部材 | |
JP2020187240A (ja) | 眼鏡レンズ、組成物 | |
WO2023127566A1 (ja) | 膜、眼鏡レンズ、組成物 | |
JPH095679A (ja) | 眼鏡用プラスチックレンズ | |
WO2023243610A1 (ja) | 眼鏡レンズ | |
JP2009237595A (ja) | プラスチック眼鏡レンズ | |
JP2008046390A (ja) | 反射防止層を有する眼鏡レンズおよび眼鏡レンズの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A625 | Written request for application examination (by other person) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A625 Effective date: 20211129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230104 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230324 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230620 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230623 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20231128 |