JP2020169393A - 表面処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 治具と陰極レールとの電気的接触をより確実に担保することができる表面処理装置を提供すること。【解決手段】 表面処理装置(1)は、処理液が収容される処理槽(3)と、処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極(20)と、少なくとも1本の陰極レール(40)と、処理液に浸漬される複数のワーク(2)をそれぞれ垂下させて保持し、かつ、少なくとも1本の陰極レールと接触して搬送方向に沿って連続または間欠的に搬送される複数の治具(30)と、を有し、少なくとも1本の陰極レールは、複数の治具と接触する金属製の導電部(43)と、導電部上に保持される非油性の導電性流体(45)と、を含む。【選択図】 図6
Description
本発明は、ワークを間欠搬送する表面処理装置等に関する。
メッキ液が収容されたメッキ槽内にてワークを間欠搬送し、各停止位置にて陽極とワーク(陰極)間に電流を供給してワークをメッキするメッキ装置が特許文献1に開示されている。この装置では、メッキ槽と、そのメッキ槽の上流及び/または下流に配置された他の前処理槽及び/又は後処理槽とに、ワークを間欠搬送させる循環式間欠搬送装置(スプロケット及びチェーン)を用いて、ワークを間欠搬送している。
特にこのメッキ装置では、メッキ槽内の各停止処位置にてワークに供給された電流量を積算し、制御装置により該積算値がワークの所要電流量に到達すると、昇降装置を駆動して、ワークを支持搬送するハンガーをメッキ槽の上方に移動させ、ワークへの通電を解除している。それにより、例えば多品種少量のワークへの電流量を個別に調整して、メッキ膜厚をワーク毎に個別に調整できる。
電解メッキ装置として、メッキ液をワークに向けて吐出するノズル管をメッキ槽内に固定して配置するものが知られている。特許文献1のメッキ装置ではノズル管は使用されてなく、間欠搬送されるメッキ槽内にノズル管を配置した時の課題については認識がない。
さらに特許文献1のメッキ装置は、メッキ槽及び他の処理槽にワークを間欠搬送させる循環式間欠搬送装置(スプロケット及びチェーン)と、個々のワークの治具(ハンガー)を個別に昇降させる昇降機構とを用いているため、装置が大掛かりとなる。また、間欠搬送でも連続搬送でも、スループットはメッキ槽の全長の影響を受けるため、メッキ槽の全長が異なる各種メッキ装置のラインアップを用意する必要がある。その際、循環式間欠搬送装置を含め装置全体を再設計しなければならない。
本発明の少なくとも一つの態様は、処理槽内にて間欠停止されて処理されるワークに向けて処理液を吐出するノズル管を併用しても、処理されるワークの面内均一性を確保できる間欠搬送式の表面処理装置を提供することを目的とする。
本発明の他の少なくとも一つの態様は、共通の構造を有する処理槽ユニットを連結させて、処理槽の全長に亘ってワークへの電流制御及び間欠搬送を可能とした間欠搬送式の表面処理装置を提供することを目的とする。
(1)本発明の一態様は、
処理液が収容される処理槽と、
前記処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
少なくとも1本の陰極レールと、
前記処理液に浸漬される複数のワークをそれぞれ垂下させて保持し、かつ、前記少なくとも1本の陰極レールと接触して前記複数のワークを陰極に設定する複数の治具を、前記処理槽内の複数の停止位置を始点及び/または終点として、間欠的に搬送させる間欠搬送装置と、
前記処理槽内に、平面視で、前記複数の停止位置の各々に停止されるワークと前記少なくとも一つの陽極との間に少なくとも一つ配置され、前記ワークに前記処理液を噴出する複数のノズル管と、
前記複数のノズル管の各々を、間欠停止された対応するワークに対して走査移動させる移動機構と、
を有する表面処理装置に関する。
処理液が収容される処理槽と、
前記処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
少なくとも1本の陰極レールと、
前記処理液に浸漬される複数のワークをそれぞれ垂下させて保持し、かつ、前記少なくとも1本の陰極レールと接触して前記複数のワークを陰極に設定する複数の治具を、前記処理槽内の複数の停止位置を始点及び/または終点として、間欠的に搬送させる間欠搬送装置と、
前記処理槽内に、平面視で、前記複数の停止位置の各々に停止されるワークと前記少なくとも一つの陽極との間に少なくとも一つ配置され、前記ワークに前記処理液を噴出する複数のノズル管と、
前記複数のノズル管の各々を、間欠停止された対応するワークに対して走査移動させる移動機構と、
を有する表面処理装置に関する。
本発明の一態様によれば、間欠停止されるワークに対して、ワークの停止位置と対応して少なくとも一つ設けられたノズル管を走査移動させることができる。それにより、平面視でワークと陽極との間に位置するノズル管の影となって陽極−陰極間の電界が妨げられる領域が、ノズル管の走査移動に伴って移動する。このため、ノズル管によって電界が妨げられる領域が固定されず、処理されるワークの面内均一性が向上する。
(2)本発明の一態様(1)では、前記移動機構は、前記複数の停止位置で停止された前記複数のワークの各々の少なくとも水平幅と対応する長さ範囲を少なくとも一回循環して走査するように、前記複数のノズル管を移動させることができる。こうすると、処理されるワークの面内均一性が向上する。特に、ノズル管の初期位置から少なくとも一回循環走査させて初期位置に復帰させることが好ましい。ノズル管の影がワーク面内でほぼ均一化されるからである。
(3)本発明の一態様(1)または(2)では、前記複数のノズル管は、前記複数の停止位置で停止された前記複数のワークの各々と対向する各位置に配置された少なくとも2本のノズル管を含み、前記少なくとも2本のノズル管は、垂直方向でそれぞれ異なる位置に前記処理液の複数の噴出口を含むことができる。この少なくとも2本のノズル管をワークに対して走査移動させることで、処理液が直接噴射されないむらが少なくなり、処理されるワークの面内均一性が向上する。
(4)本発明の一態様(1)〜(3)では、前記処理槽は、互いに連結される複数の分割処理槽を含み、隣り合う2つの分割処理槽は、前記複数のワークが通過する開口を介して連通され、前記一つの陽極、前記少なくとも1本の陰極レール、前記少なくとも一つのノズル管、前記間欠搬送装置及び前記移動機構は、前記複数の分割処理槽毎にそれぞれ配置され、前記複数の分割処理槽の各々に設けられた前記少なくとも一つの陽極と前記少なくとも1本の陰極レールとは、少なくとも一つの整流器に接続することができる。こうして、装置全体の再設計を要せずに、分割処理槽の数を調整してユーザの要望に適した長さの処理槽を有する間欠搬送式の表面処理装置を容易に構築することができる。
(5)本発明の他の態様は、
複数の処理ユニットが連結される表面処理装置であって、
前記複数の処理ユニットの各々は、
処理液が収容される分割処理槽と、
前記分割処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
少なくとも1本の陰極レールと、
前記処理液に浸漬される複数のワークをそれぞれ保持し、かつ、前記少なくとも1本の陰極レールと接触して前記複数のワークを陰極に設定する複数の治具を、前記分割処理槽内の複数の停止位置を始点及び/または終点として、間欠的に搬送させる間欠搬送装置と、
前記少なくとも一つの陽極と前記少なくとも1本の陰極レールとに接続された少なくとも一つの整流器と、
を有し、
隣り合う2つの分割処理槽は、前記複数のワークが通過する開口を介して連通している表面処理装置に関する。
複数の処理ユニットが連結される表面処理装置であって、
前記複数の処理ユニットの各々は、
処理液が収容される分割処理槽と、
前記分割処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
少なくとも1本の陰極レールと、
前記処理液に浸漬される複数のワークをそれぞれ保持し、かつ、前記少なくとも1本の陰極レールと接触して前記複数のワークを陰極に設定する複数の治具を、前記分割処理槽内の複数の停止位置を始点及び/または終点として、間欠的に搬送させる間欠搬送装置と、
前記少なくとも一つの陽極と前記少なくとも1本の陰極レールとに接続された少なくとも一つの整流器と、
を有し、
隣り合う2つの分割処理槽は、前記複数のワークが通過する開口を介して連通している表面処理装置に関する。
本発明の他の態様によれば、複数の処理ユニットの各々がそれぞれ独立して、分割処理槽、一つの陽極、少なくとも1本の陰極レール、間欠搬送装置及び少なくとも一つの整流器を有している。このため、装置全体の再設計を要せずに、処理ユニットの数を調整してユーザの要望に適した長さの処理槽を有する間欠搬送式の表面処理装置を容易に構築することができる。
(6)本発明の他の態様(5)では、前記間欠搬送装置は、複数の押動片を備えて進退駆動されるプッシャーを含み、前記プッシャーは、前進時に前記複数の押動片が前記複数の治具の複数の被押動片を押動して前記複数のワークを前進させ、後退時に前記複数の押動片と前記複数の被押動片との係合が解除されて初期位置に復帰されても良い。こうして、プッシャーにより複数の治具は分割処理槽内または隣り合う分割処理槽間で同時に一ステップ移動されて間欠搬送される。
(7)本発明の他の態様(5)では、前記間欠搬送装置は、複数の押動片を備えて進退駆動及び昇降駆動されるプッシャーを含み、前記複数の押動片は、前記プッシャーの昇降動作の一方により前記複数の治具に設けられた複数の被押動片が配置される凹部を含み、前記プッシャーの昇降動作の他方により前記複数の被押動片が前記凹部から離脱され、前記プッシャーは、前進時に前記複数の押動片が前記複数の被押動片を押動して前記複数のワークを前進させ、かつ、前進停止時に前記複数のワークを停止させ、前記複数の被押動片が前記凹部から離脱されている後退時に初期位置に復帰されても良い。こうして、プッシャーにより複数の治具は分割処理槽内または隣り合う分割処理槽間で同時に一ステップ移動されて間欠搬送される。特に、凹部と被押動片との係合により、複数の治具を所定の位置に停止させることができ、より高速な間欠送りが可能となる。
(8)本発明の一態様(4)及び他の態様(5)〜(7)では、前記少なくとも一つの整流器は、前記複数の停止位置の数と一致する複数の整流器を含み、前記少なくとも1本の陰極レールは、前記複数の停止位置にそれぞれ停止された前記複数の治具にそれぞれ接触され、かつ、電気的に絶縁された複数の導電部を含み、前記複数の導電部がそれぞれ前記複数の整流器に接続されても良い。こうすると、複数のワークの陰極側が絶縁されてそれぞれ複数の整流器に接続されるので、複数のワークに流れる電流を個別に制御することができる。
(9)本発明の他の態様(8)では、前記少なくとも一つの陽極は、前記複数の停止位置の数と一致する複数の陽極を含み、前記複数の陽極がそれぞれ前記複数の整流器に接続される。このように、複数のワークの各々について陰極及び陽極が絶縁されるので、ワーク毎に完全個別給電が可能となる。
以下、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、以下に説明する本実施形態は請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではなく、本実施形態で説明される構成の全てが本発明の解決手段として必須であるとは限らない。
1.複数の処理ユニット
図1は本実施形態に係る間欠搬送式のメッキ装置(広義には表面処理装置)の断面図である。図1において、このメッキ装置1は、回路基板等のワーク2をメッキするメッキ処理部が複数の処理ユニット3−1〜3−n(nは2以上の整数)を連結して構成される。複数の処理ユニット3−1〜3−nは実質的に同一の構造を有することができる。複数の処理ユニット3−1〜3−nの各々では、少なくとも一つ、図1では例えば4つのワーク2が間欠停止可能である。図1は最大サイズのワーク2を示し、メッキ装置1はその最大サイズ以下のワーク2を処理することができる汎用性を有する。
図1は本実施形態に係る間欠搬送式のメッキ装置(広義には表面処理装置)の断面図である。図1において、このメッキ装置1は、回路基板等のワーク2をメッキするメッキ処理部が複数の処理ユニット3−1〜3−n(nは2以上の整数)を連結して構成される。複数の処理ユニット3−1〜3−nは実質的に同一の構造を有することができる。複数の処理ユニット3−1〜3−nの各々では、少なくとも一つ、図1では例えば4つのワーク2が間欠停止可能である。図1は最大サイズのワーク2を示し、メッキ装置1はその最大サイズ以下のワーク2を処理することができる汎用性を有する。
ワーク2は、後述される間欠搬送装置により、現在の停止位置から次の停止位置に向けて、A方向に順次間欠搬送される。本実施形態では、一つのワーク2は各処理ユニット内にて例えば4か所に停止される。最上流の処理ユニット3−1の上流側には、B方向への下降移動によりワーク2が搬入される搬入ユニット4が連結されても良い。処理ユニット3−1内のワーク2が間欠搬送される時に、搬入ユニット4内のワーク2も間欠搬送されて処理ユニット3−1に移動される。最下流の処理ユニット3−nの下流側には、処理ユニット3−nから水平移動されるワーク2をC方向に上昇させて搬出する搬出ユニット5が連結されても良い。処理ユニット3−n内のワーク2が間欠搬送される前に、搬出ユニット5内のワーク2は上方に搬出される。ただし、搬入ユニット4及び/又は搬出ユニット5は省略しても良い。この場合、処理ユニット3−1の最上流停止位置にワーク2が下降され、処理ユニット3−nの最下流停止位置のワーク2が上昇して搬出される。
図2は、処理ユニット3−2〜3−nと共通の構成を有する処理ユニット3−1の平面図である。処理ユニット3−1は、メッキ液(広義には処理液)が収容される分割処理槽6を有する。ワーク2は分割処理槽6内のメッキ液に浸漬される。分割処理槽6は上方が開口された略箱体であり、上流側及び下流側の隔壁にはそれぞれ開口6A,6Bが設けられ、隣り合うユニット(処理ユニット、搬入ユニットまたは搬出ユニット)との間でワーク2の水平移動が許容される。
本実施形態では、処理ユニット3−1内の複数例えば4つの停止位置にあるワーク2の表面及び裏面の少なくとも一方側に、少なくとも一つの陽極20が設けられる。本実施形態では、各停止位置にある各一つのワーク2の表面と対向する陽極20Aと、ワーク2の裏面と対向する陽極20Bが設けられる。陽極20(20A,20B)の各々は、互いに導通された複数の分割陽極を含むことができる。本実施形態では上流側の分割陽極20A1(20B1)と下流側の分割陽極20A2(20B2)に分割されている。陽極20は、3以上に分割された分割陽極を含んでいても良いが、互いに導通されることから一つの陽極とみなすことができる。
図3は、処理ユニット3−1に配置される陽極20A1,20A2(20B1,20B2)とワーク2との位置関係を示す正面図である。図3に示すように、ワーク2は搬送治具30に保持される。図2及び図3に示すように、陽極20(20A,20B)の各々は、4つの停止位置にあるワーク2と正対する位置に配置される。要は、図2に示すように、陰極に設定されるワーク2と陽極20との間で均一な電界を形成できればよい。陽極20の形状は問わず、図2及び図3に示す陽極は輪郭が矩形であるが、平面視での輪郭を円形としても良い。陽極は、不溶性陽極であっても可溶性陽極であっても良い。
本実施形態では、一つの処理ユニット3−1を4つのセル11−1〜11−4に区画する遮蔽板23を有することができる。各セル11−1〜11−4内に、平面視でワーク2の両側に陽極20(20A1,20A2,20B1,20B2)が配置される。遮蔽板23は、隣り合うセル間での電界(図2に矢印で示す陽極−陰極間の電界)の影響を遮断するために設けられる。遮蔽板23には、ワーク2が通過する開口23Aが形成される。
2.搬送治具
図4は、搬送治具30の一例を示している。この搬送治具30は、水平アーム部300と、垂直アーム部310と、ワーク保持部320と、被案内部330と、被給電部340と、被押動片350とを有する。水平アーム部300は、間欠搬送方向Aと直交する方向Bに沿って延びる。垂直アーム部310は水平アーム部300に垂下して保持される。ワーク保持部320は垂直アーム部310に固定される。ワーク保持部320は、上部フレーム321と、上部フレーム321に例えば昇降可能に支持される下部フレーム322とを含む。上部フレーム321には、ワーク2の上部をクランプする複数のクランパー323が設けられる。下部フレーム322には、ワーク2の下部をクランプする複数のクランパー324が設けられる。ワーク2には下部のクランパー324により下向きのテンションが付与される。ただし、ワーク2が厚い場合や、ワーク2の下部から給電しない場合には、下部フレーム322及びクランパー324を省略しても良い。
図4は、搬送治具30の一例を示している。この搬送治具30は、水平アーム部300と、垂直アーム部310と、ワーク保持部320と、被案内部330と、被給電部340と、被押動片350とを有する。水平アーム部300は、間欠搬送方向Aと直交する方向Bに沿って延びる。垂直アーム部310は水平アーム部300に垂下して保持される。ワーク保持部320は垂直アーム部310に固定される。ワーク保持部320は、上部フレーム321と、上部フレーム321に例えば昇降可能に支持される下部フレーム322とを含む。上部フレーム321には、ワーク2の上部をクランプする複数のクランパー323が設けられる。下部フレーム322には、ワーク2の下部をクランプする複数のクランパー324が設けられる。ワーク2には下部のクランパー324により下向きのテンションが付与される。ただし、ワーク2が厚い場合や、ワーク2の下部から給電しない場合には、下部フレーム322及びクランパー324を省略しても良い。
被案内部330は、処理ユニット3−2〜3−nに沿って配置され、例えば処理ユニット3−2〜3−n毎に分割された案内レール(図示せず)に案内されて、搬送治具30を直線案内するものである。被案内部330は、案内レールの天面と転接するローラー331と、案内レールの両側面と転接するローラー332(図4では一方の側面に転接するローラーのみ図示)とを含むことができる。
被給電部340は、図5及び図6にて説明する陰極レールと接触して、搬送治具30の水平アーム部300、垂直アーム部310、ワーク保持部320を介してワーク2を陰極に設定する。被給電部340は、間欠搬送方向Aに沿って延びる支持アーム341の上流側と下流側とに支持される2つの接触子342,343を含む。接触子342,343は、支持アーム341に平行リンク機構を介して支持され、陰極レールに圧接されるようにバネで付勢される。2つの接触子342,343は、クランパー323,324の少なくとも一方と電気的に接続されることで、ワーク2が陰極に設定される。
被押動片350は、例えば垂直アーム部310に固定され、ワーク保持部320の真上の位置にて被押動片350を垂直にして配置される。被押動片350は、後述する間欠搬送装置により図示C方向から押動されて、搬送治具30に間欠搬送力を伝達させるものである。なお、図4に示す搬送治具30には、連続搬送時に使用される被係合部360が設けられており、搬送治具30は間欠搬送にも連続搬送にも兼用できる。
3.陰極レール及び整流器
図5に示すように各処理ユニット3−1〜3−n(図5は2つの処理ユニットのみ図示)は、少なくとも1本の陰極レール40を有する。陰極レール40は、搬送方向Aと平行に複数並列に配置しても良い。この場合、複数の陰極レール40は同じ整流器に接続されても良いし、異なる整流器に接続されて給電部位毎に電流値を独立して制御するようにしても良い。本実施形態では1本の陰極レール40が設けられる。1本の陰極レール40は、好ましくは処理ユニット3−1〜3−n毎に分割された複数の分割陰極レール40−1〜40−n(図5は2つの分割陰極レール40−1,40−2のみを示す)を有し、搬送方向Aで連続するように連結される。分割陰極レール40−1〜40−nの各々は、図5及び図6(A)に示すように、絶縁レール41上にて間隔(非導電部)42をあけて、ワーク2が停止される各セル毎に一つずつ計4つの導電部43を有する。4つの導電部43の各々は、各処理ユニット3−1〜3−nの4箇所の停止位置にてワーク2を保持して停止された図4に示す搬送治具30の被給電部340(2つの接触子342,343)と電気的に導通される。なお、図5では各処理ユニット3−1〜3−nに収容されるメッキ液の液面Lが示され、ワーク2はメッキ液中に浸漬される。なお、図6(B)に示すように、陰極レール40の幅方向の両端には隔壁44,44が設けられ、導電部43上に非油性の導電性流体(例えば水)45を保持することができる。こうすると、被給電部340(2つの接触子342,343)と導電部43との電気的接触を、導電性流体45を介してより確実に担保することができる。ただし、水の導電性は金属である導電部43の導電性よりもはるかに低いので、隣り合う導電部43,43間の絶縁性は維持される。また、図6(B)に示すように、導電部43を絶縁レール41上に固定するボルト46は、被給電部340の走行路を挟んだ両側に配置することができる。これにより、導電部34にボルトの座ぐり穴を設ける必要がなくなり、抵抗となる要因を排除できる。
図5に示すように各処理ユニット3−1〜3−n(図5は2つの処理ユニットのみ図示)は、少なくとも1本の陰極レール40を有する。陰極レール40は、搬送方向Aと平行に複数並列に配置しても良い。この場合、複数の陰極レール40は同じ整流器に接続されても良いし、異なる整流器に接続されて給電部位毎に電流値を独立して制御するようにしても良い。本実施形態では1本の陰極レール40が設けられる。1本の陰極レール40は、好ましくは処理ユニット3−1〜3−n毎に分割された複数の分割陰極レール40−1〜40−n(図5は2つの分割陰極レール40−1,40−2のみを示す)を有し、搬送方向Aで連続するように連結される。分割陰極レール40−1〜40−nの各々は、図5及び図6(A)に示すように、絶縁レール41上にて間隔(非導電部)42をあけて、ワーク2が停止される各セル毎に一つずつ計4つの導電部43を有する。4つの導電部43の各々は、各処理ユニット3−1〜3−nの4箇所の停止位置にてワーク2を保持して停止された図4に示す搬送治具30の被給電部340(2つの接触子342,343)と電気的に導通される。なお、図5では各処理ユニット3−1〜3−nに収容されるメッキ液の液面Lが示され、ワーク2はメッキ液中に浸漬される。なお、図6(B)に示すように、陰極レール40の幅方向の両端には隔壁44,44が設けられ、導電部43上に非油性の導電性流体(例えば水)45を保持することができる。こうすると、被給電部340(2つの接触子342,343)と導電部43との電気的接触を、導電性流体45を介してより確実に担保することができる。ただし、水の導電性は金属である導電部43の導電性よりもはるかに低いので、隣り合う導電部43,43間の絶縁性は維持される。また、図6(B)に示すように、導電部43を絶縁レール41上に固定するボルト46は、被給電部340の走行路を挟んだ両側に配置することができる。これにより、導電部34にボルトの座ぐり穴を設ける必要がなくなり、抵抗となる要因を排除できる。
各処理ユニット3−1〜3−nは、ワーク2が停止される各セル毎に一つずつ計4つの整流器50(図5では一つの整流器50のみを示す)を有する。4つの整流器50の各一つの正端子51は各セルに配置された陽極20(20A1,20A2,20B1,20B2)と接続される。4つの整流器50の各一つの負端子52は分割陰極レール40−1〜40−nの各一つのセルに対応する導電部43と接続される。
4.ワークの停止時の電流制御
各処理ユニット3−1〜3−nの4箇所の停止位置(セル)にて、4つのワーク2に流れる電流は、各セル毎に一つずつ設けられた整流器50の各々により独立して制御される。しかも、セル間では陰極同士が絶縁され、陽極同士も絶縁されるので、各一つのワーク2毎に絶縁分離させて、各整流器50によりワーク2を個別的に給電制御することができる。加えて、セル間では遮蔽板23により電界を分離することで、セル間での影響を排除して、ワーク2毎の個別給電が担保される。それにより、ワーク2のメッキ品質を向上させることができる。
各処理ユニット3−1〜3−nの4箇所の停止位置(セル)にて、4つのワーク2に流れる電流は、各セル毎に一つずつ設けられた整流器50の各々により独立して制御される。しかも、セル間では陰極同士が絶縁され、陽極同士も絶縁されるので、各一つのワーク2毎に絶縁分離させて、各整流器50によりワーク2を個別的に給電制御することができる。加えて、セル間では遮蔽板23により電界を分離することで、セル間での影響を排除して、ワーク2毎の個別給電が担保される。それにより、ワーク2のメッキ品質を向上させることができる。
本実施形態の間欠搬送方式を従来の連続搬送方式と対比すると、連続搬送されるワーク(陰極)は固定された陽極との位置関係が常時変化するのに対して、本実施形態の停止されたワーク(陰極)2は陽極20と正対させることができる。このように、ワーク2の停止中は陰極と陽極との位置関係が一定となり、各ワークは同一メッキ条件となるので、メッキ品質が向上すると期待される。特にワーク2が停止していれば接触抵抗の変動はなくなるので、緻密な電流制御が可能となる。また、連続搬送に用いられる長い陰極レール途中には固定ボルト用の座ぐり穴等があり、陰極レールの抵抗値が場所毎に異なり均一抵抗とはならない。そのため、ワークの連続搬送中の位置によってワークに流れる電流が異なるが、間欠搬送ではそのような不具合を解消できる。さらに、本実施形態は、連続搬送のようにワークの連続搬送速度よりメッキ品質が悪影響を受けることもない。
ただし、上述のような完全個別給電を必ずしも実施せずにワーク2を間欠搬送しても良い。つまり、各処理ユニット3−1〜3−nの4つのセル11−1〜11−4にて、陰極及び陽極の一方または双方を共通(共通陰極及び/または共通陽極)にしても良い。
5.ワークの間欠搬送中の電流制御
ワーク2がセル間で間欠搬送される間も、整流器50によりワーク2に電流が供給される。ここで、間欠搬送中に、図4に示す搬送治具30の2つの接触子342,343の少なくとも一方は陰極レール上の導電部43と接触している。つまり、搬送上流側の接触子342が間隔42の位置にて絶縁レール41と接触しても、搬送下流側の接触子343は導電部43と接触している。同様に、搬送下流側の接触子343が間隔42の位置にて絶縁レール41と接触しても、搬送上流側の接触子342は隣のセルの導電部43と接触している。それらの過程で、搬送下流側の接触子343が例えばセル11−1の導電部43と接触し、搬送上流側の接触子342はセル11−2の導電部43と接触する。この場合、ワーク2はセル11−1及びセル11−2に対応する2つの整流器50から電流が供給される。このセル間を移動する過程の状態(乗り継ぎ状態)を、図7に模式的に示す。図7において、図4に示す搬送治具30の被給電部340が模式的に示され、被給電部340は上流側セルの導電部43と下流側セルの導電部43とに接触している。ここで、ワーク2が停止している時の整流器50の出力を維持してワーク2を間欠搬送すると、2つの整流器50と接続される乗り継ぎ中のワーク2には過渡的に2倍の電流が流れる虞がある。特に、間欠搬送速度が遅いほど、過渡電流の影響は大きい。
ワーク2がセル間で間欠搬送される間も、整流器50によりワーク2に電流が供給される。ここで、間欠搬送中に、図4に示す搬送治具30の2つの接触子342,343の少なくとも一方は陰極レール上の導電部43と接触している。つまり、搬送上流側の接触子342が間隔42の位置にて絶縁レール41と接触しても、搬送下流側の接触子343は導電部43と接触している。同様に、搬送下流側の接触子343が間隔42の位置にて絶縁レール41と接触しても、搬送上流側の接触子342は隣のセルの導電部43と接触している。それらの過程で、搬送下流側の接触子343が例えばセル11−1の導電部43と接触し、搬送上流側の接触子342はセル11−2の導電部43と接触する。この場合、ワーク2はセル11−1及びセル11−2に対応する2つの整流器50から電流が供給される。このセル間を移動する過程の状態(乗り継ぎ状態)を、図7に模式的に示す。図7において、図4に示す搬送治具30の被給電部340が模式的に示され、被給電部340は上流側セルの導電部43と下流側セルの導電部43とに接触している。ここで、ワーク2が停止している時の整流器50の出力を維持してワーク2を間欠搬送すると、2つの整流器50と接続される乗り継ぎ中のワーク2には過渡的に2倍の電流が流れる虞がある。特に、間欠搬送速度が遅いほど、過渡電流の影響は大きい。
本実施形態では、ワーク2の間欠搬送中には以下の2つの電流制御のいずれかを採用している。間欠搬送速度が比較的遅い場合には、上述した過渡電流を低減または防止するために、ワーク2の停止時での整流器50の出力(例えば100%)を漸減(例えば50%まで漸減)させた後に漸増(100%まで戻す)させる。間欠搬送速度が比較的速い場合には、過渡電流は流れる期間が極めて短いため無視することができる。よって、その場合にはワーク2の停止時とワーク2の間欠搬送時とで整流器50の出力を異ならせるように制御しなくても良い。例えば、ワーク200の搬送方向の幅を800mm、間欠搬送速度を12m/min、図7に模式的に示す被給電部430の搬送方向の幅を60mmと仮定すると、間欠搬送時間は5secとなり、被給電部430がセル間で導電部43を乗り継ぎするのに要する時間(過渡電流が流れ得る時間)はわずか0.3secである。
6.ノズル管の移動走査
各処理ユニット3−1〜3−nの4つのセル11−1〜11−4にて、図8に示すように、平面視で、停止位置にあるワーク2の各面(表面及び裏面)と陽極20との間に少なくとも1本のノズル管60をさらに設けることができる。ノズル管60は、ワーク(陰極)2と陽極20との間に形成される電界を遮るので、複数のノズル管60を設ける場合でもその本数は少ないことが好ましい。ノズル管60は、図9に示すようにメッキ液を噴出する複数の噴出口60Aを有する。図9に示すノズル管60の噴出口60Aは垂直方向ピッチPは従来の連続搬送式に用いられるピッチ(例えば7.5mm)よりも小さく、噴出口60Aの外径以上でかつ5mm以下とすることができる。単位時間当たりのメッキ液供給量を多くするためである。加えて、小さいサイズのチップや密なパターンに均等にメッキ液を供給するためにも、ピッチPは小さい方が良い。なお、図9ではワーク2の表裏面側のノズル管60はワーク2を挟んで対向配置されているが、非対向位置に設けても良い。対向配置させればワーク2が液圧で変形することを解消でき、非対向配置させるとワーク2の貫通孔にメッキ液を供給し易くなる。なお、連続搬送方式でもノズル管が設けられるが、その本数は一処理ユニットに十数本と多い。
各処理ユニット3−1〜3−nの4つのセル11−1〜11−4にて、図8に示すように、平面視で、停止位置にあるワーク2の各面(表面及び裏面)と陽極20との間に少なくとも1本のノズル管60をさらに設けることができる。ノズル管60は、ワーク(陰極)2と陽極20との間に形成される電界を遮るので、複数のノズル管60を設ける場合でもその本数は少ないことが好ましい。ノズル管60は、図9に示すようにメッキ液を噴出する複数の噴出口60Aを有する。図9に示すノズル管60の噴出口60Aは垂直方向ピッチPは従来の連続搬送式に用いられるピッチ(例えば7.5mm)よりも小さく、噴出口60Aの外径以上でかつ5mm以下とすることができる。単位時間当たりのメッキ液供給量を多くするためである。加えて、小さいサイズのチップや密なパターンに均等にメッキ液を供給するためにも、ピッチPは小さい方が良い。なお、図9ではワーク2の表裏面側のノズル管60はワーク2を挟んで対向配置されているが、非対向位置に設けても良い。対向配置させればワーク2が液圧で変形することを解消でき、非対向配置させるとワーク2の貫通孔にメッキ液を供給し易くなる。なお、連続搬送方式でもノズル管が設けられるが、その本数は一処理ユニットに十数本と多い。
ワークの連続搬送方式では多数のノズル管が固定されていたが、間欠搬送方式を採用する本実施形態では、各処理ユニット3−1〜3−nの4つのセル11−1〜11−4にて、少なくとも1本のノズル管60を、例えば図8の矢印A1方向及びA2方向(共に間欠搬送方向Aと平行である)に水平走査移動させている。それにより、図9に示すように、ワーク2の全面に対して均一にメッキ液を噴出させることができる。また、ノズル管60の移動速度は、連続搬送方式でのワーク2の移動速度(例えば0.8m/min)よりも速くすることができる。こうすると、単位時間当たりのメッキ液供給量を多くすることができる。なお、連続搬送式でワーク速度を速くすると処理槽の全長が長くなって装置が大型化するが、本実施形態のような間欠搬送では装置は大型化しない。
ノズル管60の往復移動機構は図示を省略するが、公知の往復直線運動させる機構(例えば可逆モータで駆動されるピニオン−ラック機構、ピストン−クランク機構等)を採用することができる。この往復移動機構は、各セルで停止されているワーク2の少なくとも水平幅と対応する長さ範囲を少なくとも一回循環して走査するように、2本のノズル管60を移動させることができる。こうすると、処理されるワーク2の面内均一性が向上する。特に、ノズル管60の初期位置から少なくとも一回循環走査させて初期位置に復帰させることが好ましい。ノズル管60の影がワーク面内でほぼ均一化されるからである。なお、ノズル管60は装置の稼動中に亘って往復走査移動を連続させても良いし、ワーク2の間欠搬送中は往復走査移動を停止しても良い。
本実施形態によれば、間欠停止されるワーク2に対して、ワーク2の停止位置と対応して少なくとも一つ例えば2本のノズル管60をワーク2に対して走査移動させることができる。それにより、平面視でワーク2と陽極20との間に位置するノズル管60の影となって陽極−陰極間の電界が妨げられる領域が、ノズル管60の移動に伴って移動する。このため、ノズル管60によって電界が妨げられる領域が固定されず、処理されるワーク2の面内均一性が向上する。なお、ノズル管60の走査移動方向は水平方向に限らない。例えばノズル管60を水平に配置して垂直方向に走査移動してもよく、走査移動方向は水平、垂直等のいずれの方向であっても良い。
ノズル管60は公知の構造により分割処理槽内の噴出口60A付近のメッキ液を巻き込んで噴出させることができる。よって、陽極20付近の金属イオンが豊富なメッキ液をワーク2に向けて噴出でき、スループットが向上する。
なお、ノズル管60の走査移動は、間欠搬送方式の表面処理装置に広く適用することができ、必ずしも上述した実施形態のような構造、つまり複数の処理ユニットの連結構造、陰極分割構造、陽極分割構造や、後述するプッシャーによる間欠搬送機構を備えた構造等に限定されるものではない。
7.処理ユニット毎の間欠搬送装置
本実施形態では、各処理ユニット3−1〜3−n毎に間欠搬送装置を設けることが好ましい。処理ユニットの数nを変更しても間欠搬送装置を再設計する必要がないからである。その便宜を求めなければ、特許文献1のように循環式間欠搬送装置を用いても良いし、各処理ユニット3−1〜3−nに共用される一つの間欠搬送装置を用いても良い。なお、以下に説明する間欠搬送装置は、必ずしも複数の処理ユニットを連結してメッキ槽を形成するものに限定されない。
本実施形態では、各処理ユニット3−1〜3−n毎に間欠搬送装置を設けることが好ましい。処理ユニットの数nを変更しても間欠搬送装置を再設計する必要がないからである。その便宜を求めなければ、特許文献1のように循環式間欠搬送装置を用いても良いし、各処理ユニット3−1〜3−nに共用される一つの間欠搬送装置を用いても良い。なお、以下に説明する間欠搬送装置は、必ずしも複数の処理ユニットを連結してメッキ槽を形成するものに限定されない。
各処理ユニット3−1〜3−n毎に設けられる間欠搬送装置として、図10または図11に示すものを採用することができる。図10に示す間欠搬送装置は、間欠搬送方向Aと平行な正逆方向A1,A2に向けて、例えばエアシリンダー等で進退駆動されるプッシャー70で構成される。プッシャー70は、4箇所に押動片71を有する。4つの押動片71は、4つの搬送治具30の被押動片350(図4参照)を押動可能である。4つの押動片71は、図10において時計周り方向Dに回転付勢されている。
プッシャー70は、方向A1に向けた前進時に4つの押動片71が4つの搬送治具30の被押動片350を押動して4つのワーク2を間欠搬送させる。プッシャー70は、方向A2に向けた後退時に、押動片71が被押動片350と接触すると、押動片71が矢印D方向への付勢力に抗して矢印Dとは逆方向に回転することで、被押動片350に邪魔されることなく初期位置に復帰される。こうして、各処理ユニット3−1〜3−n内にあった4つのワーク2は、プッシャー70により同時に一ステップ移動されて間欠搬送される。それにより、処理ユニット内の最下流位置以外の3つのワーク2は同一処理ユニット内で一ステップ移動され、同一または前段の処理ユニット内の最下流位置にあったワーク2はその後段の処理ユニット内の最上流位置に移動される。こうして、4つの搬送治具30に保持された4つのワーク2は、処理ユニット内の4つの停止位置を始点及び/または終点として、間欠的に搬送される。
図10に示す間欠搬送装置は、搬送治具30を押動するだけであるから、搬送治具30の停止位置を制御することはできない。この間欠搬送装置は、間欠搬送速度が比較的遅く、プッシャー70での押動停止後も搬送治具30が前進し続ける慣性力を生じない場合に使用することができる。あるいは、この間欠搬送装置は、搬送治具30の案内ローラー331,332の少なくとも一つに、本願出願人による国際特許出願PCT/JP2018/020119に記載されたブレーキ機構を設けた場合にも採用することができる。
図11(A)(B)に示す間欠搬送装置は、4つの押動片73を備えて進退駆動(A1,A2方向の駆動)及び昇降駆動(矢印E方向の駆動)されるプッシャー72を含む。4つの押動片73は、搬送治具30の被押動片350が嵌まり込む例えば上向き開口の凹部73Aを含む。図11(A)に示すように、プッシャー72が上昇されると、4つの凹部73Aに搬送治具30の被押動片350が嵌まり込む。その後、図11(B)に示すように、プッシャー72をA1方向に前進させると、4つの搬送治具30は同時に一ステップ分だけ間欠搬送される。また、プッシャー72の前進が終了すると、凹部73Aにより被押動片350の停止位置が一義的に定まる。その後、プッシャー72は下降され、さらに後退されて、初期位置に復帰される。特に、凹部73Aと被押動片350との係合により、複数の搬送治具30を所定の位置に停止させることができ、より高速な間欠送りが可能となる。
なお、上記のように本実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できるであろう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。例えば、明細書又は図面において、少なくとも一度、より広義または同義な異なる用語と共に記載された用語は、明細書又は図面のいかなる箇所においても、その異なる用語に置き換えることができる。また本実施形態及び変形例の全ての組み合わせも、本発明の範囲に含まれる。
図12は、図4に示す搬送治具30のうちのワーク保持部320をワーク保持部320Aに変更した変形例を示す、図12では、ワーク2を囲むハッチングで示す四角枠領域にダミー被処理部80を設けている。ダミー被処理部80はワーク2と共に表面処理(メッキ)される領域である。ダミー被処理部80は、図12に示す給電部81と接続される。この給電部81は図4に示す被給電部340と電気的に接続されることで、ダミー被処理部80はワーク2と同様にして陰極に設定される。
ワーク2の周縁はダミー被処理部80の内側に位置することから、ワーク2の周縁はエッジにならない。よって、ワーク2の周縁に電界が集中しないので、いわゆるドックボーンと称される厚膜部は生じない。ダミー被処理部80の電気抵抗をワーク2面内の電気抵抗と実質的に同じになるようにすれば、ワーク2の面内均一性が向上する。なお、メッキ装置1はメッキ処理部の後工程に剥離槽を有し、メッキ後に搬送治具30は剥離槽に投入されてメッキが剥離される。その際にダミー被処理部80に形成されたメッキも剥離されるので、搬送治具30を繰り返し再使用可能となる。
図13は、図4に示す搬送治具30のうちの被給電部340に陰極レール40の清掃機能を付加した変形例である搬送治具30Aを示す。図13では、支持アーム341が、接触子342,343に加えて、陰極レール40と接触して陰極レール40を清掃する少なくとも一つのレール清掃部344を支持している。図13に示すレール清掃部344は、陰極レール40の導電部43を磨いて堆積層(例えば導電部上の酸化皮膜等)を削り取る研磨材例えばスクレーパー344Aと、研磨粉やごみを払い出すブラシ344Bの少なくとも一方または双方とを含んでいる。ブラシ344Bはスクレーパー344Aの下流側に設けることができる。清掃部344(344A,344B)は、接触子342,344と同様な構造により陰極レール40に圧接される。
図13に示す清掃部344を有する搬送治具30Aを、メッキ装置1にて循環使用される多数の搬送治具の少なくとも一つとして用いることで、メッキ装置1を稼働させながら陰極レール40を清掃し、通電不良を防止することができる。それにより、陰極レール40の導電部43の電気抵抗値が高くなるなどの不具合を抑制し、従来週一回の頻度で実施されていたメンテナンス頻度を少なくすることができる。
なお、図13に示す搬送治具30Aは、上述した間欠搬送式の表面処理装置に限らず、導電部34が連続して設けられる陰極レールを有する連続搬送式の表面処理装置でも使用することができる。
1 表面処理装置、2 ワーク、3−1〜3−n 処理槽(分割処理槽)、20(20A1,20A2,20B1,20B2) 陽極、30,30A 搬送治具、40,40−1,40−2 陰極レール(分割陰極レール)、41 絶縁レール、42 間隔(非導電部)、43 導電部、50 整流器、51 正端子、52 負端子、60 ノズル管、60A 噴出口、70,72 プッシャー(間欠搬送装置)、71,73 押動片、73A 凹部
Claims (6)
- 処理液が収容される処理槽と、
前記処理槽内に配置される少なくとも一つの陽極と、
少なくとも1本の陰極レールと、
前記処理液に浸漬される複数のワークをそれぞれ垂下させて保持し、かつ、前記少なくとも1本の陰極レールと接触して前記複数のワークを陰極に設定し、搬送方向に沿って連続または間欠的に搬送される複数の治具と、
を有し、
前記少なくとも1本の陰極レールは、前記複数の治具と接触する金属製の導電部と、前記導電部上に保持される非油性の導電性流体と、を含むこと特徴とする表面処理装置。 - 請求項1において、
前記少なくとも1本の陰極レールは、前記導電部の幅方向の両端には隔壁を含み、前記導電性流体は前記隔壁間に収容されること特徴とする表面処理装置。 - 請求項2において、
前記導電性流体は水であること特徴とする表面処理装置。 - 請求項3において、
前記複数の治具の各々は、前記搬送方向で離れて設けられ、前記少なくとも1本の陰極レールとそれぞれ接触する2つの被給電部を含むこと特徴とする表面処理装置。 - 請求項1乃至4のいずれか一項において、
前記複数の治具は間欠的に搬送され、
前記導電部は、間欠停止される各位置に間隔を介して設けられることを特徴とする表面処理装置。 - 請求項1乃至5のいずれか一項において、
前記表面処理装置は複数の処理ユニットを含み、
前記少なくとも1本の陰極レールは、前記複数の処理ユニット毎に分割された複数の分割陰極レールを含むこと特徴とする表面処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017203866 | 2017-10-20 | ||
JP2017203866 | 2017-10-20 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019549223A Division JP6737527B2 (ja) | 2017-10-20 | 2018-10-10 | 表面処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020169393A true JP2020169393A (ja) | 2020-10-15 |
Family
ID=66173283
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019549223A Active JP6737527B2 (ja) | 2017-10-20 | 2018-10-10 | 表面処理装置 |
JP2020120145A Pending JP2020169393A (ja) | 2017-10-20 | 2020-07-13 | 表面処理装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019549223A Active JP6737527B2 (ja) | 2017-10-20 | 2018-10-10 | 表面処理装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP6737527B2 (ja) |
KR (1) | KR20200073239A (ja) |
CN (1) | CN111247272A (ja) |
PH (1) | PH12020550794A1 (ja) |
TW (1) | TWI682076B (ja) |
WO (1) | WO2019078063A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110424032A (zh) * | 2019-09-10 | 2019-11-08 | 江苏师范大学 | 一种用于压力机主轴修复的射流电沉积装置及其方法 |
JP7380338B2 (ja) | 2020-03-06 | 2023-11-15 | 住友金属鉱山株式会社 | めっき装置およびめっき方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2727250B2 (ja) * | 1990-03-14 | 1998-03-11 | 株式会社中央製作所 | メッキ装置における給電制御装置 |
JP2004190081A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-08 | Komatsu Lite Seisakusho:Kk | 連続めっき装置に用いられる処理ユニット |
EP1602127A2 (en) * | 2003-03-11 | 2005-12-07 | Ebara Corporation | Plating apparatus |
JP2005200727A (ja) * | 2004-01-16 | 2005-07-28 | Toyota Motor Corp | 半導体素子の製造方法 |
DE102012012990B4 (de) * | 2011-06-30 | 2014-09-04 | Almex Pe Inc. | Oberflächenbehandlungssystem und Werkstückhaltestütze |
JP5795514B2 (ja) * | 2011-09-29 | 2015-10-14 | アルメックスPe株式会社 | 連続メッキ装置 |
CN202954124U (zh) * | 2012-12-10 | 2013-05-29 | 中物院成都科学技术发展中心 | 一种水平工件电化学沉积设备 |
JP6041927B2 (ja) * | 2015-05-07 | 2016-12-14 | アルメックスPe株式会社 | 表面処理装置 |
CN205917341U (zh) * | 2016-07-28 | 2017-02-01 | 江苏博敏电子有限公司 | 一种电镀均匀的电镀槽 |
-
2018
- 2018-10-10 JP JP2019549223A patent/JP6737527B2/ja active Active
- 2018-10-10 WO PCT/JP2018/037756 patent/WO2019078063A1/ja active Application Filing
- 2018-10-10 KR KR1020207013112A patent/KR20200073239A/ko unknown
- 2018-10-10 CN CN201880067802.0A patent/CN111247272A/zh active Pending
- 2018-10-17 TW TW107136459A patent/TWI682076B/zh active
-
2020
- 2020-04-15 PH PH12020550794A patent/PH12020550794A1/en unknown
- 2020-07-13 JP JP2020120145A patent/JP2020169393A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201923158A (zh) | 2019-06-16 |
KR20200073239A (ko) | 2020-06-23 |
WO2019078063A1 (ja) | 2019-04-25 |
TWI682076B (zh) | 2020-01-11 |
PH12020550794A1 (en) | 2021-04-26 |
JPWO2019078063A1 (ja) | 2020-07-27 |
JP6737527B2 (ja) | 2020-08-12 |
CN111247272A (zh) | 2020-06-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210414 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A02 | Decision of refusal |
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