JP2020165962A - 鉱石試料の分析方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】原料鉱石の複数個所からサンプリングして得た、既知量の水分率を有する鉱石試料へ一次X線を照射し、発生する分析対象元素の二次X線強度とコンプトン散乱X線強度を用いて、水分率とコンプトン散乱X線強度との関係を示す第一の直線回帰式と、水分率と、分析対象元素の二次X線強度をコンプトン散乱X線強度で除して得られた補正X線強度との関係を示す第二の直線回帰式とを求める。新規にサンプリングされた鉱石試料へ一次X線を照射し、分析対象元素の二次X線強度とコンプトン散乱X線強度とを測定し、これらの強度と第一、第二の直線回帰式とから新規鉱石試料における分析対象元素の濃度を求める。
【選択図】図1
Description
また、変動する成分として有機物を多く含む汚泥分析等においては、有機物の除去は水分のように容易ではない。このような場合の補正方法が非特許文献1、2に記載されている。
しかしながら、本発明者らは、鉱石試料のうちでも塊状であったり、粘土状であったりして流動性が悪い試料については、分析値の誤差が大きくなるという課題も知見した。
当該構成によれば、鉱石試料の水分率に拘わらず、当該鉱石試料に含有される分析対象元素の濃度を、蛍光X線分析法によって、迅速、簡便に、精度よく分析することが出来ることを知見し、本発明を完成した。
鉱石試料に含有される分析対象元素を分析する方法であって、
原料鉱石の複数個所から鉱石試料をサンプリングする工程と、
前記サンプリングされた複数の鉱石試料のそれぞれを識別して一次鉱石試料とし、水分率を0質量%まで乾燥する工程と、
前記乾燥させた一次鉱石試料のそれぞれを所定個数に分割して、前記識別されたそれぞれの一次鉱石試料に由来する二次鉱石試料とし、前記同一の一次鉱石試料に由来する前記二次鉱石試料のそれぞれへ、純水を添加しない、または、所定量の純水を添加して、水分率0質量%を含む所定の水分率を有する三次鉱石試料を得る工程と、
水分率が0質量%の前記三次鉱石試料について前記分析対象元素の濃度を、所定の分析方法を用いて定量分析する工程と、
前記水分率が0質量%の前記三次鉱石試料および前記所定の水分率を有する三次鉱石試料のそれぞれへ一次X線を照射し、当該それぞれの三次鉱石試料から発生する前記分析対象元素の二次X線強度と、コンプトン散乱X線強度とを測定し、同一の前記一次鉱石試料に由来する前記複数の三次鉱石試料において、前記二次X線強度の値を前記コンプトン散乱X線強度の値で除して補正X線強度を算出する工程と、
前記補正X線強度と、前記鉱石試料に含有される分析対象元素の濃度との関係を求める工程と、
前記原料鉱石から新規にサンプリングされた、任意の水分率を有する新規な鉱石試料に対して、一次X線を照射し、当該新規な鉱石試料から発生する分析対象元素の二次X線強度と、コンプトン散乱X線強度とを測定し、当該二次X線強度の値を当該コンプトン散乱X線強度の値で除して補正X線強度を算出する工程と、
算出された前記補正X線強度を前記関係に適用して、前記新規な鉱石試料における分析対象元素の濃度を算出する工程とを有する、ことを特徴とする鉱石試料の分析方法である。
第2の発明は、
前記補正X線強度と、前記新規な鉱石試料に含有される分析対象元素の濃度との関係を求めるとは、
前記0質量%を含む所定の水分率を有する三次鉱石試料のコンプトン散乱X線強度に基づいて、鉱石試料における、水分率とコンプトン散乱X線強度との関係を示す第一の直線回帰式を求める工程と、
前記三次鉱石試料における、水分率と前記三次鉱石試料の補正X線強度との関係を示す第二の直線回帰式を求め、第二の直線回帰式を外挿して前記補正X線強度の値が0となる点を求める工程と、
所定の水分率を有する前記新規な鉱石試料において、前記二次X線強度の値を前記コンプトン散乱X線強度の値で除して補正X線強度を算出し、さらに、前記コンプトン散乱X線強度の値を第一の直線回帰式へ代入して水分率を算出する工程と、
前記補正X線強度の値が0となる点と、前記新規な鉱石試料に係る補正X線強度の値と水分率の値とをプロットした点とを結ぶ1次式を求め、当該1次式を外挿して水分率が0%のときの補正X線強度を求め、前記新規な鉱石試料の水分率0%における補正X線強度とする工程と、
前記新規な鉱石試料の水分率0%における補正X線強度から、前記新規な鉱石試料における分析対象元素の濃度を算出する工程とを有する、ことを特徴とする第1の発明に記載の鉱石試料の分析方法である。
第3の発明は、
前記鉱石試料の形態が塊状であって、1次X線の照射を受ける平滑な測定面を得ることが困難であるとき、
前記鉱石試料へ純水を添加して混合することで流動性を付与し、平滑な測定面を得た後、第1または第2の発明に記載の蛍光X線分析方法を適用し、分析対象元素の濃度を求めることを特徴とする鉱石試料の分析方法である。
第4の発明は、
前記鉱石試料の形態が粘土状であって、1次X線の照射を受ける平滑な測定面を得ることが困難であるとき、
前記鉱石試料へ純水を添加して混合することで流動性を付与し、平滑な測定面を得た後、第1または第2の発明に記載の蛍光X線分析方法を適用し、分析対象元素の濃度を求めることを特徴とする鉱石試料の分析方法である。
第5の発明は、
前記鉱石試料への純水添加量の総量が、前記鉱石試料の50質量%以下であることを特徴とする第3または第4の発明に記載の蛍光X線分析方法である。
本発明に係る鉱石試料に含有される分析対象元素の定量方法について、(1)原料鉱石から鉱石試料をサンプリングする工程、(2)所定量の水分率を有する鉱石試料を調製する工程、(3)分析対象である元素の濃度と分析対象元素から発生する補正X線強度との関係を求める工程、の順に説明する。
原料鉱石において、出来るだけ互いに離れた範囲から鉱石試料のサンプリングを実施する。原料鉱石からサンプリングされた当該鉱石試料を本発明では、一次鉱石試料とする。例えば、一次鉱石試料として4点のサンプリングを実施するのであれば、原料鉱石の東、西、南、北の各地点から、一次鉱石試料A、B、C、Dを採取することが考えられる(尚、サンプリング数は、適宜、設定可能である)。
当該一次鉱石試料A、B、C、Dは概ね類似の元素組成を有するが、定量分析の対象となる分析対象元素においては、それぞれ異なった濃度を有していると考えられる。
前記一次鉱石試料A、B、C、Dを乾燥させ、水分率を0質量%とする。そして、水分率0質量%となった一次鉱石試料A、B、C、Dのそれぞれを所定個に分割して、二次鉱石試料を得る。例えば、8個に分割する。
尚、この一次鉱石試料A、B、C、Dを乾燥させ、水分率を0質量%とする操作は、長時間を要する操作ではある。しかし後述する第一および第二の直線回帰式を求めた後の、鉱石試料E、F、G・・・においては、当該乾燥操作は不要となる。
具体的には、例えば上述した8個に分割した二次鉱石試料を用いて、水分率0質量%である三次鉱石試料Awet0%、Bwet0%、Cwet0%、Dwet0%、から、例えば、水分率50質量%である三次鉱石試料Awet50%、Bwet50%、Cwet50%、Dwet50%までの範囲において、8段階の水分率を有する三次鉱石試料を調製した。
ここで、水分率0質量%の三次鉱石試料Awet0%〜Dwet0%に含有される分析対象元素の濃度を、所定の分析方法によって定量する。具体的には、ICP分析、湿式化学分析、蛍光X線分析等が考えられる。
そして、各鉱石試料の水分率とコンプトン散乱X線強度との関係を示す直線回帰式を求める(本発明において「第一の直線回帰式と記載する場合がある。)。
従って、一次鉱石試料E以降の一次鉱石試料においては、コンプトン散乱X線強度の値と第一の直線回帰式とから、当該一次鉱石試料の水分率を算出することが出来る。
具体的には、当該補正X線強度をXY軸の一方の軸(例えばY軸)とし、水分率の値を他方の軸(例えばX軸)として、三次鉱石試料Awet0%〜Awet50%、三次鉱石試料Bwet0%〜Bwet50%、三次鉱石試料Cwet0%〜Cwet50%、三次鉱石試料Dwet0%〜Dwet50%の全ての試料に係る補正X線強度と、分析対象の元素の濃度との点をプロットし、一次鉱石試料A、B、C、Dのそれぞれにおいて、水分率の値と補正X線強度の値との関係を示す直線回帰式を得る(本発明において「第二の直線回帰式」と記載する場合がある。)。
この補正X線強度の値が0となるときの水分率の値(X切片)が、一次鉱石試料A、B、C、Dにおいて同一であることは、当該所定の原料鉱石から新規にサンプリングされた鉱石試料においても、同様であると考えられる。
従って、当該所定の原料鉱石から新規にサンプリングされた鉱石試料に対し一次X線を照射し、分析対象元素から発生する二次X線強度と、コンプトン散乱X線強度とを測定し、補正X線強度と水分率とを求めて、その点をプロットする。そして、上述したX切片と、当該プロット点とを直線で結んで1次式を得、当該1次式を外挿して、水分率0質量%における補正X線強度の値(Y切片)を求め、水分率0質量%における補正X線強度と分析対象元素の濃度との検量線を適用すれば、当該新規にサンプリングされた鉱石試料の水分率に拘わらず、当該新規にサンプリングされた鉱石試料に含有される分析対象元素の濃度を求めることが出来ることに想到した。
原料鉱石から鉱石試料をサンプリングし、当該鉱石試料に含有される分析対象元素の濃度を、迅速、簡便に、精度よく分析する方法について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の一実施の形態に係る蛍光X線分析用試料調製方法における試料調製プロセスの概略を示す工程図であり、(1)試料分取工程、(2)流動性の確認工程、(3)純水添加混合工程、(4)測定容器内への充填工程、(5)蛍光X線分析と分析結果の算出工程、の各工程を有する。以下、各工程毎に説明する。
本発明が対象とする鉱石試料は、原料鉱石からサンプリングされたものである。原料鉱石から鉱石試料をサンプリングする際は、上述したように、出来るだけ互いに離れた範囲から鉱石試料のサンプリングを実施する。
前記分取した適量の鉱石試料の形態や流動性を確認する。
例えば、当該鉱石試料を測定容器内に移入し、当該測定容器を振ったり、容器の壁をたたいたりするなどして、鉱石試料を密に充填することを試みた後、当該測定容器の底面に張られたフィルム面において、平滑な測定面を得ることが出来ているか確認することも好ましい。
この結果、当該鉱石試料の形態が、例えば図2に示すように塊状、または粘土状であって、測定容器内に充填した際、例えば図3に示すように前記フィルム面において鉱石試料との間に多数の空隙が存在したりして、平滑な測定面を得ることが困難と考えられるときは、次の純水添加混合工程に進む。
鉱石試料を、例えばプラスチック製の密閉可能な容器に移入する。そして、当該鉱石試料中に塊があれば、これをスパチュラ等で解砕する。その後、試料質量に対して5質量%程度の純水を添加し容器を密閉後、当該容器を上下に振る等によって攪拌する。当該攪拌後、容器の蓋を開け、当該容器を動かしながら、鉱石試料の塊が認められないことを目視で確認する。一方、塊が認められた場合は、再度、純水を5質量%追加で加え攪拌を続ける。
適宜な流動性を付与された鉱石試料を測定容器内へ充填する。当該測定容器の底面に張られたフィルム面において気泡や空間が認められず、平滑な測定面を得ることが出来ていることを確認する。
もし、鉱石試料の流動性不足により平滑な測定面を得ることが出来ていない場合は、「(3)純水添加混合工程」へ戻って、鉱石試料への純水添加、混合を再度実施する。
二次X線分析と分析結果の算出工程について、(I)鉱石試料の水分率とコンプトン散乱X線強度との関係、(II)鉱石試料の水分率と補正X線強度の値との関係、(III)新規な鉱石試料中における分析対象元素の濃度の算出方法、の順に説明する。
鉱石試料の水分率と、当該鉱石試料からのコンプトン散乱X線強度との関係について説明する。図6は、第一の鉱石試料Aの水分率をX軸にとり、当該鉱石試料Aからのコンプトン散乱X線強度をY軸にとって、両者の関係を示したグラフである。
図6より、第一の鉱石試料Aに含有される分析対象元素からのコンプトン散乱X線強度は、当該鉱石試料の水分率が高くなると、上昇する傾向があり、各三次鉱石試料の水分率とコンプトン散乱X線強度との間には、第一の直線回帰式にて近似出来る関係があるとの知見が得られた。
一方、○で囲った鉱石試料A(水分率30質量%)は、水分による蛍光X線強度低下に加えて、試料が塊状になることによって、測定面が疎になり、X線照射面積が小さくなったことにより、コンプトン散乱X線強度が低下したと考えられる。そこで、塊状となった鉱石試料A(水分率30質量%)のデータは用いずに、第一の直線回帰式を求めた。
尚、第一の鉱石試料B〜Dにおいても同様であった。
鉱石試料の水分率と、当該鉱石試料からの補正X線強度の値との関係について説明する。図7は、第一の鉱石試料Aの水分率をX軸にとり、当該鉱石試料Aに含有される分析対象元素の蛍光X線強度をコンプトン散乱X線強度で除した補正X線強度の値をY軸にとって、両者の関係を示したグラフである。
第一の鉱石試料Aの水分率の値と補正X線強度の値とは、第二の直線回帰式にて近似出来る関係があるとの知見が得られた。
一方、○で囲った鉱石試料A(水分率30質量%)は、水分による蛍光X線強度低下に加えて、試料が塊状になることによって、測定面が疎になり、X線照射面積が小さくなったことにより、蛍光X線強度とコンプトン散乱X線強度とが低下したと考えられる。そこで、塊状となった鉱石試料A(水分率30質量%)のデータは用いずに、第二の直線回帰式を求めた。
尚、第一の鉱石試料B〜Dにおいても傾きの値は異なるものの、これらの第二の直線回帰式を、補正X線強度の値が0となる点(X切片)まで外挿し、得られた当該X切片の値は、第一の鉱石試料AのX切片の値と同様であった。
蛍光X線分析装置を用い、新規な鉱石試料からの二次X線強度とコンプトン散乱X線強度の値とを測定する。そして、コンプトン散乱X線強度の測定結果と(I)の知見より新規な鉱石試料の水分率を算出する。一方、新規な鉱石試料における、二次X線強度とコンプトン散乱X線強度との値から、「1.鉱石試料に含有される分析対象元素の定量方法」にて説明した補正X線強度を算出する。
ここで、当該新規な鉱石試料も(II)の知見で説明したX切片の値を有すると考えられる。そこで、当該X切片と、鉱石試料の水分率−補正X線強度とのプロット点を直線で結んで1次式を得、当該1次式を外挿して、水分率0質量%における補正X線強度の値(Y切片)を求める。
当該新規な鉱石試料の水分率0質量%における補正X線強度の値が得られれば、予め作成しておいた、水分率0質量%における補正X線強度と分析対象元素の濃度との検量線より、鉱石試料中における分析対象元素の濃度を求めることが出来る。
以上、説明した(1)〜(5)の工程を、例えば、一の鉱石採掘場、所定鉱石の一の鉱脈、等に存在する原料鉱石において実施し、一旦、第一および第二の直線回帰式を求めた後は、当該一の鉱石採掘場や、鉱石の一の鉱脈等から新たに採取された鉱石試料が、塊状であったり粘土状であったりしても、蛍光X線分析装置を用いて、迅速、簡便に分析対象元素の濃度を精度よく分析することが出来た。
〈試料の調製〉
非鉄金属鉱山の原料鉱石の、互いに離れた範囲の4箇所から、A、B、C、D4種の鉱石試料をサンプリングした。当該鉱石試料はいずれも塊状を有しており、水分率は30質量%であった。当該塊状を有する鉱石試料A(水分率30質量%)の外観を図2に示す。
当該塊状を有する鉱石試料Aを測定容器内に充填した際、当該測定容器底部のフィルム面より見た外観を図3に示す。図3から解るように、フィルムと鉱石試料との間に多数の空隙が存在した。
具体的には、まず鉱石試料Aを乾燥して鉱石試料A(水分率0質量%)とした。次に、鉱石試料A(水分率0質量%)を8分割して、それぞれをプラスチック製の密閉可能な容器へ入れ、そのまま、または、所定量の純水を添加し、容器を密閉後に当該容器を上下に振って攪拌した。そして、鉱石試料A(水分率0質量%)、鉱石試料A(水分率5質量%)、鉱石試料A(水分率10質量%)、鉱石試料A(水分率15質量%)、鉱石試料A(水分率20質量%)、鉱石試料A(水分率30質量%)、鉱石試料A(水分率40質量%)、鉱石試料A(水分率50質量%)を調製した。
攪拌後に当該容器の蓋を開け、当該容器を動かしながら鉱石試料の塊が認められるかを目視で確認したところ、鉱石試料A(水分率30質量%)に塊が認められた。他の鉱石試料には塊が認められなかった。
尚、当該純水添加後の鉱石試料の測定容器への充填が完了したら、迅速に二次X線とコンプトン散乱X線との測定を開始した。攪拌が終わった鉱石試料を長時間静置すると、粗大な粒子と微細な粒子との相分離が進行し、分析値の誤差要因となり得るからである。
鉱石試料A(水分率0質量%〜50質量%)の平滑な測定面に1次X線を照射して、分析対象元素であるNiから発生する二次X線の強度と、コンプトン散乱X線強度とを測定した。
水分率をX軸に、コンプトン散乱X線強度をY軸にとったグラフを図6に示す。
図6のグラフより、水分率とコンプトン散乱X線強度との関係を示す第一の直線回帰式を最小二乗法により求めたところ式1が得られた。
Y=−0.0685X+2.0184・・・・(式1)
次に、二次X線の強度の値をコンプトン散乱X線強度の値で除して補正X線強度を算出した。そして、水分率の値をX軸に、算出されたNiの補正X線強度をY軸にとったグラフを図7に示す。水分率と補正X線強度の値との関係を示す第二の直線回帰式を最小二乗法により求めたところ、Niに関しては式2が得られた。尚、式1、式2を求める際、塊状となった鉱物試料A(水分率30質量%)のデータは用いなかった。また、X線管としては、ロジウムターゲットX線管を用いた。
Y=−0.2477X+18.777・・・・(式2)
第一の直線回帰式は、鉱石試料A〜Dにおいて実質的に一致した。また、鉱石試料A〜Dのそれぞれにおいて、Niに関する第二の直線回帰式を求めた。そして、鉱石試料A〜DのNiに関する第二の直線回帰式のX切片の値として75.8を得た。
そして、当該補正X線強度へ水分率0質量%におけるコンプトンX線強度を乗じて、鉱石試料Eにおける水分率0質量%における、Al、Siについての二次X線強度の値を求め、当該結果を表1の水分率補正後強度欄に示した。
また、基準値との相対差とは、式3の値である。
相対差(%)=[基準強度(水分率0質量%)−水分率補正後強度]/基準強度(水分率0質量%)・・・・(式3)
実施例1で使用した塊状を有する鉱石試料(水分率30質量%)へ純水を添加することなく、そのまま測定容器内に充填した。その際、上述したように、フィルムと鉱石試料との間に多数の空隙が存在した(図3参照)。
当該測定容器を蛍光X線測定装置へ入れ、試料中のNi、Al、Siから発生する二次X線の強度を測定した以外は、実施例1と同様の操作と測定を行った。
当該結果を表2に示す。
Claims (5)
- 鉱石試料に含有される分析対象元素を分析する方法であって、
原料鉱石の複数個所から鉱石試料をサンプリングする工程と、
前記サンプリングされた複数の鉱石試料のそれぞれを識別して一次鉱石試料とし、水分率を0質量%まで乾燥する工程と、
前記乾燥させた一次鉱石試料のそれぞれを所定個数に分割して、前記識別されたそれぞれの一次鉱石試料に由来する二次鉱石試料とし、前記同一の一次鉱石試料に由来する前記二次鉱石試料のそれぞれへ、純水を添加しない、または、所定量の純水を添加して、水分率0質量%を含む所定の水分率を有する三次鉱石試料を得る工程と、
水分率が0質量%の前記三次鉱石試料について前記分析対象元素の濃度を、所定の分析方法を用いて定量分析する工程と、
前記水分率が0質量%の前記三次鉱石試料および前記所定の水分率を有する三次鉱石試料のそれぞれへ一次X線を照射し、当該それぞれの三次鉱石試料から発生する前記分析対象元素の二次X線強度と、コンプトン散乱X線強度とを測定し、同一の前記一次鉱石試料に由来する前記複数の三次鉱石試料において、前記二次X線強度の値を前記コンプトン散乱X線強度の値で除して補正X線強度を算出する工程と、
前記補正X線強度と、前記鉱石試料に含有される分析対象元素の濃度との関係を求める工程と、
前記原料鉱石から新規にサンプリングされた、任意の水分率を有する新規な鉱石試料に対して、一次X線を照射し、当該新規な鉱石試料から発生する分析対象元素の二次X線強度と、コンプトン散乱X線強度とを測定し、当該二次X線強度の値を当該コンプトン散乱X線強度の値で除して補正X線強度を算出する工程と、
算出された前記補正X線強度を前記関係に適用して、前記新規な鉱石試料における分析対象元素の濃度を算出する工程とを有する、ことを特徴とする鉱石試料の分析方法。 - 前記補正X線強度と、前記新規な鉱石試料に含有される分析対象元素の濃度との関係を求めるとは、
前記0質量%を含む所定の水分率を有する三次鉱石試料のコンプトン散乱X線強度に基づいて、鉱石試料における、水分率とコンプトン散乱X線強度との関係を示す第一の直線回帰式を求める工程と、
前記三次鉱石試料における、水分率と前記三次鉱石試料の補正X線強度との関係を示す第二の直線回帰式を求め、第二の直線回帰式を外挿して前記補正X線強度の値が0となる点を求める工程と、
所定の水分率を有する前記新規な鉱石試料において、前記二次X線強度の値を前記コンプトン散乱X線強度の値で除して補正X線強度を算出し、さらに、前記コンプトン散乱X線強度の値を第一の直線回帰式へ代入して水分率を算出する工程と、
前記補正X線強度の値が0となる点と、前記新規な鉱石試料に係る補正X線強度の値と水分率の値とをプロットした点とを結ぶ1次式を求め、当該1次式を外挿して水分率が0%のときの補正X線強度を求め、前記新規な鉱石試料の水分率0%における補正X線強度とする工程と、
前記新規な鉱石試料の水分率0%における補正X線強度から、前記新規な鉱石試料における分析対象元素の濃度を算出する工程とを有する、ことを特徴とする請求項1に記載の鉱石試料の分析方法。 - 前記鉱石試料の形態が塊状であって、1次X線の照射を受ける平滑な測定面を得ることが困難であるとき、
前記鉱石試料へ純水を添加して混合することで流動性を付与し、平滑な測定面を得た後、請求項1または2に記載の蛍光X線分析方法を適用し、分析対象元素の濃度を求めることを特徴とする鉱石試料の分析方法。 - 前記鉱石試料の形態が粘土状であって、1次X線の照射を受ける平滑な測定面を得ることが困難であるとき、
前記鉱石試料へ純水を添加して混合することで流動性を付与し、平滑な測定面を得た後、請求項1または2に記載の蛍光X線分析方法を適用し、分析対象元素の濃度を求めることを特徴とする鉱石試料の分析方法。 - 前記鉱石試料への純水添加量の総量が、前記鉱石試料の50質量%以下であることを特徴とする請求項3または4に記載の鉱石試料の分析方法。
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