JP2020149012A5 - 基板処理装置、決定方法及び物品の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、基板処理装置、決定方法及び物品の製造方法に関する。

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての基板処理装置は、複数の基板を処理する基板処理装置であって、前記複数の基板のいずれかを保持して移動するステージと、前記ステージとの間で前記複数の基板のいずれかを保持して搬送する搬送部と、前記複数の基板に含まれる第１基板が処理されたことで生成された前記ステージ及び前記搬送部に関する制御情報を蓄積する蓄積部と、前記蓄積部に蓄積された前記制御情報に基づいて、前記ステージ及び前記搬送部に設定可能な複数の搬送手順から１つの搬送手順を選択することで、前記ステージと前記搬送部との間で前記複数の基板に含まれ前記第１基板とは異なる第２基板を搬送するための搬送手順を決定する決定部と、を有することを特徴とする。

Claims (13)

1. 複数の基板を処理する基板処理装置であって、
   前記複数の基板のいずれかを保持して移動するステージと、
   前記ステージとの間で前記複数の基板のいずれかを保持して搬送する搬送部と、
   前記複数の基板に含まれる第１基板が処理されたことで生成された前記ステージ及び前記搬送部に関する制御情報を蓄積する蓄積部と、
   前記蓄積部に蓄積された前記制御情報に基づいて、前記ステージ及び前記搬送部に設定可能な複数の搬送手順から１つの搬送手順を選択することで、前記ステージと前記搬送部との間で前記複数の基板に含まれ前記第１基板とは異なる第２基板を搬送するための搬送手順を決定する決定部と、
   を有することを特徴とする基板処理装置。
2. 前記複数の搬送手順を記憶する記憶部を更に有し、
   前記決定部は、前記蓄積部に蓄積された前記制御情報に基づいて、前記記憶部に記憶された前記複数の搬送手順から１つの搬送手順を選択することで、前記第２基板を搬送するための搬送手順を決定することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記複数の搬送手順は、第１搬送手順と、第２搬送手順とを含み、
   前記第１搬送手順は、前記第２搬送手順よりも前記第２基板の搬送に関する生産性を優先する搬送手順であり、
   前記第２搬送手順は、前記第１搬送手順よりも前記第２基板の搬送に関する安定性を優先する搬送手順であることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板処理装置。
4. 前記第１搬送手順は、前記搬送部が第１位置で前記第２基板を前記ステージに渡した後に、前記第１位置から前記搬送部を退避させる手順と、前記第１位置から前記ステージを退避させる手順とを並行して行う手順であり、
   前記第２搬送手順は、前記搬送部が前記第１位置で前記第２基板を前記ステージに渡した後に、前記第１位置から前記搬送部を退避させる手順と、前記第１位置から前記ステージを退避させる手順とを順次行う手順であることを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
5. 前記第１搬送手順は、前記搬送部が第１位置で前記ステージから前記第２基板を受け取る前に、前記第１位置に前記ステージを移動させる手順と、前記第１位置に前記搬送部を移動させる手順とを並行して行う手順であり、
   前記第１搬送手順は、前記搬送部が前記第１位置で前記ステージから前記第２基板を受け取る前に、前記第１位置に前記ステージを移動させる手順と、前記第１位置に前記搬送部を移動させる手順とを順次行う手順であることを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
6. 前記制御情報は、前記ステージ及び前記搬送部のそれぞれが前記第１基板を保持したときの保持力、前記ステージ及び前記搬送部のそれぞれが前記第１基板を予め定められた保持力で保持するまでに要した時間、前記ステージと前記搬送部との間で前記第１基板を搬送する際に行われた前記第１基板のアライメントに関する計測値、及び、前記アライメントのエラーの回数のうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の基板処理装置。
7. 前記決定部は、前記保持力、前記時間、前記計測値及び前記回数のそれぞれについて、前記保持力、前記時間、前記計測値及び前記回数のそれぞれに対して設定された閾値と比較を行い、当該比較の結果に基づいて、前記ステージと前記搬送部との間で前記第２基板を搬送するための搬送手順を決定することを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
8. 前記閾値を設定するための設定画面をユーザに提供するユーザインタフェースを更に有することを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
9. 前記基板処理装置は、同一のロットに含まれる複数の基板を連続して処理し、
   前記決定部は、前記複数の基板を連続して処理している間において、前記ステージと前記搬送部との間で前記第２基板を搬送するための搬送手順を決定することを特徴とする請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の基板処理装置。
10. 前記複数の基板を連続して処理している間に前記ステージと前記搬送部との間で前記第２基板を搬送するための搬送手順が変更され、当該搬送手順の変更の前後において、前記ステージと前記搬送部との間で前記第２基板を搬送する際に行われた前記第２基板のアライメントに関する計測値、及び、前記アライメントのエラーの回数に変化がない場合、その旨を通知する通知部を更に有することを特徴とする請求項９に記載の基板処理装置。
11. 前記ステージに保持された基板にマスクのパターンの像を投影する投影光学系を更に有することを特徴とする請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載の基板処理装置。
12. 複数の基板を処理する基板処理装置における搬送手順を決定する決定方法であって、
    前記複数の基板に含まれる第１基板が処理されたことで生成された前記複数の基板のいずれかを保持して移動するステージ及び前記複数の基板のいずれかを保持して搬送する搬送部に関する制御情報を蓄積する蓄積工程と、
    前記蓄積工程で蓄積された前記制御情報に基づいて、前記ステージ及び前記搬送部に設定可能な複数の搬送手順から１つの搬送手順を選択することで、前記ステージと前記搬送部との間で前記複数の基板に含まれ前記第１基板とは異なる第２基板を搬送するための搬送手順を決定する決定工程と、
    を有することを特徴とする決定方法。
13. 請求項１２に記載の決定方法を用いて、基板を保持して移動するステージと前記基板を保持して搬送する搬送部との間で前記基板を搬送するための搬送手順を決定する決定工程と、
    前記決定工程で決定された前記搬送手順で前記ステージに搬送された前記基板にパターンを形成する形成工程と、
    前記形成工程で前記パターンが形成された前記基板から物品を製造する工程と、
    を有することを特徴とする物品の製造方法。