JP2020132764A - Polyphenylene ether-containing resin composition - Google Patents

Polyphenylene ether-containing resin composition Download PDF

Info

Publication number
JP2020132764A
JP2020132764A JP2019028391A JP2019028391A JP2020132764A JP 2020132764 A JP2020132764 A JP 2020132764A JP 2019028391 A JP2019028391 A JP 2019028391A JP 2019028391 A JP2019028391 A JP 2019028391A JP 2020132764 A JP2020132764 A JP 2020132764A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin composition
mass
methyl
polyphenylene ether
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019028391A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7202920B2 (en
Inventor
遠藤 正朗
Masao Endo
正朗 遠藤
一人 長田
Kazuto Osada
一人 長田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei Corp filed Critical Asahi Kasei Corp
Priority to JP2019028391A priority Critical patent/JP7202920B2/en
Priority to CN202010106739.6A priority patent/CN111592751B/en
Priority to TW109105291A priority patent/TWI735163B/en
Publication of JP2020132764A publication Critical patent/JP2020132764A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7202920B2 publication Critical patent/JP7202920B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L71/08Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives
    • C08L71/10Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives from phenols
    • C08L71/12Polyphenylene oxides
    • C08L71/126Polyphenylene oxides modified by chemical after-treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/285Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyethers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B33/00Layered products characterised by particular properties or particular surface features, e.g. particular surface coatings; Layered products designed for particular purposes not covered by another single class
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/02Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by structural features of a fibrous or filamentary layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/24Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2260/00Layered product comprising an impregnated, embedded, or bonded layer wherein the layer comprises an impregnation, embedding, or binder material
    • B32B2260/02Composition of the impregnated, bonded or embedded layer
    • B32B2260/021Fibrous or filamentary layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2260/00Layered product comprising an impregnated, embedded, or bonded layer wherein the layer comprises an impregnation, embedding, or binder material
    • B32B2260/04Impregnation, embedding, or binder material
    • B32B2260/046Synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2262/00Composition or structural features of fibres which form a fibrous or filamentary layer or are present as additives
    • B32B2262/10Inorganic fibres
    • B32B2262/101Glass fibres
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2371/00Characterised by the use of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2371/08Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives
    • C08J2371/10Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives from phenols
    • C08J2371/12Polyphenylene oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2447/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds; Derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2453/00Characterised by the use of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Derivatives of such polymers
    • C08J2453/02Characterised by the use of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Derivatives of such polymers of vinyl aromatic monomers and conjugated dienes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00Applications
    • C08L2203/20Applications use in electrical or conductive gadgets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2205/00Polymer mixtures characterised by other features
    • C08L2205/02Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group
    • C08L2205/025Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group containing two or more polymers of the same hierarchy C08L, and differing only in parameters such as density, comonomer content, molecular weight, structure
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2205/00Polymer mixtures characterised by other features
    • C08L2205/03Polymer mixtures characterised by other features containing three or more polymers in a blend
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2205/00Polymer mixtures characterised by other features
    • C08L2205/03Polymer mixtures characterised by other features containing three or more polymers in a blend
    • C08L2205/035Polymer mixtures characterised by other features containing three or more polymers in a blend containing four or more polymers in a blend

Abstract

To provide a polyphenylene ether-containing resin composition excellent in electric characteristics, and to provide an electronic circuit board material, a resin film, a prepreg and a laminate formed using the resin composition.SOLUTION: There is provided a resin composition comprising: (a) a polyphenylene ether component having a structure represented by the formula (1) (wherein, X, a, R, k, Y, n, A and L are as defined in the specification) and having a number average molecular weight of 500 to 8,000; (b) a crosslinking agent; and (c) an organic peroxide.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、ポリフェニレンエーテル含有樹脂組成物等に関する。 The present invention relates to a polyphenylene ether-containing resin composition and the like.

近年、情報ネットワーク技術の著しい進歩、又は情報ネットワークを活用したサービスの拡大に伴い、電子機器には情報量の大容量化及び処理速度の高速化が求められている。これらの要求に応えるために、プリント配線板等の基板用材料には、従来から求められていた難燃性、耐熱性、銅箔とのピール強度等の特性に加え、低誘電率化・低誘電正接化が求められている。このため、プリント配線板等の基板用材料に用いられる樹脂組成物の更なる改良が検討されている。 In recent years, with the remarkable progress of information network technology or the expansion of services utilizing information networks, electronic devices are required to have a large amount of information and a high processing speed. In order to meet these demands, substrate materials such as printed wiring boards have low dielectric constant and low dielectric constant in addition to the characteristics such as flame retardancy, heat resistance, and peel strength with copper foil that have been conventionally required. Dielectric loss tangent is required. Therefore, further improvement of the resin composition used for the material for the substrate such as the printed wiring board is being studied.

基板用材料の中でも、ポリフェニレンエーテル(PPE)が、比較的低い誘電率及び比較的低い誘電正接を有するため、上述した要求に応えられるプリント配線板用材料として好適である。例えば、特許文献1に記載のポリフェニレンエーテル含有樹脂組成物は、ポリフェニレンエーテル1分子当たりの平均フェノール性水酸基数を特定の範囲内に制御したり、互いに分子量の異なる複数のポリフェニレンエーテルの含有量を特定したりすることによって、成形性、耐熱性、接着性及び電気特性の改良を図るものである。 Among the materials for substrates, polyphenylene ether (PPE) has a relatively low dielectric constant and a relatively low dielectric loss tangent, and is therefore suitable as a material for printed wiring boards that can meet the above-mentioned requirements. For example, the polyphenylene ether-containing resin composition described in Patent Document 1 controls the average number of phenolic hydroxyl groups per molecule of polyphenylene ether within a specific range, and specifies the content of a plurality of polyphenylene ethers having different molecular weights from each other. By doing so, the moldability, heat resistance, adhesiveness and electrical properties are improved.

国際公開第2012/081705号International Publication No. 2012/081705

特許文献1に記載のポリフェニレンエーテル含有樹脂組成物には、電気特性について、例えば誘電率及び誘電正接の低減について、未だに検討の余地がある。 The polyphenylene ether-containing resin composition described in Patent Document 1 still has room for study on electrical properties, for example, reduction of dielectric constant and dielectric loss tangent.

したがって、本発明は、電気特性に優れるポリフェニレンエーテル含有樹脂組成物、並びにそれを用いて形成された電子回路基板材料、樹脂フィルム、プリプレグ及び積層体を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a polyphenylene ether-containing resin composition having excellent electrical properties, and an electronic circuit substrate material, a resin film, a prepreg, and a laminate formed by using the polyphenylene ether-containing resin composition.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ポリフェニレンエーテル、架橋剤、及び有機過酸化物を含む樹脂組成物においてポリフェニレンエーテルの構造及び分子量を特定することによって、樹脂組成物の硬化物の電気特性を向上させられることを見出し、本発明の完成に至った。すなわち、本発明は、以下のとおりである。
[1]
(a)下記式(1):
{式中、
Xは、a価の任意の連結基であり、aは2.5以上の数であり、
は、各々独立に任意の置換基であり、kは各々独立に1〜4の整数であり、k個あるRのうちの少なくとも1つは、下記式(2):
(式中、R11は、各々独立にC1−8のアルキル基であり、R12は、各々独立にC1−8のアルキレン基であり、bは各々独立に0又は1であり、R13は、水素原子、C1−8のアルキル基又はフェニル基のいずれかを示し、かつ前記アルキル基、アルキレン基及びフェニル基は、C1−8の条件を満たす限度で置換基を有してよい)
で表される部分構造を含み、
Yは、各々独立に下記式(3):
(式中、R21は、各々独立にC1−6の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、R22は、各々独立に水素原子又はC1−6の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、かつ前記飽和又は不飽和の炭化水素基はC1−6の条件を満たす限度で置換基を有していてもよい)
で表される構造を有する2価の連結基であり、nはYの繰り返し数を表し、各々独立に1〜200の整数であり、
Lは、任意の2価の連結基、又は単結合であり、かつ
Aは、各々独立に、炭素−炭素二重結合及び/又はエポキシ結合を含有する置換基を示す}
で表される構造を有し、かつ数平均分子量が500〜8,000であるポリフェニレンエーテル成分A;
(b)架橋剤;及び
(c)有機過酸化物;
を含む樹脂組成物。
[2]
前記架橋剤が、炭素−炭素不飽和二重結合を1分子中に平均2個以上有し、前記架橋剤の数平均分子量が4,000以下であり、かつ前記ポリフェニレンエーテル成分A:前記架橋剤の重量比が、25:75〜95:5である、項目1に記載の樹脂組成物。
[3]
前記架橋剤が、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、及びポリブタジエンから成る群より選択される少なくとも一種の化合物を含む、項目1又は2に記載の樹脂組成物。
[4]
前記有機過酸化物の1分間半減期温度が、155℃〜185℃である、項目1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
[5]
前記有機過酸化物の含有量が、前記ポリフェニレンエーテル成分Aと前記架橋剤の合計質量100質量部を基準として、0.05質量部〜5質量部である、項目1〜4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
[6]
前記樹脂組成物が、熱可塑性樹脂をさらに含み、前記熱可塑性樹脂が、ビニル芳香族化合物とオレフィン系アルケン化合物とのブロック共重合体及びその水素添加物、並びにビニル芳香族化合物の単独重合体から成る群より選択される少なくとも1種であり、かつ前記ブロック共重合体又はその水素添加物の前記ビニル芳香族化合物由来の単位の含有率が20質量%以上である、項目1〜5のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
[7]
前記熱可塑性樹脂の重量平均分子量が、10,000〜300,000である、項目6に記載の樹脂組成物。
[8]
前記熱可塑性樹脂の含有量が、前記ポリフェニレンエーテル成分A及び前記架橋剤の合計質量100質量部を基準として、2質量部〜20質量部である、項目6又は7に記載の樹脂組成物。
[9]
前記樹脂組成物が、難燃剤をさらに含み、かつ前記難燃剤が、前記樹脂組成物の硬化後に前記樹脂組成物中で他の含有成分と相溶しない、項目1〜8のいずれか1項に記載の樹脂組成物。
[10]
項目1〜9のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含む、電子回路基板材料。
[11]
項目1〜9のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含む、樹脂フィルム。
[12]
基材と、項目1〜9のいずれか1項に記載の樹脂組成物との複合体である、プリプレグ。
[13]
前記基材がガラスクロスである、項目12に記載のプリプレグ。
[14]
項目11に記載の樹脂フィルム、又は項目12若しくは13に記載のプリプレグの硬化物と、金属箔との積層体。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have identified the structure and molecular weight of the polyphenylene ether in the resin composition containing the polyphenylene ether, a cross-linking agent, and an organic peroxide to determine the resin composition. We have found that the electrical properties of a cured product can be improved, and have completed the present invention. That is, the present invention is as follows.
[1]
(A) The following formula (1):
{In the ceremony,
X is an arbitrary linking group of a value, and a is a number of 2.5 or more.
R 5 is any substituent independently, k are each independently 1 to 4 integer, at least one of the k is R 5 is represented by the following formula (2):
(In the formula, R 11 is an alkyl group of C 1-8 independently, R 12 is an alkylene group of C 1-8 independently, b is 0 or 1 independently, and R Reference numeral 13 denotes a hydrogen atom, either an alkyl group of C 1-8 or a phenyl group, and the alkyl group, the alkylene group and the phenyl group have a substituent to the extent that the condition of C 1-8 is satisfied. Good)
Including the partial structure represented by
Y is independently expressed by the following equation (3):
(In the formula, R 21 is an independently saturated or unsaturated hydrocarbon group of C 1-6 , and R 22 is an independently saturated or unsaturated hydrocarbon group of C 1-6. And the saturated or unsaturated hydrocarbon group may have a substituent as long as the condition of C 1-6 is satisfied).
It is a divalent linking group having a structure represented by, n represents the number of repetitions of Y, and each is an integer of 1 to 200 independently.
L is an arbitrary divalent linking group or a single bond, and A is a substituent containing a carbon-carbon double bond and / or an epoxy bond, respectively}.
Polyphenylene ether component A having a structure represented by and having a number average molecular weight of 500 to 8,000;
(B) Crosslinker; and (c) Organic peroxide;
Resin composition containing.
[2]
The cross-linking agent has an average of two or more carbon-carbon unsaturated double bonds in one molecule, the number average molecular weight of the cross-linking agent is 4,000 or less, and the polyphenylene ether component A: the cross-linking agent. The resin composition according to item 1, wherein the weight ratio of the resin composition is 25:75 to 95: 5.
[3]
The resin composition according to item 1 or 2, wherein the cross-linking agent comprises at least one compound selected from the group consisting of triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, and polybutadiene.
[4]
The resin composition according to any one of items 1 to 3, wherein the one-minute half-life temperature of the organic peroxide is 155 ° C to 185 ° C.
[5]
Item 1 of item 1 to 4, wherein the content of the organic peroxide is 0.05 parts by mass to 5 parts by mass based on the total mass of 100 parts by mass of the polyphenylene ether component A and the cross-linking agent. The resin composition according to.
[6]
The resin composition further comprises a thermoplastic resin, and the thermoplastic resin is derived from a block copolymer of a vinyl aromatic compound and an olefin-based alkene compound and a hydrogenated product thereof, and a homopolymer of the vinyl aromatic compound. Any one of items 1 to 5, which is at least one selected from the group consisting of, and has a content of 20% by mass or more of the unit derived from the vinyl aromatic compound of the block copolymer or its hydrogenated product. The resin composition according to item 1.
[7]
The resin composition according to item 6, wherein the thermoplastic resin has a weight average molecular weight of 10,000 to 300,000.
[8]
The resin composition according to item 6 or 7, wherein the content of the thermoplastic resin is 2 parts by mass to 20 parts by mass based on the total mass of 100 parts by mass of the polyphenylene ether component A and the cross-linking agent.
[9]
Item 1 to any one of items 1 to 8, wherein the resin composition further contains a flame retardant, and the flame retardant is incompatible with other contained components in the resin composition after curing of the resin composition. The resin composition described.
[10]
An electronic circuit board material containing the resin composition according to any one of items 1 to 9.
[11]
A resin film containing the resin composition according to any one of items 1 to 9.
[12]
A prepreg that is a composite of a base material and the resin composition according to any one of items 1 to 9.
[13]
The prepreg according to item 12, wherein the base material is glass cloth.
[14]
A laminate of the resin film according to item 11 or the cured product of the prepreg according to item 12 or 13 and a metal foil.

本発明によれば、ポリフェニレンエーテル含有樹脂組成物の電気特性に優れ、それを用いて電子回路基板材料、樹脂フィルム、プリプレグ及び積層体を提供することができる。 According to the present invention, the polyphenylene ether-containing resin composition has excellent electrical properties, and it is possible to provide an electronic circuit substrate material, a resin film, a prepreg, and a laminate by using the same.

実施例1で得られた変性ポリフェニレンエーテル1(変性PPE1)のH−NMR測定結果である。It is a 1 H-NMR measurement result of the modified polyphenylene ether 1 (modified PPE1) obtained in Example 1.

以下、本発明を実施するための形態(以下、単に「本実施形態」という)について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の本実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention (hereinafter, simply referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. The present invention is not limited to the following embodiments, and can be variously modified and implemented within the scope of the gist thereof.

樹脂組成物
本実施形態に係る樹脂組成物は、ポリフェニレンエーテル(PPE)と、架橋剤と、有機過酸化物とを含み、所望により、難燃剤、その他の添加剤、熱可塑性樹脂、シリカフィラー、溶剤などをさらに含むことができる。本実施形態に係る樹脂組成物の構成要素について以下に説明する。
Resin Composition The resin composition according to the present embodiment contains a polyphenylene ether (PPE), a cross-linking agent, and an organic peroxide, and if desired, a flame retardant, other additives, a thermoplastic resin, a silica filler, and the like. It can further contain a solvent and the like. The components of the resin composition according to this embodiment will be described below.

ポリフェニレンエーテル(PPE)
一般に、ポリフェニレンエーテル(PPE)は、置換又は非置換のフェニレンエーテル単位から構成される繰り返し構造を有する。本明細書では、用語「ポリフェニレンエーテル」は、ダイマー、トリマー、オリゴマー及びポリマーを含むものとする。PPEは、フェニレンエーテル単位以外の共重合成分単位を含んでよいが、このような共重合成分単位の量は、全単位構造の数に対して、典型的には、0%以上又は0%超、かつ30%以下、25%以下、20%以下、15%以下、10%以下、又は5%以下である。
Polyphenylene ether (PPE)
In general, polyphenylene ethers (PPEs) have a repeating structure composed of substituted or unsubstituted phenylene ether units. As used herein, the term "polyphenylene ether" is intended to include dimers, trimmers, oligomers and polymers. The PPE may contain a copolymerization component unit other than the phenylene ether unit, but the amount of such a copolymerization component unit is typically 0% or more or more than 0% with respect to the number of all unit structures. And 30% or less, 25% or less, 20% or less, 15% or less, 10% or less, or 5% or less.

典型的なPPEとしては、例えば、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2−メチル−6−フェニル−1,4−フェニレンエーテル)、ポリ(2,6−ジクロロ−1,4−フェニレンエーテル)等、更に、2,6−ジメチルフェノールと他のフェノール類(例えば、2,3,6−トリメチルフェノール、2−メチル−6−ブチルフェノール等)との共重合体、及び、2,6−ジメチルフェノールとビフェノール類又はビスフェノール類とをカップリングさせて得られるPPE共重合体、等が挙げられる。 Typical PPEs include, for example, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene ether), poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene ether), poly (2-methyl-6). −Phenyl-1,4-phenylene ether), poly (2,6-dichloro-1,4-phenylene ether), etc., as well as 2,6-dimethylphenol and other phenols (eg, 2,3,6- Examples thereof include a copolymer with trimethylphenol, 2-methyl-6-butylphenol, etc., and a PPE copolymer obtained by coupling 2,6-dimethylphenol with biphenols or bisphenols.

ポリフェニレンエーテル成分A(PPE−A)
本実施形態に係る樹脂組成物は、ポリフェニレンエーテル成分として、下記式(1):
で表される構造を有し、かつ数平均分子量が500〜8,000であるポリフェニレンエーテル成分Aを含む。
Polyphenylene ether component A (PPE-A)
The resin composition according to this embodiment has the following formula (1): as a polyphenylene ether component.
It contains a polyphenylene ether component A having a structure represented by and having a number average molecular weight of 500 to 8,000.

式(1)中、Xはa価の任意の連結基であり、aは、2.5以上の数であり、好ましくは3以上の整数、より好ましくは3〜6の整数である。Xの具体例としては、例えば、炭化水素基;窒素、リン、ケイ素若しくは酸素から選ばれる、一つ又は複数の元素を含有する炭化水素基;又は窒素、リン、ケイ素等の元素若しくはこれらを含む基などが挙げられる。 In the formula (1), X is an arbitrary linking group of a value, and a is a number of 2.5 or more, preferably an integer of 3 or more, and more preferably an integer of 3 to 6. Specific examples of X include, for example, a hydrocarbon group; a hydrocarbon group containing one or more elements selected from nitrogen, phosphorus, silicon or oxygen; or an element such as nitrogen, phosphorus, silicon or these. Group etc. can be mentioned.

また、Rは、任意の置換基であり、kは1〜4の整数であり、kが2以上である場合には、2個のRが連結して環を形成していてよく、k個あるRのうちの少なくとも1つは、下記式(2):
で表される部分構造を含む。
Further, R 5 is an arbitrary substituent, k is an integer of 1 to 4, and when k is 2 or more, two R 5s may be connected to form a ring. At least one of the k is R 5 is represented by the following formula (2):
Includes the partial structure represented by.

式(2)中、R11は、各々独立に、C1−8アルキル基であり、R12は、各々独立にC1−8アルキレン基であり、bは独立に0又は1であり、R13は、水素原子、C1−8アルキル基又はフェニル基のいずれかを示し、これらのアルキル基、アルキレン基及びフェニル基は、C1−8の条件を満たす限度で置換基を有していてもよい。 In formula (2), R 11 is an independently C 1-8 alkyl group, R 12 is an independent C 1-8 alkylene group, b is independently 0 or 1, and R is. Reference numeral 13 denotes a hydrogen atom, a C 1-8 alkyl group, or a phenyl group, and these alkyl groups, alkylene groups, and phenyl groups have substituents to the extent that the conditions of C 1-8 are satisfied. May be good.

式(2)で表される部分構造は、好ましくは、2級及び/又は3級炭素を有し、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、tert−アミル基、2,2−ジメチルプロピル基、又はこれらの末端にフェニル基を有する構造などを有することができる。式(2)で表される部分構造は、式(1)中のRが結合しているベンゼン環に直接結合していることが好ましい。また、式(2)で表される部分構造は、式(1)中のRが結合しているベンゼン環の2位及び/又は6位(−O−に対してオルト位)に結合していることが好ましい。 The partial structure represented by the formula (2) preferably has secondary and / or tertiary carbons, for example, an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a tert-amyl group, and the like. It can have a structure having a 2,2-dimethylpropyl group or a phenyl group at the end thereof. Partial structure represented by formula (2) is preferably directly bonded to the benzene ring to which R 5 in the formula (1) is attached. The partial structure represented by formula (2) is attached to the formula 2-position of the benzene ring (1) R 5 in is bonded and / or 6-position (ortho to -O-) Is preferable.

式(1)で表される構造のうちの下記:
の部分は、以下のいずれかの構造:
であることが好ましく、それらの具体例としては、以下の化合物から、末端のフェノール性水酸基の水素を全て取り除いたものが挙げられる:
4,6−ジtert−ブチルベンゼン1,2,3−トリオール、2,6−ビス(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタン、2,4,6−トリス(3’,5’−ジ−tert−ブチル−4’−ヒドロキシベンジル)メシチレン、ペンタエリトリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナート]、1,3,5−トリス[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、1,3,5−トリス[[4−(1,1−ジメチルエチル)−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルフェニル]メチル]−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン。
The following of the structures represented by the formula (1):
The part has one of the following structures:
Specific examples thereof include those obtained by removing all the hydrogen of the terminal phenolic hydroxyl group from the following compounds:
4,6-ditert-butylbenzene 1,2,3-triol, 2,6-bis (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenol, 1,1,3- Tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 2,4,6-tris (3', 5'-di-tert-butyl-4'-hydroxybenzyl) mecitylene, pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,3,5-tris [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] Methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 1,3,5-tris [[4- (1,1-dimethylethyl) -3-hydroxy- 2,6-Dimethylphenyl] Methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione.

式(1)におけるYは、各々独立に、下記式(3):
で表される構造を有する2価の連結基(置換基を有するフェノール単位)であり、そして式(1)におけるnは、Yの繰り返し数を表し、各々独立に、0〜200の整数である。
Y in the formula (1) is independently represented by the following formula (3):
It is a divalent linking group (phenolic unit having a substituent) having a structure represented by, and n in the formula (1) represents the number of repetitions of Y, each independently being an integer of 0 to 200. ..

式(3)において、R21は、独立にC1−6の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、好ましくはメチル、エチル基、n−プロピル基、ビニル基、アリル基、エチニル基、プロパルギル基などであり、より好ましくはメチル基、エチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。R22は、独立に水素原子又はC1−6の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、好ましくは水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基などであり、より好ましくは水素原子、メチル基であり、さらに好ましくは水素原子である。ここで、飽和又は不飽和の炭化水素基はC1−6の条件を満たす限度で置換基を有していてもよい。 In formula (3), R 21 is an independently saturated or unsaturated hydrocarbon group of C 1-6 , preferably a methyl, ethyl group, n-propyl group, vinyl group, allyl group, ethynyl group, propargyl. It is a group or the like, more preferably a methyl group or an ethyl group, and even more preferably a methyl group. R 22 is independently a hydrogen atom or a saturated or unsaturated hydrocarbon group of C 1-6 , preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or the like, and more preferably a hydrogen atom. It is a methyl group, more preferably a hydrogen atom. Here, the saturated or unsaturated hydrocarbon group may have a substituent as long as the condition of C 1-6 is satisfied.

式(1)におけるAは、炭素−炭素二重結合及び/又はエポキシ結合を含有する置換基であり、Aの具体例は、下記式(4)〜(8):
表される。
A in the formula (1) is a substituent containing a carbon-carbon double bond and / or an epoxy bond, and specific examples of A are the following formulas (4) to (8):
expressed.

式(4)〜(8)において、R31は、それぞれ独立に、水素、水酸基、又はC1−30の炭化水素基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基若しくはヒドロキシアルキル基である。R32は、それぞれ独立に、C1−30の炭化水素基である。R33は、それぞれ独立に、水素、水酸基、又はC1−30の炭化水素基、アリール基、アルコキシ基、アリロキシ基、アミノ基、ヒドロキシアルキル基、ビニル基若しくはイソプロペニル基であり、R33のうち少なくとも一つは、ビニル基又はイソプロペニル基である。sとtは、0〜5の整数である。 In formulas (4) to (8), R 31 is independently a hydrogen, a hydroxyl group, or a C 1-30 hydrocarbon group, an aryl group, an alkoxy group, an allyloxy group, an amino group or a hydroxyalkyl group. R 32 is an independent C 1-30 hydrocarbon group. R 33 is independently a hydrogen, a hydroxyl group, or a C 1-30 hydrocarbon group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, a hydroxyalkyl group, a vinyl group or an isopropenyl group, and is a R 33 . At least one of them is a vinyl group or an isopropenyl group. s and t are integers from 0 to 5.

31の炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、n−プロピル、2−プロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、n−ペンチル、1−エチルプロピル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、アミル、シクロペンチル、2,2−ジメチルプロピル、1,1−ジメチルプロピル、n−へキシル、シクロヘキシル、1−エチルブチル、2−エチルブチル、3−エチルブチル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチレン、4−メチルペンチレン、1,1−ジメチルブチレン、2,2−ジメチルブチレン、3,3−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、n−ヘプチル、1−メチルへキシル、2−メチルへキシル、3−メチルへキシル、4−メチルへキシル、5−メチルへキシル、1−エチルペンチル、2−エチルペンチル、3−エチルペンチル、1,1−ジメチルペンチル、2,2−ジメチルペンチル、3,3−ジメチルペンチル、4,4−ジメチルペンチル、1,2−ジメチルペンチル、1,3−ジメチルペンチル、1,4−ジメチルペンチル、2,3−ジメチルペンチル、2,4−ジメチルペンチル、3,4−ジメチルペンチル、2−メチル−3,3−ジメチルブチル、1−メチル−3,3−ジメチルブチル、1,2,3−トリメチルブチル、1,3−ジメチル−2−ペンチル、2−イソプロピルブチル、2−メチルシクロヘキシル、3−メチルシクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシル、1−シクロヘキシルメチル、2−エチルシクロペンチル、3−エチルシクロペンチル、2,3−ジメチルシクロペンチル、2,4−ジメチルシクロペンチル、2−メチルシクロペンチルメチル、2−シクロペンチルエチル、1−シクロペンチルエチル、n−オクチル、2−オクチル、3−オクチル、4−オクチル、2−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、4−メチルヘプチル、5−メチルヘプチル、6−メチルヘプチル、2−エチルへキシル、3−エチルへキシル、4−エチルへキシル、5−エチルへキシル、1,1−ジメチルへキシル、2,2−ジメチルへキシル、3,3−ジメチルへキシル、4,4−ジメチルへキシル、5,5−ジメチルへキシル、1,2−ジメチルへキシル、1,3−ジメチルへキシル、1,4−ジメチルへキシル、1,5−ジメチルへキシル、2,3−ジメチルへキシル、2,4−ジメチルへキシル、2,5−ジメチルへキシル、1,1−エチルメチルペンチル、2,2−エチルメチルペンチル、3,3−エチルメチルペンチル、4,4−エチルメチルペンチル、1−エチル−2−メチルペンチル、1−エチル−3−メチルペンチル、1−エチル−4−メチルペンチル、2−エチル−1−メチルペンチル、3−エチル−1−メチルペンチル、4−エチル−1−メチルペンチル、2−エチル−3−メチルペンチル、2−エチル−4−メチルペンチル、3−エチル−2−メチルペンチル、4−エチル−3−メチルペンチル、3−エチル−4−メチルペンチル、4−エチル−3−メチルペンチル、1−(2−メチルプロピル)ブチル、1−(2−メチルプロピル)−2−メチルブチル、1,1−(2−メチルプロピル)エチル、1,1−(2−メチルプロピル)エチルプロピル、1,1−ジエチルプロピル、2,2−ジエチルプロピル、1,1−エチルメチル−2,2−ジメチルプロピル、2,2−エチルメチル−1,1−ジメチルプロピル、2−エチル−1,1−ジメチルブチル、2,3−ジメチルシクロヘキシル、2,3−ジメチルシクロヘキシル、2,5−ジメチルシクロヘキシル、2,6−ジメチルシクロヘキシル、3,5−ジメチルシクロヘキシル、2−メチルシクロヘキシルメチル、3−メチルシクロヘキシルメチル、4−メチルシクロヘキシルメチル、2−エチルシクロヘキシル、3−エチルシクロヘキシル、4−エチルシクロヘキシル、2−シクロヘキシルエチル、1−シクロヘキシルエチル、1−シクロヘキシル−2−エチレン、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、ベンジル、2−フェニルエチル等が挙げられる。 Specific examples of the hydrocarbon group of R 31 include methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, n-pentyl, 1-ethylpropyl, 1-methylbutyl and 2-methylbutyl. , 3-Methylbutyl, Amil, Cyclopentyl, 2,2-dimethylpropyl, 1,1-dimethylpropyl, n-hexyl, Cyclohexyl, 1-ethylbutyl, 2-ethylbutyl, 3-ethylbutyl, 1-methylpentyl, 2-methyl Pentyl, 3-methylpentylene, 4-methylpentylene, 1,1-dimethylbutylene, 2,2-dimethylbutylene, 3,3-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2 , 3-Dimethylbutyl, n-Heptyl, 1-methylhexyl, 2-methylhexyl, 3-methylhexyl, 4-methylhexyl, 5-methylhexyl, 1-ethylpentyl, 2-ethylpentyl, 3-Ethylpentyl, 1,1-dimethylpentyl, 2,2-dimethylpentyl, 3,3-dimethylpentyl, 4,4-dimethylpentyl, 1,2-dimethylpentyl, 1,3-dimethylpentyl, 1,4 -Dimethylpentyl, 2,3-dimethylpentyl, 2,4-dimethylpentyl, 3,4-dimethylpentyl, 2-methyl-3,3-dimethylbutyl, 1-methyl-3,3-dimethylbutyl, 1,2 , 3-trimethylbutyl, 1,3-dimethyl-2-pentyl, 2-isopropylbutyl, 2-methylcyclohexyl, 3-methylcyclohexyl, 4-methylcyclohexyl, 1-cyclohexylmethyl, 2-ethylcyclopentyl, 3-ethylcyclopentyl , 2,3-Dimethylcyclopentyl, 2,4-dimethylcyclopentyl, 2-methylcyclopentylmethyl, 2-cyclopentylethyl, 1-cyclopentylethyl, n-octyl, 2-octyl, 3-octyl, 4-octyl, 2-methyl Heptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 3-ethylhexyl, 4-ethylhexyl, 5-ethylhexyl, 1,1- To dimethylhexyl, 2,2-dimethylhexyl, 3,3-dimethylhexyl, 4,4-dimethylhexyl, 5,5-dimethylhexyl, 1,2-dimethylhexyl, 1,3-dimethyl Xyl, 1,4-dimethylhexyl, 1,5-dimethylhexyl, 2,3-dimethylhexyl, 2,4-di Methylhexyl, 2,5-dimethylhexyl, 1,1-ethylmethylpentyl, 2,2-ethylmethylpentyl, 3,3-ethylmethylpentyl, 4,4-ethylmethylpentyl, 1-ethyl-2- Methylpentyl, 1-ethyl-3-methylpentyl, 1-ethyl-4-methylpentyl, 2-ethyl-1-methylpentyl, 3-ethyl-1-methylpentyl, 4-ethyl-1-methylpentyl, 2- Ethyl-3-methylpentyl, 2-ethyl-4-methylpentyl, 3-ethyl-2-methylpentyl, 4-ethyl-3-methylpentyl, 3-ethyl-4-methylpentyl, 4-ethyl-3-methyl Pentyl, 1- (2-methylpropyl) butyl, 1- (2-methylpropyl) -2-methylbutyl, 1,1- (2-methylpropyl) ethyl, 1,1- (2-methylpropyl) ethylpropyl, 1,1-diethylpropyl, 2,2-diethylpropyl, 1,1-ethylmethyl-2,2-dimethylpropyl, 2,2-ethylmethyl-1,1-dimethylpropyl, 2-ethyl-1,1- Dimethylbutyl, 2,3-dimethylcyclohexyl, 2,3-dimethylcyclohexyl, 2,5-dimethylcyclohexyl, 2,6-dimethylcyclohexyl, 3,5-dimethylcyclohexyl, 2-methylcyclohexylmethyl, 3-methylcyclohexylmethyl, 4-Methylcyclohexylmethyl, 2-ethylcyclohexyl, 3-ethylcyclohexyl, 4-ethylcyclohexyl, 2-cyclohexylethyl, 1-cyclohexylethyl, 1-cyclohexyl-2-ethylene, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl , Benzyl, 2-phenylethyl and the like.

31の炭化水素基は、好ましくは、メチル、エチル、n−プロピル、2−プロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、n−ペンチル、1−エチルプロピル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、アミル、シクロペンチル、n−へキシルル、シクロヘキシル、1−エチルブチル、2−エチルブチル、3−エチルブチル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、n−ヘプチル、1−メチルへキシル、2−メチルへキシル、3−メチルへキシル、4−メチルへキシル、5−メチルへキシル、1−エチルペンチル、2−エチルペンチル、3−エチルペンチル、2−メチルシクロヘキシル、3−メチルシクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシル、n−オクチル、2−オクチル、3−オクチル、4−オクチル、2−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、4−メチルヘプチル、5−メチルヘプチル、6−メチルヘプチル、2−エチルへキシル、3−エチルへキシル、4−エチルへキシル、5−エチルへキシル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、ベンジル等であり、より好ましくは、メチル、エチル、n−プロピル、2−プロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、n−ペンチル、1−エチルプロピル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、アミル、シクロペンチル、n−へキシル、シクロヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、2−オクチル、3−オクチル、4−オクチル、2−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、4−メチルヘプチル、5−メチルヘプチル、6−メチルヘプチル、2−エチルへキシル、3−エチルへキシル、4−エチルへキシル、5−エチルへキシル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、ベンジル等であり、さらに好ましくは、メチル、エチル、n−プロピル、2−プロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、n−ペンチル、アミル、シクロペンチル、n−へキシル、シクロヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、2−オクチル、3−オクチル、4−オクチル、2−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、4−メチルヘプチル、5−メチルヘプチル、6−メチルヘプチル、2−エチルへキシル、3−エチルへキシル、4−エチルへキシル、5−エチルへキシル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、ベンジル等である。 The hydrocarbon group of R 31 is preferably methyl, ethyl, n-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, n-pentyl, 1-ethylpropyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, 3-Methylbutyl, amyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, 1-ethylbutyl, 2-ethylbutyl, 3-ethylbutyl, 1-methylpentyl, 2-methylpentyl, 3-methylpentyl, 4-methylpentyl, n-heptyl , 1-Methylhexyl, 2-Methylhexyl, 3-Methylhexyl, 4-Methylhexyl, 5-Methylhexyl, 1-ethylpentyl, 2-ethylpentyl, 3-ethylpentyl, 2-methylcyclohexyl , 3-Methylcyclohexyl, 4-Methylcyclohexyl, n-octyl, 2-octyl, 3-octyl, 4-octyl, 2-methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methyl Heptyl, 2-ethylhexyl, 3-ethylhexyl, 4-ethylhexyl, 5-ethylhexyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, benzyl and the like, more preferably methyl and ethyl. , N-propyl, 2-propyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, n-pentyl, 1-ethylpropyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, amyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl , N-Heptyl, n-octyl, 2-octyl, 3-octyl, 4-octyl, 2-methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methylheptyl, 2-ethyl Xyl, 3-ethylhexyl, 4-ethylhexyl, 5-ethylhexyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, benzyl and the like, more preferably methyl, ethyl, n-propyl, 2 -Propyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, n-pentyl, amyl, cyclopentyl, n-hexyl, cyclohexyl, n-heptyl, n-octyl, 2-octyl, 3-octyl, 4-octyl, 2- Methylheptyl, 3-methylheptyl, 4-methylheptyl, 5-methylheptyl, 6-methylheptyl, 2-ethylhexyl, 3-ethylhexyl, 4-ethylhexyl, 5-ethylhexyl, nonyl, isononyl , Decyl, Isodecyl, Undecyl, De Decyl, benzyl, etc.

32の炭化水素基の具体例としては、メチレン、エチレン、トリメチレン、1,2−プロピレン、テトラメチレン、2−メチル−1,3−トリメチレン、1,1−ジメチルエチレン、ペンタメチレン、1−エチル−1,3−プロピレン、1−メチル−1,4−ブチレン、2−メチル−1,4−ブチルレン、3−メチル−1,4−ブチレン、2,2−ジメチル−1,3−プロピレン、1,2−シクロペンチレン、1,3−シクロペンチレン、2,2−ジメチル−1,3−プロピレン、1,1−ジメチル−1,3−プロピレン、3,3−ジメチル−1,3−プロピレン、ヘキサメチレン、1,2−シクロヘキシレン、1,3−シクロヘキシレン、1,4−シクロヘキシレン、1−エチル−1,4−ブチレン、2−エチル−1,4−ブチレン、3−エチル−1,4−ブチレン、1−メチル−1,5−ペンチレン、2−メチル−1,5−ペンチレン、3−メチル−1,5−ペンチレン、4−メチルペンチレン、1,1−ジメチル−1,4−ブチレン、2,2−ジメチル−1,4−ブチレン、3,3−ジメチル−1,4−ブチレン、1,2−ジメチル−1,4−ブチレン、1,3−ジメチル−1,4−ブチレン、2,3−ジメチル−1,4−ブチレン、ヘプタメチレン、1−メチル−1,6−へキシレン、2−メチル−1,6−ヘキシレン、3−メチル−1,6−ヘキシレン、4−メチル−1,6−ヘキシレン、5−メチル−1,6−ヘキシレン、1−エチル−1,5−ペンチレン、2−エチル−1,5−ペンチレン、3−エチル−1,5−ペンチレン、1,1−ジメチル−1,5−ペンチレン、2,2−ジメチル−1,5−ペンチレン、3,3−ジメチル−1,5−ペンチレン、4,4−ジメチル−1,5−ペンチレン、1,2−ジメチル−1,5−ペンチレン、1,3−ジメチル−1,5−ペンチレン、1,4−ジメチル−1,5−ペンチレン、2,3−ジメチル−1,5−ペンチレン、2,4−ジメチル−1,5−ペンチレン、3,4−ジメチル−1,5−ペンチレン、2−メチル−3,3−ジメチル−1,4−ブチレン、1−メチル−3,3−ジメチル−1,4−ブチレン、1,2,3−トリメチルー1,4−ブチレン等が挙げられる。 Specific examples of the hydrocarbon group for R 32 include methylene, ethylene, trimethylene, 1,2-propylene, tetramethylene, 2-methyl-1,3-trimethylene, 1,1-dimethylethylene, pentamethylene, 1-ethyl -1,3-propylene, 1-methyl-1,4-butylene, 2-methyl-1,4-butylene, 3-methyl-1,4-butylene, 2,2-dimethyl-1,3-propylene, 1 , 2-Cyclopentylene, 1,3-Cyclopentylene, 2,2-dimethyl-1,3-propylene, 1,1-dimethyl-1,3-propylene, 3,3-dimethyl-1,3-propylene , Hexamethylene, 1,2-cyclohexylene, 1,3-cyclohexylene, 1,4-cyclohexylene, 1-ethyl-1,4-butylene, 2-ethyl-1,4-butylene, 3-ethyl-1 , 4-butylene, 1-methyl-1,5-pentylene, 2-methyl-1,5-pentylene, 3-methyl-1,5-pentylene, 4-methylpentylene, 1,1-dimethyl-1,4 -Butylene, 2,2-dimethyl-1,4-butylene, 3,3-dimethyl-1,4-butylene, 1,2-dimethyl-1,4-butylene, 1,3-dimethyl-1,4-butylene , 2,3-Dimethyl-1,4-butylene, heptamethylene, 1-methyl-1,6-hexylene, 2-methyl-1,6-hexylene, 3-methyl-1,6-hexylene, 4-methyl -1,6-hexylene, 5-methyl-1,6-hexylene, 1-ethyl-1,5-pentylene, 2-ethyl-1,5-pentylene, 3-ethyl-1,5-pentylene, 1,1 -Dimethyl-1,5-pentylene, 2,2-dimethyl-1,5-pentylene, 3,3-dimethyl-1,5-pentylene, 4,4-dimethyl-1,5-pentylene, 1,2-dimethyl -1,5-pentylene, 1,3-dimethyl-1,5-pentylene, 1,4-dimethyl-1,5-pentylene, 2,3-dimethyl-1,5-pentylene, 2,4-dimethyl-1 , 5-Pentylene, 3,4-Dimethyl-1,5-Pentylene, 2-Methyl-3,3-Dimethyl-1,4-butylene, 1-Methyl-3,3-dimethyl-1,4-butylene, 1 , 2,3-Trimethyl-1,4-butylene and the like.

また、R32の炭化水素基の具体例としては、1,3−ジメチル−1,4−ペンチレン、2−イソプロピル−1,4−ブチレン、2−メチル−1,4−シクロヘキシレン、3−メチル−1,4−シクロヘキシレン、4−メチル−1,4−シクロヘキシレン、1−シクロヘキシルメチレン、2−エチル−1,3−シクロペンチレン、3−エチル−1,3−シクロペンチレン、2,3−ジメチル−1,3−シクロペンチレン、2,4−ジメチル−1,3−シクロペンチレン、2−メチル−1,3−シクロペンチルメチレン、2−シクロペンチルエチレン、1−シクロペンチルエチレン、オクタメチレン、1−メチル−1,7−ヘプチレン、1−エチル1,6−へキシレン、1−プロピル−1,5−ペンチレン、2−メチル−1,7−ヘプチレン、3−メチル−1,7−ヘプチレン、4−メチル−1,7−ヘプチレン、5−メチル−1,7−ヘプチレン、6−メチル−1,7−ヘプチレン、2−エチル−1,6−ヘキシレン、3−エチル−1,6−ヘキシレン、4−エチル−1,6−ヘキシレン、5−エチル−1,6−ヘキシレン、1,1−ジメチル−1,6−ヘキシレン、2,2−ジメチル−1,6−ヘキシレン、3,3−ジメチル−1,6−ヘキシレン、4,4−ジメチル−1,6−ヘキシレン、5,5−ジメチル−1,6−ヘキシレン、1,2−ジメチル−1,6−ヘキシレン、1,3−ジメチル−1,6−ヘキシレン、1,4−ジメチル−1,6−ヘキシレン、1,5−ジメチル−1,6−ヘキシレン、2,3−ジメチル−1,6−ヘキシレン、2,4−ジメチル−1,6−ヘキシレン、2,5−ジメチル−1,6−ヘキシレン、1,1−エチルメチル−1,5−ペンチレン、2,2−エチルメチル−1,5−ペンチレン、3,3−エチルメチル−1,5−ペンチレン、4,4−エチルメチル−1,5−ペンチレン、1−エチル−2−メチル−1,5−ペンチレン、1−エチル−3−メチル−1,5−ペンチレン、1−エチル−4−メチル−1,5−ペンチレン、2−エチル−1−メチル−1,5−ペンチレン、3−エチル−1−メチル−1,5−ペンチレン、4−エチル−1−メチル−1,5−ペンチレン、2−エチル−3−メチル−1,5−ペンチレン、2−エチル−4−メチル−1,5−ペンチレン、3−エチル−2−メチル−1,5−ペンチレン、4−エチル−3−メチル−1,5−ペンチレン、3−エチル−4−メチル−1,5−ペンチレン、4−エチル−3−メチル−1,5−ペンチレン等が挙げられる。 Specific examples of the hydrocarbon group for R 32, 1,3-dimethyl-1,4-pentylene, 2-isopropyl-1,4-butylene, 2-methyl-1,4-cyclohexylene, 3-methyl -1,4-Cyclohexylene, 4-methyl-1,4-cyclohexylene, 1-cyclohexylmethylene, 2-ethyl-1,3-cyclopentylene, 3-ethyl-1,3-cyclopentylene, 2, 3-Dimethyl-1,3-cyclopentylene, 2,4-dimethyl-1,3-cyclopentylene, 2-methyl-1,3-cyclopentylmethylene, 2-cyclopentylethylene, 1-cyclopentylethylene, octamethylene, 1-Methyl-1,7-Heptylene, 1-Ethyl 1,6-Hexylene, 1-propyl-1,5-Pentylene, 2-Methyl-1,7-Heptylene, 3-Methyl-1,7-Heptylene, 4-Methyl-1,7-Heptylene, 5-Methyl-1,7-Heptylene, 6-Methyl-1,7-Heptylene, 2-Ethyl-1,6-Hexylene, 3-Ethyl-1,6-Hexylene, 4-Ethyl-1,6-hexylene, 5-ethyl-1,6-hexylene, 1,1-dimethyl-1,6-hexylene, 2,2-dimethyl-1,6-hexylene, 3,3-dimethyl- 1,6-Hexylene, 4,4-dimethyl-1,6-hexylene, 5,5-dimethyl-1,6-hexylene, 1,2-dimethyl-1,6-hexylene, 1,3-dimethyl-1, 6-Hexylene, 1,4-dimethyl-1,6-hexylene, 1,5-dimethyl-1,6-hexylene, 2,3-dimethyl-1,6-hexylene, 2,4-dimethyl-1,6-- Hexylene, 2,5-dimethyl-1,6-hexylene, 1,1-ethylmethyl-1,5-pentylene, 2,2-ethylmethyl-1,5-pentylene, 3,3-ethylmethyl-1,5 -Pentylene, 4,4-ethylmethyl-1,5-pentylene, 1-ethyl-2-methyl-1,5-pentylene, 1-ethyl-3-methyl-1,5-pentylene, 1-ethyl-4- Methyl-1,5-pentylene, 2-ethyl-1-methyl-1,5-pentylene, 3-ethyl-1-methyl-1,5-pentylene, 4-ethyl-1-methyl-1,5-pentylene, 2-Ethyl-3-methyl-1,5-pentylene, 2-ethyl-4-methyl-1,5-pentylene, 3-ethyl-2-methyl-1,5-pentylene, 4-ethyl-3-methyl- 1,5-pentylene, 3-ethyl- Examples thereof include 4-methyl-1,5-pentylene and 4-ethyl-3-methyl-1,5-pentylene.

さらに、R32の炭化水素基の具体例としては、1−(2−メチルプロピル)−1,4−ブチレン、1−(2−メチルプロピル)−2−メチル−1,4−ブチレン、1,1−(2−メチルプロピル)エチレン、1,1−(2−メチルプロピル)エチル−1,3−プロピレン、1,1−ジエチル−1,3−プロピレン、2,2−ジエチル−1,3−プロピレン、1,1−エチルメチル−2,2−ジメチル−1,3−プロピレン、2,2−エチルメチル−1,1−ジメチル−1,3−プロピレン、2−エチル−1,1−ジメチル−1,4−ブチレン、2,3−ジメチル−1,4−シクロヘキシレン、2,3−ジメチル−1,4−シクロヘキシレン、2,5−ジメチル−1,4−シクロヘキシレン、2,6−ジメチル−1,4−シクロヘキシレン、3,5−ジメチル−1,4−シクロヘキシレン、2−メチル−1,4−シクロヘキシル−1−メチレン、3−メチル−1,4−シクロヘキシル−1−メチレン、4−メチル−1,4−シクロヘキシル−1−メチレン、2−エチル−1,4−シクロヘキシレン、3−エチル−1,4−シクロヘキシレン、4−エチル−1,4−シクロヘキシレン、2−シクロヘキシルエチレン、1−シクロヘキシルエチレン、1−シクロヘキシル−2−エチレン、ノニルメチレン、1−メチル−1,8−オクチレン、デシルメチレン、1−メチル−1,8−ノニレン、ウンデシルメチレン、ドデシルメチレン、1,4−フェニレン、1,3−フェニレン、1,2−フェニレン、メチレン−1,4−フェニレン−メチレン、エチレン−1,4−フェニレン−エチレン等が挙げられる。 Further, specific examples of the hydrocarbon group for R 32, 1- (2-methylpropyl) -1,4-butylene, 1- (2-methylpropyl) -2-methyl-1,4-butylene, 1, 1- (2-methylpropyl) ethylene, 1,1- (2-methylpropyl) ethyl-1,3-propylene, 1,1-diethyl-1,3-propylene, 2,2-diethyl-1,3- Ethylene, 1,1-ethylmethyl-2,2-dimethyl-1,3-propylene, 2,2-ethylmethyl-1,1-dimethyl-1,3-propylene, 2-ethyl-1,1-dimethyl- 1,4-butylene, 2,3-dimethyl-1,4-cyclohexylene, 2,3-dimethyl-1,4-cyclohexylene, 2,5-dimethyl-1,4-cyclohexylene, 2,6-dimethyl -1,4-Cyclohexylene, 3,5-dimethyl-1,4-cyclohexylene, 2-methyl-1,4-cyclohexyl-1-ethylene, 3-methyl-1,4-cyclohexyl-1-methylene, 4 -Methyl-1,4-cyclohexyl-1-methylene, 2-ethyl-1,4-cyclohexylene, 3-ethyl-1,4-cyclohexylene, 4-ethyl-1,4-cyclohexylene, 2-cyclohexylethylene , 1-Cyclohexylethylene, 1-Cyclohexyl-2-ethylene, nonylmethylene, 1-methyl-1,8-octylene, decylmethylene, 1-methyl-1,8-nonylene, undecylmethylene, dodecylmethylene, 1,4 Examples thereof include −phenylene, 1,3-phenylene, 1,2-phenylene, methylene-1,4-phenylene-methylene, ethylene-1,4-phenylene-ethylene and the like.

32の炭化水素基は、好ましくは、メチレン、エチレン、トリメチレン、1,2−プロピレン、テトラメチレン、2−メチル−1,2−プロピレン、1,1−ジメチルエチレン、ペンタメチレン、1−エチル−1,3−プロピレン、1−メチル−1,4−ブチレン、2−メチル−1,4−ブチレン、3−メチル−1,4−ブチレン、2,2−ジメチル−1,3−プロピレン、1,3−シクロペンチレン、1,6−へキサメチレン、1,4−シクロヘキシレン、1−エチル−1,4−ブチレン、2−エチル−1,4−ブチレン、3−エチル−1,4−ブチレン、1−メチル−1,5−ペンチレン、2−メチル−1,5−ペンチレン、3−メチル−1,5−ペンチレン、4−メチル−1,5−ペンチレン、ヘプタメチチレン、1−メチル−1,6−ヘキシレン、2−メチル−1,6−ヘキシレン、3−メチル−1,6−ヘキシレン、4−メチル−1,6−ヘキシレン、5−メチル−1,6−ヘキシレン、1−エチル−1,5−ペンチレン、2−エチル−1,5−ペンチレン、3−エチル−1,5−ペンチレン、2−メチル−1,4−シクロヘキシレン、3−メチル−1,4−シクロヘキシレン、4−メチル−1,4−シクロヘキシレン、オクタメチレン、1−メチル−1,7−ヘプチレン、3−メチル−1,7−ヘプチレン、4−メチル−1,7−ヘプチレン、2−メチル−1,7−ヘプチレン、5−メチル−1,7−ヘプチレン、6−メチル−1,7−ヘプチレン、2−エチル−1,6−ヘキシレン、3−エチル−1,6−ヘキシレン、4−エチル−1,6−ヘキシレン、5−エチル−1,6−ヘキシレン、ノニルメチレン、デシルメチレン、ウンデシルメチレン、ドデシルメチレン等であり、より好ましくは、メチレン、エチレン、トリメチレン、1,2−プロピレン、テトラメチレン、2−メチル−1,2−プロピレン、1,1−ジメチルエチレン、ペンタメチレン、1−エチル−1,3−プロピレン、1−メチル−1,4−ブチレン、2−メチル−1,4−ブチレン、3−メチル−1,4−ブチレン、2,2−ジメチル−1,3−プロピレン、1,3−シクロペンチレン、1,6−へキサメチレン、1,4−シクロヘキシレン、ヘプタメチチレン、オクタメチレン、1−メチル−1,7−ヘプチレン、3−メチル−1,7−ヘプチレン、4−メチル−1,7−ヘプチレン、2−メチル−1,7−ヘプチレン、5−メチル−1,7−ヘプチレン、6−メチル−1,7−ヘプチレン、2−エチル−1,6−ヘキシレン、3−エチル−1,6−ヘキシレン、4−エチル−1,6−ヘキシレン、5−エチル−1,6−ヘキシレン、ノニルメチレン、デシルメチレン、ウンデシルメチレン、ドデシルメチレン等であり、さらに好ましくは、メチレン、エチレン、トリメチレン、1,2−プロピレン、テトラメチレン、2−メチル−1,2−プロピレン、1,1−ジメチルエチレン、ペンタメチレン、2,2−ジメチル−1,3−プロピレン、1,3−シクロペンチレン、1,6−へキサメチレン、1,4−シクロヘキシレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、1−メチル−1,7−ヘプチレン、3−メチル−1,7−ヘプチレン、4−メチル−1,7−ヘプチレン、2−メチル−1,7−ヘプチレン、5−メチル−1,7−ヘプチレン、6−メチル−1,7−ヘプチレン、2−エチル−1,6−ヘキシレン、3−エチル−1,6−ヘキシレン、4−エチル−1,6−ヘキシレン、5−エチル−1,6−ヘキシレン、ノニルメチレン、デシルメチレン、ウンデシルメチレン、ドデシルメチレン等である。 The hydrocarbon group of R 32 is preferably methylene, ethylene, trimethylene, 1,2-propylene, tetramethylene, 2-methyl-1,2-propylene, 1,1-dimethylethylene, pentamethylene, 1-ethyl-. 1,3-propylene, 1-methyl-1,4-butylene, 2-methyl-1,4-butylene, 3-methyl-1,4-butylene, 2,2-dimethyl-1,3-propylene, 1, 3-Cyclopentylene, 1,6-hexamethylene, 1,4-cyclohexylene, 1-ethyl-1,4-butylene, 2-ethyl-1,4-butylene, 3-ethyl-1,4-butylene, 1-Methyl-1,5-pentylene, 2-methyl-1,5-pentylene, 3-methyl-1,5-pentylene, 4-methyl-1,5-pentylene, heptamethylylene, 1-methyl-1,6- Hexylene, 2-methyl-1,6-hexylene, 3-methyl-1,6-hexylene, 4-methyl-1,6-hexylene, 5-methyl-1,6-hexylene, 1-ethyl-1,5- Pentylene, 2-ethyl-1,5-pentylene, 3-ethyl-1,5-pentylene, 2-methyl-1,4-cyclohexylene, 3-methyl-1,4-cyclohexylene, 4-methyl-1, 4-Cyclohexylene, Octamethylene, 1-Methyl-1,7-Heptylene, 3-Methyl-1,7-Heptylene, 4-Methyl-1,7-Heptylene, 2-Methyl-1,7-Heptylene, 5- Methyl-1,7-Heptylene, 6-Methyl-1,7-Heptylene, 2-Ethyl-1,6-Hexylene, 3-Ethyl-1,6-Hexylene, 4-Ethyl-1,6-Hexylene, 5- Ethyl-1,6-hexylene, nonylmethylene, decylmethylene, undecylmethylene, dodecylmethylene and the like, more preferably methylene, ethylene, trimethylene, 1,2-propylene, tetramethylene, 2-methyl-1,2. -Propylene, 1,1-dimethylethylene, pentamethylene, 1-ethyl-1,3-propylene, 1-methyl-1,4-butylene, 2-methyl-1,4-butylene, 3-methyl-1,4 -Butylene, 2,2-dimethyl-1,3-propylene, 1,3-cyclopentylene, 1,6-hexamethylene, 1,4-cyclohexylene, heptamethylylene, octamethylene, 1-methyl-1,7- Heptylene, 3-Methyl-1,7-Heptylene, 4-Methyl-1,7-Heptylene, 2-Methyl-1,7-Heptylene, 5-Methyl Chill-1,7-heptylene, 6-methyl-1,7-heptyrene, 2-ethyl-1,6-hexylene, 3-ethyl-1,6-hexylene, 4-ethyl-1,6-hexylene, 5- Ethyl-1,6-hexylene, nonylmethylene, decylmethylene, undecylmethylene, dodecylmethylene and the like, more preferably methylene, ethylene, trimethylene, 1,2-propylene, tetramethylene, 2-methyl-1,2. -Propylene, 1,1-dimethylethylene, pentamethylene, 2,2-dimethyl-1,3-propylene, 1,3-cyclopentylene, 1,6-hexamethylene, 1,4-cyclohexylene, heptamethylene, Octamethylene, 1-methyl-1,7-heptylene, 3-methyl-1,7-heptylene, 4-methyl-1,7-heptylene, 2-methyl-1,7-heptylene, 5-methyl-1,7 -Heptylene, 6-Methyl-1,7-Heptylene, 2-Ethyl-1,6-Hexylene, 3-Ethyl-1,6-Hexylene, 4-Ethyl-1,6-Hexylene, 5-Ethyl-1,6 -Hexylene, nonylmethylene, decylmethylene, undecylmethylene, dodecylmethylene, etc.

式(1)中のAについて、炭素−炭素二重結合を含有する置換基の具体例としては、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、1−ブテニル基、1−ペンテニル基、p−ビニルフェニル基、p−イソプロペニルフェニル基、m−ビニルフェニル基、m−イソプロペニルフェニル基、o−ビニルフェニル基、o−イソプロペニルフェニル基、p−ビニルベンジル基、p−イソプロペニルベンジル基、m−ビニルベンジル基、m−イソプロペニルベンジル基、o−ビニルベンジル基、o−イソプロペニルベンジル基、p−ビニルフェニルエテニル基、p−ビニルフェニルプロペニル基、p−ビニルフェニルブテニル基、m−ビニルフェニルエテニル基、m−ビニルフェニルプロペニル基、m−ビニルフェニルブテニル基、o−ビニルフェニルエテニル基、o−ビニルフェニルプロペニル基、o−ビニルフェニルブテニル基、メタクリル基、アクリル基、2−エチルアクリル基、2−ヒドロキシメチルアクリル基等が挙げられる。 Regarding A in the formula (1), specific examples of the substituent containing a carbon-carbon double bond include a vinyl group, an allyl group, an isopropenyl group, a 1-butenyl group, a 1-pentenyl group, and a p-vinylphenyl. Group, p-isopropenylphenyl group, m-vinylphenyl group, m-isopropenylphenyl group, o-vinylphenyl group, o-isopropenylphenyl group, p-vinylbenzyl group, p-isopropenylbenzyl group, m- Vinylbenzyl group, m-isopropenylbenzyl group, o-vinylbenzyl group, o-isopropenylbenzyl group, p-vinylphenylethenyl group, p-vinylphenylpropenyl group, p-vinylphenylbutenyl group, m-vinyl Phenylethenyl group, m-vinylphenylpropenyl group, m-vinylphenylbutenyl group, o-vinylphenylethenyl group, o-vinylphenylpropenyl group, o-vinylphenylbutenyl group, methacryl group, acrylic group, 2 -Ethyl acrylic group, 2-hydroxymethyl acrylic group and the like can be mentioned.

式(1)におけるLは、任意の2価の連結基又は単結合(直接結合)である。Lが単結合である場合、式(1)で表される構造は、下記式:
により表される。また、Lが任意の2価の連結基である場合、かかるLの具体例は、例えば、下記式:
{式中、a、R、k、X、Y及びnは、式(1)の説明において定義したとおりである}
で表される構造を有する。
L in the formula (1) is an arbitrary divalent linking group or a single bond (direct bond). When L is a single bond, the structure represented by the formula (1) is as follows:
Represented by. Further, when L is an arbitrary divalent linking group, a specific example of such L is, for example, the following formula:
{Wherein, a, R 5, k, X, Y and n are as defined in the description of formula (1)}
It has a structure represented by.

式(1)で表される構造は、Xの価数aの値に応じて様々な分岐構造を取り得る。例えば、式(1)においてa=3の場合には、以下の式:
{式中、nは、Yの繰り返し数を表し、0〜200の整数である}
で表される分岐構造などが挙げられる。
The structure represented by the formula (1) can have various branched structures depending on the value of the valence a of X. For example, when a = 3 in the equation (1), the following equation:
{In the formula, n represents the number of repetitions of Y and is an integer from 0 to 200}
The branch structure represented by is mentioned.

式(1)で表される構造としては、具体的には下記に示すような構造が挙げられる。
Specific examples of the structure represented by the formula (1) include the structures shown below.

上記の式中、Zは、式(1)におけるXに相当する任意の連結基である。Rは、式(2)で表される置換基であり、bは1〜4の整数である。なお、Rの位置に限定はなく、Rは、任意の位置を取ってよい。また、bが2以上の場合には、複数あるRのそれぞれが、同じ構造を取っても、異なった構造を取ってもよい。Rとしては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、tert−アミル基、2,2−ジメチルプロピル基、又はこれらの末端にフェニル基を有する構造などが挙げられる。Aは、炭素−炭素二重結合及び/又はエポキシ結合を含有する置換基である。Rは、水素、又は炭素数1〜8の鎖状若しくは環状構造を有する炭化水素基である。Rが複数ある場合には、それぞれの置換基は同じでも異なっていてもよい。Rの具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、フェニル基、ベンジル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられ、合成時の反応性等の観点から、水素、メチル、エチル、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、及びn−オクチル基が好ましい。しかしながら、合成時の反応性が、Rの位置又は合成時の反応条件を適切に設定することによってもコントロールできる場合には、Rの構造に制限はなく、C1−8の条件を満たす範囲内で任意の構造でよい。Zは、炭化水素基;窒素、リン、ケイ素、酸素から選ばれる、一つ又は複数の元素を含有する炭化水素基;又は窒素、リン、ケイ素等の元素若しくはこれらを含む基である。 In the above formula, Z is an arbitrary linking group corresponding to X in the formula (1). R 1 is a substituent represented by the formula (2), and b is an integer of 1 to 4. The position of R 1 is not limited, and R 1 may take any position. Also, if b is 2 or more, each of the plurality of R 1 is, take the same structure may take a different structure. Examples of R 1 include an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a tert-amyl group, a 2,2-dimethylpropyl group, or a structure having a phenyl group at the terminal thereof. .. A is a substituent containing a carbon-carbon double bond and / or an epoxy bond. R 2 is hydrogen or a hydrocarbon group having a chain or cyclic structure having 1 to 8 carbon atoms. If the R 2 there are a plurality, each of the substituents may be the same or different. Specific examples of R 2 include, for example, a methyl group, an ethyl group, n- propyl group, n- butyl group, n- pentyl group, a cyclopentyl group, n- hexyl group, a cyclohexyl group, n- heptyl, n- octyl Examples include a group, a phenyl group, a benzyl group, a 2-ethylhexyl group, and the like, and from the viewpoint of reactivity during synthesis, hydrogen, methyl, ethyl, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, cyclopentyl group and the like. , N-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group are preferable. However, if the reactivity at the time of synthesis can be controlled by appropriately setting the position of R 2 or the reaction conditions at the time of synthesis, the structure of R 2 is not limited and the condition of C 1-8 is satisfied. Any structure may be used within the range. Z is a hydrocarbon group; a hydrocarbon group selected from nitrogen, phosphorus, silicon, oxygen and containing one or more elements; or an element such as nitrogen, phosphorus, silicon or a group containing these.

Zとしての炭化水素基の具体例は、例えば、下記式で表される構造などである。
上記式において、R〜R10は、同じでも異なっていてもよく、水素又はC1−8の炭化水素基を示す。また、R31〜R33は、同じでも異なっていてもよく、水素又はC1−6の炭化水素基を示す。j、k、l、及びmは、同じでも異なっていてもよく、0〜4の整数である。R〜R10の具体例としては、水素、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピルn−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、2−ペンチル基、3−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、2−ヘキシル基、3−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、2−ヘプチル基、3−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられる。R31〜R33の具体例としては、水素、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピルn−ブチル基、イソブチル基、n−ペンチル基、2−ペンチル基、3−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、2−ヘキシル基、3−ヘキシル基、シクロヘキシル基が挙げられる。
A specific example of the hydrocarbon group as Z is, for example, a structure represented by the following formula.
In the above formula, R 4 to R 10 may be the same or different, and represent hydrogen or a hydrocarbon group of C 1-8 . Further, R 31 to R 33 may be the same or different, and represent hydrogen or a hydrocarbon group of C 1-6 . j, k, l, and m may be the same or different, and are integers from 0 to 4. Specific examples of R 4 to R 10 include hydrogen, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, 2-pentyl group, 3-. Pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, 2-hexyl group, 3-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, 2-heptyl group, 3-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, etc. Can be mentioned. Specific examples of R 31 to R 33 include hydrogen, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl n-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, 2-pentyl group, 3-pentyl group and cyclopentyl group. , N-hexyl group, 2-hexyl group, 3-hexyl group, cyclohexyl group and the like.

また、Zとして、窒素、リン、ケイ素及び酸素から成る群から選ばれる、一つ又は複数の元素を含有する炭化水素基の具体例は、下記式で表されるものである。
上記式において、R〜R10は、同じでも異なっていてもよく、水素又はC1−8の炭化水素基を示す。j、k、l、及びmは、同じでも異なっていてもよく、0〜4の整数である。R〜R10の具体例としては、水素、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピルn−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、2−ペンチル基、3−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、2−ヘキシル基、3−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、2−ヘプチル基、3−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等が挙げられる。
Further, a specific example of a hydrocarbon group containing one or more elements selected from the group consisting of nitrogen, phosphorus, silicon and oxygen as Z is represented by the following formula.
In the above formula, R 4 to R 10 may be the same or different, and represent hydrogen or a hydrocarbon group of C 1-8 . j, k, l, and m may be the same or different, and are integers from 0 to 4. Specific examples of R 4 to R 10 include hydrogen, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, 2-pentyl group, 3-. Pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, 2-hexyl group, 3-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, 2-heptyl group, 3-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, etc. Can be mentioned.

また、Zとして、窒素、リン、酸素等を含む基の具体例は、以下のとおりである。
Specific examples of groups containing nitrogen, phosphorus, oxygen, etc. as Z are as follows.

上記具体例のうち、一つ目のものについてAの構造を具体的にすると、下記式のような構造になる。なお、4〜6分岐の場合も同様であり、また下記式中のR31、R32、s及びtは、Aの具体例において定義したとおりである。
If the structure of A is specified for the first of the above specific examples, the structure is as shown in the following formula. The same applies to the case of 4 to 6 branches, and R 31 , R 32 , s and t in the following equation are as defined in the specific example of A.

ポリフェニレンエーテル成分Aの数平均分子量(Mn)は、GPCを用いたポリスチレン換算分子量において、500〜8,000であり、流動性、他の成分との相溶性などの観点から、好ましくは700〜6,000、より好ましくは900〜4,500である。また、同様の観点から、ポリフェニレンエーテル成分Aの分子量分布は、Mw(重量平均分子量)/Mnとして、好ましくは、1.1〜5、1.4〜4、又は1.5〜3の範囲内である。 The number average molecular weight (Mn) of the polyphenylene ether component A is 500 to 8,000 in terms of polystyrene-equivalent molecular weight using GPC, and is preferably 700 to 6 from the viewpoint of fluidity and compatibility with other components. 000, more preferably 900-4,500. From the same viewpoint, the molecular weight distribution of the polyphenylene ether component A is preferably in the range of 1.1 to 5, 1.4 to 4, or 1.5 to 3 in terms of Mw (weight average molecular weight) / Mn. Is.

本実施形態における式(1)の構造を有する変性ポリフェニレンエーテルは、例えば、より高分子量のフェニレンエーテルポリマーを用いた再分配反応法によりポリフェニレンエーテルを調製し、その末端に基Aを導入することにより製造することができる。再分配反応によるポリフェニレンエーテルの製造の場合は、公知の反応条件に定められた条件に従い製造することが可能である。この場合、得られるポリマーは、原料となるフェニレンエーテルポリマーよりも分子量が低くなるため、目的の分子量に合わせ、原料ポリフェニレンエーテルと多官能フェノール化合物の比率を調整してよい。 The modified polyphenylene ether having the structure of the formula (1) in the present embodiment is prepared by, for example, preparing a polyphenylene ether by a redistribution reaction method using a higher molecular weight phenylene ether polymer and introducing a group A at the terminal thereof. Can be manufactured. In the case of producing polyphenylene ether by a redistribution reaction, it can be produced according to the conditions specified in the known reaction conditions. In this case, since the obtained polymer has a lower molecular weight than the raw material phenylene ether polymer, the ratio of the raw material polyphenylene ether to the polyfunctional phenol compound may be adjusted according to the target molecular weight.

また、式(1)中の置換基Aを、例えば、式(4)〜(7)で表される官能基を、得られたポリフェニレンエーテルポリマー末端へ導入する方法に限定はなく、官能基の種類に応じて公知の様々な方法を採用してよい。例えば、式(4)、(6)又は(7)の構造を有する官能基の導入は、一般的には、Williamson合成法によるエーテル結合の形成に従うことができる。式(5)の構造を有する官能基の導入は、ポリフェニレンエーテルポリマー末端の水酸基と、炭素−炭素二重結合を有するカルボン酸(以下カルボン酸)とのエステル結合の形成反応であり、公知のエステル結合形成方法を利用することができる。 Further, the method for introducing the substituent A in the formula (1) into, for example, the functional group represented by the formulas (4) to (7) into the terminal of the obtained polyphenylene ether polymer is not limited, and the functional group is not limited. Various known methods may be adopted depending on the type. For example, the introduction of a functional group having the structure of the formula (4), (6) or (7) can generally follow the formation of an ether bond by the Williamson synthetic method. The introduction of a functional group having the structure of the formula (5) is a reaction of forming an ester bond between a hydroxyl group at the terminal of a polyphenylene ether polymer and a carboxylic acid having a carbon-carbon double bond (hereinafter referred to as carboxylic acid), and is a known ester. A bond forming method can be used.

ポリフェニレンエーテル成分A(PPE−A)は、高硬化反応性及び低誘電特性、並びに良好な流動性・成形性を有し、耐熱性に優れるので、各種電気・電子機器用の材料として好適に使用でき、特に、電気・電子部品(プリント配線板基材等)用のプリプレグの製造に好適に使用できる。PPE−Aは、樹脂組成物において、単独の樹脂として使用してもよいし、他の構造を有するポリフェニレンエーテルと併用してもよいし、公知の各種添加剤と組み合わせて使用することもできる。樹脂組成物中のPPE−Aの含有量は、例えば、0.5質量%〜95質量%とすることができる。 Polyphenylene ether component A (PPE-A) has high curing reactivity and low dielectric properties, as well as good fluidity and moldability, and is excellent in heat resistance, and is therefore suitably used as a material for various electric and electronic devices. In particular, it can be suitably used for manufacturing prepregs for electrical / electronic parts (printed wiring board base materials, etc.). In the resin composition, PPE-A may be used as a single resin, may be used in combination with polyphenylene ether having another structure, or may be used in combination with various known additives. The content of PPE-A in the resin composition can be, for example, 0.5% by mass to 95% by mass.

ポリフェニレンエーテル成分B(PPE−B)
本実施形態に係る樹脂組成物は、上記で説明された数平均分子量500〜8,000のポリフェニレンエーテル成分Aに加えて、1分子当たりの平均フェノール性水酸基数が1.2個以上、かつ数平均分子量が8,000以上50,000以下のポリフェニレンエーテル成分Bを含むことが好ましい。ポリフェニレンエーテル成分Bは、その生産プロセスにおいて安定であり、かつ誘電特性及び耐熱性に優れているため、ポリフェニレンエーテル成分Aを阻害することなく、樹脂組成物の硬化物の電気特性を向上させる傾向にある。
Polyphenylene ether component B (PPE-B)
In the resin composition according to the present embodiment, in addition to the polyphenylene ether component A having a number average molecular weight of 500 to 8,000 described above, the average number of phenolic hydroxyl groups per molecule is 1.2 or more and the number is large. It preferably contains a polyphenylene ether component B having an average molecular weight of 8,000 or more and 50,000 or less. Since the polyphenylene ether component B is stable in the production process and has excellent dielectric properties and heat resistance, it tends to improve the electrical properties of the cured product of the resin composition without inhibiting the polyphenylene ether component A. is there.

ポリフェニレンエーテル成分B(PPE−B)は、ポリフェニレンエーテル成分A(PPE−A)と区別されることができ、かつ1分子当たりの平均フェノール性水酸基数1.2個以上と数平均分子量8,000〜50,000を満たすのであれば、任意のポリフェニレンエーテル(PPE)でよい。PPE−Aとの併用の観点から、PPE−Bの数平均分子量は、好ましくは、8,000を超え、かつ50,000以下である。樹脂組成物においてPPE−AとPPE−Bを併用する場合には、樹脂組成物の安定性及び耐熱性の観点から、PPE−AとPPE−Bとの合計質量100質量%を基準として、PPE−Aの含有量が1質量%〜99.9質量%であり、かつPPE−Bの含有量が0.1質量%〜99質量%であることが好ましく、より好ましくは、PPE−Aの含有量が20質量%〜98質量%であり、かつPPE−Bの含有量が2質量%〜80質量%、さらに好ましくはPPE−Aの含有量が40質量%〜95質量%であり、かつPPE−Bの含有量が5質量%〜60質量%である。 The polyphenylene ether component B (PPE-B) can be distinguished from the polyphenylene ether component A (PPE-A), and the average number of phenolic hydroxyl groups per molecule is 1.2 or more, and the number average molecular weight is 8,000. Any polyphenylene ether (PPE) may be used as long as it satisfies ~ 50,000. From the viewpoint of combined use with PPE-A, the number average molecular weight of PPE-B is preferably more than 8,000 and less than 50,000. When PPE-A and PPE-B are used in combination in the resin composition, PPE is based on a total mass of 100% by mass of PPE-A and PPE-B from the viewpoint of stability and heat resistance of the resin composition. The content of −A is preferably 1% by mass to 99.9% by mass, and the content of PPE-B is preferably 0.1% by mass to 99% by mass, and more preferably the content of PPE-A. The amount is 20% by mass to 98% by mass, and the content of PPE-B is 2% by mass to 80% by mass, more preferably the content of PPE-A is 40% by mass to 95% by mass, and PPE. The content of −B is 5% by mass to 60% by mass.

架橋剤
本実施形態では、架橋反応を起こすか、又は促進する能力を有する任意の架橋剤を使用することができる。架橋剤は、数平均分子量が4,000以下であることが好ましい。架橋剤の数平均分子量が4,000以下であると、樹脂組成物の粘度の増大を抑制でき、また加熱成型時の良好な樹脂流動性が得られる。数平均分子量は、一般的な分子量測定方法で測定したものであればよく、具体的には、GPCを用いて測定した値等が挙げられる。
Crosslinking Agent In this embodiment, any crosslinking agent having the ability to cause or promote a crosslinking reaction can be used. The cross-linking agent preferably has a number average molecular weight of 4,000 or less. When the number average molecular weight of the cross-linking agent is 4,000 or less, an increase in the viscosity of the resin composition can be suppressed, and good resin fluidity during heat molding can be obtained. The number average molecular weight may be any one measured by a general molecular weight measuring method, and specific examples thereof include a value measured by using GPC.

架橋剤は、架橋反応の観点から、炭素−炭素不飽和二重結合を1分子中に平均2個以上有することが好ましい。架橋剤は、1種類の化合物で構成されてもよく、2種類以上の化合物で構成されてもよい。本明細書にいう「炭素−炭素不飽和二重結合」とは、架橋剤がポリマー又はオリゴマーである場合、主鎖より分岐した末端に位置する二重結合をいう。炭素−炭素不飽和二重結合としては、例えば、ポリブタジエンにおける1,2−ビニル結合が挙げられる。 From the viewpoint of the cross-linking reaction, the cross-linking agent preferably has two or more carbon-carbon unsaturated double bonds in one molecule on average. The cross-linking agent may be composed of one kind of compound or two or more kinds of compounds. As used herein, the term "carbon-carbon unsaturated double bond" refers to a double bond located at the end branched from the main chain when the cross-linking agent is a polymer or oligomer. Examples of the carbon-carbon unsaturated double bond include a 1,2-vinyl bond in polybutadiene.

架橋剤の数平均分子量が600未満である場合、架橋剤の1分子当たりの炭素−炭素不飽和二重結合の数(平均値)は、2〜4であることが好ましい。架橋剤の数平均分子量が600〜1500の場合には、架橋剤の1分子当たりの炭素−炭素不飽和二重結合の数(平均値)は、4〜26であることが好ましい。架橋剤の数平均分子量が1,500〜4,000の場合には、架橋剤の1分子当たりの炭素−炭素不飽和二重結合の数(平均値)は、26〜60であることが好ましい。架橋剤の数平均分子量が上記範囲内にある場合に、炭素−炭素不飽和二重結合の数が特定値以上であることにより、本実施形態に係る樹脂組成物は、架橋剤の反応性が一層高まり、樹脂組成物の硬化物の架橋密度が一層向上し、その結果、一層優れた耐熱性を付与できる。一方で、架橋剤の数平均分子量が上記範囲内にある場合に、炭素−炭素不飽和二重結合の数が、特定値以下であることにより、加熱成形時に一層優れた樹脂流動性を付与できる。 When the number average molecular weight of the cross-linking agent is less than 600, the number of carbon-carbon unsaturated double bonds (average value) per molecule of the cross-linking agent is preferably 2 to 4. When the number average molecular weight of the cross-linking agent is 600 to 1500, the number of carbon-carbon unsaturated double bonds (average value) per molecule of the cross-linking agent is preferably 4 to 26. Number of cross-linking agents When the average molecular weight is 1,500 to 4,000, the number of carbon-carbon unsaturated double bonds (average value) per molecule of the cross-linking agent is preferably 26 to 60. .. When the number average molecular weight of the cross-linking agent is within the above range, the number of carbon-carbon unsaturated double bonds is equal to or more than a specific value, so that the resin composition according to the present embodiment has the reactivity of the cross-linking agent. Further, the crosslink density of the cured product of the resin composition is further improved, and as a result, more excellent heat resistance can be imparted. On the other hand, when the number average molecular weight of the cross-linking agent is within the above range, the number of carbon-carbon unsaturated double bonds is not more than a specific value, so that more excellent resin fluidity can be imparted during heat molding. ..

架橋剤としては、例えば、トリアリルイソシアヌレート(TAIC)等のトリアルケニルイソシアヌレート化合物、トリアリルシアヌレート(TAC)等のトリアルケニルシアヌレート化合物、分子中にメタクリル基を2個以上有する多官能メタクリレート化合物、分子中にアクリル基を2個以上有する多官能アクリレート化合物、ポリブタジエン等の分子中にビニル基を2個以上有する多官能ビニル化合物、分子中にビニルベンジル基を有するジビニルベンゼン等のビニルベンジル化合物、4,4’−ビスマレイミドジフェニルメタン等の分子中にマレイミド基を2個以上有する多官能マレイミド化合物等が挙げられる。これらの架橋剤は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。架橋剤は、これらの中でも、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、及びポリブタジエンから成る群より選択される少なくとも1種の化合物を含むことが好ましい。架橋剤が、上記で説明された少なくとも1種以上の化合物を含むことにより、硬化反応(架橋反応)時に架橋密度が一層高くなり、これにより、樹脂組成物の硬化物の耐熱性が一層向上する傾向にある。 Examples of the cross-linking agent include a trialkenyl isocyanurate compound such as triallyl isocyanurate (TAIC), a trialkenyl cyanurate compound such as triallyl cyanurate (TAC), and a polyfunctional methacrylate having two or more methacryl groups in the molecule. Compounds, polyfunctional acrylate compounds having two or more acrylic groups in the molecule, polyfunctional vinyl compounds having two or more vinyl groups in the molecule such as polybutadiene, vinylbenzyl compounds such as divinylbenzene having a vinylbenzyl group in the molecule , 4,4'-Bismaleimide diphenylmethane and the like, which include polyfunctional maleimide compounds having two or more maleimide groups in the molecule. These cross-linking agents may be used alone or in combination of two or more. Among these, the cross-linking agent preferably contains at least one compound selected from the group consisting of triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, and polybutadiene. When the cross-linking agent contains at least one compound described above, the cross-linking density becomes higher during the curing reaction (cross-linking reaction), whereby the heat resistance of the cured product of the resin composition is further improved. There is a tendency.

PPE:架橋剤の重量比は、硬化時の低誘電率及び低誘電正接と架橋構造物の架橋密度のバランスを取るという観点から、25:75〜95:5であることが好ましく、より好ましくは、32:68〜85:15である。また、PPE−A:架橋剤の重量比は、同様の観点から、好ましくは25:75〜95:5、より好ましくは、32:68〜85:15である。 The weight ratio of PPE: cross-linking agent is preferably 25:75 to 95: 5, and more preferably 25:75 to 95: 5, from the viewpoint of balancing the low dielectric constant and low dielectric loss tangent at the time of curing and the cross-linking density of the cross-linked structure. , 32:68 to 85:15. From the same viewpoint, the weight ratio of PPE-A: cross-linking agent is preferably 25:75 to 95: 5, and more preferably 32:68 to 85:15.

有機過酸化物
本実施形態では、ポリフェニレンエーテル及び架橋剤を含む樹脂組成物の重合反応を促進する能力を有する任意の有機過酸化物を使用することができる。有機過酸化物としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ(2−t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキシイソフタレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)オクタン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、ジ(トリメチルシリル)パーオキサイド、トリメチルシリルトリフェニルシリルパーオキサイド等の過酸化物が挙げられる。なお、2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタン等のラジカル発生剤も樹脂組成物のための反応開始剤として使用することができる。中でも、得られる耐熱性及び機械特性に優れ、更に低い誘電率及び誘電正接を有する硬化物を提供することができるという観点から、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、ジ(2−t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、及び2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサンが好ましい。
Organic Peroxide In this embodiment, any organic peroxide having an ability to accelerate the polymerization reaction of the resin composition containing polyphenylene ether and a cross-linking agent can be used. Examples of the organic peroxide include benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, and 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylper). Oxy) Hexin-3, di-t-butyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, di (2-t-butylperoxyisopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) ) Hexane, dicumyl peroxide, di-t-butylperoxyisophthalate, t-butylperoxybenzoate, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, 2,2-bis (t-butylperoxy) ) Octane, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, di (trimethylsilyl) peroxide, trimethylsilyltriphenylsilyl peroxide and other peroxides. A radical generator such as 2,3-dimethyl-2,3-diphenylbutane can also be used as a reaction initiator for the resin composition. Above all, from the viewpoint that it is possible to provide a cured product having excellent heat resistance and mechanical properties obtained, and further having a low dielectric constant and dielectric loss tangent, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy). ) Hexin-3, di (2-t-butylperoxyisopropyl) benzene, and 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane are preferred.

有機過酸化物の1分間半減期温度は、好ましくは155℃以上185℃以下であり、より好ましくは160℃〜180℃又は165℃〜175℃である。本明細書では、1分間半減期温度は、有機過酸化物が分解して、その活性酸素量が半分になる時間が1分間となる温度である。1分間半減期温度は、ラジカルに対して不活性な溶剤、例えばベンゼン等に有機過酸化物を0.05mol/L〜0.1mol/Lの濃度となるように溶解させ、有機過酸化物溶液を窒素雰囲気化で熱分解させる方法で確認される値である。 The 1-minute half-life temperature of the organic peroxide is preferably 155 ° C. or higher and 185 ° C. or lower, and more preferably 160 ° C. to 180 ° C. or 165 ° C. to 175 ° C. In the present specification, the 1-minute half-life temperature is a temperature at which the time during which the organic peroxide is decomposed and the amount of active oxygen is halved is 1 minute. For the 1-minute half-life temperature, an organic peroxide solution is dissolved in a radical-inactive solvent such as benzene so as to have a concentration of 0.05 mol / L to 0.1 mol / L. It is a value confirmed by the method of thermally decomposing the material in a nitrogen atmosphere.

有機過酸化物の1分間半減期温度が155℃以上であることにより、PPE含有樹脂組成物を加熱加圧成型に供す際、PPEを十分に溶融させてから架橋剤との反応が開始されることになるので、成型性に優れる傾向にある。一方、有機過酸化物の1分間半減期温度が185℃以下であることにより、通常の加熱加圧成型条件(例えば最高到達温度200℃)での有機過酸化物の分解速度が十分であるため、架橋剤との架橋反応を効率的かつ緩やかに進めることができるので、良好な電気特性(特に誘電正接)を有する硬化物を形成可能である。 When the 1-minute half-life temperature of the organic peroxide is 155 ° C. or higher, when the PPE-containing resin composition is subjected to heat and pressure molding, the reaction with the cross-linking agent is started after the PPE is sufficiently melted. Therefore, it tends to be excellent in moldability. On the other hand, since the one-minute half-life temperature of the organic peroxide is 185 ° C. or lower, the decomposition rate of the organic peroxide under normal heat and pressure molding conditions (for example, the maximum ultimate temperature of 200 ° C.) is sufficient. Since the cross-linking reaction with the cross-linking agent can proceed efficiently and slowly, it is possible to form a cured product having good electrical characteristics (particularly dielectric loss tangent).

1分間半減期温度が155℃〜185℃の範囲内にある有機過酸化物としては、例えば、t−へキシルペルオキシイソプロピルモノカーボネート(155.0℃)、t−ブチルペルオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート(166.0℃)、t−ブチルペルオキシラウレート(159.4℃)、t−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート(158.8℃)、t−ブチルペルオキシ2−エチルへキシルモノカーボネート(161.4℃)、t−へキシルパーオキシベンゾエート(160.3℃)、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン(158.2℃)、t−ブチルペルオキシアセテート(159.9℃)、2,2−ジ−(t−ブチルパーオキシ)ブタン(159.9℃)、t−ブチルパーオキシベンゾエート(166.8℃)、n−ブチル4,4−ジ−(t−ブチルペルオキシ)バレラート(172.5℃)、ジ(2−t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン(175.4℃)、ジクミルパーオキサイド(175.2℃)、ジ−t−へキシルパーオキサイド(176.7℃)、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン(179.8℃)、及びt−ブチルクミルパーオキサイド(173.3℃)などが挙げられる。 Examples of organic peroxides having a 1-minute half-life temperature in the range of 155 ° C to 185 ° C include t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate (155.0 ° C) and t-butylperoxy-3,5,5. -Trimethylhexanoate (166.0 ° C), t-butylperoxylaurate (159.4 ° C), t-butylperoxyisopropylmonocarbonate (158.8 ° C), t-butylperoxy2-ethylhexylmonocarbonate (161.4 ° C), t-hexyl peroxybenzoate (160.3 ° C), 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane (158.2 ° C), t-butyl peroxyacetate (159.9 ° C), 2,2-di- (t-butylperoxy) butane (159.9 ° C), t-butylperoxybenzoate (166.8 ° C), n-butyl 4,4-di- (T-Butylperoxy) Valerate (172.5 ° C), Di (2-t-Butylperoxyisopropyl) benzene (175.4 ° C), Dicumyl peroxide (175.2 ° C), Di-t-hexylper Oxide (176.7 ° C), 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane (179.8 ° C), t-butylcumyl peroxide (173.3 ° C) and the like. Be done.

有機過酸化物の含有量は、PPEと架橋剤の合計100質量部を基準として、反応率を高くすることができるという観点から、好ましくは0.05質量部以上、より好ましくは0.5質量部以上又は1質量部以上、更に好ましくは1.5質量部以上であり、得られる硬化物の誘電率及び誘電正接を低く抑えることができるという観点から、好ましくは5質量部以下、より好ましくは4.5質量部以下である。また、有機過酸化物の含有量は、同様の観点から、PPE−Aと架橋剤の合計100質量部を基準として、好ましくは0.05質量部以上かつ5質量部以下、より好ましくは、0.5質量部以上かつ4.5質量部以下、更に好ましくは、1質量部以上かつ4.5質量部以下、又は1.5質量部以上かつ4.5質量部以下である。 The content of the organic peroxide is preferably 0.05 parts by mass or more, more preferably 0.5 parts by mass, from the viewpoint that the reaction rate can be increased based on 100 parts by mass of the total of PPE and the cross-linking agent. It is preferably 5 parts by mass or more, more preferably 1.5 parts by mass or more, and more preferably 5 parts by mass or less, more preferably 1.5 parts by mass or more, and from the viewpoint that the dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained cured product can be suppressed low. It is 4.5 parts by mass or less. From the same viewpoint, the content of the organic peroxide is preferably 0.05 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, more preferably 0, based on 100 parts by mass of the total of PPE-A and the cross-linking agent. It is 5.5 parts by mass or more and 4.5 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass or more and 4.5 parts by mass or less, or 1.5 parts by mass or more and 4.5 parts by mass or less.

熱可塑性樹脂
樹脂組成物は、熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。熱可塑性樹脂は、ビニル芳香族化合物とオレフィン系アルケン化合物とのブロック共重合体及びその水素添加物(ビニル芳香族化合物とオレフィン系アルケン化合物とのブロック共重合体を水素添加して得られる水添ブロック共重合体)、並びにビニル芳香族化合物の単独重合体から成る群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。上記ブロック共重合体又はその水素添加物のビニル芳香族化合物由来の単位の含有率は、20質量%以上であることが好ましく、22質量%以上であることがより好ましく、99質量%以下であることができる。上記ブロック共重合体又はその水素添加物のビニル芳香族化合物由来の単位の含有率が20質量%以上であることにより、ポリフェニレンエーテルとの相溶性が一層向上し、金属箔との密着強度が一層向上する傾向にある。
Thermoplastic resin The resin composition preferably contains a thermoplastic resin. The thermoplastic resin is a block copolymer of a vinyl aromatic compound and an olefin-based alkene compound and a hydrogenated product thereof (hydrogenation obtained by hydrogenating a block copolymer of a vinyl aromatic compound and an olefin-based alkene compound). It is preferably at least one selected from the group consisting of block copolymers) and homopolymers of vinyl aromatic compounds. The content of the unit derived from the vinyl aromatic compound of the block copolymer or its hydrogenated product is preferably 20% by mass or more, more preferably 22% by mass or more, and 99% by mass or less. be able to. When the content of the unit derived from the vinyl aromatic compound of the block copolymer or its hydrogenated product is 20% by mass or more, the compatibility with polyphenylene ether is further improved, and the adhesion strength with the metal foil is further improved. It tends to improve.

ビニル芳香族化合物は、分子内に芳香環及びビニル基を有すればよく、例えば、スチレンが挙げられる。オレフィン系アルケン化合物は、分子内に、直鎖若しくは分岐構造を有するアルケンであればよく、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、ブタジエン、及びイソプレンが挙げられる。これらの中でも、熱可塑性樹脂は、ポリフェニレンエーテルとの相溶性に一層優れる観点から、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−ブチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−プロピレンブロック共重合体、スチレン−イソブチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体の水素添加物、スチレン−エチレン−ブタジエンブロック共重合体の水素添加物、スチレン−ブタジエン−ブチレンブロック共重合体の水素添加物、スチレン−イソプレンブロック共重合体の水素添加物、及びスチレンの単独重合体(ポリスチレン)から成る群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体の水素添加物、及びポリスチレンからなる群より選択される1種以上であることがより好ましい。 The vinyl aromatic compound may have an aromatic ring and a vinyl group in the molecule, and examples thereof include styrene. The olefin-based alkene compound may be an alkene having a linear or branched structure in the molecule, and examples thereof include ethylene, propylene, butylene, isobutylene, butadiene, and isoprene. Among these, the thermoplastic resin is a styrene-butadiene block copolymer, a styrene-ethylene-butadiene block copolymer, a styrene-ethylene-butylene block copolymer, and styrene from the viewpoint of being more excellent in compatibility with polyphenylene ether. -Butadiene-butylene block copolymer, styrene-isoprene block copolymer, styrene-ethylene-propylene block copolymer, styrene-isobutylene block copolymer, styrene-butadiene block copolymer hydrogenated product, styrene-ethylene From the group consisting of a hydrogenated product of a −butadiene block copolymer, a hydrogenated product of a styrene-butadiene-butylene block copolymer, a hydrogenated product of a styrene-isoprene block copolymer, and a homopolymer of styrene (polystyrene). It is preferably at least one selected, and more preferably one or more selected from the group consisting of a styrene-butadiene block copolymer, a hydrogenated additive of a styrene-butadiene block copolymer, and polystyrene. ..

上記水素添加物における水素添加率は、特に限定されず、オレフィン系アルケン化合物由来の炭素‐炭素不飽和二重結合が一部残存していてもよい。 The hydrogenation rate of the hydrogenated product is not particularly limited, and a carbon-carbon unsaturated double bond derived from an olefin-based alkene compound may partially remain.

熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、好ましくは10,000〜300,000、より好ましくは20,000〜290,000、さらに好ましくは30,000〜280,000である。重量平均分子量が10,000以上であることにより、本実施形態の樹脂組成物は、硬化した際に耐熱性に一層優れる傾向にある。重量平均分子量が300,000以下であることにより、本実施形態の樹脂組成物は、加熱成形時に一層良好な樹脂流動性を有する傾向にある。重量平均分子量は、後述の実施例に記載の方法により求められる。 The weight average molecular weight of the thermoplastic resin is preferably 10,000 to 300,000, more preferably 20,000 to 290,000, and even more preferably 30,000 to 280,000. When the weight average molecular weight is 10,000 or more, the resin composition of the present embodiment tends to be more excellent in heat resistance when cured. Since the weight average molecular weight is 300,000 or less, the resin composition of the present embodiment tends to have better resin fluidity at the time of heat molding. The weight average molecular weight is determined by the method described in Examples described later.

熱可塑性樹脂の含有量は、PPE及び架橋剤の合計100質量部を基準として、2質量部〜20質量部であることが好ましく、3質量部〜19質量部であることがより好ましい。含有量が2質量部以上であることにより、本実施形態の樹脂組成物は、硬化した際に低誘電率性、低誘電正接性及び金属箔との密着性に一層優れる傾向にある。含有量が20質量部以下であることにより、本実施形態の樹脂組成物は、加熱成形時に一層優れた樹脂流動性を有する傾向にある。また、熱可塑性樹脂の含有量は、同様の観点から、PPE−A及び架橋剤の合計100質量部を基準として、好ましくは2質量部〜20質量部、より好ましくは3質量部〜19質量部である。 The content of the thermoplastic resin is preferably 2 parts by mass to 20 parts by mass, and more preferably 3 parts by mass to 19 parts by mass, based on a total of 100 parts by mass of PPE and the cross-linking agent. When the content is 2 parts by mass or more, the resin composition of the present embodiment tends to be more excellent in low dielectric constant, low dielectric loss tangent property and adhesion to the metal foil when cured. When the content is 20 parts by mass or less, the resin composition of the present embodiment tends to have more excellent resin fluidity at the time of heat molding. From the same viewpoint, the content of the thermoplastic resin is preferably 2 parts by mass to 20 parts by mass, more preferably 3 parts by mass to 19 parts by mass, based on a total of 100 parts by mass of PPE-A and the cross-linking agent. Is.

難燃剤
本実施形態の樹脂組成物は、難燃剤を含むことが好ましい。難燃剤としては、耐熱性を向上できる観点から、樹脂組成物の硬化後に樹脂組成物中の他の含有成分と相溶しないものであれば特に制限されない。好ましくは、難燃剤は、樹脂組成物の硬化後に樹脂組成物中のPPE及び/又は架橋剤と相溶しない。難燃剤としては、例えば、三酸化アンチモン、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛等の無機難燃剤;ヘキサブロモベンゼン、デカブロモジフェニルエタン、4,4−ジブロモビフェニル、エチレンビステトラブロモフタルイミド等の芳香族臭素化合物;レゾルシノールビス−ジフェニルホスフェート、レゾルシノールビス−ジキシレニルホスフェート等のリン系難燃剤等が挙げられる。これらの難燃剤は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。これらの中でも、難燃剤は、樹脂組成物を硬化した際の低誘電率性及び低誘電正接性に一層優れる観点から、デカブロモジフェニルエタンであることが好ましい。
Flame Retardant The resin composition of the present embodiment preferably contains a flame retardant. The flame retardant is not particularly limited as long as it is incompatible with other components in the resin composition after curing from the viewpoint of improving heat resistance. Preferably, the flame retardant is incompatible with the PPE and / or the cross-linking agent in the resin composition after curing of the resin composition. Examples of the flame retardant include inorganic flame retardants such as antimony trioxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide and zinc borate; hexabromobenzene, decabromodiphenylethane, 4,4-dibromobiphenyl, ethylenebistetrabromophthalimide and the like. Aromatic bromine compounds of the above; phosphorus-based flame retardants such as resorcinol bis-diphenyl phosphate and resorcinol bis-dixylenyl phosphate. These flame retardants may be used alone or in combination of two or more. Among these, the flame retardant is preferably decabromodiphenylethane from the viewpoint of further excellent low dielectric constant and low dielectric loss tangent when the resin composition is cured.

難燃剤の含有量は、特に限定されないが、UL規格94V−0レベルの難燃性を維持するという観点から、ポリフェニレンエーテル(PPE)樹脂と架橋剤との合計100質量部に対して、好ましくは5質量部以上、より好ましくは10質量部以上、更に好ましくは15質量部以上である。また、得られる硬化物の誘電率及び誘電正接を低く維持できる観点から、難燃剤の含有量は、好ましくは50質量部以下、より好ましくは45質量部以下、更に好ましくは40質量部以下である。 The content of the flame retardant is not particularly limited, but from the viewpoint of maintaining the flame retardancy of UL standard 94V-0 level, it is preferable with respect to a total of 100 parts by mass of the polyphenylene ether (PPE) resin and the cross-linking agent. It is 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, and further preferably 15 parts by mass or more. Further, from the viewpoint that the dielectric constant and the dielectric loss tangent of the obtained cured product can be kept low, the content of the flame retardant is preferably 50 parts by mass or less, more preferably 45 parts by mass or less, and further preferably 40 parts by mass or less. ..

シリカフィラー
本実施形態の樹脂組成物は、シリカフィラーを含有してよい。シリカフィラーとしては、例えば、天然シリカ、溶融シリカ、合成シリカ、アモルファスシリカ、アエロジル、及び中空シリカが挙げられる。シリカフィラーの含有量は、ポリフェニレンエーテル(PPE)樹脂及び架橋剤の合計100質量部に対して、10質量部〜100質量部であることができる。また、シリカフィラーは、その表面にシランカップリング剤等を用いて表面処理をされたものであってもよい。
Silica filler The resin composition of the present embodiment may contain a silica filler. Examples of the silica filler include natural silica, fused silica, synthetic silica, amorphous silica, Aerosil, and hollow silica. The content of the silica filler can be 10 parts by mass to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the polyphenylene ether (PPE) resin and the cross-linking agent. Further, the silica filler may have its surface treated with a silane coupling agent or the like.

本実施形態の樹脂組成物は、難燃剤及びシリカフィラー以外に、熱安定剤、酸化防止剤、UV吸収剤、界面活性剤、滑剤などの添加剤、溶剤などを更に含んでもよい。本実施形態の樹脂組成物は、溶剤を含む場合には、樹脂組成物中の固形成分が溶剤に溶解又は分散したワニスの形態であることができる。また、本実施形態の樹脂組成物から樹脂フィルムを形成することができる。 In addition to the flame retardant and the silica filler, the resin composition of the present embodiment may further contain additives such as heat stabilizers, antioxidants, UV absorbers, surfactants, lubricants, solvents and the like. When the resin composition of the present embodiment contains a solvent, the resin composition can be in the form of a varnish in which the solid component in the resin composition is dissolved or dispersed in the solvent. Further, a resin film can be formed from the resin composition of the present embodiment.

溶剤
溶剤としては、溶解性の観点から、トルエン、キシレン等の芳香族系化合物、メチルエチルケトン(MEK)、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びクロロホルムが好ましい。これらの溶剤は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。
Solvent As the solvent, aromatic compounds such as toluene and xylene, methyl ethyl ketone (MEK), cyclopentanone, cyclohexanone and chloroform are preferable from the viewpoint of solubility. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

プリプレグ
本実施形態のプリプレグは、基材と、この基材に含浸又は塗布された本実施形態の樹脂組成物とを含む。プリプレグは、例えば、ガラスクロス等の基材を上記ワニスに含浸させた後、熱風乾燥機等で溶剤分を乾燥除去することにより得られる。
Prepreg The prepreg of the present embodiment includes a base material and the resin composition of the present embodiment impregnated or coated on the base material. The prepreg can be obtained, for example, by impregnating the varnish with a base material such as glass cloth and then drying and removing the solvent component with a hot air dryer or the like.

基材としては、ロービングクロス、クロス、チョップドマット、サーフェシングマット等の各種ガラスクロス;アスベスト布、金属繊維布、及びその他の合成若しくは天然の無機繊維布;全芳香族ポリアミド繊維、全芳香族ポリエステル繊維、ポリベンゾオキサゾール繊維等の液晶繊維から得られる織布又は不織布;綿布、麻布、フェルト等の天然繊維布;カーボン繊維布、クラフト紙、コットン紙、紙−ガラス混繊糸から得られる布等の天然セルロース系基材;ポリテトラフルオロエチレン多孔質フィルム等が挙げられる。これらの基材は、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。 As the base material, various glass cloths such as roving cloths, cloths, chopped mats, and surface mats; asbestos cloths, metal fiber cloths, and other synthetic or natural inorganic fiber cloths; all aromatic polyamide fibers, all aromatic polyesters. Woven or non-woven fabrics obtained from liquid crystal fibers such as fibers and polybenzoxazole fibers; natural fiber fabrics such as cotton cloth, linen cloth and felt; carbon fiber cloth, kraft paper, cotton paper, cloth obtained from paper-glass mixed fiber yarn, etc. Natural cellulose-based base material; polytetrafluoroethylene porous film and the like can be mentioned. These base materials may be used alone or in combination of two or more.

プリプレグ中の本実施形態の樹脂組成物固形分の割合は、30〜80質量%であることが好ましく、40〜70質量%であることがより好ましい。上記割合が30質量%以上であることにより、プリプレグを電子基板用等に用いた場合に絶縁信頼性に一層優れる傾向にある。上記割合が80質量%以下であることにより、電子基板などの用途において、曲げ弾性率等の機械特性に一層優れる傾向にある。 The proportion of the solid content of the resin composition of the present embodiment in the prepreg is preferably 30 to 80% by mass, more preferably 40 to 70% by mass. When the above ratio is 30% by mass or more, the insulation reliability tends to be further improved when the prepreg is used for an electronic substrate or the like. When the above ratio is 80% by mass or less, mechanical properties such as flexural modulus tend to be further excellent in applications such as electronic substrates.

金属張積層板
本実施形態の金属張積層板は、本実施形態の樹脂組成物若しくは樹脂フィルム又は本実施形態のプリプレグと、金属箔とを積層して硬化して得られる。金属張積層板は、プリプレグの硬化物(「硬化物複合体」ともいう)と金属箔とが積層して密着している形態を有することが好ましく、電子基板用材料として好適に用いられる。金属箔としては、例えば、アルミ箔及び銅箔が挙げられ、これらの中でも銅箔は電気抵抗が低いため好ましい。金属箔と組合せる硬化物複合体は、1枚でも複数枚でもよく、用途に応じて複合体の片面又は両面に金属箔を重ねて積層板に加工する。積層板の製造方法としては、例えば、熱硬化性樹脂組成物と基材とから構成される複合体(例えば、前述のプリプレグ)を形成し、これを金属箔と重ねた後、熱硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、硬化物積層体と金属箔とが積層されている積層板を得る方法が挙げられる。前記積層板の特に好ましい用途の1つはプリント配線板である。プリント配線板は、金属張積層板から金属箔の少なくとも一部が除去されていることが好ましい。
Metal-clad laminate The metal-clad laminate of the present embodiment is obtained by laminating and curing the resin composition or resin film of the present embodiment or the prepreg of the present embodiment and a metal foil. The metal-clad laminate preferably has a form in which a cured product of a prepreg (also referred to as a “cured product composite”) and a metal foil are laminated and adhered to each other, and is preferably used as a material for an electronic substrate. Examples of the metal foil include aluminum foil and copper foil, and among these, copper foil is preferable because it has low electrical resistance. The cured product composite to be combined with the metal foil may be one or more, and the metal foil is laminated on one side or both sides of the composite depending on the application and processed into a laminated plate. As a method for producing a laminated board, for example, a composite composed of a thermosetting resin composition and a base material (for example, the above-mentioned prepreg) is formed, and after laminating this with a metal foil, the thermosetting resin is produced. Examples thereof include a method of obtaining a laminated plate in which a cured product laminate and a metal foil are laminated by curing the composition. One of the particularly preferable uses of the laminated board is a printed wiring board. The printed wiring board preferably has at least a part of the metal foil removed from the metal-clad laminate.

プリント配線板
本実施形態のプリント配線板は、金属張積層板から金属箔の一部が除去されている。本実施形態のプリント配線板は、典型的には、上述した本発明のプリプレグを用いて、加圧加熱成型する方法で形成できる。基材としてはプリプレグに関して前述したのと同様のものが挙げられる。本実施形態のプリント配線板は、本実施形態の樹脂組成物を含むことにより、優れた耐熱性及び電気特性(低誘電率及び低誘電正接)を有し、更には環境変動に伴う電気特性の変動を抑制可能であり、更には優れた絶縁信頼性及び機械特性を有する。
Printed wiring board In the printed wiring board of the present embodiment, a part of the metal foil is removed from the metal-clad laminate. The printed wiring board of the present embodiment can typically be formed by a method of pressure heating molding using the prepreg of the present invention described above. Examples of the base material include those similar to those described above for the prepreg. The printed wiring board of the present embodiment has excellent heat resistance and electrical characteristics (low dielectric constant and low dielectric loss tangent) by containing the resin composition of the present embodiment, and further has electrical characteristics due to environmental changes. Fluctuations can be suppressed, and it also has excellent insulation reliability and mechanical properties.

以下に実施例を挙げて、本実施形態を詳細に説明するが、本実施形態は実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present embodiment will be described in detail with reference to examples, but the present embodiment is not limited to the examples.

ポリフェニレンエーテルの合成反応
次の反応を不活性ガスの雰囲気下で実施した。反応に使用する溶媒は、市販の試薬である。使用した原料及び試薬類は、以下のとおりである。
Synthesis reaction of polyphenylene ether The following reaction was carried out under the atmosphere of an inert gas. The solvent used in the reaction is a commercially available reagent. The raw materials and reagents used are as follows.

1.溶媒
トルエン:和光純薬製試薬特級品をそのまま使用した。
メチルエチルケトン:和光純薬製試薬特級品をそのまま使用した。
メタノール:和光純薬製試薬特級品をそのまま使用した。
2.開始剤:
ナイパーBMT:日本油脂製品をそのまま使用した。
3.原料ポリフェニレンエーテル
S202A(ポリスチレン換算数平均分子量16,000):旭化成株式会社製製品をそのまま使用した。
S202Aは、下記の構造を有する。
1. 1. Solvent Toluene: A special grade reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries was used as it was.
Methyl ethyl ketone: A special grade reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries was used as it was.
Methanol: A special grade reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries was used as it was.
2. 2. Initiator:
NOF BMT: NOF products were used as they were.
3. 3. Raw material Polyphenylene ether S202A (polystyrene equivalent number average molecular weight 16,000): A product manufactured by Asahi Kasei Corporation was used as it was.
S202A has the following structure.

4.原料フェノール(多官能/二官能フェノール)
4−1.式(2)の部分構造を含む価数a(a=3〜6)のフェノール類
1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタン:株式会社ADEKA製品(アデカスタブAO−30)をそのまま使用した。
4. Raw material phenol (polyfunctional / bifunctional phenol)
4-1. Phenols 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane having a valence of a (a = 3 to 6) containing a partial structure of the formula (2): ADEKA CORPORATION The product (ADEKA STAB AO-30) was used as it was.

4−2.式(2)の部分構造を含まない価数3のフェノール類
トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン:旭有機材製品をそのまま使用した。
4-2. Phenols tris (4-hydroxyphenyl) ethane having a valence of 3 not including the partial structure of the formula (2): Asahi organic material products were used as they were.

5.変性基原料
無水メタクリル酸:アルドリッチ試薬品をそのまま使用した。
ジメチルアミノピリジン:アルドリッチ試薬品をそのまま使用した。
5. Denatured group raw material Methacrylic anhydride: The Aldrich reagent product was used as it was.
Dimethylaminopyridine: The Aldrich reagent product was used as it was.

ポリフェニレンエーテルの同定・分析
1.数平均分子量測定
クロロホルム溶媒下、GPCにより数平均分子量測定を行った。数平均分子量は、標準ポリスチレンを用いた検量線に基づいて、ポリスチレン換算法により求めた。
2.NMR測定
重クロロホルムに、5質量%濃度となるように試料を溶解し、NMR測定を実施した。反応の進行は、多官能フェノールユニットの芳香族のピークと、水酸基のプロトンピークの比率から、水酸基ピークの減少により確認した。
3.溶融粘度
試料の20質量%メチルエチルケトン溶液200mlをビーカーに入れ、B型回転粘度計を用いて25℃で回転数30rpmで粘度を測定した。
Identification and analysis of polyphenylene ether 1. Number average molecular weight measurement The number average molecular weight was measured by GPC under chloroform solvent. The number average molecular weight was determined by the polystyrene conversion method based on the calibration curve using standard polystyrene.
2. 2. NMR measurement A sample was dissolved in deuterated chloroform to a concentration of 5% by mass, and NMR measurement was performed. The progress of the reaction was confirmed by the decrease of the hydroxyl group peak from the ratio of the aromatic peak of the polyfunctional phenol unit to the proton peak of the hydroxyl group.
3. 3. Melt Viscosity 200 ml of a 20 mass% methyl ethyl ketone solution of a sample was placed in a beaker, and the viscosity was measured at 25 ° C. and a rotation speed of 30 rpm using a B-type rotational viscometer.

4.平均末端官能基数
PPE一分子当たりの平均末端官能基数を以下の方法により求めた。すなわち、「高分子論文集,vol.51,No.7(1994),第480頁」記載の方法に準拠し、PPEの塩化メチレン溶液にテトラメチルアンモニウムハイドロオキシド溶液を加えることにより得られるサンプルの波長318nmにおける吸光度変化を紫外可視吸光光度計で測定した。この測定値から、PPEの末端変性の前後のフェノール性水酸基の数を求めた。また、上記1の方法により求めたPPEの数平均分子量と、PPEの質量とを用いてPPEの分子数(数平均分子数)を求めた。
これらの値から、下記数式(1)に従って、変性前後のPPE1分子当たりの平均フェノール性水酸基数を求めた。:
1分子当たりの平均フェノール性水酸基数
=フェノール性水酸基の数/数平均分子数・・・(1)
変性後の平均末端官能基数は、下記数式(2)に従って、変性後の平均末端官能基数を求めた。:
1分子当たりの平均末端官能基数
=変性前の平均フェノール性水酸基数−変性後の平均フェノール性水酸基数・・・(2)
4. Average number of terminal functional groups The average number of terminal functional groups per molecule of PPE was determined by the following method. That is, a sample obtained by adding a tetramethylammonium hydroxide solution to a methylene chloride solution of PPE in accordance with the method described in "Polymer Papers, vol.51, No. 7 (1994), p. 480". The change in absorbance at a wavelength of 318 nm was measured with an ultraviolet-visible absorptiometer. From this measured value, the number of phenolic hydroxyl groups before and after terminal denaturation of PPE was determined. Further, the number of molecules of PPE (number average number of molecules) was determined by using the number average molecular weight of PPE obtained by the above method 1 and the mass of PPE.
From these values, the average number of phenolic hydroxyl groups per PPE molecule before and after denaturation was determined according to the following mathematical formula (1). :
Average number of phenolic hydroxyl groups per molecule = number of phenolic hydroxyl groups / number average number of molecules ... (1)
For the average number of terminal functional groups after modification, the average number of terminal functional groups after modification was determined according to the following mathematical formula (2). :
Average number of terminal functional groups per molecule = average number of phenolic hydroxyl groups before modification-average number of phenolic hydroxyl groups after modification ... (2)

製造例1
ポリフェニレンエーテル1(PPE1)の合成
500mlの3つ口フラスコに、3方コックを付け、さらにジムロートと等圧滴下ロートを設置した。フラスコ内を窒素に置換した後、原料ポリフェニレンエーテルS202A100g、トルエン200g、多官能フェノールとして1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ブチルフェニル)ブタン12.8gを加えた。フラスコに温度計を設置し、マグネチックスターラーにて撹拌しながら、オイルバスにてフラスコを90℃に加熱し、原料ポリフェニレンエーテルを溶解させた。開始剤として、ベンゾイルペルオキシド、ベンゾイルm−メチルベンゾイルペルオキシド、m−トルイルペルオキシドの混合物の40%メタキシレン溶液(日油製:ナイパーBMT)の37.5gをトルエン87.5gに希釈し、等圧滴下ロートに仕込んだ。フラスコ内の温度を80℃まで降温させた後、開始剤溶液を、フラスコ内へ滴下開始し、反応を開始した。開始剤を2時間かけて滴下し、滴下後、再び90℃に昇温し,4時間撹拌を継続した。反応後、ポリマー溶液をメタノール中に滴下し、再沈させた後、溶液と濾別し、ポリマーを回収した。その後、これを真空下100℃で3時間乾燥させた。H−NMRにより、低分子フェノールがポリマー中に取り込まれ、水酸基のピークが消失していることを確認した。このH−NMR測定結果から、得られたポリマーは、下記式:
{式中、l、m及びnは、下記数平均分子量を満たすように任意に選択される数である}
で表されるような構造を有するポリフェニレンエーテル(以下、PPE1という)であると確認できた。GPC測定の結果、得られたPPE1のポリスチレン換算での分子量はMn=1,500であった。また、PPE1の20%メチルエチルケトン溶媒中での溶液粘度は125cPoiseであった。
Manufacturing example 1
Synthesis of polyphenylene ether 1 (PPE1) A 500 ml three-necked flask was provided with a three-way cock, and a Dimroth condenser and an isobaric dropping funnel were further installed. After replacing the inside of the flask with nitrogen, 100 g of the raw material polyphenylene ether S202A, 200 g of toluene, and 12.8 g of 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane as a polyfunctional phenol were added. It was. A thermometer was installed in the flask, and the flask was heated to 90 ° C. in an oil bath while stirring with a magnetic stirrer to dissolve the raw material polyphenylene ether. As an initiator, 37.5 g of a 40% metaxylene solution (Nippon Oil Co., Ltd .: Niper BMT) of a mixture of benzoyl peroxide, benzoyl m-methylbenzoyl peroxide, and m-toluyl peroxide was diluted to 87.5 g of toluene and added dropwise at isobaric pressure. I put it in the funnel. After lowering the temperature inside the flask to 80 ° C., the initiator solution was started dropping into the flask to start the reaction. The initiator was added dropwise over 2 hours, and after the addition, the temperature was raised to 90 ° C. again, and stirring was continued for 4 hours. After the reaction, the polymer solution was added dropwise to methanol, reprecipitated, and then filtered off from the solution to recover the polymer. Then, this was dried under vacuum at 100 ° C. for 3 hours. 1 It was confirmed by 1 H-NMR that low molecular weight phenol was incorporated into the polymer and the peak of the hydroxyl group disappeared. The polymer obtained from this 1 1 H-NMR measurement result has the following formula:
{In the formula, l, m and n are numbers arbitrarily selected to satisfy the following number average molecular weight}
It was confirmed that it was a polyphenylene ether (hereinafter referred to as PPE1) having a structure represented by. As a result of GPC measurement, the molecular weight of the obtained PPE1 in terms of polystyrene was Mn = 1,500. The solution viscosity of PPE1 in a 20% methyl ethyl ketone solvent was 125 cPoise.

変性ポリフェニレンエーテル1(変性PPE1)の合成
トルエン80g及び上記で合成したPPE1を26g混合して約85℃に加熱した。加熱された混合物へジメチルアミノピリジン0.55gを添加した。固体が全て溶解したと思われる時点で、溶解物へ無水メタクリル酸4.9gを徐々に添加した。得られた溶液を連続混合しながら85℃に3時間維持した。次いで、溶液を室温に冷却して、メタクリレート変性ポリフェニレンエーテルのトルエン溶液を得た。
溶液の一部を採取し、乾燥後H−NMR測定を実施した。ポリフェニレンエーテルの水酸基由来のピークが消失していたことから、反応が進行しているものと判断し、精製操作に移った。上記メタクリレート変性ポリフェニレンエーテルのトルエン溶液120gを、1Lビーカー中マグネチックスターラーで激しく撹拌したメタノール360g中に30分掛けて滴下した。得られた沈殿物を、メンブランフィルターで減圧濾過した後に乾燥し、38gのポリマーを得た。乾燥させたポリマーのH−NMR測定結果を図1に示す。4.5ppm付近のポリフェニレンエーテルの水酸基由来のピークが消失したこと、及び、5.75ppm付近にメタクリル基のオレフィン由来のピークの発現を確認した。また、GC測定により、ジメチルアミノピリジン、無水メタクリル酸、メタクリル酸由来のピークがほぼ消失していることから、NMRのメタクリル基由来のピークは、ポリフェニレンエーテル末端に結合しているメタクリル基のものと判断した。この結果から、得られたポリマーは、下記式:
{式中、l、m及びnは、下記数平均分子量を満たすように任意に選択される数である}
で表されるような構造を有する変性ポリフェニレンエーテル(以下、変性PPE1という)であると確認できた。
また、GPC測定の結果、得られた変性PPE1のポリスチレン換算での分子量はMn=1,600であった。また、変性PPE1の平均末端官能基数は、上記数式(2)に従って、2.5以上であることが算出された。さらに、変性PPE1の20%メチルエチルケトン溶媒中での溶液粘度は131cPoiseであった。
Synthesis of Modified Polyphenylene Ether 1 (Modified PPE1) 80 g of toluene and 26 g of PPE1 synthesized above were mixed and heated to about 85 ° C. 0.55 g of dimethylaminopyridine was added to the heated mixture. When all the solids seemed to be dissolved, 4.9 g of methacrylic anhydride was gradually added to the lysate. The resulting solution was maintained at 85 ° C. for 3 hours with continuous mixing. The solution was then cooled to room temperature to give a toluene solution of methacrylate-modified polyphenylene ether.
A part of the solution was collected, dried, and then 1 H-NMR measurement was carried out. Since the peak derived from the hydroxyl group of the polyphenylene ether had disappeared, it was judged that the reaction was proceeding, and the purification operation was started. 120 g of the above-mentioned toluene solution of methacrylate-modified polyphenylene ether was added dropwise to 360 g of methanol vigorously stirred with a magnetic stirrer in a 1 L beaker over 30 minutes. The obtained precipitate was filtered under reduced pressure with a membrane filter and then dried to obtain 38 g of a polymer. The 1 H-NMR measurement result of the dried polymer is shown in FIG. It was confirmed that the peak derived from the hydroxyl group of the polyphenylene ether at around 4.5 ppm disappeared and the peak derived from the olefin of the methacrylic group was expressed at around 5.75 ppm. In addition, since the peaks derived from dimethylaminopyridine, methacrylic anhydride, and methacrylic acid have almost disappeared by GC measurement, the peaks derived from the methacrylic group of NMR are those of the methacrylic group bonded to the polyphenylene ether terminal. It was judged. From this result, the obtained polymer has the following formula:
{In the formula, l, m and n are numbers arbitrarily selected to satisfy the following number average molecular weight}
It was confirmed that it was a modified polyphenylene ether (hereinafter referred to as modified PPE1) having a structure represented by.
Moreover, as a result of GPC measurement, the molecular weight of the obtained modified PPE1 in terms of polystyrene was Mn = 1,600. Further, the average number of terminal functional groups of the modified PPE1 was calculated to be 2.5 or more according to the above formula (2). Furthermore, the solution viscosity of the modified PPE1 in a 20% methyl ethyl ketone solvent was 131 cPoise.

樹脂組成物及びその硬化物の形成に使用される材料
PPE
・上記で得られた変性ポリフェニレンエーテル1(変性PPE1)
・末端メタクリル基変性PPE「製品名SA9000」
(Sabicイノベーティブプラスチックス社製、Mn:2756、末端官能基数:2.0個)
・「PPE S201A」(旭化成株式会社製、高分子量PPE、Mn22,000)
Material PPE used for forming resin compositions and cured products thereof
-Modified polyphenylene ether 1 (modified PPE1) obtained above.
-Terminal methacrylic acid modified PPE "Product name SA9000"
(Manufactured by Sabic Innovative Plastics, Mn: 2756, number of terminal functional groups: 2.0)
-"PPE S201A" (manufactured by Asahi Kasei Corporation, high molecular weight PPE, Mn22,000)

架橋剤
・TAIC(日本化成社製、分子量:249.7、不飽和二重結合数:3個)
・ポリブタジエン「製品名B−1000」
(日本曹達社製、Mn:1200、不飽和二重結合数:18.4個)
Crosslinker ・ TAIC (manufactured by Nihon Kasei Co., Ltd., molecular weight: 249.7, number of unsaturated double bonds: 3)
-Polybutadiene "Product name B-1000"
(Made by Nippon Soda, Mn: 1200, number of unsaturated double bonds: 18.4)

有機過酸化物
・ビス(1−tert−ブチルペルオキシ−1−メチルエチル)ベンゼン
「製品名パーブチルP」(日油社製)
Organic peroxide ・ Bis (1-tert-butylperoxy-1-methylethyl) benzene "Product name Perbutyl P" (manufactured by NOF CORPORATION)

熱可塑性樹脂
・水添スチレン系熱可塑性樹脂(SEBS)「製品名タフテックH1517」
(旭化成株式会社製、230℃及び2.16kgfの条件下でISO1133に従うメルトフローレイトMFR:3.0、Mw:約50,000、スチレン単位含有率:43質量%)
・水添スチレン系熱可塑性樹脂(SEBS)「製品名タフテックN504」
(旭化成株式会社製、230℃及び2.16kgfの条件下でISO1133に従うメルトフローレイトMFR:No Flow、Mw:約200,000、スチレン単位含有率:32質量%)
Thermoplastic Resin-Hydrogenated Styrene-based Thermoplastic Resin (SEBS) "Product Name Tough Tech H1517"
(Made by Asahi Kasei Corporation, melt flow rate according to ISO 1133 under the conditions of 230 ° C. and 2.16 kgf: 3.0, Mw: about 50,000, styrene unit content: 43% by mass)
-Hydrogenated styrene-based thermoplastic resin (SEBS) "Product name Tough Tech N504"
(Made by Asahi Kasei Corporation, melt flow rate according to ISO1133 under the conditions of 230 ° C. and 2.16 kgf: No Flow, Mw: about 200,000, styrene unit content: 32% by mass)

難燃剤
・デカブロモジフェニルエタン「製品名SAYTEX8010」(アルベマール社製)
Flame Retardant ・ Decabromodiphenylethane "Product name SAYTEX8010" (manufactured by Albemarle)

充填剤
・球状シリカ(龍森社製)
Filler ・ Spherical silica (manufactured by Ryumori Co., Ltd.)

基材
・Lガラスクロス
(旭シュエーベル社製、スタイル:2116)
Base material ・ L glass cloth (manufactured by Asahi Schebel, style: 2116)

評価方法
1.PPEの数平均分子量、熱可塑性樹脂の重量平均分子量
GPC分析を用い、分子量既知の標準ポリスチレンの溶出時間との比較によりPPEの数平均分子量、熱可塑性樹脂の重量平均分子量を求めた。具体的には、試料濃度0.2w/vol%(溶媒:クロロホルム)の測定試料を調製後、測定装置にはHLC−8220GPC(東ソー株式会社製)を用い、カラム:Shodex GPC KF−405L HQ×3(昭和電工株式会社製)、溶離液:クロロホルム、注入量:20μL、流量:0.3mL/min、カラム温度:40℃、検出器:RI、の条件下にて測定した。
Evaluation method 1. Number average molecular weight of PPE, weight average molecular weight of thermoplastic resin Using GPC analysis, the number average molecular weight of PPE and the weight average molecular weight of the thermoplastic resin were determined by comparison with the elution time of standard polystyrene having a known molecular weight. Specifically, after preparing a measurement sample having a sample concentration of 0.2 w / vol% (solvent: chloroform), HLC-8220 GPC (manufactured by Tosoh Corporation) is used as a measuring device, and a column: Shodex GPC KF-405L HQ × Measured under the conditions of 3 (manufactured by Showa Denko Co., Ltd.), eluent: chloroform, injection amount: 20 μL, flow rate: 0.3 mL / min, column temperature: 40 ° C., detector: RI.

2.ワニス粘度
各樹脂組成物とトルエンで調製した樹脂ワニス(固形分53質量%)200mlをビーカーに入れ、B型回転粘度計を用いて25℃で回転数30rpm、30秒の条件で粘度を測定した。測定された粘度を5段階で評価した。
5:50mPa・s〜150mPa・s
4:150mPa・s〜200mPa・s
3:200mPa・s〜300mPa・s
2:300mPa・s〜500mPa・s
1:500mPa・s〜1000mPa・s
2. 2. Varnish Viscosity 200 ml of resin varnish (solid content 53% by mass) prepared with each resin composition and toluene was placed in a beaker, and the viscosity was measured at 25 ° C. at 25 ° C. at 30 rpm and 30 seconds using a B-type rotational viscometer. .. The measured viscosity was evaluated on a 5-point scale.
5:50 mPa ・ s to 150 mPa ・ s
4: 150 mPa ・ s to 200 mPa ・ s
3: 200 mPa ・ s to 300 mPa ・ s
2: 300 mPa ・ s to 500 mPa ・ s
1: 500 mPa ・ s to 1000 mPa ・ s

3.含浸性
各樹脂組成物とトルエンで調製した樹脂ワニス(固形分53質量%)をバットに入れ、その上から、50mm角にカットしたLガラスクロス(旭シュエーベル社製、スタイル:2116)を載せ、ガラスクロスに樹脂ワニスが含浸する様子を目視で観察した。ガラスクロスへの樹脂ワニスの含浸性に応じて、5段階で評価した。
5:1分以内にガラスクロス全体に樹脂ワニスが含浸した場合
4:2分以内にガラスクロス全体に樹脂ワニスが含浸した場合
3:3分以内にガラスクロス全体に樹脂ワニスが含浸した場合
2:5分以内にガラスクロス全体に樹脂ワニスが含浸した場合
1:5分経っても、含浸が完了しない場合
3. 3. Impregnation property A resin varnish (solid content 53% by mass) prepared with each resin composition and toluene is put in a bat, and an L glass cloth (manufactured by Asahi Schebel, style: 2116) cut into 50 mm squares is placed on it. The appearance of the resin varnish impregnating the glass cloth was visually observed. The evaluation was made on a 5-point scale according to the impregnation property of the resin varnish into the glass cloth.
5: 1 When the entire glass cloth is impregnated with resin varnish within 4: 2 minutes When the entire glass cloth is impregnated with resin varnish 3: When the entire glass cloth is impregnated with resin varnish within 3 minutes 2: When the entire glass cloth is impregnated with resin varnish within 5 minutes 1: When impregnation is not completed even after 5 minutes

4.積層板の誘電率及び誘電正接(電気特性)
積層板の10GHzでの誘電率及び誘電正接を、空洞共振法にて測定した。測定装置としてネットワークアナライザー(N5230A、AgilentTechnologies社製)、及び関東電子応用開発社製の空洞共振器(Cavity Resornator CPシリーズ)を用いて測定した。後述の方法で作製した厚さ約0.5mmの積層板を、ガラスクロスの経糸が長辺となるように、幅約2mm、長さ50mmの大きさに切り出した。次に、105℃±2℃のオーブンに入れ2時間乾燥させた後、23℃相対湿度50±5%の環境下に96±5時間静置した。その後、23℃、相対湿度50±5%の環境下で上記測定装置を用いることにより、誘電率及び誘電正接を測定し、5段階で評価した。
5:誘電率3.0以上3.3以下、且つ、誘電正接0.0020超0.0024以下
4:誘電率3.0以上3.3以下、且つ、誘電正接0.0024超0.0026以下
3:誘電率3.0以上3.3以下、且つ、誘電正接0.0026超0.0030以下
2:誘電率3.0以上3.3以下、且つ、誘電正接0.0030超0.0035以下
1:誘電率3.3超、且つ、誘電正接0.0035超
4. Dielectric constant and dielectric loss tangent of laminated plate (electrical characteristics)
The permittivity and dielectric loss tangent of the laminated plate at 10 GHz were measured by the cavity resonance method. The measurement was performed using a network analyzer (N5230A, manufactured by Agilent Technologies) and a cavity resonator (Cavity Resonator CP series) manufactured by Kanto Electronics Applied Development Co., Ltd. as a measuring device. A laminated plate having a thickness of about 0.5 mm produced by the method described later was cut into a size having a width of about 2 mm and a length of 50 mm so that the warp threads of the glass cloth had long sides. Next, it was placed in an oven at 105 ° C. ± 2 ° C. and dried for 2 hours, and then allowed to stand in an environment at 23 ° C. and a relative humidity of 50 ± 5% for 96 ± 5 hours. Then, the dielectric constant and the dielectric loss tangent were measured by using the above measuring device in an environment of 23 ° C. and a relative humidity of 50 ± 5%, and evaluated in 5 steps.
5: Permittivity 3.0 or more and 3.3 or less and dielectric loss tangent 0.0020 or more and 0.0024 or less 4: Permittivity 3.0 or more and 3.3 or less and dielectric loss tangent 0.0024 or more and 0.0026 or less 3: Dielectric constant 3.0 or more and 3.3 or less and dielectric loss tangent 0.0026 or more and 0.0030 or less 2: Dielectric constant 3.0 or more and 3.3 or less and dielectric loss tangent 0.0030 or more and 0.0035 or less 1: Permittivity over 3.3 and dielectric loss tangent over 0.0035

5.積層板のガラス転移温度(耐熱性)
積層板の動的粘弾性を測定し、tanδが最大となる温度をガラス転移温度(Tg)として求めた。測定装置に動的粘弾性装置(RHEOVIBRON モデルDDV−01FP、ORIENTEC社製)を用いた。後述の方法で作製した厚さ約0.3mmの積層板を、ガラスクロスの経糸が長辺となるように、長さ約35mm、幅約5mmmに切り出して、試験片とし、引張モード、周波数:10rad/sの条件で測定を行った。
Tgの値により、5段階で評価した。
5:200℃超
4:190℃超200℃以下
3:180℃超190℃以下
2:170℃超180℃以下
1:160℃超170℃以下
5. Laminated glass transition temperature (heat resistance)
The dynamic viscoelasticity of the laminated board was measured, and the temperature at which tan δ was maximized was determined as the glass transition temperature (Tg). A dynamic viscoelastic device (RHEOVIBRON model DDV-01FP, manufactured by ORIENTEC) was used as the measuring device. A laminated plate having a thickness of about 0.3 mm produced by the method described later is cut into a length of about 35 mm and a width of about 5 mm so that the warp of the glass cloth has a long side, and used as a test piece. The measurement was performed under the condition of 10 rad / s.
It was evaluated on a 5-point scale according to the value of Tg.
5: Over 200 ° C 4: Over 190 ° C and below 200 ° C 3: Over 180 ° C and below 190 ° C 2: Over 170 ° C and below 180 ° C 1: Over 160 ° C and below 170 ° C

6.積層板の銅箔引き剥がし強さ(ピール強度 N/mm)
銅張積層板の銅箔を一定速度で引き剥がす際の応力を測定した。後述の方法で作製した、35μm厚の銅箔(古川電気工業株式会社製、GTS−MP箔)を用いた銅張積層板を、幅15mm×長さ150mmのサイズに切り出し、オートグラフ(AG−5000D、株式会社島津製作所製)を用い、銅箔を除去面に対し90℃の角度で50mm/分の速度で引き剥がした際の荷重の平均値を測定し、5回の測定の平均値を求め、5段階で評価した。
5:1.N/mm超
4:0.80N/mm超1.0N/mm以下
3:0.70N/mm超0.80N/mm以下
2:0.5N/mm超0.70N/mm以下
1:0.5N/mm以下
6. Copper foil peeling strength of laminated board (peeling strength N / mm)
The stress when the copper foil of the copper-clad laminate was peeled off at a constant speed was measured. A copper-clad laminate using a 35 μm thick copper foil (GTS-MP foil manufactured by Furukawa Denki Kogyo Co., Ltd.) produced by the method described later was cut into a size of 15 mm in width × 150 mm in length, and an autograph (AG-) was cut out. Using 5000D, manufactured by Shimadzu Corporation), measure the average value of the load when the copper foil is peeled off at an angle of 90 ° C. at a speed of 50 mm / min, and calculate the average value of the five measurements. It was calculated and evaluated on a 5-point scale.
5: 1. Over N / mm 4: Over 0.80 N / mm Over 1.0 N / mm 3: Over 0.70 N / mm Over 0.80 N / mm 2: Over 0.5 N / mm Over 0.70 N / mm 1: 0. 5N / mm or less

実施例1
表1に示される組成及び溶剤に従って、トルエン287質量部に対し、熱可塑性樹脂を添加し、攪拌、溶解させ、次いで、難燃剤、球状シリカ、及び変性PPE1をそれぞれ添加し、変性PPE1が溶解するまで攪拌を継続した(固形分濃度53質量%)。次いで、溶解物へ架橋剤及び有機過酸化物をそれぞれ添加し、十分に攪拌して、ワニスを得た。このワニスに、Lガラスクロスを含浸させた後、所定のスリットに通すことにより余分なワニスを掻き落とし、105℃の乾燥オーブンにて所定時間乾燥させ、トルエンを除去することにより、プリプレグを得た。このプリプレグを所定サイズに切り出し、その重量と同サイズのガラスクロスの重量を比較することで、プリプレグにおける樹脂組成物の固形分の含有量を算出したところ、58質量%であった。このプリプレグを所定枚数重ね、更にその重ね合わせたプリプレグの両面に銅箔(古川電気工業株式会社製、厚み35μm、GTS−MP箔)を重ね合わせた状態で、真空プレスを行うことにより、銅張積層板を得た。この真空プレスの工程では、先ず、室温から昇温速度3℃/分で加熱しながら圧力10kg/cmの条件を採用し、次いで、130℃まで達した後に、昇温速度3℃/分で加熱しながら圧力40kg/cmの条件を採用した。温度が200℃に達した後に、温度を200℃に維持したまま圧力40kg/cm、及び時間60分間の条件を採用した。次に、上記銅張積層板から、エッチングにより銅箔を除去することにより積層板を得た。
Example 1
According to the composition and solvent shown in Table 1, a thermoplastic resin is added to 287 parts by mass of toluene, stirred and dissolved, and then a flame retardant, spherical silica and modified PPE1 are added, respectively, to dissolve the modified PPE1. Stirring was continued until (solid content concentration 53% by mass). Next, a cross-linking agent and an organic peroxide were added to the lysate, and the mixture was sufficiently stirred to obtain a varnish. After impregnating this varnish with L glass cloth, excess varnish was scraped off by passing it through a predetermined slit, dried in a drying oven at 105 ° C. for a predetermined time, and toluene was removed to obtain a prepreg. .. The solid content of the resin composition in the prepreg was calculated by cutting out the prepreg to a predetermined size and comparing the weight of the glass cloth with the weight of the glass cloth, which was 58% by mass. A predetermined number of these prepregs are stacked, and copper foil (manufactured by Furukawa Denki Kogyo Co., Ltd., thickness 35 μm, GTS-MP foil) is superposed on both sides of the superposed prepreg, and then vacuum pressed to perform copper tensioning. A laminated board was obtained. In this vacuum pressing process, first, the condition of a pressure of 10 kg / cm 2 is adopted while heating from room temperature at a heating rate of 3 ° C./min, and then after reaching 130 ° C., the heating rate is 3 ° C./min. The condition of pressure 40 kg / cm 2 was adopted while heating. After the temperature reached 200 ° C., the conditions of a pressure of 40 kg / cm 2 and a time of 60 minutes were adopted while maintaining the temperature at 200 ° C. Next, a laminated plate was obtained by removing the copper foil from the copper-clad laminate by etching.

実施例2及び3と比較例1及び2
樹脂組成及び/又は基材を表1に示すとおりに変更したこと以外は実施例1と同じ方法に従って、実施例2と比較例1及び2において樹脂組成物、ワニス及びプリプレグをそれぞれ得て、評価した。
Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2
The resin composition, varnish, and prepreg were obtained and evaluated in Example 2 and Comparative Examples 1 and 2, respectively, according to the same method as in Example 1 except that the resin composition and / or the base material was changed as shown in Table 1. did.

Claims (14)

(a)下記式(1):
{式中、
Xは、a価の任意の連結基であり、aは2.5以上の数であり、
は、各々独立に任意の置換基であり、kは各々独立に1〜4の整数であり、k個あるRのうちの少なくとも1つは、下記式(2):
(式中、R11は、各々独立にC1−8のアルキル基であり、R12は、各々独立にC1−8のアルキレン基であり、bは各々独立に0又は1であり、R13は、水素原子、C1−8のアルキル基又はフェニル基のいずれかを示し、かつ前記アルキル基、アルキレン基及びフェニル基は、C1−8の条件を満たす限度で置換基を有してよい)
で表される部分構造を含み、
Yは、各々独立に下記式(3):
(式中、R21は、各々独立にC1−6の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、R22は、各々独立に水素原子又はC1−6の飽和又は不飽和の炭化水素基であり、かつ前記飽和又は不飽和の炭化水素基はC1−6の条件を満たす限度で置換基を有していてもよい)
で表される構造を有する2価の連結基であり、nはYの繰り返し数を表し、各々独立に1〜200の整数であり、
Lは、任意の2価の連結基、又は単結合であり、かつ
Aは、各々独立に、炭素−炭素二重結合及び/又はエポキシ結合を含有する置換基を示す}
で表される構造を有し、かつ数平均分子量が500〜8,000であるポリフェニレンエーテル成分A;
(b)架橋剤;及び
(c)有機過酸化物;
を含む樹脂組成物。
(A) The following formula (1):
{In the ceremony,
X is an arbitrary linking group of a value, and a is a number of 2.5 or more.
R 5 is any substituent independently, k are each independently 1 to 4 integer, at least one of the k is R 5 is represented by the following formula (2):
(In the formula, R 11 is an alkyl group of C 1-8 independently, R 12 is an alkylene group of C 1-8 independently, b is 0 or 1 independently, and R Reference numeral 13 denotes a hydrogen atom, either an alkyl group of C 1-8 or a phenyl group, and the alkyl group, the alkylene group and the phenyl group have a substituent to the extent that the condition of C 1-8 is satisfied. Good)
Including the partial structure represented by
Y is independently expressed by the following equation (3):
(In the formula, R 21 is an independently saturated or unsaturated hydrocarbon group of C 1-6 , and R 22 is an independently saturated or unsaturated hydrocarbon group of C 1-6. And the saturated or unsaturated hydrocarbon group may have a substituent as long as the condition of C 1-6 is satisfied).
It is a divalent linking group having a structure represented by, n represents the number of repetitions of Y, and each is an integer of 1 to 200 independently.
L is an arbitrary divalent linking group or a single bond, and A is a substituent containing a carbon-carbon double bond and / or an epoxy bond, respectively}.
Polyphenylene ether component A having a structure represented by and having a number average molecular weight of 500 to 8,000;
(B) Crosslinker; and (c) Organic peroxide;
Resin composition containing.
前記架橋剤が、炭素−炭素不飽和二重結合を1分子中に平均2個以上有し、前記架橋剤の数平均分子量が4,000以下であり、かつ前記ポリフェニレンエーテル成分A:前記架橋剤の重量比が、25:75〜95:5である、請求項1に記載の樹脂組成物。 The cross-linking agent has an average of two or more carbon-carbon unsaturated double bonds in one molecule, the number average molecular weight of the cross-linking agent is 4,000 or less, and the polyphenylene ether component A: the cross-linking agent. The resin composition according to claim 1, wherein the weight ratio of the resin composition is 25:75 to 95: 5. 前記架橋剤が、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、及びポリブタジエンから成る群より選択される少なくとも一種の化合物を含む、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the cross-linking agent comprises at least one compound selected from the group consisting of triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, and polybutadiene. 前記有機過酸化物の1分間半減期温度が、155℃〜185℃である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the one-minute half-life temperature of the organic peroxide is 155 ° C to 185 ° C. 前記有機過酸化物の含有量が、前記ポリフェニレンエーテル成分Aと前記架橋剤の合計質量100質量部を基準として、0.05質量部〜5質量部である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 Any one of claims 1 to 4, wherein the content of the organic peroxide is 0.05 parts by mass to 5 parts by mass based on the total mass of 100 parts by mass of the polyphenylene ether component A and the cross-linking agent. The resin composition according to the section. 前記樹脂組成物が、熱可塑性樹脂をさらに含み、前記熱可塑性樹脂が、ビニル芳香族化合物とオレフィン系アルケン化合物とのブロック共重合体及びその水素添加物、並びにビニル芳香族化合物の単独重合体から成る群より選択される少なくとも1種であり、かつ前記ブロック共重合体又はその水素添加物の前記ビニル芳香族化合物由来の単位の含有率が20質量%以上である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 The resin composition further comprises a thermoplastic resin, and the thermoplastic resin is derived from a block copolymer of a vinyl aromatic compound and an olefin-based alkene compound and a hydrogenated product thereof, and a homopolymer of the vinyl aromatic compound. Any of claims 1 to 5, which is at least one selected from the group consisting of the above, and the content of the block copolymer or the hydrogenated product thereof from the vinyl aromatic compound is 20% by mass or more. The resin composition according to item 1. 前記熱可塑性樹脂の重量平均分子量が、10,000〜300,000である、請求項6に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 6, wherein the thermoplastic resin has a weight average molecular weight of 10,000 to 300,000. 前記熱可塑性樹脂の含有量が、前記ポリフェニレンエーテル成分A及び前記架橋剤の合計質量100質量部を基準として、2質量部〜20質量部である、請求項6又は7に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 6 or 7, wherein the content of the thermoplastic resin is 2 parts by mass to 20 parts by mass based on the total mass of 100 parts by mass of the polyphenylene ether component A and the cross-linking agent. 前記樹脂組成物が、難燃剤をさらに含み、かつ前記難燃剤が、前記樹脂組成物の硬化後に前記樹脂組成物中で他の含有成分と相溶しない、請求項1〜8のいずれか1項に記載の樹脂組成物。 Any one of claims 1 to 8, wherein the resin composition further contains a flame retardant, and the flame retardant is incompatible with other contained components in the resin composition after curing of the resin composition. The resin composition according to. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含む、電子回路基板材料。 An electronic circuit board material containing the resin composition according to any one of claims 1 to 9. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の樹脂組成物を含む、樹脂フィルム。 A resin film containing the resin composition according to any one of claims 1 to 9. 基材と、請求項1〜9のいずれか1項に記載の樹脂組成物との複合体である、プリプレグ。 A prepreg that is a composite of a base material and the resin composition according to any one of claims 1 to 9. 前記基材がガラスクロスである、請求項12に記載のプリプレグ。 The prepreg according to claim 12, wherein the base material is glass cloth. 請求項11に記載の樹脂フィルム、又は請求項12若しくは13に記載のプリプレグの硬化物と、金属箔との積層体。 A laminate of the resin film according to claim 11 or the cured product of the prepreg according to claim 12 or 13 and a metal foil.
JP2019028391A 2019-02-20 2019-02-20 Polyphenylene ether-containing resin composition Active JP7202920B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019028391A JP7202920B2 (en) 2019-02-20 2019-02-20 Polyphenylene ether-containing resin composition
CN202010106739.6A CN111592751B (en) 2019-02-20 2020-02-19 Polyphenylene ether-containing resin composition
TW109105291A TWI735163B (en) 2019-02-20 2020-02-19 Resin composition containing polyphenylene ether

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019028391A JP7202920B2 (en) 2019-02-20 2019-02-20 Polyphenylene ether-containing resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020132764A true JP2020132764A (en) 2020-08-31
JP7202920B2 JP7202920B2 (en) 2023-01-12

Family

ID=72180151

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019028391A Active JP7202920B2 (en) 2019-02-20 2019-02-20 Polyphenylene ether-containing resin composition

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7202920B2 (en)
CN (1) CN111592751B (en)
TW (1) TWI735163B (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112592554B (en) * 2020-12-15 2022-11-29 广东生益科技股份有限公司 Circuit material and printed circuit board

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005073264A1 (en) * 2004-01-30 2005-08-11 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Curable resin composition
JP2007308685A (en) * 2006-03-15 2007-11-29 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Polyvinyl benzyl ether compound, curable resin composition containing the same and curable film
US20080171817A1 (en) * 2007-01-17 2008-07-17 Edward Norman Peters Poly(arylene ether) compositions and articles
US9051465B1 (en) * 2012-02-21 2015-06-09 Park Electrochemical Corporation Thermosetting resin composition containing a polyphenylene ether and a brominated fire retardant compound
US20160102174A1 (en) * 2013-06-03 2016-04-14 Polyone Corporation Low molecular weight polyphenylene ether prepared without solvents
JP2018168347A (en) * 2017-08-25 2018-11-01 新日鉄住金化学株式会社 Curable resin composition, cured product of the same, curable composite material, metal foil with resin, and varnish for circuit board material

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7413791B2 (en) * 2003-01-28 2008-08-19 Matsushita Electric Works, Ltd. Poly (phenylene ether) resin composition, prepreg, and laminated sheet
TWI510517B (en) * 2013-04-30 2015-12-01 Ind Tech Res Inst Polyphenylene ether oligomer and article employing the same
KR101710854B1 (en) * 2014-04-04 2017-02-27 히타치가세이가부시끼가이샤 Polyphenylene ether derivative having n-substituted maleimide group, and heat curable resin composition, resin varnish, prepreg, metal-clad laminate, and multilayer printed wiring board using same
JP6506385B2 (en) * 2015-02-19 2019-04-24 京セラ株式会社 Resin composition, prepreg, metal-clad laminate and wiring board
CN106609031B (en) * 2015-10-22 2018-11-27 广东生益科技股份有限公司 A kind of polyphenyl ether resin composition and prepreg, laminate and printed circuit board containing it
TWI721236B (en) * 2017-03-28 2021-03-11 日商京瓷股份有限公司 Copper foil, copper foil laminated board and wiring board with adhesive

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005073264A1 (en) * 2004-01-30 2005-08-11 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Curable resin composition
JP2007308685A (en) * 2006-03-15 2007-11-29 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Polyvinyl benzyl ether compound, curable resin composition containing the same and curable film
US20080171817A1 (en) * 2007-01-17 2008-07-17 Edward Norman Peters Poly(arylene ether) compositions and articles
US9051465B1 (en) * 2012-02-21 2015-06-09 Park Electrochemical Corporation Thermosetting resin composition containing a polyphenylene ether and a brominated fire retardant compound
US20160102174A1 (en) * 2013-06-03 2016-04-14 Polyone Corporation Low molecular weight polyphenylene ether prepared without solvents
JP2018168347A (en) * 2017-08-25 2018-11-01 新日鉄住金化学株式会社 Curable resin composition, cured product of the same, curable composite material, metal foil with resin, and varnish for circuit board material

Also Published As

Publication number Publication date
TWI735163B (en) 2021-08-01
CN111592751B (en) 2023-09-29
CN111592751A (en) 2020-08-28
JP7202920B2 (en) 2023-01-12
TW202035564A (en) 2020-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2021147486A (en) Polyphenylene ether resin composition
JP5274721B2 (en) Curable resin composition
JP6172520B2 (en) Resin composition, prepreg, metal-clad laminate, and printed wiring board
JP7081950B2 (en) Resin composition, prepreg, metal-clad laminate, and printed wiring board
JP6307236B2 (en) Curable resin composition, cured product, electrical / electronic component and circuit board material
JP2020105352A (en) Curable resin composition, prepreg, metal-clad laminate, printed wiring board
JP6062667B2 (en) Curable resin composition
JP2020200427A (en) Polyphenylene ether-containing resin composition
KR20220024148A (en) Resin composition, prepreg, resin-added film, resin-added metal foil, metal clad laminate, and wiring board
JP7339025B2 (en) Polyphenylene ether-containing resin composition
JP7202920B2 (en) Polyphenylene ether-containing resin composition
JP7308082B2 (en) Polyphenylene ether-containing resin composition
JP7328801B2 (en) Polyphenylene ether-containing resin composition
JP2020200434A (en) Polyphenylene ether-containing resin composition
JP2020132758A (en) Polyphenylene ether-containing resin composition
JP2020139124A (en) Polyphenylene ether-containing resin composition and electronic circuit board material
JP7462399B2 (en) Polyphenylene ether-containing printed wiring board
JP2001019844A (en) Curable polyphenylene ether resin composition
TWI724783B (en) Resin composition containing polyphenylene ether
JP2014198778A (en) Polyphenylene ether composition
JP6219112B2 (en) PPE-containing resin composition
JP2021167372A (en) Resin composition containing polyphenylene ether
JP2021167371A (en) Resin cured material, metal-clad laminate board, and printed circuit board
JP2021181546A (en) Modified polyphenylene ether, method for producing the same, thermosetting composition, prepreg, and laminate
CN115960438A (en) Resin composition, prepreg and application of prepreg in laminated board, copper-clad plate and wiring board

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211101

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221004

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221220

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221226

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7202920

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150