JP2020056863A - 表面微細凹凸シート - Google Patents
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Abstract
【課題】殺菌もしくは抗菌のための薬品を使用しなくても物品表面の抗菌効果に優れ、また、結露（湿気）による菌の増加を抑制し、抗菌性を長時間保持することが可能であり、強度にも優れ、さらに光の拡散性を有し、光拡散シートとしても使用可能な表面微細凹凸シートを提供する。【解決手段】一方の表面に不規則な波状凹凸パターンを有する表面微細凹凸シート１０Ａであって、波状凹凸パターンの凸条部１１ａの平均ピッチが２０μｍを超え１００μｍ以下であり、凸条部１１ａのアスペクト比が０．０５〜１である。【選択図】図１
Description
本発明は、抗菌、除菌効果を有するシートに関する。
空調設備、空気清浄器、冷蔵庫等の家電製品は、周辺に比べて湿度が高くなりやすい部分を有することがあるため、長期間使用すると、そのような部分に真菌、細菌、バクテリア等が増殖し、人体に悪影響を与えることがある。そのため、家電製品には抗菌、殺菌効果が付与されることが多い。
特許文献１には、抗菌作用を有する抗菌剤として例えば銀イオンを担持した銀ゼオライト等の化合物やカテキンやヒノキチオール等の天然抗菌剤等を塗布やコーティングすることによる抗菌効果について記載されている（特許文献１参照。）。
特許文献１には、抗菌作用を有する抗菌剤として例えば銀イオンを担持した銀ゼオライト等の化合物やカテキンやヒノキチオール等の天然抗菌剤等を塗布やコーティングすることによる抗菌効果について記載されている（特許文献１参照。）。
特許文献１に記載の抗菌処理では、抗菌剤の殺菌性もしくは抗菌性の効果を有効に保持、発揮させるために、その表面に抗菌剤を高濃度で使用することが必要となるため、人体への影響が懸念される。また、特許文献１に記載の抗菌処理では、結露（湿気）による菌の増加を抑制することが困難であり、且つ、長時間使用すると抗菌剤が表面から剥離し、抗菌効果が低下することがあるという課題を本発明者等は見出した。また、特許文献１に記載の抗菌処理によっては、強度が劣る場合があるという課題も本発明者等は見出した。さらには、特許文献１に記載の抗菌処理を建物の内壁等の建材に用いた場合、光の拡散性が不十分で、電灯等の室内光が部屋全体を均一に明るく出来ない場合があるという課題も本発明者等は見出した。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、殺菌もしくは抗菌のための薬品を使用しなくても物品表面の抗菌効果に優れ、また、結露（湿気）による菌の増加を抑制し、抗菌性を長時間保持することが可能であり、強度にも優れ、さらに光の拡散性を有し、光拡散シートとしても使用可能な表面微細凹凸シートの提供を目的とする。
本発明は以下の構成を有する。
［１］ 一方の表面に不規則な波状凹凸パターンを有する表面微細凹凸シートであって、前記波状凹凸パターンの凸条部の平均ピッチが２０μｍを超え１００μｍ以下であり、前記凸条部のアスペクト比が０．０５〜１であることを特徴とする表面微細凹凸シート。
［２］ 前記平均ピッチが２５〜５０μｍである、［１］に記載の表面微細凹凸シート。
［３］ 光拡散性シートである、［１］又は［２］に記載の表面微細凹凸シート。
［１］ 一方の表面に不規則な波状凹凸パターンを有する表面微細凹凸シートであって、前記波状凹凸パターンの凸条部の平均ピッチが２０μｍを超え１００μｍ以下であり、前記凸条部のアスペクト比が０．０５〜１であることを特徴とする表面微細凹凸シート。
［２］ 前記平均ピッチが２５〜５０μｍである、［１］に記載の表面微細凹凸シート。
［３］ 光拡散性シートである、［１］又は［２］に記載の表面微細凹凸シート。
本発明によれば、抗菌効果が高く、結露による菌の増加を抑制でき、抗菌性を長時間保持することが可能であり、強度にも優れ、さらに光の拡散にも優れ、光拡散シートとしても使用可能な表面微細凹凸シートを提供できる。
本発明は、一方の表面に不規則な波状凹凸パターンを有する表面微細凹凸シートであって、前記波状凹凸パターンの凸条部の平均ピッチが２０μｍを超え１００μｍ以下であり、前記凸条部のアスペクト比が０．０５〜１である表面微細凹凸シートに関する。当該シートは、（１）抗菌効果に優れ、（２）結露による菌の増加が抑制され、（３）長時間の抗菌性保持機能を有し、（４）強度に優れ、（５）光の拡散性に優れる、という効果を有する。
「不規則な波状凹凸パターン」とは、表面微細凹凸シートの法線方向に平行な少なくとも一つの面に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な微細な波状の凹凸形状である下記のパターンのことをいう。
「不規則な波状凹凸パターン」とは、表面微細凹凸シートの法線方向に平行な少なくとも一つの面に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な微細な波状の凹凸形状である下記のパターンのことをいう。
波状凹凸パターン形成面に沿って筋状に延びる複数の凸条部と、該複数の凸条部間の複数の凹条部とが、波状凹凸パターン形成面に沿う一方向に交互に繰り返されるパターンを少なくとも有し、以下の（ａ）および（ｂ）の特徴を有するパターン。
なお、波状凹凸パターンでは、少なくとも、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部と凹条部とが交互に繰り返される上記一方向（以下、「凸条部の配列方向」ともいう。）に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な波状の凹凸形状となる。
なお、波状凹凸パターンでは、少なくとも、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部と凹条部とが交互に繰り返される上記一方向（以下、「凸条部の配列方向」ともいう。）に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な波状の凹凸形状となる。
（ａ）各凸条部が蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凸条部の稜線が蛇行し、隣接する凸条部の稜線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に稜線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の稜線が途中で枝分かれしたり、複数の稜線が途中で合一していてもよい。
（ｂ）各凹条部が蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部の谷線が蛇行し、隣接する凹条部の谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。
（ｂ）各凹条部が蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部の谷線が蛇行し、隣接する凹条部の谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。
波状凹凸パターンでは、上記切断面における各凸条部の縦断面形状（表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断される切断面における形状。）は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。
詳しくは後述するが、波状凹凸パターンは、１軸延伸フィルム（１軸方向収縮フィルム）からなる加熱収縮性樹脂フィルムを加熱収縮することにより形成されるパターンである。
なお、本明細書において、平滑とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の方法により測定される中心線平均粗さが０．１μｍ以下であることをいう。
本明細書において、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸方向とは、それぞれ表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンの延在方向、配列方向、法線方向を示す。
＜実施形態例＞
〔表面微細凹凸シート〕
図１は、本実施形態例の表面微細凹凸シートを模式的に示す斜視図である。
本実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａは、波状凹凸パターン形成面１１に、先に説明した波状凹凸パターンに該当する波状凹凸パターン（１Ａ）が形成されている。
図２は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの、「波状凹凸パターン形成面」の光学顕微鏡画像である。図３は、波状凹凸パターン形成面の原子間力顕微鏡による三次元画像である。
図４は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン（１Ａ）を示すものであって、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部の配列方向に沿って切断した縦断面の模式図である。図４は、図１においてＸ軸に対して垂直となるように（Ｙ軸Ｚ軸が形成する面に対して平行となるように）切断して得られた断面の模式図ともいえる。
図４に示すように、凸条部１１ａの上記縦断面形状は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。また、各凸条部１１ａの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。また、各凸条部１１ａの上記縦断面形状において、先端側と基端側とを結ぶ線は、先端側から基端側に向けて滑らかに連続的に下降している。また、各凸条部１１ａは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部１１ａの延在方向（筋状に延びている方向）に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部１１ａにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、隣り合う凸条部１１ａ間の各凹条部において、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
〔表面微細凹凸シート〕
図１は、本実施形態例の表面微細凹凸シートを模式的に示す斜視図である。
本実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａは、波状凹凸パターン形成面１１に、先に説明した波状凹凸パターンに該当する波状凹凸パターン（１Ａ）が形成されている。
図２は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの、「波状凹凸パターン形成面」の光学顕微鏡画像である。図３は、波状凹凸パターン形成面の原子間力顕微鏡による三次元画像である。
図４は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン（１Ａ）を示すものであって、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部の配列方向に沿って切断した縦断面の模式図である。図４は、図１においてＸ軸に対して垂直となるように（Ｙ軸Ｚ軸が形成する面に対して平行となるように）切断して得られた断面の模式図ともいえる。
図４に示すように、凸条部１１ａの上記縦断面形状は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。また、各凸条部１１ａの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。また、各凸条部１１ａの上記縦断面形状において、先端側と基端側とを結ぶ線は、先端側から基端側に向けて滑らかに連続的に下降している。また、各凸条部１１ａは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部１１ａの延在方向（筋状に延びている方向）に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部１１ａにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、隣り合う凸条部１１ａ間の各凹条部において、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
図５は、本発明の表面微細凹凸シートの別の実施形態を模式的に示す拡大斜視図である。本実施形態例の表面微細凹凸シート２０Ａは、波状パターン形成面２１に先に説明した波状凹凸パターンに該当する波状凹凸パターン（２Ａ）が形成されている。波状凹凸パターン（２Ａ）も厳密には、各凸条部２１ａは上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部１１ａの延在方向（筋状に延びている方向）に沿って変化しており、一定でないが、変化の度合いは図１の波状凹凸パターン（１Ａ）と比較して小さく、規則的な形状に近い。
波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ａの平均ピッチは、２０μｍを超え１００μｍ以下であることが好ましく、２２〜７５μｍであることがより好ましく、２５〜５０μｍであることがさらに好ましく、３０〜４５μｍであることが特に好ましい。平均ピッチが上記範囲の下限値以上であると、表面微細凹凸シート１０Ａを容易に製造でき、また、長時間使用した場合に波状凹凸パターンが付着物等で平滑化することによる除菌・抗菌・光の拡散効果の低下が起こりにくい。平均ピッチが上記範囲の上限値以下であると、後述する除菌・抗菌効果が得られやすい。
なお、平均ピッチは、図２のような、凸条部１１ａが２０本以上含まれる波状凹凸パターン形成面１１の平面画像を得て、隣り合う凸条部１１ａの２０本分について、凸条部１１ａの配列方向に沿う長さを５箇所測定し、測定値の平均値を２０で割ることにより求めることができる。この平均ピッチは、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面における１００箇所の凸条部１１ａのピッチを平均した値ともいえる。
また、平均ピッチは、次の方法でも求められる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面１１の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、たとえば特開２００８−３０２５９１号公報（特許第４６８３０１１号公報）等に記載されており、これを参照できる。なお、該公報の段落［００２４］にも記載のとおり、当該方法で求められる最頻ピッチと、上記平均ピッチは、同等に扱うことができる。
なお、平均ピッチは、図２のような、凸条部１１ａが２０本以上含まれる波状凹凸パターン形成面１１の平面画像を得て、隣り合う凸条部１１ａの２０本分について、凸条部１１ａの配列方向に沿う長さを５箇所測定し、測定値の平均値を２０で割ることにより求めることができる。この平均ピッチは、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面における１００箇所の凸条部１１ａのピッチを平均した値ともいえる。
また、平均ピッチは、次の方法でも求められる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面１１の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、たとえば特開２００８−３０２５９１号公報（特許第４６８３０１１号公報）等に記載されており、これを参照できる。なお、該公報の段落［００２４］にも記載のとおり、当該方法で求められる最頻ピッチと、上記平均ピッチは、同等に扱うことができる。
波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ａの平均ピッチに対する平均高さの比、すなわちアスペクト比（平均高さ／平均ピッチ）は、０．０５〜１であることが好ましく、０．０７〜０．８であることがより好ましく、０．１〜０．６であることがさらに好ましい。アスペクト比が上記範囲の下限値以上であると、波状凹凸パターン（１Ａ）により抗菌・除菌・光の拡散効果が充分に得られる。アスペクト比が上記範囲の上限値以下であると、波状凹凸パターン（１Ａ）を容易に形成でき、また、波状凹凸パターンが接触等により破壊されにくい。
アスペクト比の調整方法としては、後述する硬質層の組成や厚さ、加熱収縮性フィルムのガラス転移温度や加熱収縮による変形率、積層フィルムの加熱収縮方法等が挙げられる。
アスペクト比の調整方法としては、後述する硬質層の組成や厚さ、加熱収縮性フィルムのガラス転移温度や加熱収縮による変形率、積層フィルムの加熱収縮方法等が挙げられる。
凸条部１１ａの平均高さは次のように求める。
たとえばミクロトームを用いて、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断した切断面を有する薄片サンプルを得て、該薄片サンプルの切断面の光学顕微鏡画像を得る。そして、該光学顕微鏡画像の切断面から、ランダムに５０個の凸条部を選択し、これら各凸条部の高さＨを求める。
具体的には、図４に示すように、１つの凸条部１１ａの頂部Ｔと該凸条部１１ａの一方側に位置する凹条部の底部Ｂ１との垂直距離をＬｉとし、該凸条部１１ａの頂部Ｔと該凸条部１１ａの他方側に位置する凹条部の底部Ｂ２との垂直距離をＲｉとした場合に、Ｈ＝（Ｌｉ＋Ｒｉ）／２で求められるのが、その凸条部１１ａの高さである。
このようにして求めた５０個の凸条部の高さの平均値が「凸条部の平均高さ」である。
たとえばミクロトームを用いて、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断した切断面を有する薄片サンプルを得て、該薄片サンプルの切断面の光学顕微鏡画像を得る。そして、該光学顕微鏡画像の切断面から、ランダムに５０個の凸条部を選択し、これら各凸条部の高さＨを求める。
具体的には、図４に示すように、１つの凸条部１１ａの頂部Ｔと該凸条部１１ａの一方側に位置する凹条部の底部Ｂ１との垂直距離をＬｉとし、該凸条部１１ａの頂部Ｔと該凸条部１１ａの他方側に位置する凹条部の底部Ｂ２との垂直距離をＲｉとした場合に、Ｈ＝（Ｌｉ＋Ｒｉ）／２で求められるのが、その凸条部１１ａの高さである。
このようにして求めた５０個の凸条部の高さの平均値が「凸条部の平均高さ」である。
表面微細凹凸シート１０Ａの厚みは、特に限定されないが、接触式膜厚計で測定した厚みとして、２５〜４００μｍの範囲が好ましく、５０〜２５０μｍがより好ましい。
表面微細凹凸シート１０Ａの材質については、後述する。
表面微細凹凸シート１０Ａの材質については、後述する。
表面微細凹凸シートを構成する材料は、特に限定されず、有機物、無機物等が挙げられる。表面微細凹凸シートを構成する材料が有機物である場合、当該有機物としては例えば樹脂が挙げられる。当該樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂、ポリスチレン、ポリアリレート、ABS樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩化ビニル、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、エポキシ樹脂など；上述の樹脂を繰り返し単位として一つ以上を含む共重合体；上述の樹脂の混合物（ポリマーブレンド）；上述の樹脂の複合材料などの１種以上を使用できる。前記アクリル樹脂としては、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリメタクリル酸エチル樹脂、ポリアクリル酸メチル樹脂、ポリアクリル酸エチル樹脂等が挙げられる。
表面微細凹凸シートが無機物である場合、当該無機物としては例えば金属が挙げられる。当該金属としては、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス等が挙げられる。
表面微細凹凸シートが無機物である場合、当該無機物としては例えば金属が挙げられる。当該金属としては、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス等が挙げられる。
〔表面微細凹凸シートの製造方法〕
本実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａは、たとえば、以下の製造方法により製造できる。
本実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａは、たとえば、以下の製造方法により製造できる。
製造方法は、以下の工程（ａ１）および工程（ａ２）を有する。
工程（ａ１）：
波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）を表面に有する原版（Ｗ）を製造する工程（ａ１）。
工程（ａ２）：
原版（Ｗ）の上記転写形状をさらに他の材料に転写し、一方の面に波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された表面微細凹凸シートを得る工程（ａ２）。
工程（ａ１）：
波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）を表面に有する原版（Ｗ）を製造する工程（ａ１）。
工程（ａ２）：
原版（Ｗ）の上記転写形状をさらに他の材料に転写し、一方の面に波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された表面微細凹凸シートを得る工程（ａ２）。
工程（ａ１）：
工程（ａ１）としては、たとえば、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面が平滑で少なくとも１種の樹脂から構成される硬質層を少なくとも１層積層させて、積層フィルムを得る工程（ａ１−１）と、積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、表面に波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された凹凸パターン形成シートを得る工程（ａ１−２）と、該凹凸パターン形成シートの硬質層側の表面にニッケル等の金属を堆積させた後に剥離し、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状が転写された原版（Ｗ）を得る工程（ａ１−３）とを有する工程等が挙げられる。
なお、硬質層は、加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させる温度条件下で軟化しない層である。軟化しないとは、硬質層のヤング率が１００ＭＰａ以上であることを意味する。
工程（ａ１）としては、たとえば、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面が平滑で少なくとも１種の樹脂から構成される硬質層を少なくとも１層積層させて、積層フィルムを得る工程（ａ１−１）と、積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、表面に波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された凹凸パターン形成シートを得る工程（ａ１−２）と、該凹凸パターン形成シートの硬質層側の表面にニッケル等の金属を堆積させた後に剥離し、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状が転写された原版（Ｗ）を得る工程（ａ１−３）とを有する工程等が挙げられる。
なお、硬質層は、加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させる温度条件下で軟化しない層である。軟化しないとは、硬質層のヤング率が１００ＭＰａ以上であることを意味する。
工程（ａ１−１）：
加熱収縮性樹脂フィルムとは、８０〜１８０℃の温度で加熱した際、特定の方向に収縮（シュリンク）するフィルムのことを意味する。このようなフィルムとしては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニリデン系シュリンクフィルムなどを用いることができる。また、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィンなどの樹脂から構成されるフィルムも挙げられる。
耐熱性の点では、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルムが好ましい。
本実施形態例では、加熱収縮性樹脂フィルムとして、１軸延伸フィルム、２軸延伸フィルム等が挙げられるが、好ましくは１軸延伸フィルムを用いる。１軸延伸は、縦延伸、横延伸のいずれであってもよい。
加熱収縮性樹脂フィルムとは、８０〜１８０℃の温度で加熱した際、特定の方向に収縮（シュリンク）するフィルムのことを意味する。このようなフィルムとしては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニリデン系シュリンクフィルムなどを用いることができる。また、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィンなどの樹脂から構成されるフィルムも挙げられる。
耐熱性の点では、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルムが好ましい。
本実施形態例では、加熱収縮性樹脂フィルムとして、１軸延伸フィルム、２軸延伸フィルム等が挙げられるが、好ましくは１軸延伸フィルムを用いる。１軸延伸は、縦延伸、横延伸のいずれであってもよい。
加熱収縮性樹脂フィルムは、延伸倍率１．１〜１５倍で延伸されていることが好ましく、１．３〜１０倍で延伸されていることがより好ましい。
また、加熱収縮性樹脂フィルムとしては、収縮率が２０〜９０％のフィルムが好ましく、３０〜８０％のフィルムがより好ましい。収縮率が前記下限値以上であれば、凹凸パターン形成シートをより容易に製造できる。収縮率が上限値を超える加熱収縮性樹脂フィルムは製造が困難である。
また、加熱収縮性樹脂フィルムとしては、収縮率が２０〜９０％のフィルムが好ましく、３０〜８０％のフィルムがより好ましい。収縮率が前記下限値以上であれば、凹凸パターン形成シートをより容易に製造できる。収縮率が上限値を超える加熱収縮性樹脂フィルムは製造が困難である。
本明細書において、収縮率とは、下記で定義される。
（収縮率［％］）＝｛（収縮前の長さ）−（収縮後の長さ）｝×１００／（収縮前の長さ）（ただし、長さは加熱収縮性樹脂フィルムの収縮方向の長さである。）
（収縮率［％］）＝｛（収縮前の長さ）−（収縮後の長さ）｝×１００／（収縮前の長さ）（ただし、長さは加熱収縮性樹脂フィルムの収縮方向の長さである。）
加熱収縮性樹脂フィルムは、硬質層を容易に形成できることから、表面が平滑であることが好ましい。
加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂（以下、「樹脂Ｌ」ともいう。）のガラス転移温度Ｔｇ１は、−４０〜２００℃であることが好ましく、６０〜１５０℃であることがより好ましく、６０〜８０℃であることがさらに好ましい。ガラス転移温度は示差熱分析等により測定できる。ガラス転移温度Ｔｇ１が上記範囲内であれば、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。すなわち、Ｔｇ１が上記範囲内であれば、樹脂Ｌから構成される加熱収縮性樹脂フィルムを８０〜１８０℃の温度で加熱収縮させることができるため、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。
加熱収縮性樹脂フィルムの厚みは３０〜５００μｍであることが好ましい。上記範囲内であれば、破れにくく薄型化もできる。なお、厚みは、得られた凹凸パターン形成シートをシート面に対して垂直に切った断面（縦断面）の顕微鏡写真から、１０カ所以上無作為に抽出して、加熱収縮性樹脂フィルムの厚さを測定した際の、得られた各数値の平均値である。
樹脂Ｌのヤング率は、加熱収縮させる工程（ａ１−２）の温度、すなわち、８０〜１８０℃の温度範囲において、０．０１〜１００ＭＰａであることが好ましく、０．１〜１０ＭＰａであることがより好ましい。樹脂Ｌのヤング率が前記下限値以上であれば、実用上使用可能な硬さであり、前記上限値以下であれば、硬質層が変形する際に同時に追従して変形可能な軟らかさである。
上述のようなＴｇ１およびヤング率を有する樹脂としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂およびポリ塩化ビニル系樹脂等が挙げられ、これらの１種以上を好適に使用できる。
硬質層を構成する樹脂（以下、「樹脂Ｍ」ともいう。）としては、たとえば、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体などの１種以上を使用できる。
樹脂Ｍは、凹凸パターン形成シートを容易に形成できる点では、樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ２Ｍと樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ１との差（Ｔｇ２Ｍ−Ｔｇ１）が１０℃以上であることが好ましく、１５℃以上であることがより好ましく、２０℃以上であることが特に好ましい。また、上記（Ｔｇ２Ｍ−Ｔｇ１）は４４０℃程度以下が好ましく、４００℃以下がより好ましく、１００℃以下がさらに好ましい。
樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ２Ｍは、４０〜４００℃の範囲内にあることが好ましく、８０〜２５０℃の範囲内にあることがより好ましい。Ｔｇ２Ｍが前記範囲内であれば、凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。
また、樹脂Ｍは硬化後の電離放射線硬化性樹脂のように明確なガラス転移温度が存在しないようなものも使用できる。硬質層を構成する樹脂としてガラス転移点が存在するような一般的な熱可塑性樹脂を使用する場合、前記一般的な熱可塑性樹脂は分子量分布が存在し、前記加熱収縮性フィルムを収縮させる温度条件下で低分子量成分の一部が軟化し、結果、硬質層を折り畳むような変形が充分に行われない場合がある。
一方、硬化後の電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線硬化により分子間での架橋が進行し、低分子量成分が残存しにくいことから、前記硬質層を折り畳むような変形が充分に行われ、その結果、加熱収縮性フィルムの収縮率が同一な場合でも、アスペクト比が大きくなる傾向がある。
前述のように、本発明の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンの好ましいアスペクト比である０．０５以上を得るためには、硬質層に電離放射線硬化性樹脂を使用する方が望ましい。
樹脂Ｍのヤング率は、加熱収縮させる工程（ａ１−２）の温度（８０〜１８０℃）において、０．０１〜３００ＧＰａの範囲内にあることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａの範囲内にあることがより好ましい。樹脂Ｍのヤング率が上記下限値以上であれば、波状凹凸パターン（１Ａ）の形状を維持するのに充分な硬さであり、上限値以下であれば、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。
また、樹脂Ｍは硬化後の電離放射線硬化性樹脂のように明確なガラス転移温度が存在しないようなものも使用できる。硬質層を構成する樹脂としてガラス転移点が存在するような一般的な熱可塑性樹脂を使用する場合、前記一般的な熱可塑性樹脂は分子量分布が存在し、前記加熱収縮性フィルムを収縮させる温度条件下で低分子量成分の一部が軟化し、結果、硬質層を折り畳むような変形が充分に行われない場合がある。
一方、硬化後の電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線硬化により分子間での架橋が進行し、低分子量成分が残存しにくいことから、前記硬質層を折り畳むような変形が充分に行われ、その結果、加熱収縮性フィルムの収縮率が同一な場合でも、アスペクト比が大きくなる傾向がある。
前述のように、本発明の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンの好ましいアスペクト比である０．０５以上を得るためには、硬質層に電離放射線硬化性樹脂を使用する方が望ましい。
樹脂Ｍのヤング率は、加熱収縮させる工程（ａ１−２）の温度（８０〜１８０℃）において、０．０１〜３００ＧＰａの範囲内にあることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａの範囲内にあることがより好ましい。樹脂Ｍのヤング率が上記下限値以上であれば、波状凹凸パターン（１Ａ）の形状を維持するのに充分な硬さであり、上限値以下であれば、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。
硬質層の厚さは、０．０５μｍを超え１０．０μｍ以下とすることが好ましく、０．１〜５．５μｍとすることがより好ましく、０．５〜３．０μｍとすることがさらに好ましい。硬質層の厚さを上記範囲にすることにより、波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチが適切な範囲となる。
硬質層を設け、積層フィルムを得る方法としては、樹脂Ｍを含む硬質層形成用塗料（硬質層形成用樹脂組成物）を加熱収縮性樹脂フィルムに連続的に塗工し、乾燥する方法が挙げられる。
硬質層形成用塗料の調製方法としては、トルエン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等の１種以上の溶媒で、樹脂Ｍを希釈する方法等が挙げられる。硬質層形成用塗料の固形分濃度（樹脂Ｍの濃度：硬質層形成用塗料の質量（１００質量％）に対して、該塗料中の溶媒が揮発した後に残る固形分の質量の比率）は、塗料の総質量に対して１〜１５質量％であることが好ましく、５〜１０質量％であることがより好ましい。
硬質層形成用塗料の調製方法としては、トルエン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等の１種以上の溶媒で、樹脂Ｍを希釈する方法等が挙げられる。硬質層形成用塗料の固形分濃度（樹脂Ｍの濃度：硬質層形成用塗料の質量（１００質量％）に対して、該塗料中の溶媒が揮発した後に残る固形分の質量の比率）は、塗料の総質量に対して１〜１５質量％であることが好ましく、５〜１０質量％であることがより好ましい。
塗料の塗工方法としては、たとえば、エアナイフコーティング、ロールコーティング、ブレードコーティング、メイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、キャストコーティング、カーテンコーティング、ダイスロットコーティング、ゲートロールコーティング、サイズプレスコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等が挙げられる。
乾燥方法としては、熱風、赤外線等を用いた加熱乾燥法が挙げられる。
加熱収縮性樹脂フィルムへの樹脂溶液の乾燥塗工量は、１〜１０ｇ／ｍ２にすることが好ましい。上記範囲内であれば、硬質層の厚みを上記好ましい範囲にとすることができ、硬質層に、波状凹凸パターン（１Ａ）を形成しやすい。
加熱収縮性樹脂フィルムへの樹脂溶液の乾燥塗工量は、１〜１０ｇ／ｍ２にすることが好ましい。上記範囲内であれば、硬質層の厚みを上記好ましい範囲にとすることができ、硬質層に、波状凹凸パターン（１Ａ）を形成しやすい。
工程（ａ１−２）：
工程（ａ１−２）では、工程（ａ１−１）で得られた積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、かつ、加熱収縮性フィルムの表面を硬質層の変形に追従するように変形させて、表面に波状凹凸パターン（１Ａ）と同じパターンが形成された凹凸パターン形成シートを得る。
工程（ａ１−２）では、３０％以上の収縮率で収縮させることが好ましい。収縮率を３０％以上にすると、収縮不足の部分（たとえば凹凸が充分に形成されない部分、アスペクト比が充分には大きくない部分等。）を小さくすることができる。一方、収縮率を大きくし過ぎると、得られる凹凸パターン形成シートの面積が小さくなり、歩留まりが低下するため、収縮率の上限は８０％が好ましい。
工程（ａ１−２）では、工程（ａ１−１）で得られた積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、かつ、加熱収縮性フィルムの表面を硬質層の変形に追従するように変形させて、表面に波状凹凸パターン（１Ａ）と同じパターンが形成された凹凸パターン形成シートを得る。
工程（ａ１−２）では、３０％以上の収縮率で収縮させることが好ましい。収縮率を３０％以上にすると、収縮不足の部分（たとえば凹凸が充分に形成されない部分、アスペクト比が充分には大きくない部分等。）を小さくすることができる。一方、収縮率を大きくし過ぎると、得られる凹凸パターン形成シートの面積が小さくなり、歩留まりが低下するため、収縮率の上限は８０％が好ましい。
積層フィルムを加熱する方法としては、熱風、蒸気、熱水または遠赤外線中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱風または遠赤外線に通す方法が好ましい。
加熱収縮性樹脂フィルムを熱収縮させる際の加熱温度は、使用する加熱収縮性樹脂フィルムの種類、目的とする凹凸パターン形成シートの凸条部の平均ピッチやアスペクト比に応じて適宜設定することが好ましい。
具体的には、該加熱温度は、加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ１以上の温度にすることが好ましい。Ｔｇ１以上の温度で熱収縮させると、波状凹凸パターン（１Ａ）を容易に形成できる。
また、該加熱温度は、（樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ２Ｍ＋１５℃）未満であることが好ましい。
具体的には、該加熱温度は、加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ１以上の温度にすることが好ましい。Ｔｇ１以上の温度で熱収縮させると、波状凹凸パターン（１Ａ）を容易に形成できる。
また、該加熱温度は、（樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ２Ｍ＋１５℃）未満であることが好ましい。
工程（ａ１−２）の好適な一例としては、上述の工程（ａ１−１）で得られた積層フィルムを好ましくは８０〜１８０℃、より好ましくは１２０〜１７０℃の熱風の中を通過させることにより、加熱収縮性フィルムと硬質層とを変形させて、凹凸パターン形成シートを得る工程であることが好ましい。
積層フィルムを加熱する時間は、１〜３分間が好ましく、１〜２分間がより好ましい。熱風の風速は、１〜１０ｍ／ｓが好ましく、２〜５ｍ／ｓがより好ましい。
積層フィルムを加熱する時間は、１〜３分間が好ましく、１〜２分間がより好ましい。熱風の風速は、１〜１０ｍ／ｓが好ましく、２〜５ｍ／ｓがより好ましい。
硬質層の厚さが薄いほど、また、硬質層のヤング率が低いほど、波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチが小さくなり、また、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮率が高いほど、凸条部１１ｄの高さが大きくなる。したがって、これらの条件を調整すれば、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ｄのピッチおよび高さを所望の値に制御できる。
工程（ａ１−３）
工程（ａ１−３）は、上述の工程（ａ１−２）で得られた凹凸パターン形成シートの硬質層側の表面に、たとえばニッケル等の金属を公知の電気鋳造法等で堆積させ、その後、該金属を剥離し、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）が転写された金属製の原版（Ｗ）を得る工程である。
なお、上記のような転写を２回以上繰り返して得たもの等であってもよい。
工程（ａ１−３）は、上述の工程（ａ１−２）で得られた凹凸パターン形成シートの硬質層側の表面に、たとえばニッケル等の金属を公知の電気鋳造法等で堆積させ、その後、該金属を剥離し、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）が転写された金属製の原版（Ｗ）を得る工程である。
なお、上記のような転写を２回以上繰り返して得たもの等であってもよい。
工程（ａ２）：
工程（ａ２）としては、原版（Ｗ）の波状凹凸パターン（１Ａ）を他の材料に転写する転写工程を行う。転写工程としては、例えば、特許第４６８３０１１号公報等に開示の公知の方法を採用できる。
工程（ａ２）としては、原版（Ｗ）の波状凹凸パターン（１Ａ）を他の材料に転写する転写工程を行う。転写工程としては、例えば、特許第４６８３０１１号公報等に開示の公知の方法を採用できる。
具体的には、原版（Ｗ）の波状凹凸パターン（１Ａ）に対して、離型剤および未硬化の電離放射線硬化性樹脂をを含む、電離放射線硬化性樹脂組成物を例えば３〜３０μｍの厚さに収まるように、Ｔダイコーター、ロールコーター、バーコーターなどのコーターで塗布し、ＰＥＴ等からなる透明な基材を塗布された未硬化の電離放射線硬化性樹脂組成物塗膜面に押し当て、電離放射線を照射して硬化させた後、原版（Ｗ）を剥離する。電離放射線の照射は、原版側、透明なＰＥＴ等基材側のうち、電離放射線透過性を有するいずれか一方側から行えばよい。これにより、ＰＥＴ等からなる透明な基材と、その片面上に形成された電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる表面層とからなり、表面層の表面に微細凹凸が形成された表面微細凹凸シートが得られる。
電離放射線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などが挙げられる。照射する電離放射線の種類は、樹脂の種類に応じて適宜選択する。電離放射線としては、一般には紫外線および電子線を意味することが多いが、本明細書においては、可視光線、Ｘ線、イオン線等も含む。
未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル／アクリレート、ポリエン／アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる１種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈して使用してもよい。
（未硬化の）電離放射線硬化性樹脂組成物には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂に加えて、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性である場合には、電離放射線硬化性樹脂組成物にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
（未硬化の）電離放射線硬化性樹脂組成物には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂に加えて、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性である場合には、電離放射線硬化性樹脂組成物にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
また、電離放射線硬化性樹脂に代えて、例えば、未硬化のメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等の熱可塑性樹脂を用いて転写を行ってもよく、微細凹凸が転写できる限り、その具体的方法、転写する材料に制限はない。
熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば、未硬化の熱硬化性樹脂を含む液状の熱硬化性樹脂組成物を原版（Ｗ）の波状凹凸パターン（１Ａ）を有する面に塗布し、加熱により硬化させる方法が挙げられ、熱可塑性樹脂を用いる場合には、熱可塑性樹脂のシートを用い、原版（Ｗ）の波状凹凸パターン（１Ａ）を有する面に押し当てながら加熱して軟化させた後、冷却する方法が挙げられる。
熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば、未硬化の熱硬化性樹脂を含む液状の熱硬化性樹脂組成物を原版（Ｗ）の波状凹凸パターン（１Ａ）を有する面に塗布し、加熱により硬化させる方法が挙げられ、熱可塑性樹脂を用いる場合には、熱可塑性樹脂のシートを用い、原版（Ｗ）の波状凹凸パターン（１Ａ）を有する面に押し当てながら加熱して軟化させた後、冷却する方法が挙げられる。
本実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａは、たとえば、以下の製造方法でも製造できる。
製造方法は、以下の工程（ｂ１）および工程（ｂ２）を有する。
工程（ｂ１）：
波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）を表面に有する原版（Ｗ）を製造する工程（ｂ１）。
工程（ｂ２）：
原版（Ｗ）の上記転写形状をさらに他の材料に転写し、一方の面に波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された表面微細凹凸シートを得る工程（ｂ２）。
工程（ｂ１）：
波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）を表面に有する原版（Ｗ）を製造する工程（ｂ１）。
工程（ｂ２）：
原版（Ｗ）の上記転写形状をさらに他の材料に転写し、一方の面に波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された表面微細凹凸シートを得る工程（ｂ２）。
工程（ｂ１）：
本製造方法では原版（Ｗ）は転写ロールである。転写ロールは、例えば、レーザー彫刻装置を用いてロール本体の表面に複数の凹条を彫刻することによって製造できる。
レーザー彫刻装置としては、レーザー光を発生するレーザー装置と、光学系とを備えたものが挙げられる。レーザー装置としては、炭酸ガスレーザー、ＹＡＧレーザー、半導体レーザー、イッテルビウムファイバーレーザー等が挙げられる。光学系としては、コリメーターレンズ、対物レンズ等の各種レンズの組み合わせが挙げられる。レーザー彫刻装置としては、特開２０１０−１８１８６２号公報、特開平５−２４１７２号公報、特開平８−２８４４１号公報、特開平８−２９３１３４号公報、特開２０１１−２０４０７号公報等に記載の公知のレーザー彫刻装置が挙げられる。
レーザー彫刻装置としては、レーザー光を発生するレーザー装置と、光学系とを備えたものが挙げられる。レーザー装置としては、炭酸ガスレーザー、ＹＡＧレーザー、半導体レーザー、イッテルビウムファイバーレーザー等が挙げられる。光学系としては、コリメーターレンズ、対物レンズ等の各種レンズの組み合わせが挙げられる。レーザー彫刻装置としては、特開２０１０−１８１８６２号公報、特開平５−２４１７２号公報、特開平８−２８４４１号公報、特開平８−２９３１３４号公報、特開２０１１−２０４０７号公報等に記載の公知のレーザー彫刻装置が挙げられる。
レーザー彫刻の条件（レーザー光のビーム径、レーザー出力、レーザーパルス長、ロール周速、レーザー彫刻間隔等）は、レーザー彫刻対象の材質、転写ロールの表面凹凸の凹条の平均深さ、凹条の平均間隔等に応じて適宜設定される。例えば、レーザー光のビーム径を大きくすると凹条の平均深さが浅くなる傾向がある。レーザー出力を大きくすると凹条の平均深さが深くなる傾向がある。レーザーパルス長を長くすると凹条の平均深さが深くなる傾向がある。ロール周速を速くすると、凹条の平均深さが浅くなる傾向がある。
表面凹凸の凹条の平均深さを深くする方法としては、一度レーザー彫刻した箇所を再度レーザー彫刻する方法がある。
また、凹条の平均間隔をレーザーのビーム径よりも大きくする場合は、広幅彫刻を行う方法がある。広幅彫刻は、一度レーザー彫刻した箇所から彫刻位置を凹条の延在方向に直交する方向に少しずつ移動してレーザー彫刻する方法である。広幅彫刻では、凹部の中心をより深くするために、繰り返してレーザー彫刻しても良い。
また、凹条の平均間隔をレーザーのビーム径よりも大きくする場合は、広幅彫刻を行う方法がある。広幅彫刻は、一度レーザー彫刻した箇所から彫刻位置を凹条の延在方向に直交する方向に少しずつ移動してレーザー彫刻する方法である。広幅彫刻では、凹部の中心をより深くするために、繰り返してレーザー彫刻しても良い。
レーザー彫刻を行う場合、彫刻の対象（当該彫刻の対象は、版ロールとなる）の材質としては、凹条の表面、特に底部に微細凹凸を形成しやすい点から、金属、セラミックス等が好ましい。金属の中でも銅が好ましい。
本発明では、ロール本体の表面に複数の凹条を彫刻した後、必要に応じて、前記ロール本体の表面に水洗浄、酸洗浄、および／またはめっき処理を行ってもよい。
水洗浄の種類としては、浸漬洗浄、超音波洗浄、スプレー洗浄等が挙げられる。水洗浄のなかでも、転写ロールの表面凹凸を比較的短時間で処理できるという点から、超音波洗浄が好ましい。超音波の振動数は特に制限はないが、２５ｋＨｚ以上５０ｋＨｚ以下の範囲で多く使用される。また、水洗浄の際、必要に応じて公知の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤を添加して水洗浄を行った場合は、界面活性剤を取り除くことを目的とした水洗浄を再度行うことが好ましい。
レーザー彫刻の対象が金属（例えば銅）の場合、酸洗浄で凹条の平均深さの調整が可能である。酸洗浄の洗浄時間が長いと凹条の平均深さは浅くなる傾向がある。酸洗浄に用いる酸性液としては、塩酸、硫酸等が挙げられる。
レーザー彫刻対象が金属（例えば銅）の場合、水洗浄のみ、または、水洗浄および酸洗浄を行うことが好ましいが、さらに、転写ロールの長期間使用の磨耗耐久性を向上することを目的として、ロール本体の最表面に硬質クロムめっき、ニッケルめっき、ニッケルリンめっき等のめっき処理を行うことが好ましい。めっきは、電解めっきであってもよく、無電解めっきであってもよい。めっき処理で凹条の平均深さの調整が可能である。電解めっきの場合、電流密度が高いほど凹条の平均深さが浅くなる傾向がある。また、電解めっきおよび無電解めっきはともにめっき時間が長いほど凹条の平均深さが浅くなる傾向がある。
本発明の転写ロールの大きさは特に限定されない。例えば、転写ロールの幅は好ましくは０．１ｍ〜５０ｍであり、転写ロールの直径は好ましくは０．１ｍ〜１０ｍである。
工程（ｂ２）：
工程（ｂ２）は上記工程（ａ２）と同様の方法を用いることで表面微細凹凸シートが得られる。
工程（ｂ２）は上記工程（ａ２）と同様の方法を用いることで表面微細凹凸シートが得られる。
＜作用効果＞
以上、実施形態例を示して説明した本発明の表面微細凹凸シートは、表面に形成された波状凹凸パターンにより、物品表面に対する真菌、細菌、バクテリア等の初期付着及び付着強化を阻害し、脱離の促進や増強の抑制等の効果を発揮するができると考えられる。
さらに、本発明の表面微細凹凸シートは、表面に形成された波状凹凸パターンにより、表面の結露を防止し、表面の乾燥を促進させることができる。すなわち、表面微細凹凸シートの表面で水蒸気が凝集して水滴が形成された場合、水滴は凸条部および凹条部の延在方向に沿って、濡れ広がって合一し、水膜が形成されるため、表面には小さい水滴が残らない。濡れ広がった水膜は、水滴と比べて、外気との接触面積が大きくなるため、蒸発が促進し、表面の乾燥が相対的に早くなるため、真菌、細菌、バクテリア等の湿気による増殖を抑制できる。
さらに、本発明の表面微細凹凸シートは、表面に形成された波状凹凸パターンにより、建物の内壁に使用された場合、電灯等の室内光を拡散し、室内全体を均一に明るくすることが出来る。このため、本発明の表面微細凹凸シートは、光拡散（性）シートとして好適に使用することができる。特に、本発明の表面微細凹凸シートは、結露が生じやすい環境下においても高い抗菌性能を発揮し、且つ光拡散性に優れるため、建物内での光拡散性シートとして好適に使用することができる。
以上の理由により、本発明の表面微細凹凸シートは高い抗菌性能を発揮し、表面の物理的な破壊が生じない限りは抗菌効果が劣化、枯渇することがなく、長期にわたって使用できる抗菌物品を提供することができる。
さらに、本発明の表面微細凹凸シートは、表面に形成された波状凹凸パターンにより、表面の結露を防止し、表面の乾燥を促進させることができる。すなわち、表面微細凹凸シートの表面で水蒸気が凝集して水滴が形成された場合、水滴は凸条部および凹条部の延在方向に沿って、濡れ広がって合一し、水膜が形成されるため、表面には小さい水滴が残らない。濡れ広がった水膜は、水滴と比べて、外気との接触面積が大きくなるため、蒸発が促進し、表面の乾燥が相対的に早くなるため、真菌、細菌、バクテリア等の湿気による増殖を抑制できる。
さらに、本発明の表面微細凹凸シートは、表面に形成された波状凹凸パターンにより、建物の内壁に使用された場合、電灯等の室内光を拡散し、室内全体を均一に明るくすることが出来る。このため、本発明の表面微細凹凸シートは、光拡散（性）シートとして好適に使用することができる。特に、本発明の表面微細凹凸シートは、結露が生じやすい環境下においても高い抗菌性能を発揮し、且つ光拡散性に優れるため、建物内での光拡散性シートとして好適に使用することができる。
以上の理由により、本発明の表面微細凹凸シートは高い抗菌性能を発揮し、表面の物理的な破壊が生じない限りは抗菌効果が劣化、枯渇することがなく、長期にわたって使用できる抗菌物品を提供することができる。
また、真菌、細菌、バクテリアのサイズは１μｍ〜１０μｍ程度であり、各サイズの真菌、細菌、バクテリアに対して抗菌効果が最大となる凹凸パターンのサイズは異なっている。
本発明の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンは、法線方向から見た場合に互いに非平行で、また、法線と波状凹凸パターンの配列方向とを含む平面で切断した場合の断面形状が波状で互いに不規則な形状であるため、凸条部のピッチは適度にばらついており、例えば、波状凹凸パターンの代わりに断面が円の一部である複数の凹凸形状が一方向に平行に延在し一定間隔で配列している蒲鉾状パターンや、断面が二等辺三角形である複数の凹凸形状が一方向に平行に延在し一定間隔で配列しているＶ溝パターンと比較して、実際の状況のように、様々なサイズの真菌、細菌、バクテリアが混在する場合でも、抗菌効果が大きい、という特徴を有する。
本発明の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンは、法線方向から見た場合に互いに非平行で、また、法線と波状凹凸パターンの配列方向とを含む平面で切断した場合の断面形状が波状で互いに不規則な形状であるため、凸条部のピッチは適度にばらついており、例えば、波状凹凸パターンの代わりに断面が円の一部である複数の凹凸形状が一方向に平行に延在し一定間隔で配列している蒲鉾状パターンや、断面が二等辺三角形である複数の凹凸形状が一方向に平行に延在し一定間隔で配列しているＶ溝パターンと比較して、実際の状況のように、様々なサイズの真菌、細菌、バクテリアが混在する場合でも、抗菌効果が大きい、という特徴を有する。
抗菌性が必要とされるものとしては、衣類、タオル、ふきん、寝具、カーテン、カーペットなどの繊維製品、洗濯機、掃除機、冷蔵庫、食器洗浄乾燥機、電気ジャーポット、空気清浄機、炊飯器、電話機、シェーバーなどの電化製品、床材、クロス（壁紙）、タイル、アルミ建材、塗装材などの建材、電気洗浄便座、浄水器などの住宅設備機器、ステアリング、内装、空気清浄器などの自動車用品、キッチン用品、バス・マット用品などが挙げられる。
＜実施例＞
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ）
表面微細凹凸シートの凸条の平均高さは、下記のように求めた。
レーザー顕微鏡（キーエンス社製、ＶＫ−８５００）を用い、対物レンズ５０倍、測定ピッチ０．１μｍの条件にて表面微細凹凸シートの表面微細凹凸の３次元形状を測定した。続いて、表面微細凹凸シートを、凸条の延在方向に直交する方向にかつ表面微細凹凸シートの厚さ方向に切断したときの断面（図１、図３および図５ではＹＺ平面と平行となるように切断したときの断面）に相当する断面形状の測定を行った。凸条に隣接する一方の凹条の底部から凸条の頂部までの高さＨ１を測定した。同様に、凸条に隣接する他方の凹条の底部から凸条の頂部までの高さＨ２を測定した。高さＨ１と高さＨ２との平均値を凸条の高さＨとした。無作為に選ばれた５０箇所の凸条のそれぞれについて高さＨを求めた。５０箇所の凸条１２の高さＨの平均値を求め、これを凸条の平均高さとした。
表面微細凹凸シートの凸条の平均高さは、下記のように求めた。
レーザー顕微鏡（キーエンス社製、ＶＫ−８５００）を用い、対物レンズ５０倍、測定ピッチ０．１μｍの条件にて表面微細凹凸シートの表面微細凹凸の３次元形状を測定した。続いて、表面微細凹凸シートを、凸条の延在方向に直交する方向にかつ表面微細凹凸シートの厚さ方向に切断したときの断面（図１、図３および図５ではＹＺ平面と平行となるように切断したときの断面）に相当する断面形状の測定を行った。凸条に隣接する一方の凹条の底部から凸条の頂部までの高さＨ１を測定した。同様に、凸条に隣接する他方の凹条の底部から凸条の頂部までの高さＨ２を測定した。高さＨ１と高さＨ２との平均値を凸条の高さＨとした。無作為に選ばれた５０箇所の凸条のそれぞれについて高さＨを求めた。５０箇所の凸条１２の高さＨの平均値を求め、これを凸条の平均高さとした。
（表面微細凹凸シートの凸条の平均間隔）
表面微細凹凸シートの凸条の平均間隔は、下記のように求めた。
レーザー顕微鏡（キーエンス社製、ＶＫ−８５００）を用い、対物レンズ５０倍、測定ピッチ０．１μｍの条件にて表面微細凹凸シートの表面微細凹凸を測定した。続いて、表面微細凹凸シートを、凸条の延在方向に直交する方向にかつ表面微細凹凸シートの厚さ方向に切断したときの断面（図１、図３および図５ではＹＺ平面と平行となるように切断したときの断面）に相当する断面形状の測定を行った。無作為に選ばれた基準となる凸条の頂部から２０本隣の凸条の頂部までの幅Ｗ２０を求めた。無作為に選ばれた基準となる凸条は、前記表面微細凹凸シートの凸条の平均高さを求めた際に選ばれた５０箇所の凸条のうちの１つであり、凸条の平均深さの値に最も近い深さを有する凸条とした。次に、幅Ｗ２０を無作為に５箇所測定し、その平均値を２０等分した値を凸条の平均間隔とした。
表面微細凹凸シートの凸条の平均間隔は、下記のように求めた。
レーザー顕微鏡（キーエンス社製、ＶＫ−８５００）を用い、対物レンズ５０倍、測定ピッチ０．１μｍの条件にて表面微細凹凸シートの表面微細凹凸を測定した。続いて、表面微細凹凸シートを、凸条の延在方向に直交する方向にかつ表面微細凹凸シートの厚さ方向に切断したときの断面（図１、図３および図５ではＹＺ平面と平行となるように切断したときの断面）に相当する断面形状の測定を行った。無作為に選ばれた基準となる凸条の頂部から２０本隣の凸条の頂部までの幅Ｗ２０を求めた。無作為に選ばれた基準となる凸条は、前記表面微細凹凸シートの凸条の平均高さを求めた際に選ばれた５０箇所の凸条のうちの１つであり、凸条の平均深さの値に最も近い深さを有する凸条とした。次に、幅Ｗ２０を無作為に５箇所測定し、その平均値を２０等分した値を凸条の平均間隔とした。
（表面微細凹凸シートの凸条のアスペクト比）
表面微細凹凸シートの凸条のアスペクト比は、凸条の平均高さを凸条の平均間隔で除して求めた。
表面微細凹凸シートの凸条のアスペクト比は、凸条の平均高さを凸条の平均間隔で除して求めた。
〔実施例１〕
（原版（Ｗ）（転写ロール））
表面の材質が銅であるロール本体の表面に、レーザー彫刻装置付属のイッテルビウムファイバーレーザー（ＩＰＧフォトニクス社製）を用い、レーザー光のビーム径２．８μｍ、レーザー出力２４０Ｗ、レーザーパルス長１２０ｎｓ、ロール周速４５ｃｍ／ｓ、凹条の平均間隔３６μｍの条件で、ロール本体の周方向に延在する複数の凹条を彫刻した。
複数の凹条を彫刻したロール本体に対して、水洗浄（純水、２５ｋＨｚの超音波洗浄）を５分行った。次に酸性液（濃度１０％（ｖ／ｖ）の硫酸水溶液）にて５０℃で３分酸洗浄を行った後、電鋳液（スルファミン酸ニッケル６００ｇ／リットル、塩化ニッケル５ｇ／リットル、硼酸４０ｇ／リットル、ナフタリンスルホン酸ナトリウム０．５ｇ／リットル、ラウリル硫酸ナトリウム１ｇ／リットル）にて、液温５０℃、電流密度１．５Ａ／ｄｍ２の条件で２３分電解めっきを行った。これにより、表面微細凹凸を有する転写ロールを得た。
（原版（Ｗ）（転写ロール））
表面の材質が銅であるロール本体の表面に、レーザー彫刻装置付属のイッテルビウムファイバーレーザー（ＩＰＧフォトニクス社製）を用い、レーザー光のビーム径２．８μｍ、レーザー出力２４０Ｗ、レーザーパルス長１２０ｎｓ、ロール周速４５ｃｍ／ｓ、凹条の平均間隔３６μｍの条件で、ロール本体の周方向に延在する複数の凹条を彫刻した。
複数の凹条を彫刻したロール本体に対して、水洗浄（純水、２５ｋＨｚの超音波洗浄）を５分行った。次に酸性液（濃度１０％（ｖ／ｖ）の硫酸水溶液）にて５０℃で３分酸洗浄を行った後、電鋳液（スルファミン酸ニッケル６００ｇ／リットル、塩化ニッケル５ｇ／リットル、硼酸４０ｇ／リットル、ナフタリンスルホン酸ナトリウム０．５ｇ／リットル、ラウリル硫酸ナトリウム１ｇ／リットル）にて、液温５０℃、電流密度１．５Ａ／ｄｍ２の条件で２３分電解めっきを行った。これにより、表面微細凹凸を有する転写ロールを得た。
（表面微細凹凸シート）
基材（東洋紡社製、透明ＰＥＴフィルム、Ａ４３００、厚さ２５０μｍ）の片面に、紫外線硬化性樹脂を含有する液状の紫外線硬化性樹脂組成物を、厚さが２０μｍとなるように塗布し、樹脂組成物塗膜付き基材を得た。樹脂組成物塗膜を転写ロールの表面に押し当てるように、樹脂組成物塗膜付き基材を転写ロールに接触させた。メタルハライドランプからの紫外線照射量が７００ｍＪ／ｃｍ２となるように、転写ロールに接触している樹脂組成物塗膜付き基材に対して紫外線を照射し、樹脂組成物塗膜中の紫外線硬化性樹脂を硬化させた。硬化樹脂組成物塗膜付き基材を転写ロールから剥がした。これにより、透明ＰＥＴフィルムからなる基材層の表面に、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物を主成分とする表面層を有する表面微細凹凸シートを得た。表面微細凹凸シートの表面層の表面には、転写ロールの表面凹凸が反転した表面微細凹凸が転写されていた。また、表面層の裏面に設けられている基材層には転写ロールの表面微細凹凸が転写されておらず、基材層と表面層との界面が平滑であった。表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ、凸条の平均間隔、凸条のアスペクト比を表１に示す。
基材（東洋紡社製、透明ＰＥＴフィルム、Ａ４３００、厚さ２５０μｍ）の片面に、紫外線硬化性樹脂を含有する液状の紫外線硬化性樹脂組成物を、厚さが２０μｍとなるように塗布し、樹脂組成物塗膜付き基材を得た。樹脂組成物塗膜を転写ロールの表面に押し当てるように、樹脂組成物塗膜付き基材を転写ロールに接触させた。メタルハライドランプからの紫外線照射量が７００ｍＪ／ｃｍ２となるように、転写ロールに接触している樹脂組成物塗膜付き基材に対して紫外線を照射し、樹脂組成物塗膜中の紫外線硬化性樹脂を硬化させた。硬化樹脂組成物塗膜付き基材を転写ロールから剥がした。これにより、透明ＰＥＴフィルムからなる基材層の表面に、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物を主成分とする表面層を有する表面微細凹凸シートを得た。表面微細凹凸シートの表面層の表面には、転写ロールの表面凹凸が反転した表面微細凹凸が転写されていた。また、表面層の裏面に設けられている基材層には転写ロールの表面微細凹凸が転写されておらず、基材層と表面層との界面が平滑であった。表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ、凸条の平均間隔、凸条のアスペクト比を表１に示す。
〔比較例１〕
レーザー光のビーム径を１．８μｍに変更し、レーザー出力を３４０Ｗに変更し、凹条の平均間隔を１８μｍに変更し、酸洗浄を３分に変更し、電解めっきを９分に変更した以外は、実施例１と同様にして転写ロールを得た。
比較例１の転写ロールを用いた以外は、実施例１と同様にして表面微細凹凸シートを得た。表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ、凸条の平均間隔、凸条のアスペクト比を表１に示す。
レーザー光のビーム径を１．８μｍに変更し、レーザー出力を３４０Ｗに変更し、凹条の平均間隔を１８μｍに変更し、酸洗浄を３分に変更し、電解めっきを９分に変更した以外は、実施例１と同様にして転写ロールを得た。
比較例１の転写ロールを用いた以外は、実施例１と同様にして表面微細凹凸シートを得た。表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ、凸条の平均間隔、凸条のアスペクト比を表１に示す。
〔比較例２〕
凹条の平均間隔を１２０μｍに変更し、広幅彫刻を行い、酸洗浄を２０分に変更し、電解めっきを４５分に変更した以外は、実施例１と同様にして転写ロールを得た。
比較例２の転写ロールを用いた以外は、実施例１と同様にして表面微細凹凸シートを得た。表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ、凸条の平均間隔、凸条のアスペクト比を表１に示す。
凹条の平均間隔を１２０μｍに変更し、広幅彫刻を行い、酸洗浄を２０分に変更し、電解めっきを４５分に変更した以外は、実施例１と同様にして転写ロールを得た。
比較例２の転写ロールを用いた以外は、実施例１と同様にして表面微細凹凸シートを得た。表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ、凸条の平均間隔、凸条のアスペクト比を表１に示す。
〔比較例３〕
酸洗浄を２０分に変更し、電解めっきを４５分に変更した以外は、実施例１と同様にして転写ロールを得た。
比較例３の転写ロールを用いた以外は、実施例１と同様にして表面微細凹凸シートを得た。表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ、凸条の平均間隔、凸条のアスペクト比を表１に示す。
酸洗浄を２０分に変更し、電解めっきを４５分に変更した以外は、実施例１と同様にして転写ロールを得た。
比較例３の転写ロールを用いた以外は、実施例１と同様にして表面微細凹凸シートを得た。表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ、凸条の平均間隔、凸条のアスペクト比を表１に示す。
〔比較例４〕
レーザー光のビーム径を１．２μｍに変更し、レーザー出力を３４０Ｗに変更し、酸洗浄を１７分に変更し、電解めっきを４０分に変更した以外は、実施例１と同様にして転写ロールを得た
比較例４の転写ロールを用いた以外は、実施例１と同様にして表面微細凹凸シートを得た。表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ、凸条の平均間隔、凸条のアスペクト比を表１に示す。
レーザー光のビーム径を１．２μｍに変更し、レーザー出力を３４０Ｗに変更し、酸洗浄を１７分に変更し、電解めっきを４０分に変更した以外は、実施例１と同様にして転写ロールを得た
比較例４の転写ロールを用いた以外は、実施例１と同様にして表面微細凹凸シートを得た。表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ、凸条の平均間隔、凸条のアスペクト比を表１に示す。
（比較例５）
転写ロールにＶ字型のバイトを用いて切削を行い、表面にピッチが５０μｍ、高さが５０μｍの単位Ｖ溝が規則的に配列された転写ロールを得た。
比較例５の転写ロールを用いた以外は、実施例１と同様にして表面微細凹凸シートを得た。表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ、凸条の平均間隔、凸条のアスペクト比を表１に示す。
転写ロールにＶ字型のバイトを用いて切削を行い、表面にピッチが５０μｍ、高さが５０μｍの単位Ｖ溝が規則的に配列された転写ロールを得た。
比較例５の転写ロールを用いた以外は、実施例１と同様にして表面微細凹凸シートを得た。表面微細凹凸シートの凸条の平均高さ、凸条の平均間隔、凸条のアスペクト比を表１に示す。
（評価）
上記実施例および比較例の表面微細凹凸シートを使用した評価手順および評価結果を以下に示す。
上記実施例および比較例の表面微細凹凸シートを使用した評価手順および評価結果を以下に示す。
＜１．相対生菌数による評価＞
ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０「抗菌加工製品−抗菌性試験方法・抗菌効果」５ 試
験方法（ＵＲＬ：ｈｔｔｐ：／／ｋｉｋａｋｕｒｕｉ．ｃｏｍ／ｚ２／Ｚ２８０１−２０
１２−０１．ｈｔｍｌ）に基づき、抗菌力試験を実施した。菌株には大腸菌（ＮＢＲＣ
３９７２）を使用している。
ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０「抗菌加工製品−抗菌性試験方法・抗菌効果」５ 試
験方法（ＵＲＬ：ｈｔｔｐ：／／ｋｉｋａｋｕｒｕｉ．ｃｏｍ／ｚ２／Ｚ２８０１−２０
１２−０１．ｈｔｍｌ）に基づき、抗菌力試験を実施した。菌株には大腸菌（ＮＢＲＣ
３９７２）を使用している。
実施例および比較例の表面微細凹凸シートを５０ｍｍ×５０ｍｍの正方形に断裁した試験片を作製し、エタノールを吸収させた脱脂綿で試験片の全面を軽く拭いた。
乾燥した試験片の上に、生菌数を制御した菌液を０．４ｍＬ滴下し、４０ｍｍ×４０ｍ
ｍに断裁したポリエチレンフィルムを載せることにより、試験片表面上に菌液を薄く広げ
つつ被覆して乾燥を防ぐ。その状態の試験片を３５℃環境下において２４時間静置する。
試験片を洗い流して回収した菌液を寒天培地にて培養し、希釈した後にコロニー数をカ
ウントすることで元の試験片上の菌数を算出する。
また、同様の手順で３回試験を行い、各試験の平均値を以って抗菌性を判断する。
表１に、実施例および比較例の表面微細凹凸シートに関して抗菌力試験を行った結果を記載する。
ただし、試験後の菌数は、表面に微細凹凸が形成されいない鏡面シートに関して同様の試験を行った際の試験後の菌数を1としたときの相対値である。
乾燥した試験片の上に、生菌数を制御した菌液を０．４ｍＬ滴下し、４０ｍｍ×４０ｍ
ｍに断裁したポリエチレンフィルムを載せることにより、試験片表面上に菌液を薄く広げ
つつ被覆して乾燥を防ぐ。その状態の試験片を３５℃環境下において２４時間静置する。
試験片を洗い流して回収した菌液を寒天培地にて培養し、希釈した後にコロニー数をカ
ウントすることで元の試験片上の菌数を算出する。
また、同様の手順で３回試験を行い、各試験の平均値を以って抗菌性を判断する。
表１に、実施例および比較例の表面微細凹凸シートに関して抗菌力試験を行った結果を記載する。
ただし、試験後の菌数は、表面に微細凹凸が形成されいない鏡面シートに関して同様の試験を行った際の試験後の菌数を1としたときの相対値である。
＜２．結露による評価＞
実施例および比較例の表面微細凹凸シートを温度２５±２℃、湿度２５％の恒温室に３０分間放置した。次いで、−１０±２℃のプレート上に１分間静置した。その後、表面微細凹凸シート表面の結露発生状況を目視で確認し、表面に曇りが見られなかったものを合格（○）、曇りが見られたものを不合格（×）とした。評価結果を表１に示す。
実施例および比較例の表面微細凹凸シートを温度２５±２℃、湿度２５％の恒温室に３０分間放置した。次いで、−１０±２℃のプレート上に１分間静置した。その後、表面微細凹凸シート表面の結露発生状況を目視で確認し、表面に曇りが見られなかったものを合格（○）、曇りが見られたものを不合格（×）とした。評価結果を表１に示す。
＜３．抗菌力の繰り返し試験評価＞
上記１．の「相対生菌数による評価」試験が行われた実施例１および比較例３の表面微細凹凸シートに対して、同様の試験をさらに７回行った（即ち、合計１０回の相対生菌数による評価試験を行った）。１０回目の相対生菌数が、上記１．評価試験によって得られた平均値に対して２倍未満であった場合を○とし、２倍を超えた場合を×とした。評価結果を表１に示す。
上記１．の「相対生菌数による評価」試験が行われた実施例１および比較例３の表面微細凹凸シートに対して、同様の試験をさらに７回行った（即ち、合計１０回の相対生菌数による評価試験を行った）。１０回目の相対生菌数が、上記１．評価試験によって得られた平均値に対して２倍未満であった場合を○とし、２倍を超えた場合を×とした。評価結果を表１に示す。
＜４．強度評価＞
実施例１および比較例４の表面微細凹凸シートに対して引っかき硬度試験（鉛筆法）（ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４）を行い、鉛筆硬度ＨＢ以下での試験で表面微細凹凸シートに変化が生じなかったものを○とし、表面微細凹凸シートに変化が生じた（ひび、折れ、割れ等）ものを×とした。評価結果を表１に示す。
実施例１および比較例４の表面微細凹凸シートに対して引っかき硬度試験（鉛筆法）（ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４）を行い、鉛筆硬度ＨＢ以下での試験で表面微細凹凸シートに変化が生じなかったものを○とし、表面微細凹凸シートに変化が生じた（ひび、折れ、割れ等）ものを×とした。評価結果を表１に示す。
＜５．光拡散性評価＞
実施例および比較例の表面微細凹凸シートの光拡散性は、配光特性測定装置（ＧＥＮＥＳＩＡ ＧｏｎｉｏＦａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ（ジェネシア社製））を持ちて以下のように評価する。
微細凹凸形成面の反対側の平滑面側から光を照射、入射させる。その際に、入射面とは反対面側から垂直に出光する出射光（出光角度＝０°）の照度を基準値とし、表面微細凹凸の凸条の配列方向に沿う出光角度−９０°〜＋９０°の範囲内の出射光の照度を、上記基準値に対する相対値として、１°おきに測定する。そして、各方向の出光角度に対する照度の値をプロットして照度曲線を得る。前記照度曲線における半値幅（全半値幅）を拡散角度とし、表１に示す。
実施例および比較例の表面微細凹凸シートの光拡散性は、配光特性測定装置（ＧＥＮＥＳＩＡ ＧｏｎｉｏＦａｒ Ｆｉｅｌｄ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ（ジェネシア社製））を持ちて以下のように評価する。
微細凹凸形成面の反対側の平滑面側から光を照射、入射させる。その際に、入射面とは反対面側から垂直に出光する出射光（出光角度＝０°）の照度を基準値とし、表面微細凹凸の凸条の配列方向に沿う出光角度−９０°〜＋９０°の範囲内の出射光の照度を、上記基準値に対する相対値として、１°おきに測定する。そして、各方向の出光角度に対する照度の値をプロットして照度曲線を得る。前記照度曲線における半値幅（全半値幅）を拡散角度とし、表１に示す。
実施例１の表面微細凹凸シートは表面に波状凹凸パターンが形成されており、また、前記波状凹凸パターンの平均ピッチが３６μｍであり、アスペクト比が０．３であるため、高い抗菌効果を発揮した。また、実施例１の表面微細凹凸シートは表面の波状凹凸パターンの効果により結露しにくく、表面に付着した水分の乾燥が早いため、真菌、細菌、バクテリア等の湿気による増殖を抑制できる。また、拡散角度が３０°十分に高いため、建物の内壁等の建材に用いた場合、光の拡散性が十分で、電灯等の室内光が部屋全体を均一に明るく出来る。そのため、本発明の表面微細凹凸シートは、光拡散シートとして好適に使用できる。特に、本発明の表面微細凹凸シートは、建物内での光拡散性シートとして好適に使用することができる。
比較例１の表面微細凹凸シートは抗菌効果、結露のしやすさおよび光の拡散性が実施例１と同等であった。しかし、実施例１の表面微細凹凸シートは前記抗菌力試験を繰り返し実施しても、抗菌効果は一定であったが、比較例１の表面微細凹凸シートは前記抗菌力試験を繰り返し実施すると、抗菌効果が低下した。この理由としては、比較例１の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンの平均ピッチが１８μｍと十分に大きくないため、波状凹凸パターンが埋まりやすく、抗菌効果が失われやすいことが考えられる。
比較例２の表面微細凹凸シートは平均ピッチが１２０μｍと大きすぎるため、抗菌効果が相対的に低かった。また、比較例１の表面微細凹凸シートは相対的に結露しやすく、真菌、細菌、バクテリア等の湿気による増殖が促進されるため、抗菌効果はさらに低下すると考えられる。
比較例３の表面微細凹凸シートはアスペクト比が０．０４であるため、抗菌効果が相対的に低かった。また、比較例１の表面微細凹凸シートは相対的に結露しやすく、真菌、細菌、バクテリア等の湿気による増殖が促進されるため、抗菌効果はさらに低下すると考えられる。また、比較例３の表面微細凹凸シートは、アスペクト比が０．０４であるため、光の拡散性が十分に大きくなかった。
比較例４の表面微細凹凸シートは抗菌効果、結露のしやすさ、光の拡散性が実施例１の表面微細凹凸シートと同等であった。しかし、実施例１の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンは他の物質と接触しても変形しにくいが、比較例４の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンは他の物質との接触等により折れやすかった。この理由としては、比較例４の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンのアスペクト比が大きすぎるため、他の物質との接触の影響を受けやすいことが考えられる。
比較例５の表面微細凹凸シートは実施例１に比べて抗菌効果が低かった。比較例５の表面微細凹凸シートは表面の凹凸パターンの形状が単位V溝であり、V溝同士の間隔（周期）が一定であるため、様々なサイズの真菌、細菌、バクテリア等に対する抗菌効果が十分ではなく、抗菌効果が相対的に低下したと思われる。また、比較例５の表面微細凹凸シートは表面の凹凸パターンの形状が単位V溝であるため、光が拡散せず、拡散角度が測定できなかった。
比較例１の表面微細凹凸シートは抗菌効果、結露のしやすさおよび光の拡散性が実施例１と同等であった。しかし、実施例１の表面微細凹凸シートは前記抗菌力試験を繰り返し実施しても、抗菌効果は一定であったが、比較例１の表面微細凹凸シートは前記抗菌力試験を繰り返し実施すると、抗菌効果が低下した。この理由としては、比較例１の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンの平均ピッチが１８μｍと十分に大きくないため、波状凹凸パターンが埋まりやすく、抗菌効果が失われやすいことが考えられる。
比較例２の表面微細凹凸シートは平均ピッチが１２０μｍと大きすぎるため、抗菌効果が相対的に低かった。また、比較例１の表面微細凹凸シートは相対的に結露しやすく、真菌、細菌、バクテリア等の湿気による増殖が促進されるため、抗菌効果はさらに低下すると考えられる。
比較例３の表面微細凹凸シートはアスペクト比が０．０４であるため、抗菌効果が相対的に低かった。また、比較例１の表面微細凹凸シートは相対的に結露しやすく、真菌、細菌、バクテリア等の湿気による増殖が促進されるため、抗菌効果はさらに低下すると考えられる。また、比較例３の表面微細凹凸シートは、アスペクト比が０．０４であるため、光の拡散性が十分に大きくなかった。
比較例４の表面微細凹凸シートは抗菌効果、結露のしやすさ、光の拡散性が実施例１の表面微細凹凸シートと同等であった。しかし、実施例１の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンは他の物質と接触しても変形しにくいが、比較例４の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンは他の物質との接触等により折れやすかった。この理由としては、比較例４の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンのアスペクト比が大きすぎるため、他の物質との接触の影響を受けやすいことが考えられる。
比較例５の表面微細凹凸シートは実施例１に比べて抗菌効果が低かった。比較例５の表面微細凹凸シートは表面の凹凸パターンの形状が単位V溝であり、V溝同士の間隔（周期）が一定であるため、様々なサイズの真菌、細菌、バクテリア等に対する抗菌効果が十分ではなく、抗菌効果が相対的に低下したと思われる。また、比較例５の表面微細凹凸シートは表面の凹凸パターンの形状が単位V溝であるため、光が拡散せず、拡散角度が測定できなかった。
１０Ａ、２０Ａ：表面微細凹凸シート１１、２１：波状凹凸パターン形成面（１Ａ）、（２Ａ）：波状凹凸パターン１１ａ、２１ａ：凸条部Ｂ１、Ｂ２：凹条部の底部
Claims (3)
- 一方の表面に不規則な波状凹凸パターンを有する表面微細凹凸シートであって、前記波状凹凸パターンの凸条部の平均ピッチが２０μｍを超え１００μｍ以下であり、前記凸条部のアスペクト比が０．０５〜１であることを特徴とする表面微細凹凸シート。
- 前記平均ピッチが２５〜５０μｍである、請求項１に記載の表面微細凹凸シート。
- 光拡散性シートである、請求項１又は２に記載の表面微細凹凸シート。
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2018
- 2018-10-01 JP JP2018186354A patent/JP2020056863A/ja active Pending
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