JP2020002388A - 真空蒸着装置用の蒸着源 - Google Patents
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Abstract
【課題】簡単な構成で噴射ノズルのノズル詰まりを可及的に抑制することができる真空蒸着装置用の蒸着源を提供する。【解決手段】真空チャンバ1内に配置されて被蒸着物Swに対して蒸着するための本発明の蒸着源DSは、蒸着物質4を収容する収容箱51を備え、被蒸着物に対向する収容箱の面51aに、加熱により昇華または気化した蒸着物質を噴射する噴射ノズル541,542が突設されているものにおいて、噴射ノズルの外周に、ノズル先端から収容箱の面までのびる肉厚部55,56が形成される。【選択図】図2
Description
本発明は、真空蒸着装置用の蒸着源に関し、より詳しくは、噴射ノズルのノズル詰まりを防止できるようにしたものに関する。
この種の蒸着源を備えた真空蒸着装置は例えば特許文献1で知られている。このものでは、被蒸着物を矩形のガラス基板(以下、「基板」という)、基板の蒸着源に対する相対移動方向をX軸方向、X軸方向に直交する基板の幅方向をY軸方向として、蒸着源が蒸着物質を収容する収容箱を有し、収容箱の基板との対向面(上面)には、噴射ノズル(筒状部材)がY軸方向に間隔を存して列設されている(所謂ラインソース)。そして、真空雰囲気の真空チャンバ内で、収容箱に収容された蒸発物質を加熱して昇華または気化させ、この昇華または気化した蒸着物質を各噴射ノズルから噴射させ、蒸着源に対してX軸方向に相対移動する基板に付着、堆積させて所定の薄膜が成膜される。この場合、蒸着源と基板との間に、この基板に対する蒸着物質の付着範囲を制限するマスクプレートを介在させて所定のパターンで基板に成膜することも従来から知られている。
各噴射ノズルは、通常、そのノズル孔の孔軸が基板に平行な収納箱の対向面に対して直交する方向にまたは、この対向面に対してY軸方向に所定角で傾斜する方向に起立した姿勢で収容箱の対向面に突設され、真空蒸着時、収容箱の対向面に蒸着物質が付着、堆積しても、ノズル孔が閉塞されないようにしている。ここで、真空蒸着時、収容箱内の蒸着物質を加熱すると、収容箱自体も加熱されて昇温する。このとき、加熱された収容箱の対向面からの輻射熱で基板やマスクプレートも加熱される場合があり、これでは、基板とマスク材との熱膨張の差で精度よく所定のパターンで蒸着(成膜)できない虞がある。
上記問題の解決策として、収容箱の対向面に遮熱板を対向配置することが考えられる。このような遮熱板としては、内部に冷媒の循環通路が形成され、ノズル先端の挿通を許容する透孔が開設されたパネル部を持つものが一般に利用できる。そして、真空蒸着中、パネル部に冷媒を循環させて冷却することで、収容箱の対向面からの熱を遮断する。然し、上記のように遮熱板を設けると、真空蒸着中にノズル詰まりが発生し易いことが判明した。
そこで、本願の発明者らは、鋭意研究を重ね、蒸着物質を昇華または気化させる際に収容箱自体が加熱されたとき、上記遮熱板の存在により、噴射ノズル、特にノズル先端部と収容箱の対向面との間の温度差が大きくなることに起因していることを知見するのに至った。つまり、昇華または気化した蒸着物質が噴射ノズル内を通って外部に飛散していくとき、蒸着物質の一部が噴射ノズルの内壁面に衝突するが、上記温度差が大きく(即ち、ノズル先端部分の温度が比較的に低く)なると、その内壁面に衝突した蒸着物質が再凝固して堆積していくことでノズル詰まりを招来することを知見するのに至った。このような場合、例えば、噴射ノズルの周囲に加熱手段を設けて温度差を可及的に小さくすることも考えられるが、これでは、装置構成が複雑になったり、コスト高を招いたりする。
本発明は、以上の点に鑑み、簡単な構成で噴射ノズルのノズル詰まりを可及的に抑制することができる真空蒸着装置用の蒸着源を提供することをその課題とするものである。
上記課題を解決するために、真空チャンバ内に配置されて被蒸着物に対して蒸着するための本発明の真空蒸着装置用の蒸着源は、蒸着物質を収容する収容箱を備え、被蒸着物に対向する収容箱の面に、加熱により昇華または気化した蒸着物質を噴射する噴射ノズルが突設され、噴射ノズルの外周に、ノズル先端から収容箱の面までのびる肉厚部が形成されることを特徴とする。
本発明によれば、噴射ノズルの周囲に肉厚部を形成して熱容量を増加させたことで、真空蒸着時、特にノズル先端部と収容箱の対向面との間の温度差を可及的に小さくしてノズル先端部の温度低下を抑制することができる。このため、昇華または気化した蒸着物質が噴射ノズル内を通って外部に飛散していくとき、蒸着物質の一部が噴射ノズルの内壁面に衝突しても、その衝突した蒸着物質が再凝固せずに、その内壁面に衝突して散乱し、これを繰り返しながらノズル先端から外部に噴射されるようになる。その結果、ノズル詰まりを可及的に抑制することができる。この場合、噴射ノズルのノズル壁を部分的または全体的に肉厚にするだけだから、構成も簡単で済む。
ここで、本発明のように、噴射ノズルのノズル壁を部分的または全体的に肉厚にする場合、噴射ノズル自体が基板やマスクプレートに対する熱源にならないようにする必要がある。そこで、本発明において、前記噴射ノズルは、その孔軸が前記収容箱の面に対して直交する方向に起立した姿勢で突設されている場合、前記肉厚部が、前記噴射ノズルの外周をその起立方向全長に亘って囲い、ノズル先端から収容箱の面に向けて末広がりの傾斜面を持つことが好ましい。他方、前記噴射ノズルは、その孔軸が前記収容箱の面に対して傾斜した姿勢で突設されている場合、前記肉厚部が、前記噴射ノズルと前記収容箱との間の空間を埋めるリブで構成され、リブの端面が、前記ノズル先端を通る、収容箱の面に対する垂線上に位置するようにすることが好ましい。この場合、肉厚部としてのリブの厚さは、ノズル径と同等以下になっていればよい。
以下、図面を参照して、被成膜物を矩形の輪郭を持つ所定厚さのガラス基板(以下、「基板Sw」という)とし、基板Swの片面に所定の薄膜を成膜する場合を例に本発明の真空蒸着装置用の蒸着源の実施形態を説明する。以下においては、「上」、「下」といった方向を示す用語は図1を基準として説明する。
図1(a)及び(b)を参照して、Dmは、本実施形態の蒸着源DSを備える真空蒸着装置である。真空蒸着装置Dmは、真空チャンバ1を備え、真空チャンバ1には、特に図示して説明しないが、排気管を介して真空ポンプが接続され、所定圧力(真空度)に真空引きして保持できるようになっている。また、真空チャンバ1の上部には基板搬送装置2が設けられている。基板搬送装置2は、成膜面としての下面を開放した状態で基板Swを保持するキャリア21を有し、図外の駆動装置によってキャリア21、ひいては基板Swを真空チャンバ1内の一方向に所定速度で移動するようになっている。基板搬送装置2としては公知のものが利用できるため、これ以上の説明は省略する。また、以下においては、蒸着源DSに対する基板Swの相対移動方向をX軸方向、X軸方向に直交する基板Swの幅方向をY軸方向とする。
基板搬送装置2によって搬送される基板Swと後述の蒸着源DSとの間には、板状のマスクプレート3が設けられている。本実施形態では、マスクプレート3は、基板Swと一体に取り付けられて基板Swと共に基板搬送装置2によって搬送されるようになっている。なお、マスクプレート3は、真空チャンバ1に予め固定配置しておくこともできる。マスクプレート3には、板厚方向に貫通する複数の開口31が形成され、これら開口31がない位置にて蒸着物質の基板Swに対する付着範囲が制限されることで所定のパターンで基板Swに成膜されるようになっている。マスクプレート3としては、インバー、アルミ、アルミナやステンレス等の金属製の他、ポリイミド等の樹脂製のものが用いられる。そして、真空チャンバ1の底面には、X軸方向に移動される基板Swに対向させて本実施形態の蒸着源DSが設けられている。
図2も参照して、蒸着源DSは、蒸着物質4を収容する収容箱51を有する。蒸着物質4としては、基板Swに成膜しようとする薄膜に応じて適宜選択され、顆粒状またはタブレット状のものが利用される。この場合、収容箱51の下部には、金属製の受け皿52が設けられ、受け皿52上に蒸着物質4が設置されるようになっている。受け皿52と収容箱51の底壁との間には加熱手段53が設けられ、受け皿52を介して蒸着物質4が昇華温度または気化温度まで加熱されるようになっている。加熱手段53としては、シースヒータやランプヒータ等の公知のものが利用できる。なお、特に図示して説明しないが、収容箱51内には分散板が設けられ、気化した蒸着物質4を後述の各噴出ノズルから略均等な流量で噴射できるようになっている。
収容箱51の上面(基板Swとの対向面)51aには、所定高さの筒体で構成される、気化させた蒸着物質4を噴射する噴射ノズル541,542がY軸方向に所定の間隔で(本実施形態では、10本)列設されている。本実施形態では、所謂マスクエフェクトを抑制しつつ、Y軸方向に均等な膜厚で蒸着できるように、Y軸方向で中央領域に位置する噴射ノズル541は、その孔軸54aが基板Swに平行に設置される収容箱51の上面51aに直交した姿勢で起立するように立設されている。一方、Y軸方向で外郭領域に夫々位置する(4本の)噴射ノズル542は、その孔軸54bがY軸方向外方に傾く姿勢で起立するように立設されている。
ここで、真空蒸着時、加熱手段53により収容箱51内の蒸着物質4を加熱すると、収容箱51自体も加熱されて昇温する。このとき、加熱された収容箱51の上面51aからの輻射熱で基板Swやマスクプレート3も加熱される場合があり、これでは、基板Swとマスクプレート3との熱膨張の差で精度よく所定のパターンで蒸着(成膜)できない虞がある。本実施形態では、収容箱51の上面51aには遮熱板6が対向配置されている(図2参照)。この場合、遮熱板6は、内部に冷媒の循環通路(図示せず)が形成されたパネル部61と、パネル部61を、収容箱51の上面51aに平行に且つそこから所定の高さ位置に支持する支持脚(図示せず)とで構成されている。
パネル部61は、その主面が収容箱51の上面51aと同等の面積を持つように形成され、また、パネル部61の所定位置には、収容箱51の上面51aに支持脚を介して設置するとき、ノズル先端部の挿通を許容する上下方向の透孔62,63が開設されている。支持脚の高さは、真空蒸着時、収容箱51の上面51aに付着、堆積したものによって噴射ノズル541,542が閉塞されないように、ノズル先端部がパネル部61から上方に突出するように適宜設定される。そして、真空蒸着中には、パネル部61の循環通路に冷媒を循環させて所定温度に冷却することで、基板Swから蒸着源DSをみたとき、ほぼ噴射ノズル541,542のノズル先端のみが熱源となるようにし、基板Swやマスクプレート3の昇温を可及的に抑制している。なお、特に図示して説明しないが、熱線を反射する複数枚のリフレクター板を収容箱51の上面51aとパネル部61との間に更に設けるようにしてもよい。
ところで、上記の如く、遮熱板6を設けると、各噴射ノズル541,542、特にノズル先端部と収容箱51の上面51aとの間の温度差が大きくなることに起因してノズル詰まりを招来する虞があるため、これを可及的に抑制する必要がある。本実施形態では、各噴射ノズル541,542の外周に、ノズル先端から収容箱51の上面51aまでのびる肉厚部55,56を形成することとした。具体的には、Y軸方向の中央領域に位置する噴射ノズル541について(即ち、その孔軸54aが収容箱51の上面51aに対して直交する方向に起立した姿勢で突設されている場合)、肉厚部55は、噴射ノズル541の外周をその起立方向全長に亘って囲い、ノズル先端から収容箱51の上面51aに向けて末広がりの傾斜面55aを持つように形成されている。この場合、肉厚部55の上部を含む噴射ノズル541のノズル先端部分が透孔62を挿通してパネル部61から上方に突出するようにしている。
一方、Y軸方向の外郭領域に夫々位置する噴射ノズル542について(即ち、その孔軸54bが収容箱51の上面51aに対して傾斜した姿勢で突設されている場合)、肉厚部56は、噴射ノズル542と収容箱51との間の空間を埋めるリブ56で構成され、リブ56の端面56aが、噴射ノズル542のノズル先端を通る、収容箱51の上面51aに対する垂線56b上に位置するようにしている。この場合、リブ56の厚さは、ノズル径と同等以下に設定されている。なお、肉厚部55,56は、噴射ノズル541,542と一体に形成されるが、肉厚部55,56を噴射ノズル541,542と別体で形成した後に、噴射ノズル541,542と合体させることもでき、このような場合、ノズル先端部と収容箱51の上面51aとの間の温度差が可及的に小さくなるように、肉厚部55,56の材質を変えるようにしてもよい。
以上の実施形態によれば、噴射ノズル541,542の周囲に肉厚部55,56を形成して熱容量を増加させたことで、真空蒸着時にノズル先端部と収容箱51の上面51aとの間の温度差を可及的に小さくしてノズル先端部の温度低下を抑制することができる。このため、昇華または気化した蒸着物質4が噴射ノズル541,542内を通って外部に飛散していくとき、蒸着物質4の一部が噴射ノズル541,542の内壁面に衝突しても、その衝突した蒸着物質4が再凝固せずに、その内壁面に衝突して散乱し、これを繰り返しながらノズル先端から外部に噴射されるようになる。その結果、ノズル詰まりを可及的に抑制することができる。この場合、噴射ノズル541,542のノズル壁を部分的または全体的に肉厚にするだけだから、構成も簡単で済み、その上、肉厚部55,56の大部分が遮熱板6で遮蔽されるため、肉厚部55,56を含む噴射ノズル541,542自体が基板Swやマスクプレート3に対する熱源になることが抑制され、有利である。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の技術思想の範囲を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。上記実施形態では、被成膜物をガラス基板Swとし、基板搬送装置2によりガラス基板Swを一定の速度で搬送しながら成膜するものを例に説明したが、真空蒸着装置の構成は、上記のものに限定されるものではない。例えば、被成膜物をシート状の基材とし、駆動ローラと巻取りローラとの間で一定の速度で基材を移動させながら基材の片面に成膜するような装置にも本発明は適用できる。また、真空チャンバ1内に基板Swとマスクプレート3を一体として固定し、蒸着源に公知の構造を持つ駆動手段を付設して、基板Swに対して蒸着源を相対移動させながら成膜することにも本発明は適用できる。即ち、基板Swと蒸着源DSを相対的に移動させれば、基板Swと蒸着源DSのいずれか、もしくは両方を移動させてもよい。更に、収容箱51に噴射ノズル541,542を一列で設けたものを例に説明したが、複数例設けることもできる。
また、上記実施形態では、噴射ノズル541,542は、収容箱51の上面51aに突設されているが、金属のブロックに穴をあけることで作成してもよい。また、噴射ノズル541,542は、上面51aに対して全周を溶接して固定されるのが好ましく、これによれば、上面51aから噴射ノズル541,542への熱の伝達を良くすることができる。また、噴射ノズル541,542の肉厚部55,56の最大の厚さは、ノズル穴の内径よりも大きい厚さにすることが好ましい。これによれば、加熱されている収容箱51からの伝熱面積が大きくなり、かつ熱容量が大きくなるため、遮熱板6が冷却されている場合でも、ノズル穴内壁面の温度が低下することを抑制できる。
また、上記実施形態では、各噴射ノズル541の肉厚部55として、ノズル先端から収容箱51の上面51aに向けて末広がりの傾斜面55aを持つように形成したものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、パネル部61の下方に位置する肉厚部55の部分を筒状に形成して、その体積を増加させるようにしてもよい。一方、各噴射ノズル542の肉厚部56としてリブ56で構成するものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、これに加えて、パネル部61の下方に位置する各噴射ノズル542の外周に他の肉厚部を形成するようにしてもよい。
DS…真空蒸着装置用の蒸着源、Dm…真空蒸着装置、Sw…基板(被蒸着物)、1…真空チャンバ、4…蒸着物質、51…収容箱、51a…被蒸着物に対向する収容箱の面、541,542…噴射ノズル、54a,54b…孔軸、55…肉厚部、55a…末広がりの傾斜面、56…リブ(肉厚部)、56a…リブの端面、56b…垂線。
Claims (3)
- 真空チャンバ内に配置されて被蒸着物に対して蒸着するための真空蒸着装置用の蒸着源であって、
蒸着物質を収容する収容箱を備え、被蒸着物に対向する収容箱の面に、加熱により昇華または気化した蒸着物質を噴射する噴射ノズルが突設されているものにおいて、
噴射ノズルの外周に、ノズル先端から収容箱の面までのびる肉厚部が形成されることを特徴とする真空蒸着装置用の蒸着源。 - 請求項1記載の真空蒸着装置用の蒸着源であって、前記噴射ノズルは、その孔軸が前記収容箱の面に対して直交する方向に起立した姿勢で突設されているものにおいて、
前記肉厚部が、前記噴射ノズルの外周をその起立方向全長に亘って囲い、ノズル先端から収容箱の面に向けて末広がりの傾斜面を持つことを特徴とする真空蒸着装置用の蒸着源。 - 請求項1記載の真空蒸着装置用の蒸着源であって、前記噴射ノズルは、その孔軸が前記収容箱の面に対して傾斜した姿勢で突設されているものにおいて、
前記肉厚部が、前記噴射ノズルと前記収容箱との間の空間を埋めるリブで構成され、リブの端面が、前記ノズル先端を通る、収容箱の面に対する垂線上に位置するようにしたことを特徴とする真空蒸着装置用の蒸着源。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112011762A (zh) * | 2020-07-28 | 2020-12-01 | 云谷(固安)科技有限公司 | 一种蒸镀装置 |
CN113265621A (zh) * | 2021-06-22 | 2021-08-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸发源设备及其蒸镀方法、蒸镀*** |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004214185A (ja) * | 2002-12-19 | 2004-07-29 | Sony Corp | 蒸着装置および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2005105375A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜の製造方法及び薄膜の製造装置 |
JP2007031828A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | 蒸着装置 |
JP2008530372A (ja) * | 2006-07-03 | 2008-08-07 | ワイ・エー・エス カンパニー リミテッド | 真空熱蒸着用のマルチノズル蒸着器 |
JP2012146658A (ja) * | 2011-01-12 | 2012-08-02 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 蒸着源及びこれを備える有機膜蒸着装置 |
JP2012241285A (ja) * | 2011-05-18 | 2012-12-10 | Riber | 真空蒸着システムのためのインジェクター |
JP2012251213A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置 |
WO2014142097A1 (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-18 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸発源装置 |
US20170067147A1 (en) * | 2015-09-08 | 2017-03-09 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Heating Device for Evaporation Machine and Evaporation Machine |
CN207243985U (zh) * | 2017-09-27 | 2018-04-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀坩埚和蒸镀设备 |
-
2018
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004214185A (ja) * | 2002-12-19 | 2004-07-29 | Sony Corp | 蒸着装置および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2005105375A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜の製造方法及び薄膜の製造装置 |
JP2007031828A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | 蒸着装置 |
JP2008530372A (ja) * | 2006-07-03 | 2008-08-07 | ワイ・エー・エス カンパニー リミテッド | 真空熱蒸着用のマルチノズル蒸着器 |
JP2012146658A (ja) * | 2011-01-12 | 2012-08-02 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 蒸着源及びこれを備える有機膜蒸着装置 |
JP2012241285A (ja) * | 2011-05-18 | 2012-12-10 | Riber | 真空蒸着システムのためのインジェクター |
JP2012251213A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置 |
WO2014142097A1 (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-18 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸発源装置 |
US20170067147A1 (en) * | 2015-09-08 | 2017-03-09 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Heating Device for Evaporation Machine and Evaporation Machine |
CN207243985U (zh) * | 2017-09-27 | 2018-04-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀坩埚和蒸镀设备 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112011762A (zh) * | 2020-07-28 | 2020-12-01 | 云谷(固安)科技有限公司 | 一种蒸镀装置 |
CN113265621A (zh) * | 2021-06-22 | 2021-08-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸发源设备及其蒸镀方法、蒸镀*** |
CN113265621B (zh) * | 2021-06-22 | 2023-11-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸发源设备及其蒸镀方法、蒸镀*** |
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