JP2019527253A - 接着剤物品及びその製造方法 - Google Patents

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Abstract

接着剤物品の製造方法は、両側に配置された第１及び第２のシリコーン剥離ライナーを有するライナーを提供することと、オニウム塩光酸発生剤を第１のシリコーン剥離層の少なくとも一部分に適用して、変性シリコーン剥離層を提供することと、接着剤層を第２のシリコーン剥離層の上に配置することと、少なくとも接着剤層をプロセスチャンバ内の電子ビーム照射に曝露し、それによって架橋接着剤層を提供することと、を含み、ここで、プロセスチャンバは酸素を含み、変性シリコーン剥離層は接着剤層の架橋中に酸素にさらされる。第１のシリコーン剥離層は、オニウム塩光酸発生剤を含まない。当該方法によって製造された、接着剤物品も開示される。【選択図】なし

Description

発明の詳細な説明
［技術分野］
本開示は、接着剤物品及びその製造方法に広く関する。
［背景技術］
接着テープには、多数の変化形（例えば、片面又は両面テープ）があり、典型的にはロール状に巻き取られている。両面接着テープ（「接着剤転写テープ」とも呼ばれる）は、両側に接着特性を有し、一般的に、接着剤を保護するためのライナーによって覆われ、ライナーは接着剤を基材に結合する前に取り除かれる。一部の実施形態において、両面剥離ライナーが使用され、第１の剥離層は、バッキングの第１主面上にコーティングされており、第２の剥離層は、第１主面の反対側のバッキングの第２主面上にコーティングされている。典型的には、第１及び第２の剥離層は、テープをロール形態で分与しやすくするために、異なる剥離特性を有するように設計される。例えば、ロールのきれいな巻き出しを実現するために、第１の剥離層は、第２の剥離層よりも多少しっかりと接着剤層に結合してもよい。
両面接着テープの製造方法は、比較的単純となり得、１つの製造方法及び得られる構造は以下のとおりである。接着剤組成物の層が、剥離ライナーの第１の剥離層上に、準備され、押し出され、又はそうでなければいくつかの許容可能な方法でコーティングされる。高性能接着テープを得るために、接着剤組成物は、その後架橋される（例えば、化学的に、可視光若しくは紫外光によって、又は電子ビーム照射によって）ことが多い。次に、両面剥離ライナー及び接着剤構造物は、接着剤層が第１の剥離層と第２の剥離層との間に挟持されるようにロール状に巻き取られる。
この方法による両面接着テープの製造は、望ましいが、接着剤ポリマーを架橋するために電子ビーム（「Ｅビーム」）照射を使用するときに、重大な問題が生じる。Ｅビーム照射は、大量の顔料若しくは充填剤を有する接着剤ポリマー、及び／又はより厚い接着剤フィルムを架橋させるのに効果的であることから、架橋の方法として有利である。単一の両面ライナー付きテープ構造物において、典型的には、シリコーン剥離層の主面（露出面）をＥビームプロセスチャンバの周囲環境にさらして、電子ビーム（Ｅビーム）曝露工程を実施することが必要である。ロール状に巻き取る前に、シリコーン剥離層の露出面をＥビーム照射に曝露（Ｅビーム処理）した場合、接着剤層自体に接着したときのシリコーン剥離層の剥離特性が、有害な形で改変される。
更に、この構成では、その後巻き取られる接着剤層と剥離層との間の接着結合は、時間の経過とともに強くなる傾向があり、予想外の製品性能を招く。これは、最終製品において、接着剤層の接着力が両方の剥離層に対してほぼ同じであるという望ましくない状況を生み、「ライナーコンフュージョン」として知られる状態となる。場合によっては、剥離ライナーを取り除くことさえできない。これは「ライナーブロッキング」として知られる。接着材料が直接（すなわち、剥離ライナーを通さずに）Ｅビーム処理されるときであっても、接着材料の反対側のシリコーン剥離層側面は、典型的には、放射線がライナーを透過した場合、影響を受ける。
この問題の一つの解決方法は、両面接着テープを一時的にライナー上に製造し、Ｅビーム照射で接着剤を架橋し、その後、一時的にライナーを別の剥離ライナーで置き換えた後、包装して最終製品にすることであった。しかし、この解決方法は、プロセスの複雑さを増し、プロセスの無駄を増やし、別のライナーの余分なコストを追加することから、許容することができない。したがって、置き換えを必要とせず消費者が最終製品を使用できるように、本質的に同じＥ−ビーム処理前剥離特性をなお維持しながらＥビーム処理できる、剥離ライナーが必要とされている。
［発明の概要］
理論に束縛されるものではないが、出願人は、接着剤層の開口部側面上（上記）及び露出したシリコーン剥離層上へのＥビーム曝露の有害な影響は、接着剤及び剥離材表面並びにこれらの境界面を時間の経過とともに化学的に変換する様々な化学種（例えば、パーオキサイド基及び／又はパーオキシラジカル）の形成を招き、それにより、上記問題が生じる一因となると考える。
有利には、本開示は、コストのかかる一時的ライナーを必要とすることなく、上記問題を克服する方法を記載する。
一態様では、本開示は、接着剤物品を製造する方法であって、
第１及び第２の両主面を有するライナーを提供することと、ここで、第１のシリコーン剥離層は第１主面上に配置され、第２のシリコーン剥離層は第２主面上に配置され、第２のシリコーン剥離層がオニウム塩光酸発生剤を含まない、
オニウム塩光酸発生剤を第２のシリコーン剥離層の少なくとも一部分に適用して、変性シリコーン剥離層を提供することと、
第１のシリコーン剥離層の上に接着剤層を配置することと、
少なくとも接着剤層をプロセスチャンバ内の電子ビーム照射に曝露し、それによって架橋接着剤層を提供することと、ここで、プロセスチャンバは酸素を含み、変性シリコーン剥離層は接着剤層の架橋中に酸素にさらされる、
を含む、製造方法を提供する。
更に別の態様では、本開示は、本開示の方法に従って製造された、接着剤物品を提供する。
本明細書で使用する場合、
用語「シリコーン化剥離ライナー」（siliconized release liner）は、両主面上にシリコーン剥離層を有するライナー（例えば、テープ又はシート）を指す。
用語「光酸」は、紫外線又は可視電磁放射線に曝露されると分解して酸を形成する材料を指す。
用語「オニウム塩」は、Ｎ、Ｐ、Ｓ、Ｉ、及びこれらの組み合わせから選択される正に帯電したヘテロ原子を少なくとも１個有する、有機カチオンを有する塩を指す。
本開示の特徴及び利点は、詳細な説明並びに添付の特許請求の範囲を考慮することにより更に理解されるであろう。
本開示による例示的な両面接着テープの垂直断面の概略図である。 両面接着テープをロール状に巻き取る例示的方法の概略図である。 本開示による両面接着テープの例示的製造プロセスの概略図である。
明細書及び図面中の参照文字が繰り返して使用されている場合、本開示の同じ又は類似の特徴又は要素を表すことを意図している。多くの他の変更形態及び実施形態を当業者であれば考案することができ、それらは本開示の原理の趣旨及び範囲に入ることは理解されるべきである。図面は、縮尺どおりに描かれていない場合がある。
［発明を実施するための形態］
図１は、製造後かつ包装前の両面接着テープ１０の一構成の垂直断面を示している。両面接着テープ１０は、接着剤層１２を含む。接着剤層１２に使用できるポリマーは、以下により詳細に論じる。接着剤層１２は一般にシート状に形成され、第１の表面１１と第２の表面１３とを有する。両面接着テープ１０を製造するとき、製造方法は、接着剤層１２の第１の表面１１を覆われないままにする。
両面接着テープ１０は、シリコーン化剥離ライナー２０も含む。シリコーン化剥離ライナー２０は、バッキング２１を含む。バッキング２１に適する材料は、以下でより詳細に論じる。バッキング２１は、第１の表面２３と第２の表面２４とを含む。シリコーン化剥離ライナー２０は、第１のシリコーン剥離層２２と第２のシリコーン剥離層２５とを含む。図１は、第１のシリコーン剥離層２２を有するシリコーン化剥離ライナー２０を示し、バッキング２１は、第１のシリコーン剥離層２２を必要としない、十分なライナー剥離性を有してもよい。使用する場合、第１のシリコーン剥離層２２は、バッキング２１の第１の表面２３に適用される。第２のシリコーン剥離層２５は、バッキング２１の第２の表面２４に適用される。第１のシリコーン剥離層２２は、接着剤層１２の第２の表面１３に隣接する剥離側面２７及びバッキング側面２８を有する。第１のシリコーン剥離層２２の剥離側面２７は、シリコーン化剥離ライナー２０の第１の表面２３も画定する。第２のシリコーン剥離層２５は、バッキング側面２９と非バッキング側面３０とを有する。第２のシリコーン剥離層２５の非バッキング側面３０は、シリコーン化剥離ライナー２０の第２の表面３２も画定する。第１及び第２のシリコーン剥離層２２及び２５は、同じ材料から構成されていても、異なる材料から構成されていてもよい。好ましくは、第１及び第２のシリコーン剥離層（２２、２５）は、異なる材料から構成される。
図２は、両面接着テープ１０を包装する準備を行う１つの方法を示す。両面接着テープ１０は、それ自体がロール状に巻き取られて、包装可能な物品５０を形成する。使用時に、両面接着テープは巻き出され、任意に切断され、接着剤層１２の露出側面（上述した第１の側面１１）で表面に適用され、その後、バッキング２１が取り除かれる。任意選択的に、接着剤層１２の第２の側面１３は、バッキング２１を取り除いた後に第２の表面に適用される。この包装可能な物品５０の形成方法により、両面接着テープ１０の一部分が両面接着テープ１０の他の部分と相互作用する。いったん両面接着テープ１０をそれ自体に巻き取り始めると、接着剤層１２の第１の表面１１は、第２のシリコーン剥離層２５の非バッキング側面３０（シリコーン化剥離ライナー２０の第２の表面３２とも呼ばれる）と接触することになる。
第２のシリコーン剥離層２５の非バッキング側面３０と接着剤層１２の第１の表面１１との接触は、両面接着テープ１０を使用するために包装可能な物品５０を巻き出す時に重要になる。接着剤層１２及びシリコーン化剥離ライナー２０は、接着剤層１２の第１の表面１１ではなく第２の表面１３を通して接触を維持することが望ましい。このため、シリコーン化剥離ライナー２０は、接着剤層１２の第２の表面１３から剥離する前に第１の表面１１から優先的に剥離するべきである。したがって、シリコーン化剥離ライナー２０は、接着剤層１２の第２の表面１３からのライナー剥離性と十分に異なる、接着剤層１２の第１の表面１１からのライナー剥離性を有するべきである。シリコーン化剥離ライナー２０の第２の表面３２及び接着剤層１２は、この差異による効果を発現するように構成される。好ましくは、第１の剥離層からの剥離力と第２の剥離層からの剥離力との比を、少なくとも２：１、より好ましくは少なくとも３：１とする。
図３は、両面接着テープ１０を製造し、それを包装可能な物品５０に成形する１つの方法を概略的に示している。接着剤層１２は、ディスペンサー１０１からシリコーン化剥離ライナー２０上に分与される。次に、シリコーン化剥離ライナー２０及び接着剤層１２は、１対のニップロール１０２の間に互いに積層されて、両面接着テープ１０を形成する。その後、両面接着テープ１０は、シリコーン化剥離ライナー２０を通して放射線源１０３からの放射線に曝露されて、接着剤層１２の架橋が起こる。放射線源１０３は、好ましくはＥビーム源である。その後、両面接着テープ１０は、それ自体にロール状に巻き取ることによって、包装可能な物品５０に形成される。
シリコーン化剥離ライナーは、第１及び第２の両主面（２３、２４）を有するバッキングを有する。第１及び第２のシリコーン剥離層（２２、２５）は、バッキング２１のそれぞれの表面上に配置される。
バッキング２１に好適な材料としては、例えば、ポリエステルフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム）及びポリオレフィンフィルム（例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、２軸配向ポリプロピレンフィルム（ＢＯＰＰフィルム））などのポリマーフィルム、金属蒸着フィルム、シール紙（例えば、ポリエチレンコーティング紙、金属蒸着紙、及びクレーコーティング紙）、及び紙が挙げられる。
バッキング２１の第１の表面２３の第１のシリコーン剥離層２２は、当該技術分野で公知のもの、例えば、硬化メカニズムとして、縮合硬化（例えば、加水分解）付加硬化（例えば、ヒドロシリル化ベースの）、フリーラジカル硬化、カチオン硬化、及びトリガード縮合硬化を用いる化学物質などの従来のシリコーン剥離材料を含むことができる。これらのシリコーン化学に関する詳細は、例えば、米国特許第４，５０４，６４５号（Ｍｅｌａｎｃｏｎ）、同第４，６００，４８４号（Ｄｒａｈｎａｋ）、及び同第７，２７９，２１０号（Ｈｕｌｔｅｅｎら）、国際公開第９８／４０４３９号（Ｌｉｕら）及びＨａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ａｄｈｅｓｉｖｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，３ｒｄ ｅｄ．，Ｃｈａｐｔｅｒｓ ２３ ａｎｄ ２４，Ｖａｎ Ｎｏｓｔｒａｎｄ Ｒｅｉｎｈｏｌｄ Ｃｏ．，Ｉｎｃ．（１９８９）に見ることができる。
バッキング２１の第２の表面２４上の第２のシリコーン剥離層２５は、従来のシリコーン剥離材料も含むことができる。好ましくは、第２のシリコーン剥離層材料は、極性又は反応性官能基、特にフリーラジカル反応性官能基がきわめて少なく、強固に架橋したシロキサンネットワークを含む。化学結合の開裂は、ポリマーがＥビーム照射に曝露したときに、照射されたポリマーの励起状態から起きるものであり、フリーラジカル形成につながることが知られている。形成されたフリーラジカルは寿命が短く、他のフリーラジカルと再結合して反応性を失うか、ポリマーと反応するか、又は他の官能基と反応して、より寿命が長いフリーラジカルを生じるかのいずれかになる。比較的寿命の長いフリーラジカルは、例えば、分子状酸素と更に反応することができ、照射された材料が酸素含有環境にさらされた（すなわち、放射線酸化された）ときに、比較的安定なパーオキサイド化合物を与える。
こうして形成されたパーオキサイドは、比較的寿命が長く、その結果、接着剤−剥離境界面に移行して接着剤と更に反応（又は相互作用）できる場合がある。これは、より高いライナー剥離値（比較的高い望ましくない巻き出し力を必要とすることを意味する）又はライナーブロッキングを引き起こす。ライナーブロッキングを最小限に抑え、第２のシリコーン剥離層２５を望ましく機能させるために、シリコーン剥離層材料は、アクリレート、メタクリレート、ビニル及び水素化ケイ素官能基などのフリーラジカル反応性官能基の含有量をできるだけ少なくするべきである。
本発明者らは、予想外にも、硬化したシリコーン剥離コーティング上にオニウム塩光酸発生剤をコーティングし、オニウム塩光酸コーティングされたシリコーン剥離層を電子ビーム照射に曝露することにより、許容可能な剥離力をもたらす剥離層が得られることを見出した。
シリコーン又はポリジメチルシロキサンは、最も重要かつ広く使用される剥離材料である。接着剤層へのシリコーン移行を低減又は回避するために、シリコーン剥離層は一般的に架橋される。架橋は、物理的架橋又は化学的架橋のいずれかであることができる。化学的架橋は、本特許出願で「硬化」とも呼ばれる。
シリコーン硬化化学のうち、フリーラジカル硬化、付加硬化、及び縮合硬化は、全て架橋ネットワークを与え得る。
架橋シリコーンは、典型的には、２つ以上の反応性基を含む少なくとも１つの対応する反応性シリコーン前駆体から誘導される。反応性基としては、好ましくは、エポキシ基、アクリレート基、シラン基、シラノール基、又はエチレン性不飽和基（例えば、ビニル基又はヘキセニル基）が挙げられる。２つ以上のエポキシ又はアクリレート基を含むシリコーン前駆体は、典型的には、別の架橋剤を必要とすることなくホモポリマー化することになる。２つ以上のシラノール、又はエチレン性不飽和基を含むシリコーン前駆体では、ハイドライド官能性シリコーン架橋剤などの別の架橋剤を使用する。あるいは、シラノール、アルコキシシラン、又はアシルオキシシラン官能性シリコーン前駆体は、米国特許第６，２０４，３５０号（Ｌｉｕら）に記載のように、アルコキシ官能性架橋剤と反応させることができる。
一部の実施形態では、シリコーンベース前駆体の官能基間の数平均分子量は、約５０００００ｇ／ｍｏｌ未満、好ましくは約２００００未満又はそれ以下である。一部の実施形態では、官能基間の数平均分子量は、少なくとも約５００ｇ／ｍｏｌであり、多くの場合、少なくとも約２，０００ｇ／ｍｏｌである。
好適なエポキシ官能性シリコーン前駆体は、例えば、米国特許第４，２７９，７１７号（Ｅｃｋａｒｇら）及び第５，３３２，７９７号（Ｋｅｓｓｅｌら）に記載されている。エポキシ官能性シリコーン前駆体の例としては、例えば、ＳＩＬＦＯＲＣＥ ＵＶ９４００、ＳＩＬＦＯＲＣＥ ＵＶ９３１５、ＳＩＬＦＯＲＣＥ ＵＶ９４３０、ＳＩＬＦＯＲＣＥ ＵＶ９６００として全てＭｏｍｅｎｔｉｖｅ（Ｃｏｌｕｍｂｕｓ，Ｏｈｉｏ）から入手可能なもの、及びＳＩＬＣＯＬＥＡＳＥ ＵＶ２００シリーズとしてＢｌｕｅｓｔａｒ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ（Ｅａｓｔ Ｂｒｕｎｓｗｉｃｋ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から入手可能なものが挙げられる。
好適なアクリレート官能性シリコーン前駆体は、例えば、米国特許第４，３４８，４５４号（Ｅｃｋｂｅｒｇ）に記載されている。アクリレート官能性シリコーン前駆体の例としては、例えば、ＳＩＬＣＯＬＥＡＳＥ ＵＶ１００シリーズとしてＢｌｕｅｓｔａｒ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓから入手可能なもの、並びにＴＥＧＯ ＲＣ９０２、ＴＥＧＯ ＲＣ９２２、及びＴＥＧＯ ＲＣ７１１としてＥｖｏｎｉｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（Ｐａｒｓｉｐｐａｎｙ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から入手可能なものが挙げられる。
好適なシラノール官能性シリコーンは公知であり、例えば、Ｇｅｌｅｓｔ，Ｉｎｃ．（Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）からＤＭＳ−Ｓ１２及びＤＭＳ−Ｓ２１として入手可能なものなど、様々な供給元から入手可能である。
好適なエチレン性不飽和官能性シリコーン前駆体としては、ペンダント及び／又は末端ビニル基を有するポリジメチルシロキサン、並びにペンダント及び／又は末端ヘキセニル基を有するポリジメチルシロキサンが挙げられる。好適なヘキセニル官能性シリコーンは、例えば、米国特許第４，６０９，５７４号（Ｋｅｒｙｋら）に記載されている。ヘキセニル官能性シリコーンの一例としては、例えば、ＳＹＬ−ＯＦＦ７６７７としてＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ（Ｍｉｄｌａｎｄ，Ｍｉｃｈｉｇａｎ）から入手可能なものが挙げられる。好適なビニル官能性シリコーンは、例えば、米国特許第３，８１４，７３１号（Ｎｉｔｚｓｃｈｅら）及び同第４，１６２，３５６号（Ｇｒｅｎｏｂｌｅ）に記載されており、多種多様な供給元から入手可能である。ビニル末端ポリジメチルシロキサンの例としては、ＤＭＳ−Ｖ２１（分子量＝６０００ｇ／ｍｏｌ）及びＤＭＳ−Ｖ２５（分子量＝１７，２００ｇ／ｍｏｌ）として、Ｇｅｌｅｓｔ Ｉｎｃ．から入手可能なものが挙げられる。好適なビニル官能性シリコーンポリマーは、ＳＹＬ−ＯＦＦとしてＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇからも入手できる。末端封鎖及びペンダントビニル官能性シリコーンポリマーを含有する例示的な材料は、Ｄｏｗ ＣｏｒｎｉｎｇからのＳＹＬ−ＯＦＦ７６８０−０２０ポリマーである。
好適なハイドライド官能性シリコーン架橋剤は、例えば、米国特許第３，８１４，７３１号（Ｎｉｔｚｓｃｈｅら）及び同第４，１６２，３５６号（Ｇｒｅｎｏｂｌｅ）に記載されている。好適な架橋剤は公知であり、当業者は、多種多様なシリコーンベースのポリマーへの使用に適切な架橋剤を、このような架橋剤上の適切な官能基の識別を含めて、容易に選択できるであろう。例えば、ハイドライド官能性架橋剤は、ＳＹＬ−ＯＦＦとしてＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇから入手可能であり、ＳＹＬ−ＯＦＦ７０４８及びＳＹＬ−ＯＦＦ７６７８として入手可能なものなどがある。他の例示的なハイドライド官能性架橋剤としては、ＳＳ４３００Ｃ及びＳＬ４３２０としてＭｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ（Ａｌｂａｎｙ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）から入手可能なものが挙げられる。
ハイドライド官能性シリコーン架橋剤のハイドライド当量重量は、典型的には、少なくとも約６０ｇ毎当量（ｇ／ｅｑ）、及び典型的には約１５０ｇ／ｅｑ以下である。
シラノール官能性シリコーン前駆体及びハイドライド官能性架橋剤を含む実施形態において、ハイドライド基とシラノール基との当量比は、好ましくは少なくとも約１．０（１：１）であり、多くの場合、約２５．０（２５：１）以下である。
エチレン性不飽和官能性シリコーン前駆体及びハイドライド官能性架橋剤を含む実施形態において、ハイドライド基とエチレン性不飽和基との当量比は、好ましくは少なくとも約１．０（１：１）であり、より好ましくは少なくとも約１．１である。多くの場合、当量比は約２．０（２：１）以下であり、より多くの場合には約１．５以下である。
好適なアルコキシ官能性架橋剤、及び架橋剤の相対量などの架橋の条件は、米国特許第６，２０４，３５０号（Ｌｉｕら）に記載されている。
本明細書に記載の架橋（例えば、硬化）シリコーンは、触媒を用いて架橋された１つ以上の反応性シリコーン前駆体から誘導されてもよい。好適な触媒の例は、例えば、米国特許第５，５２０，９７８号（Ｂｏａｒｄｍａｎら）に記載されている。好ましくは、触媒は、ビニル及びヘキセニル官能性シリコーンのための白金又はロジウム触媒である。好ましくは、触媒は、シラノール官能性シリコーンのためのスズ触媒である。市販の白金触媒の例としては、限定するものではないが、ＳＩＰ６８３１．２（白金ジビニルテトラメチルジシロキサン触媒錯体のキシレン溶液；白金濃度２．１〜２．４重量％）の商品名でＧｅｌｅｓｔ Ｉｎｃ．から入手可能なものが挙げられる。Ｐｔの量は、典型的には約６０〜約１５０重量百万分率（ｐｐｍ）である。
シリコーン剥離層の製造に使用されるその他の構成成分としては、例えば、ＳＬ６０４０−Ｄ１ ０１ＰとしてＭｏｍｅｎｔｉｖｅから入手可能なジアリルマレエート阻害剤などの阻害剤、ＳＹＬ−ＯＦＦ７２１０ＲＥＬＥＡＳＥ ＭＯＤＩＦＩＥＲとしてＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇから入手可能なものなどのＭＱ樹脂、及びＳＹＬ−ＯＦＦ２９７としてＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇから入手可能なものなどのアンカー添加剤が挙げられる。
シリコーン剥離層をバッキング上にコーティングするために、任意の好適な方法を用いることができる。典型的なシリコーン剥離層重量は、０．２ｇ／ｍ２より大きく、より典型的には０．７ｇ／ｍ２〜２．５ｇ／ｍ２である。Ｅビーム処理されたシリコーン化剥離ライナーで観察されるライナー剥離値は、コーティング重量及び使用する具体的なバッキングの両方によって変動する。
例えば、充填剤、酸化防止剤、粘度調整剤、顔料、剥離調整剤などの添加剤は、最終製品の所望の特性を実質的にかつ有害に変えない程度で、第１及び第２のシリコーン剥離層（２２及び２５）の両方に添加することが可能である。
いったんシリコーン剥離層配合物が選択されると、構成成分は混合され、コーターに送られる。有用なコーティング方法としては、例えば、バーコーティング、ロールコーティング（例えば、グラビアコーティング、オフセットグラビアコーティング（３本ロールコーティングとも呼ばれる）及び５本ロールコーティング）、スプレーコーティング、カーテンコーティング、及びブラシコーティングが挙げられる。
シリコーン剥離層配合物は、固形分１００％から又は溶液からのいずれかで、バッキング上に直接コーティングされる。有用なバッキングとしては、限定するものではないが、ポリエステル（例えば、ＰＥＴ）、ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、２軸配向ポリプロピレン（ＢＯＰＰ））、ポリコート紙、金属蒸着紙、クレーシール紙、及び金属蒸着フィルムが挙げられる。バッキングの表面は、シリコーン剥離層のバッキングへの定着を化学的又は物理的に強化するために、例えば、プライマー、コロナ処理、又は火炎処理により、更に処理されてもよい。
各硬化性シリコーン剥離層配合物をバッキング上にコーティングした後、コーティングされた硬化性シリコーン剥離層配合物は、システムの要求に応じて、例えば、紫外線（ＵＶ）照射又は熱輻射によって硬化される。有用なＵＶ光の例には、Ｈ型ランプ（Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ Ｃｕｒｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍｓ（Ｒｏｃｋｖｉｌｌｅ，Ｍａｒｙｌａｎｄ）から市販されている）及び中圧水銀ランプなどの高強度ＵＶ光が挙げられる。溶媒系配合物をシリコーン剥離層として用いる場合、ＵＶ硬化前に、溶媒を除去するために、熱オーブン内での処理も必要となる場合がある。
この一般的手順は、第１のシリコーン剥離層２１と第２のシリコーン剥離層２５との両方に有効である。一般に、第１のシリコーン剥離層２１は、第２のシリコーン剥離層２５の前にコーティングされる。あるいは、第１及び第２のシリコーン剥離層２１、２５の両方が、同時にコーティング及び硬化されてもよい。
本開示の実施に有用な好適なオニウム塩光酸発生剤は、公知であり、商業的供給業者から入手可能及び／又は公知の方法により作製される。例えば、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，４ｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ Ｖｏｌｕｍｅ，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９８，ｐｐ．２５３〜２５５参照。
本開示のオニウム塩光酸発生剤のカチオン部分として有用なカチオンとしては、例えば、米国特許第３，７０８，２９６号（Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ）、同第４，０６９，０５５号（Ｃｒｉｖｅｌｌｏ）、同第４，２１６，２８８号（Ｃｒｉｖｅｌｌｏ）、同第４，２５０，３１１号（Ｃｒｉｖｅｌｌｏ）、同第５，５５４，６６４号（Ｌａｍａｎｎａら）に記載されている有機オニウムカチオンが挙げられ、並びに脂肪族又は芳香族のＩ−、Ｓ−、Ｐ−、及びＮ−を中心としたオニウム塩が挙げられる。好ましくは、オニウム塩光酸発生剤は、スルホキソニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ピリジニウム、又はホスホニウムカチオン、より好ましくは、Ｉ−、及びＳ−を中心としたオニウム塩、例えば、スルホキソニウム、ジアリールヨードニウム、トリアリールスルホニウム、ジアリールアルキルスルホニウム、ジアルキルアリールスルホニウム、及びトリアルキルスルホニウムから選択されるものなどを含み、ここで「アリール」及び「アルキル」は、それぞれ非置換又は置換の芳香族又は脂肪族部分を意味し、最大４個の独立して選択される置換基を有する。アリール又はアルキル部分の置換基は、好ましくは３０個未満の炭素原子、並びにＮ、Ｓ、非パーオキサイドのＯ、Ｐ、Ｓｉ、及びＢから選択される最大１０個のヘテロ原子を有する。例としては、メチル、エチル、ブチル、ドデシル、テトラコサニル、ベンジル、アリル、ベンジリデン、エテニル及びエチニルなどのヒドロカルビル基；メトキシ、ブトキシ及びフェノキシなどのヒドロカルビルオキシ基；メチルメルカプト及びフェニルメルカプトなどのヒドロカルビルメルカプト基；メトキシカルボニル及びフェノキシカルボニルなどのヒドロカルビルオキシカルボニル基；ホルミル、アセチル及びベンゾイルなどのヒドロカルビルカルボニル基；アセトキシ及びシクロヘキサンカルボニルオキシなどのヒドロカルビルカルボニルオキシ基；アセトアミド及びベンズアミドなどのヒドロカルビルカルボンアミド基；アゾ；ボリル；クロロ、ブロモ、ヨード及びフルオロなどのハロ基；ヒドロキシ；カルボニル；トリメチルシロキシ；並びにシクロペンタジエニル、フェニル、トリル、ナフチル、及びインデニルなどの芳香族基が挙げられる。スルホニウム塩の場合、置換基をジアルキル又はジアリールスルホニウムカチオンで更に置換することが可能であり、この例は、１，４−フェニレン−ビス（ジフェニルスルホニウム）であろう。
好ましいオニウム塩光酸発生剤としては、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、及びトリアリールスルホキソニウム塩が挙げられる。例としては、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート（ＦＰ５０３４としてＨａｍｐｆｏｒｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｃ（Ｓｔｒａｔｆｏｒｄ，Ｃｏｎｎｅｃｔｉｃｕｔ）から入手可能）、トリアリールスルホニウム塩の混合物（ジフェニル（４−フェニルチオ）フェニルスホニウムヘキサフルオロアンチモネートとビス（４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル）サルファイドヘキサフルオロアンチモネートとの混合物）（例えば、ＵＶＩ−６９７６として、Ｓｙｎａｓｉａ Ｍｅｔｕｃｈｅｎ（Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から入手可能）、（４−メトキシフェニル）フェニルヨードニウムトリフレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムカンファースルホネート、ビス（４−ドデシルフェニル）ヨードニウムトリフレート、ビス（４−ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラフェニルボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフレート、（［４−（オクチルオキシ）フェニル］フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート）、（［４−（オクチルオキシ）フェニル］フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート）、（４−イソプロピルフェニル）（４−メチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（例えば、ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ２０７４としてＢｌｕｅｓｔａｒ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ（Ｅａｓｔ Ｂｒｕｎｓｗｉｃｋ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から入手可能）、ビス（４−メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート（例えば、ＯＭＮＩＣＡＴ４４０としてＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ（Ｂａｒｔｌｅｔｔ，Ｉｌｌｉｎｏｉｓ）から入手可能）、４−［（２−ヒドロキシ−１−テトラデシクロキシ（tetradecycloxy）フェニル］フェニル−ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（例えば、ＣＴ−５４８としてＣｈｉｔｅｃ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｃｏｒｐ（台北、台湾）から入手可能）、ジフェニル（４−フェニルチオ）フェニルスホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル）サルファイドビス（ヘキサフルオロホスフェート）、ジフェニル（４−フェニルチオ）フェニルスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル）サルファイドヘキサフルオロアンチモネート、並びにこれらのトリアリールスルホニウム塩のブレンド（例えば、Ｓｙｎａｓｉａ（Ｍｅｔｕｃｈｅｎ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）から、ＵＶＩ−６９９２及びＵＶＩ−６９７６（それぞれ、ＰＦ６ −及びＳｂＦ６ −塩）として入手可能）が挙げられる。
好ましいジアリールヨードニウム塩及びトリアリールスルホニウム塩としては、次式：Ｒ１ ２Ｉ＋ＳｂＦ６ −、Ｒ１ ２Ｉ＋ＳｂＦ５ＯＨ−、Ｒ１ ２Ｉ＋Ｂ（ＰｈＦ５）４ −、Ｒ１ ２Ｉ＋ＰＦ６ −、Ｒ１ ３Ｓ＋ＳｂＦ６ −、Ｒ１ ３Ｓ＋ＰＦ６ −、Ｒ１ ３Ｓ＋ＳｂＦ５ＯＨ−、及びＲ１ ３Ｓ＋Ｂ（ＰｈＦ５）４ −［式中、各Ｒ１は、独立して、６〜１８個の炭素原子を有するアリール基（例えば、フェニル）又は置換アリール基（例えば、４−ドデシルフェニル、メチルフェニル、若しくはエチルフェニルなどのアルカリール、又はＰｈＳ（＝Ｏ）２Ｐｈ−）である］で記載されるものが挙げられる。このような材料は、商業的供給業者から入手すること及び／又は公知の方法により合成することができる。
好ましくは、オニウム塩光酸発生剤中のアニオンは、オニウム塩光酸発生剤に有機溶媒及び組成物中への溶解性をもたらすように選択されるが、これは必須ではない。例示的な好ましいアニオンとしては、ＰＦ６ −、ＳｂＦ６ −、ＳｂＦ５ＯＨ−、及びＰｈ４Ｂ−が挙げられる。
本開示によれば、オニウム塩光酸発生剤は、第２のシリコーン剥離層の露出面上に適用される。オニウム塩光酸発生剤は、露出面全体に適用されても露出面の一部分に適用されてもよく、連続的でも又は不連続でもよい。オニウム塩光酸発生剤を適用する１つの簡便な方法は、揮発性有機溶剤（例えば、メチルエチルケトン、エタノール、テトラヒドロフラン、又はトルエン）の溶液として適用することである。溶液中の濃度は、例えば、０．００１重量％〜最大２０重量％、又はそれ以上の範囲であってもよい。第１のシリコーン剥離層の露出面のコーティングは、任意の好適なコーティング方法、例えば、スプレー、ブラシ又はロールコーティングによって実施できる。表面に適用されるオニウム塩光酸発生剤の量は、好ましくは、０．００１〜１０グラム毎平方メートル（ｇｓｍ）、より好ましくは０．０１〜１ｇｓｍ、更により好ましくは０．１〜０．３ｇｓｍの範囲であるが、他の量も使用できる。
種々の異なるポリマー樹脂、並びにそのブレンドが、接着剤層１２の形成に適している。最終物品の所望の特性に基づいて、特定の樹脂が選択される。接着剤層１２に有用なポリマー樹脂の部類の例は、米国特許第６，１０３，１５２号（Ｇｅｈｌｓｅｎら）に見ることができる。異なる化学組成を有する２種以上のアクリレートポリマーをブレンドすることが望ましい場合がある。ブレンド構成成分の種類及び濃度を操作することによって広範な物理的特性を得ることができる。
接着剤層１２に有用なポリマーの１つの部類としては、アクリレート及びメタクリレートのポリマー及びコポリマーが挙げられる。このようなポリマーは、例えば、１〜２０個の炭素原子（例えば、３〜１８個の炭素原子）を有するアルキル基による、１種以上の非第三級アルキルアルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステルモノマーを、重合させることによって形成される。好適なアクリレートモノマーとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソ−オクチルアクリレート、オクタデシルアクリレート、ノニルアクリレート、デシルアクリレート、及びドデシルアクリレートが挙げられる。対応するメタクリレートも同様に有用である。芳香族アクリレート及びメタクリレート（例えば、ベンジルアクリレート及びベンジルメタクリレート）もまた有用である。
任意選択的に、１種以上のモノエチレン性不飽和コモノマーを、アクリレート又はメタクリレートモノマーと重合させてもよい。コモノマーの具体的な種類及び量は、ポリマーの所望の特性に基づいて選択される。有用なコモノマーの一群としては、ホモポリマーガラス転移温度が（メタ）アクリレート（すなわち、アクリレート又はメタクリレート）ホモポリマーのガラス転移温度より高いものが、挙げられる。この群に含まれる好適なコモノマーの例としては、アクリル酸；アクリルアミド；メタクリルアミド；置換アクリルアミド（例えばＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド）；イタコン酸；メタクリル酸；アクリロニトリル；メタクリロニトリル；ビニルアセテート；Ｎ−ビニルピロリドン；イソボルニルアクリレート；シアノエチルアクリレート；Ｎ−ビニルカプロラクタム；無水マレイン酸；ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド；β−カルボキシエチルアクリレート；ネオデカン酸、ネオノナン酸、ネオペンタン酸、２−エチルヘキサン酸、又はプロピオン酸のビニルエステル；ビニリデンクロライド；スチレン；ビニルトルエン、及びアルキルビニルエーテルが挙げられる。
アクリレート又はメタクリレートモノマーと重合させてもよいモノエチレン性不飽和コモノマーの第２の群としては、ホモポリマーガラス転移温度（Ｔｇ）がアクリレートホモポリマーのガラス転移温度より低いものが、挙げられる。この部類に含まれる好適なコモノマーの例としては、エチルオキシエトキシエチルアクリレート（Ｔｇ＝摂氏−７１度（℃））、及びメトキシポリエチレングリコール４００アクリレート（Ｔｇ＝−６５℃、新中村化学工業からＮＫエステルＡＭ−９０Ｇとして入手可能）が挙げられる。
接着剤層１２において有用なポリマーの第２の部類としては、ポリオレフィン及びポリオレフィンコポリマー（例えば、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、及びエチレン−プロピレンコポリマーなどの２〜８個の炭素原子を有するモノマーをベースとするポリマー樹脂）；ポリエステル及びコポリエステル；ポリアミド及びコポリアミド；フッ素化ホモポリマー及びコポリマー；ポリアルキレンオキサイド（例えば、ポリエチレンオキサイド及びポリプロピレンオキサイド）；ポリビニルアルコール；アイオノマー（例えば、塩基で中和したエチレン−メタクリル酸コポリマー）及びセルロースアセテートなどの半結晶質ポリマー樹脂が挙げられる。この部類のポリマーの他の例としては、ポリアクリロニトリルポリビニルクロライド、熱可塑性ポリウレタン、芳香族エポキシ、ポリカーボネート、非晶質ポリエステル、非晶質ポリアミド、ＡＢＳブロックコポリマー、ポリフェニレンオキサイドアロイ、アイオノマー（例えば、塩で中和されたエチレン−メタクリル酸コポリマー）、フッ素化エラストマー、及びポリジメチルシロキサンなどの非晶質ポリマーが挙げられる。
接着剤層１２において有用なポリマーの第３の部類としては、紫外線活性化可能な基を含むエラストマーが挙げられる。例としては、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、スチレンとジエンとのランダム及びブロックコポリマー（例えば、ＳＢＲ）、並びにエチレン−プロピレン−ジエンモノマーゴムが挙げられる。この部類のポリマーは、典型的には、粘着付与樹脂と組み合わせられる。
接着剤層１２において有用なポリマーの第４の部類としては、非光重合性モノマーから調製された感圧接着剤及びホットメルト接着剤が挙げられる。このようなポリマーは、接着剤ポリマー（すなわち、本質的に接着剤であるポリマー）であっても、又は本質的に接着剤ではないが、可塑剤、又は粘着付与剤などの構成成分と配合されたときに接着剤組成物を形成できるポリマーであってもよい。具体例としては、ポリ−α−オレフィン（例えば、ポリオクテン、ポリヘキセン、及びアタクチックポリプロピレン）、ブロックコポリマーベースの接着剤、天然ゴム及び合成ゴム、シリコーン接着剤、エチレンビニルアセテート、及びエポキシ含有構造接着剤ブレンド（例えば、エポキシ−アクリレート及びエポキシ−ポリエステルブレンド）が挙げられる。
接着剤層１２は、任意選択的にその中に他の構成成分も含んでもよい。例えば、充填剤、酸化防止剤、粘度調整剤、顔料、粘着付与樹脂、繊維などの通常の添加剤も、最終製品の所望の特性を変更しない程度に、接着剤層１２に添加することができる。
好ましい任意選択的な添加剤は、顔料、又は遮光充填剤である。一般に顔料として使用される任意の化合物は、それによって最終製品の所望の特性が変わらない限り、使用できる。例示的な顔料としては、カーボンブラック及び二酸化チタンが挙げられる。顔料の量も、製品の所望の用途に応じて異なる。一般に、顔料の濃度は、０．１０重量％より高い。好ましくは、顔料の濃度は、接着剤層１２に不透明色を与えるために、０．１５重量％より高く、より好ましくは０．１８重量％より高い。
接着剤層１２の厚さは、製品の用途に応じて異なる。ある発泡接着剤製品の場合、好ましくは、接着剤層１２の厚さは２５０ミクロンよりも厚い。より好ましくは、厚さは５００ミクロンよりも厚い。非発泡転写接着剤の単層の場合に、接着剤層の厚さは、好ましくは２〜５ミル（５１〜１２７ミクロン）であるが、他の厚さも使用してもよい。
本発明に使用される接着剤層１２は、少なくとも部分的に電子ビーム（「Ｅビーム」）照射によって架橋されるが、追加的な架橋手段（例えば、化学、熱、ガンマ線、及び／又は紫外線及び／又は可視光線）も使用してもよい。接着剤層１２は、架橋されて、より望ましい特性（例えば、より高い強度）を両面接着テープ１０に付与する。１つの架橋方法では、電子ビーム照射を使用する。Ｅビーム照射は、顔料の多い接着剤、充填剤による接着剤、及び比較的厚い層の接着剤などの、他の方法では架橋できないポリマーを架橋することができることから、有利である。
Ｅビーム照射は、フリーラジカル連鎖反応を開始することによって接着剤層の架橋を引き起こす。Ｅビームからの電離粒子放射線は、ポリマーに直接吸収され、架橋プロセスを開始するフリーラジカルが生じる。一般に、化学結合を破壊して、ポリマー系の構成成分をイオン化又は励起するには、少なくとも約１００キロエレクトロンボルト（ｋｅＶ）の電子エネルギーが必要である。生成した散乱電子により、大量のフリーラジカルが接着剤全体に分散されることとなる。これらのフリーラジカルは架橋反応（例えば、フリーラジカル重合、ラジカル−ラジカルカップリング）を開始し、その結果三次元架橋ポリマーが得られる。
Ｅビームプロセスユニットにより、このプロセスのための照射が提供される。一般的に、プロセスユニットは、電源及びＥビーム加速管を含む。電源は、電流を増加し、整流し、加速器はＥビームを発生及び集束し、走査を制御する。Ｅビームは、例えば、タングステンフィラメントに高電圧で通電することによって発生させてもよい。これにより、電子が高速で発生する。これらの電子はその後、集光されて高エネルギービームを形成し、電子銃内部で十分な速度に加速される。加速器管の側面の電磁石により、ビームの偏向、又は走査が可能になる。
走査幅及び深さは、典型的には、それぞれ約６１〜１８３センチメートル（ｃｍ）から約１０〜１５ｃｍまで変動する。スキャナ開口部は薄い金属箔（通常はチタン）で覆われ、これは電子を通過させるが、プロセスチャンバ内の高真空は維持される。加速器を特徴付ける、出力、電流、及び線量率は、それぞれ約２００〜５００ｋｅＶ、約２５〜２００ミリアンペア（ｍＡ）、及び約１〜１０メガラド（Ｍｒａｄ）である。パーオキサイド生成を最小限に抑えるために、プロセスチャンバは、例えば窒素パージによって、実用的な限りにおいて低い酸素含有量に維持されるべきであるが、これは必須ではない。
電子ビーム処理後に、得られた両面接着テープを、例えば図３に示すように、ロール状に巻き取ることができる。この時点で、スリッティング及び／又は包装などの更なる変換工程も実行してもよい。
本開示の選択された実施形態
第１の態様では、本開示は、接着剤物品の製造方法であって、
第１及び第２の両主面を有するライナーを提供することと、ここで、第１のシリコーン剥離層は第１主面上に配置され、第２のシリコーン剥離層は第２主面上に配置され、第２のシリコーン剥離層がオニウム塩光酸発生剤を含まない、
オニウム塩光酸発生剤を第２のシリコーン剥離層の少なくとも一部分に適用して、変性シリコーン剥離層を提供することと、
第１のシリコーン剥離層の上に接着剤層を配置することと、
少なくとも接着剤層をプロセスチャンバ内の電子ビーム照射に曝露し、それによって架橋接着剤層を提供することと、ここで、プロセスチャンバは酸素を含み、変性シリコーン剥離層は接着剤層の架橋中に酸素にさらされる、
を含む、製造方法を提供する。
第２の実施形態では、本開示は、オニウム塩光酸発生剤が、ジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩を含む、第１の実施形態に記載の方法を提供する。
第３の実施形態では、本開示は、オニウム塩光酸発生剤が、ジアリールヨードニウム塩を含む、第１又は第２の実施形態に記載の方法を提供する。
第４の実施形態では、本開示は、電子ビーム照射を、接着剤層及び変性シリコーン剥離層の両方でそれぞれ両方向から向ける、第１〜第３の実施形態のいずれか１つに記載の方法を提供する。
第５の実施形態では、本開示は、第１のシリコーン剥離層が、オニウム塩光酸発生剤で硬化したシリコーンを含まない、第１〜第４の実施形態のいずれか１つに記載の方法を提供する。
第６の実施形態では、本開示は、架橋接着剤層を変性シリコーン剥離層の上に巻き取ること、を更に含む、第１〜第５の実施形態のいずれか１つに記載の方法を提供する。
第７の実施形態では、本開示は、第１〜第６の実施形態のいずれか１つに記載の方法に従って製造された、接着剤物品を提供する。
本開示の目的及び利点は、以下の非限定的な実施例によって更に説明されるが、これらの実施例に列挙された特定の材料及び量、並びに他の条件及び詳細は、本開示を過度に限定するものと解釈されるべきではない。
特記のない限り、実施例及び本明細書の残りの部分における部、割合（百分率、％）、比率などは、全て重量によるものである。特に指示のない限り、実施例で使用した材料は、商業的供給業者（例えば、Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．（Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，Ｗｉｓｃｏｎｓｉｎ））から入手可能であり、及び／又は公知の方法によって製造できる。
Figure 2019527253
試験方法
コーティング重量測定
シリコーン剥離コーティングのコーティング重量の測定では、Ｌａｂ Ｘ３０００ＸＲＦ分光計（Ｏｘｆｏｒｄ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ（Ｅｌｋ Ｇｒｏｖｅ Ｖｉｌｌａｇｅ，Ｉｌｌｉｎｏｉｓ））を用いて、シリコーンコーティング重量を、コーティング重量が既知のポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）コーティングポリエステルフィルム標準品と比較した。結果を、グラム毎平方メートル（ｇｓｍ）で報告する。
抽出法による硬化度
剥離コーティング中の抽出可能なシリコーンの重量パーセント（％）の測定では、硬化度の指標とすることができ、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）で５分間の抽出前後のシリコーン剥離コーティング重量の変化率（％）を算出することによった。シリコーン剥離コーティング量は、上記のようにＸ線蛍光分析法によって測定した。抽出可能なシリコーンの％は次のように算出した：
［（ａ−ｂ）／ａ］＊１００＝抽出可能分の％
［式中、ａ＝ＭＩＢＫ抽出前の初期コーティング、及びｂ＝ＭＩＢＫ抽出後の最終コーティング］。
剥離ライナーからの接着試験テープの剥離力
積層構造の剥離ライナーと接着試験テープとの間の剥離力を、下記のように、製造業者の説明書に従って１８０度剥離の幾何学配置を用いて測定した。５．０ポンド（２．２７キログラム）のロードセルを備えたＩＭＡＳＳ ＳＰ２１００剥離力試験機（ＩＭＡＳＳ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ（Ａｃｃｏｒｄ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ））を、次のパラメータで用いた：試験片の幅１インチ（２．５４センチメートル）、剥離速度９０インチ／分（２２９センチメートル／分）、データ取得までの遅延２秒、平均化時間５秒。２枚の試験片の平均を、グラム／インチ単位で報告した。試験は、以下の条件により実施した。
Ａ）２２℃（７２°Ｆ）及び相対湿度５０％で７日間
Ｂ）５０℃で７日間の後、２２℃（７２°Ｆ）及び相対湿度５０％で試験前最低２４時間調湿。
接着試験テープの剥離接着強度
接着試験テープのガラス板からの剥離接着強度を、７２°Ｆ（２２℃）及び相対湿度５０％で測定し、剥離接着強度１として表記した。更に、接着試験テープの第２の試料を、最初に剥離ライナーに積層し、試料が剥離コーティング層と接触して「剥離ライナーからの接着試験テープの剥離力」試験法に記載の様々な条件にさらされるようにし、その後剥離力を評価した。剥離ライナーから接着試験テープを取り除くときに、テープの剥離強度を上記のように評価し、この結果を剥離接着強度２として表記した。
試験は、接着試験テープを剥離ライナーから取り除いた直後（１分以内）に行い、試験テープを５ポンド（２．３ｋｇ）のローラを用いて清浄なガラス板に適用した。１０ポンド（４．５４ｋｇ）のロードセルを備えたＩＭＡＳＳ ＳＰ２１００滑り／剥離力試験機（ＩＭＡＳＳ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ（Ａｃｃｏｒｄ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ））を、次のパラメータで用いた：試験片の幅１インチ（２．５４ｃｍ）、剥離速度９０インチ／分（２２９ｃｍ／分）、データ取得までの遅延２秒、剥離の幾何学配置１８０度、平均化時間１０秒。２枚の試験片の平均を、グラム／インチ（ｇ／ｃｍ）単位で報告した。
ベースライナーの調製
ＶＴＳＰ（１００ｇ）及び２．５４ｇのＨＦＳＸを、ハイドライド：ビニル比１．２：１でジャーに添加し、混合して均一な溶液を得た。この溶液を、固形分１００重量％で、プライマー処理したポリエステルフィルムのプライマー処理側に、５本のロールコーティングステーションを用いてコーティングした。その後、シリコーンコーティングを、１２７℃（２６０°Ｆ）のオーブン内で１２秒間硬化した。約２．０グラム／平方メートルのコーティング重量及び５重量％未満の抽出可能分が得られた。
接着試験テープの調製
次の構成成分を合わせて混合した：９５部のＩＯＡと５部のＡＡ。プラスチック製パウチ（エチレン−ビニルアセテートコポリマー）にこの混合物を充填し、封止し、充填したパウチを、ブラックライトを用いてＵＶ−Ａ照射に曝露して、接着剤を完全に重合させた。その後、パウチ及び内容物を、１４９℃（３００°Ｆ）の異方向回転３４ｍｍ２軸押出機（Ｌｅｉｓｔｒｉｔｚ（Ｓｏｍｅｒｓｅｔ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ））に供給した。接着剤パウチ１００部当たり約３３部のＦＯＲＡＬ８５も押出機に添加した。結果として得られる組成物を、オレフィンライナーのシリコーン処理面上にホットメルトコーティングし、電子ビーム照射（９メガラドの線量、２１０キロエレクトロンボルトの電圧）に曝露して接着剤を架橋し、その後第２の処理したオレフィンライナーで覆った。得られた接着剤のガラス転移温度（Ｔｇ）は１９℃であった。後に、得られた物品を使用して、プライマー処理したポリエステルフィルムの接着剤層をそのプライマー処理面上に転写積層して、保護カバーフィルム全くなしのシングルコーティングの接着試験テープを得た。
実施例１
０．０５９グラムのＰＡＧ１を、１０グラムのヘプタン：メチルエチルケトン（９：１／ｗ：ｗ）に溶解した。この溶液２ｍＬを、６インチ（１５ｃｍ）×３２インチ（８１ｃｍ）のベースライナー試料上に３番マイヤーロッドを用いてコーティングし、４０〜６０マイクログラム毎平方インチ（０．０６２〜０．０９３ｇｓｍ）のＰＡＧ１コーティング重量を得た。得られたライナーを、その後、１００℃のオーブン内で５分間乾燥した。このコーティングされた硬化ライナーを、７２°Ｆ及び相対湿度５０％で、１週間調湿した。
次に、コーティングされた硬化剥離ライナーの、ＰＡＧ１を含有する剥離コーティング組成物を有する側面を、電子ビーム（Ｅビーム）照射に曝露した。ＥＬＥＣＴＲＯＣＵＲＴＡＩＮ ＣＢ−３００Ｅビームユニット（Ｅｎｅｒｇｙ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ））を用いて、加速電圧を２１０キロエレクトロンボルトとし、９メガラドの線量を得た。窒素不活化Ｅビームチャンバ内の酸素濃度を、Ａｌｐｈａ Ｏｍｅｇａシリーズ３０００微量酸素分析計（Ａｌｐｈａ Ｏｍｅｇａ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｌｉｎｃｏｌｎ，Ｒｈｏｄｅ Ｉｓｌａｎｄ））によって測定したときに、８〜１５ｐｐｍの酸素に維持した。Ｅビーム処理した剥離ライナーを、その後すぐ（３０秒以内）に、ゴムローラを用いて接着試験テープに手で積層し、確実に密着させた。このようにして、接着試験テープの接着剤を、剥離ライナーの硬化したＥビーム処理剥離コーティングと直接接触させた。得られた積層構造を、その後、上記試験方法に記載のように、剥離力、並びに積層前及び剥離ライナーに積層してコンディショニングした後の両方の接着試験テープの剥離接着強度について、評価した。
比較例Ａ
比較例Ａを、上記のようにして調製したベースライナーとした。
実施例２
以下の変更を行った以外は実施例１を繰り返した。０．３８３グラムのＰＡＧ２溶液を、ＰＡＧ１の代わりに使用した。
実施例１及び２、並びに比較例Ａを、「剥離ライナーからの接着試験テープの剥離力」及び「接着試験テープの剥離接着強度」の手順に従って試験した。結果を以下の表１に報告する。ガラスからの試験テープの剥離接着強度１は、３０２４グラム／インチ（１１９１ｇ／ｃｍ）であった。
Figure 2019527253
上記特許出願において引用された全ての参考文献、特許、又は特許出願は、一貫してその全容が参照により本明細書に組み込まれる。組み込まれた参照文献の一部と本出願との間に不一致又は矛盾がある場合、前述の記載における情報が優先するものとする。前述の記載は、特許請求の範囲に記載の開示を当業者が実施することを可能にするためのものであり、本開示の範囲を限定するものと解釈すべきではなく、本開示の範囲は特許請求の範囲及びその全ての等価物によって定義される。

Claims (7)

  1. 接着剤物品の製造方法であって、
    第１及び第２の両主面を有するライナーを提供することと、ここで、第１のシリコーン剥離層は前記第１主面上に配置され、第２のシリコーン剥離層は前記第２主面上に配置され、前記第２のシリコーン剥離層がオニウム塩光酸発生剤を含まない、
    前記オニウム塩光酸発生剤を前記第２のシリコーン剥離層の少なくとも一部分に適用して、変性シリコーン剥離層を提供することと、
    前記第１のシリコーン剥離層の上に接着剤層を配置することと、
    少なくとも前記接着剤層をプロセスチャンバ内の電子ビーム照射に曝露し、それによって架橋接着剤層を提供することと、ここで、前記プロセスチャンバは酸素を含み、前記変性シリコーン剥離層は前記接着剤層の架橋中に前記酸素にさらされる、
    を含む、製造方法。
  2. 前記オニウム塩光酸発生剤が、ジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩を含む、請求項１に記載の製造方法。
  3. 前記オニウム塩光酸発生剤が、ジアリールヨードニウム塩を含む、請求項１に記載の製造方法。
  4. 前記電子ビーム照射を、前記接着剤層及び前記変性シリコーン剥離層の両方でそれぞれ両方向から向ける、請求項１に記載の製造方法。
  5. 前記第１のシリコーン剥離層が、オニウム塩光酸発生剤で硬化したシリコーンを含まない、請求項１に記載の製造方法。
  6. 前記架橋接着剤層を前記変性シリコーン剥離層の上に巻き取ること、を更に含む、請求項１に記載の製造方法。
  7. 請求項１に記載の方法に従って製造された、接着剤物品。
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