JP2019201044A - 配線基板および配線基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(1−1.配線基板の構成)
図1(A)に配線基板100の上面図および図1(B)に配線基板100のA1−A2間の断面図を示す。図1(A)および図1(B)に示すように、配線基板100は、基板110、絶縁層120、配線130、絶縁構造体140、絶縁層150および配線160を含む。
次に、図1に示した配線基板100の製造方法を図3乃至図10を用いて説明する。
。絶縁層120は、化学気相堆積(CVD)法、スパッタリング法、印刷法、または塗布法を用いて形成される。絶縁層120には、プラズマCVD法により形成された酸化シリコン、窒化シリコン等の無機膜を用いてもよい。または、絶縁層120には、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ベンゾシクロブテン(BCB)樹脂などの有機樹脂が用いられてもよい。または、絶縁層120には、有機樹脂の他、シリカを含む有機無機ハイブリッド樹脂を用いてもよい。例えば、絶縁層120には、プラズマCVD法により形成された酸化シリコン膜を用いてもよい。なお、絶縁層120は、基板110に含まれてもよい。
(2−1.配線基板の構成)
次に、構造の異なる配線基板について説明する。なお、第1実施形態において示した構造、材料および方法については、その説明を援用する。
−2の側面130−2Sと接するように設けられてもよい。
(3−1.配線基板の構成)
次に、構造の異なる配線基板について説明する。なお、第1実施形態および第2実施形態において示した構造、材料および方法については、その説明を援用する。
次に、配線基板100−4の製造方法を図17乃至図21に示す。
本実施形態では、第1実施形態で説明した配線基板100を含んだ半導体装置について説明する。
本実施形態では、第4実施形態において説明した半導体装置500を電気機器に適用した例について説明する。
本開示の第3実施形態では、拡散防止層170が配線130の上面および側面を覆う例を述べたが、これに限定されない。図24に配線基板100−5の断面図、図25に配線基板100−6の断面図を示す。図24に示すように、配線基板100−5は、基板110、絶縁層120、配線130、絶縁構造体140、絶縁層150および配線160の他に、拡散防止層171を有する。拡散防止層171には、拡散防止層170と同様の材料が用いられる。拡散防止層171は、配線130と絶縁層150との間に配置され、絶縁層150に重畳して配置されてもよい。また、図25に示すように、配線基板100−6は、配線基板100−4は、基板110、絶縁層120、配線130、絶縁構造体140、絶縁層150および配線160の他に、拡散防止層170および拡散防止層171(第2拡散防止層ともいう)を含む。拡散防止層171は、拡散防止層170と絶縁層との間に配置されてもよい。これにより、さらに金属の拡散防止効果が高まる。したがって、高速応答が可能であり、高い信頼性を有する配線基板を提供することができる。
Claims (14)
- 基板と、
前記基板上の第1配線と、
前記第1配線と離間して配置された第2配線と、
前記第1配線と前記第2配線との間に配置され、空隙を含む絶縁構造体と、
前記第1配線、前記第2配線および前記絶縁構造体上の絶縁層と、を有し、
前記第1配線および前記第2配線の少なくともいずれかの幅は、0.1μm以上2μm以下であり、
前記絶縁構造体の幅は、0.1μm以上2μm以下であり、
前記絶縁構造体のアスペクト比は、0.5以上10以下である、
配線基板。 - 前記絶縁構造体は、気体で充填されている、
請求項1に記載の配線基板。 - 前記第1配線の側面および前記第2配線の側面は、垂直形状または逆テーパー形状を有する、
請求項1または2に記載の配線基板。 - 前記絶縁層は、前記第1配線および前記第2配線が配置される側に突出部を有する、
請求項1乃至3のいずれか一に記載の配線基板。 - 前記突出部は、前記第1配線および前記第2配線の少なくともいずれかの側面と接する、請求項4に記載の配線基板。
- 前記絶縁層は、酸素または窒素を含む珪化物である、
請求項1乃至5のいずれか一に記載の配線基板。 - 前記第1配線および前記第2配線と、前記絶縁層との間に拡散防止層をさらに含む、
請求項1乃至6のいずれか一に記載の配線基板。 - 前記拡散防止層は、前記第1配線および前記第2配線の上面および側面を覆う、
請求項7に記載の配線基板。 - 前記拡散防止層と、前記絶縁層との間に第2拡散防止層をさらに含む、
請求項7または8に記載の配線基板。 - 基板を準備し、
前記基板上に第1配線および前記第1配線と離間した第2配線を形成し、
前記第1配線と前記第2配線との間に空間を有した状態で、前記第1配線および前記第2配線上に絶縁層を形成する、
配線基板の製造方法。 - 前記第1配線および前記第2配線はめっき法により形成される、
請求項10に記載の配線基板の製造方法。 - 前記第1配線および前記第2配線と前記絶縁層との間に拡散防止層を形成する、
請求項10または11に記載の配線基板の製造方法。 - 前記絶縁層は、第2基板の第1面に設けられた剥離層の上に設けられ、
前記拡散防止層と、前記絶縁層とを接合し、
前記第2基板の第2面側から光を照射して、前記剥離層を介して前記第2基板から前記絶縁層を剥離し、前記絶縁層を形成する、
請求項12に記載の配線基板の製造方法。 - 前記接合する前に、前記拡散防止層の表面および前記絶縁層の表面にプラズマ処理を行う、
請求項13に記載の配線基板の製造方法。
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