JP2019182694A - 合成シリカガラス粉 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の合成シリカガラス粉はメジアン径が50〜1000μmである。合成シリカガラス粉のメジアン径が50μmより小さいと粉体移送時の粉立ちが発生するため、作業性に問題が発生する。一方、合成シリカガラス粉のメジアン径が1000μmより大きいと、光ファイバーの線引き時の溶融速度が遅くなるため好ましくない。ここで、メジアン径は、レーザー回折散乱法やふるい分け法で測定した粒度分布で、その累積粒度分布の50%に相当する粒子径を意味する。
一般的にシリカ粒子のシラノール基(Si−OH)は、その表面に存在する表面シラノール基と、粒子内部のSi−Oのネットワーク内に存在する内部シラノール基に分類される。
表面シラノール基は、合成シリカガラス粉製造時の熱処理により消失している。一方で、内部シラノール基は、合成シリカガラス粉製造時に熱処理したとしても残存する。よって、合成シリカガラス粉を溶融した場合、内部シラノール基は溶融シリカガラス中に拡散する。例えばSand Cladding法の線引き時において、合成シリカガラス粉をOvercladding grainに使用したとき、合成シリカガラス粉の溶融とともに内部シラノール基が拡散してコアロッドに達することがある。そうすると、光損失増加の要因となる。このため、内部シラノール基の濃度は低いほどよいが、一方、低くするためには、合成シリカガラス粉製造時の焼成時間を長くする必要があり、製造コスト的な制約がある。このため、合成シリカガラス粉の内部シラノール基の濃度は1〜100ppmが好ましい。なお、合成シリカガラス粉の内部シラノール基は、赤外線分光光度法(IR透過法)で測定することができる。
合成シリカガラス粉は磁選機により捕捉される異物粒子の数が、合成シリカガラス粉30kg当たり10個以下であることを特徴としている。捕捉される異物粒子の数が少ないほど、合成シリカガラス粉を原料として製造された光ファイバーの耐張力性能を向上させることができる。耐張力性はプルーフ試験により評価する。
ここで、磁選機とは、磁力選別機や磁気分離装置とも呼ばれ、磁石を用いて磁性物と非磁性物を分離する装置の総称である。
次に、磁選機本体1100に挿入する内筒1200について説明する。図2(a)に内筒1200の外観図を示した。内筒1200は3つの誘導極1210を備え、磁選機本体1100に挿入した際に、誘導極1210(寸法:直径15mm×長さ115mm)が対向する永久磁石1110の間に配置される構造を有する。内筒の寸法は図2(a)に示した通りである。図2(b)は磁選機本体1100に内筒1200を挿入したときの、永久磁石1110と誘導極1210との関係を示した図であり、図2(c)は断面における処理物通過部の寸法を説明する図である。磁選機本体1100と内筒1200とを図2(b)のような関係となるように配置することにより、永久磁石1110によって誘導極1210が磁化される。よって、合成シリカガラス粉の粒子を永久磁石1110と誘導極1210との間(内筒1200の側壁と誘導極1210との間)、及び、誘導極1210同士の間を通すことにより、異物粒子を捕捉することが可能となる。ここで、永久磁石1110と誘導極1210との間、及び、誘導極1210同士の間を処理物通過部という。図2(b)、(c)に示したように、処理物通過部は4箇所あり、寸法が幅1.5mm×長さ115mmである。
本発明の合成シリカガラス粉は光ファイバー用材料を製造するための原料として用いられることが好ましい。光ファイバー用材料とは光ファイバー、又は光ファイバーの製造に使用されるシリカガラス管、クラッドチューブ、コアロッド、若しくはプリフォーム等を意味する。このように、本発明は合成シリカガラス粉及び該合成シリカガラス粉を原料として製造された光ファイバー用材料を包含する。
なお、本発明の合成シリカガラス粉をOvercladding grainに用いてSand Cladding法により光ファイバーを製造する場合、コアロッド(1次プリフォーム)の周りに合成シリカガラス粉を充填した2次プリフォームを作製し、当該2次プリフォームを減圧しながら2100〜2250℃に加熱して合成シリカガラス粉の溶融と光ファイバーの線引きを同時に行う光ファイバーの製造方法と、上記2次プリフォームを1900℃程度に加熱することにより合成シリカガラス粉をいったん溶融して二次プリフォーム全体を既存のプリフォームのように一体化した後、線引きを行う光ファイバーの製造方法と、があるが、本発明の合成シリカガラス粉は何れの方法にも適用できる。
本発明の合成シリカガラス粉は、アルコキシシランを原料とするゾルゲル法により製造されることが好ましい。ゾルゲル法については、例えば文献(作花済夫「ゾルゲル法の科学」)に記載されており、具体的な製造方法については特開平5−246708号公報や特開平8−91822号公報に記載されている。
(RO)4Si + 2H2O → SiO2 + 4ROH (a)
上記反応式(a)中、Rはアルキル基を表し、その炭素数としては1〜4が好ましく、特に加水分解反応が速く、かつ生じたシリカ中へのアルコキシ基の残留が少ないメチル基が好ましい。
以下に、本発明の合成シリカガラス粉の製造方法の一例を説明する。
合成シリカガラス粉の製造方法100は、アルコキシシランを加水分解する加水分解工程S1と、加水分解工程S1により得られたウェットゲルを粉砕する粉砕工程S2と、粉砕工程S2により得られる粉砕ウェットゲルを乾燥させる乾燥工程S3と、乾燥工程S3によって得られるドライゲル(乾燥ゲル)を焼成する焼成工程S4とを備える。加水分解工程S1〜焼成工程S4を経ることにより、合成シリカガラス粉を得ることができる。
ここで、焼成工程S4の後に、必要に応じて、合成シリカガラス粉を磁選機に通す磁選工程S5を備えてもよい。磁選工程S5により、合成シリカガラス粉から異物粒子を取り除くことができる。さらに、分級工程S6を備えてもよい。
以下、各工程について説明する。また、図4に加水分解工程S1〜焼成工程S4を行う装置の一例を示した。
加水分解工程S1は、原料であるテトラアルコキシシラン11に水12を反応させて加水分解を行うものであって、公知の方法に従って行なうことができる。加水分解反応は反応機1で行う。反応機1としては例えばコニカル型の回転式反応機が用いられる。ここで、加水分解工程S1によって生成するテトラアルコキシランの加水分解物を「ウェットゲル」という。得られたウェットゲルはホッパー2aに移送される。
粉砕工程S2では、最終製品の粒度を調整するために、この段階でウェットゲルを粉砕する。ここで、ウェットゲルを粉砕したものを「粉砕ウェットゲル」という。
加水分解工程S1で得られたウェットゲルはホッパー2aから粉砕機8に移送される。このとき、モーター6で作動する流量制御装置7によって、ウェットゲルの流量が制御され、定量的に供給される。そして、粉砕機8に移送されたウェットゲルは粉砕され、粉砕ウェットゲルとしてホッパー2bに移送される。
乾燥工程S3では、粉砕後のウェットゲルを乾燥して、ゲル中に含まれるアルコールと水を除去する。粉砕ウェットゲルの乾燥は通常バッチ方式で行われる。ここで、ウェットゲルを乾燥させたものを、「ドライゲル」という。
粉砕工程S2により得られた粉砕ウェットゲルはホッパー2bに貯められており、その量がバッチ分溜まると、乾燥器3へ移送される。乾燥機3としては、例えば、コニカル形の回転式乾燥機が用いられる。乾燥の条件は、水蒸気導入機構15から導入される水蒸気を乾燥機3のジャケット9に供給することにより温度が調整され、真空引き機構14によって乾燥機3内部を真空引きすることにより圧力が調整される。そして、乾燥後のゲル(ドライゲル)はホッパー2cに移送される。
乾燥後のドライゲルは、一般に多孔質であるので、光ファイバーのようなガラス層形成の原料として不適当である。そのため、焼成工程S4では、得られたドライゲルを加熱焼成し、緻密化させて無孔性の合成シリカガラス粉とする。
乾燥工程S3により得られたドライゲルはホッパー2cに貯められており、必要に応じて分級機4を介して、石英ガラスルツボ5へ移送される。そして、電気炉10によってシリカゲルを加熱して、合成シリカガラス粉が生成される。ここで必要に応じて、ガス導入機構16から石英ガラス管を通して、ルツボ内部に乾燥空気やヘリウムガスを流通させる。焼成温度は、通常1000〜1300℃で、焼成時間は一般に10〜100時間程度である。
そこで、必要に応じて、次の磁選工程S5を行ってもよい。
磁選工程S5では、焼成工程S4によって得られた合成シリカガラス粉を磁選機に通すことにより、合成シリカガラス粉中の異物粒子を取り除く。ここで使用される磁選機の種類は上記の異物粒子を取り除くことができれば限定されない。例えば、磁選機の種類には磁石として永久磁石を使用したものと電磁石を使用したものがある。また、実際に磁性物と接触する部材としては、棒磁石のような永久磁石そのものを用いる場合と、磁極間のスペースに鉄棒や金網などの強磁性物質を配置して、それを磁化させて接触材(誘導極)として使用する方式がある。ここで使用される磁選機はいずれの方式のものを適用できる。ただし、合成シリカガラス粉のような高純度の粉体に対しては密閉化でき、かつ、可動部のない型式の磁選機が好ましい。例えば、棒磁石を並列に格子状に並べて枠に固定し、これを多段に配置した形式が挙げられる。また、上記の評価用の磁選器を用いてもよい。使用する磁石の表面磁束密度は1000〜20000ガウスであればよい。好ましくは、5000〜20000ガウスである。また、合成シリカガラス粉を磁選機に通す回数も特に限定されず、上記した評価用の磁選機を用いる評価方法において、合成シリカガラス粉中の異物粒子の数が10個以下となるまで行う。
さらに、合成シリカガラス粉の製造方法100において、合成シリカガラス粉の粒度分布を調整するために、磁選工程S5の前又は後に分級工程S6を行ってもよい。分級は公知の方法によって行うことができる。
上記した合成シリカガラス粉の製造方法10の加水分解工程S1〜焼成工程S4に倣って合成シリカガラス粉を製造した。装置は、図4の装置を用いた。ここで、図4の装置のうち、反応機1、ホッパー2a、2b、乾燥機3はステンレス(SUS304)製のものを使用し、ホッパー2c以降の装置については、プラスチック製又は石英ガラス製のものを用いた。そして、得られた合成シリカガラス粉をふるいによって分級し、100〜450μmの粒度範囲に調整した。
上記により得られた実施例及び比較例に係る合成シリカガラス粉を、カネテック株式会社の対極型高磁力磁選器のモデルPCMI−10−S12262を用いて、異物粒子の数を評価した。具体的には、実施例及び比較例に係る合成シリカガラス粉30kgをそれぞれ供給速度22kg/hで上記の磁選機に通した後、誘導極を含む内筒に付着している粒子を全て取り、得られた粒子を顕微鏡で観察して異物粒子の数を数えた。結果を表1に示した。
上記により得られた実施例及び比較例に係る合成シリカガラス粉をOvercladding grainに用いてSand Cladding法により直径125μmのシングルモード光ファイバーを製造した。そして、JIS C6821記載の「一定伸びひずみ法」を用いて、張力として標準的な7Nでプルーフ試験を行い、破断回数を測定した。結果を表1に示した。
一方、比較例はプルーフ試験による光ファイバーの破断回数が多かった。これは、製造時に磁選を行わなかったため、合成シリカガラス粉に共雑している異物粒子が多量に残っていたためと考えられる。
1110 永久磁石
1200 内筒
1210 誘導極
1 反応機
2a ホッパー
2b ホッパー
2c ホッパー
3 乾燥機
4 分級機
5 石英ガラスルツボ
6 モーター
7 流量制御装置
8 粉砕機
9 ジャケット
10 電気炉
11 テトラアルコキシシラン
12 水
13 温水導入機構
14 真空引き機構
15 水蒸気導入機構
16 ガス導入機構
Claims (4)
- メジアン径が50〜1000μmである合成シリカガラス粉であって、
磁選機で捕捉される異物粒子数が、前記合成シリカガラス粉30kg当たり10個以下であることを特徴とする、合成シリカガラス粉。 - 内部シラノール基濃度が1〜100ppmである、請求項1に記載の合成シリカガラス粉。
- アルコキシシランを原料としたゾルゲル法によって製造することを特徴とする、請求項1又は2に記載の合成シリカガラス粉。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の合成シリカガラス粉を用いて製造された光ファイバー用材料。
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