JP2019169624A - 現像方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1を参照する。現像装置1は、現像ノズル2、第1リンスノズル3、第2リンスノズル4および保持回転部5を備えている。
図3は、現像ノズル移動機構23とリンスノズル移動機構25を示す平面図である。
次に、図4を参照しつつ、現像装置1の動作について説明する。図4は、現像工程を示すタイミングチャートの一例である。現像工程は、プリウェット工程(時間T0〜時間T3)と、主現像工程(時間T3〜時間T10)と、リンス工程(時間T10〜時間T16)と、乾燥工程(時間T16〜時間T19)とを備えている。
プリウェット工程は、この後に吐出される現像液Ldevを基板W上に広げやすくするために行われる。図4の時間T0において、保持回転部5は、保持する基板Wを20rpmで回転させる。また、リンスノズル移動機構25は、基板W外の所定の待機位置から基板Wの中心CT付近の上方に、第1リンスノズル3を移動させる。
主現像工程は、現像液吐出工程(時間T3〜時間T8)と現像液パドル工程(時間T8〜時間T10)とを備えている。
次に、本発明の特徴部分であるリンス工程について説明する。時間T10において、保持回転部5は、100rpmから1000rpmに基板Wの回転速度を上げる。また、時間T10において、制御部29は、第2リンスノズル4から界面活性剤リンス液Lsfの吐出を開始する。この際、開閉弁V3は、閉状態から開状態に操作される。ポンプP3は、界面活性剤リンス液供給源19から第2リンスノズル4に界面活性剤リンス液Lsfを送り出す。
時間T16において、保持回転部5は、650rpmから1800rpmに基板Wの回転速度を上げる。更に、1800rpmで基板Wを回転させている状態を所定期間、維持する。その後、時間T17において、保持回転部5は、1800rpmから2500rpmに基板Wの回転速度を更に上げる。これにより、更に、界面活性剤リンス液Lsfを基板W外に排出する。2500rpmで基板Wを回転させている状態を所定時間、維持する。その後、時間T18において、保持回転部5は、基板Wの回転を停止させる。なお、時間T19において、実際に、基板Wは停止する(0rpm)。
ここで、実験結果について説明する。図12(a)は、各条件に対するレジストパターンの線幅(CD:Critical Dimension)の平均値を示す図である。図12(b)は、各条件に対するレジストパターンの線幅の3sigmaを示す図である。
時間T10において、保持回転部5は、100rpmから1000rpmに基板Wの回転速度を上げる。また、時間T10において、制御部29は、基板Wの中心CTに、第1リンスノズル3から純水Lpwの吐出を開始する。その後、時間T10Aまで、第1リンスノズル3から純水Lpwが吐出されている状態で、保持回転部5は、1000rpm(第1の回転速度)で基板Wを回転させる。
3 … 第1リンスノズル
4 … 第2リンスノズル
5 … 保持回転部
25 … リンスノズル移動機構
29 … 制御部
51,61 … 着液位置
53 … 到着領域
55A,55B … 折り返し位置
Lpw … 純水
Lsf … 界面活性剤リンス液
CT … 中心
RT … 経路
RD1〜RD3 … 距離
Claims (7)
- 基板の中心周りに回転している基板に対して現像液を供給して現像処理を行う工程と、
前記現像処理を行った後に、界面活性剤リンスノズルから吐出された界面活性剤リンス液が前記基板に最初に着液する領域である着液領域に前記基板の中心が入らないように、回転している前記基板上の前記基板の中心から外れた位置に前記界面活性剤リンスノズルから前記界面活性剤リンス液の吐出を開始する工程と、
前記界面活性剤リンス液が前記基板に着液した直後から、前記基板上に着液した前記界面活性剤リンス液の広がりで前記基板の中心を覆う工程と、
前記界面活性剤リンス液が前記基板に着液した直後から前記界面活性剤リンスの吐出を停止するまで、前記界面活性剤リンス液の着液領域の位置を固定する工程と、
を備えていることを特徴とする現像方法。 - 基板の中心周りに回転している基板に対して現像液を供給して現像処理を行う工程と、
前記現像処理を行った後に、界面活性剤リンスノズルから吐出された界面活性剤リンス液が前記基板に最初に着液する領域である着液領域に前記基板の中心が入らないように、回転している前記基板上の前記基板の中心から外れた位置に前記界面活性剤リンスノズルから前記界面活性剤リンス液の吐出を開始する工程と、
前記界面活性剤リンス液が前記基板に着液した直後から、前記基板上に着液した前記界面活性剤リンス液の広がりで前記基板の中心を覆う工程と、
前記界面活性剤リンス液の広がりで前記基板の中心を覆った後、前記基板上に着液した前記界面活性剤リンス液の広がりが前記基板の中心から外れない範囲内で前記界面活性剤リンス液の着液領域の位置を変位させる工程と、
を備えていることを特徴とする現像方法。 - 請求項2に記載の現像方法において、
前記着液領域の位置を変位させる工程は、前記基板の中心を挟むように2つの折り返し位置が設定されている、前記基板の中心を含む経路で、前記着液領域の位置を往復移動させることを特徴とする現像方法。 - 請求項1から3のいずれかに記載の現像方法において、
前記現像処理を行った後、前記界面活性剤リンス液の吐出開始前に、回転している前記基板上に前記純水リンスノズルから純水の吐出を開始する工程を更に備え、
前記界面活性剤リンス液の吐出を開始する工程は、前記純水の吐出を停止すると同時に行われることを特徴とする現像方法。 - 請求項4に記載の現像方法において、
前記純水リンスノズルからの前記純水の吐出を開始し、第1の回転速度で前記基板を回転させた後に、前記純水が吐出されている状態で予め設定された期間、前記第1の回転速度から前記第1の回転速度よりも速い第2の回転速度で前記基板を回転させる工程を更に備えていることを特徴とする現像方法。 - 請求項5に記載の現像方法において、
前記第1の回転速度および前記第2の回転速度は、500rpm以上2000rpm以下であることを特徴とする現像方法。 - 請求項1から6のいずれかに記載の現像方法において、
前記界面活性剤リンスノズルから前記界面活性剤リンス液の吐出を開始した後、前記界面活性剤リンス液の吐出を停止するまで、500rpm以上2000rpm以下で前記基板を回転させる工程を更に備えていることを特徴とする現像方法。
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